JPH06198737A - フィルムの加圧装置 - Google Patents
フィルムの加圧装置Info
- Publication number
- JPH06198737A JPH06198737A JP4350226A JP35022692A JPH06198737A JP H06198737 A JPH06198737 A JP H06198737A JP 4350226 A JP4350226 A JP 4350226A JP 35022692 A JP35022692 A JP 35022692A JP H06198737 A JPH06198737 A JP H06198737A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- fluid
- space
- film
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/7035—Proximity or contact printers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
加圧密着装置を提供する。 【構成】加圧フィルムPの一面側に形成された隙間Gに
連通する給排気孔46に微圧エアー供給装置44と高速
給気装置47及び高速排気装置48を接続し、高速給気
装置47で高速で空気源45からの空気を隙間G内に導
入し、微圧エアー供給装置44により隙間Gの圧力を所
定の値に保ち、高速排気装置48により隙間G内の空気
を高速で排気する。
Description
関する。
は、プリント配線基板の導体のパターンを形成するため
に、形成すべきパターンを描いた原版を用いて光を投影
露光することによりプリント配線基板に原版と同一のパ
ターンを描くフォトリソグラフィー法が用いられるよう
になってきている。この方法は、従来からICの製造の
際に用いられてきており、IC等の製造の場合には高い
精度を要求されるために、原版としてはガラス板が用い
られるが、プリント配線基板の場合には比較的精度が低
くて良いため、原版としてフィルムマスクを用いるのが
普通である。しかしフィルムマスクを用いた場合、フィ
ルムマスクとプリント配線基板の密着が不十分であると
投射された光が回り込みパターンの幅が一定にならない
問題を生じる。そのため、フィルムマスクとプリント配
線基板を密着させることが極めて重要である。そのた
め、フィルムマスクの背面側に空間を形成し、この空間
に空気などを導入してフィルムマスクを加圧し、フィル
ムマスクをプリント配線基板に密着させる技術が本願出
願人らにより開発され、提案されている。
場合フィルムマスクの背面側の空間に空気等を導入する
のに時間がかかる欠点があった。即ちフィルムマスクを
膨張させたり或いは破損させないように加圧するために
はゲージ圧で0.01〜0.02気圧程度の微圧空気を
導入する必要があるが、このような微圧空気を大量に供
給できる減圧弁は存在せず、そのため少量づつ長時間掛
けて供給する必要があった。また該空間から空気を排気
する際にも少量づつ排気する必要があり、同様に長時間
を要する欠点があった。本発明は上記した従来技術の問
題点を解決することを目的とする。
に本発明は、フィルムの一面側に空間を形成し、該空間
に流体を導入することによりフィルムを加圧し、被対象
物に密着させるフィルムの加圧密着装置において、流体
源と、該流体源からの流体を高速に前記空間に供給する
高速供給手段と、該流体源からの流体を所定圧力で前記
空間に供給する微圧供給手段と、前記空間の流体を高速
で排出する高速排出手段と、前記空間の流体圧力を検出
する手段とを備えたことを特徴とする。
ルムの一面側に形成された空間に供給される。また微圧
供給手段により流体源からの流体は所定圧力で供給され
る。更に高速排出手段により前記空間の流体は高速で排
出される。前記空間の流体圧力は検出する手段により検
出される。
露光装置に適用した実施例を図面に基づいて説明する。
プリント配線基板保持装置1はプリント配線基板Kを吸
引保持するチャック10を備えており、このチャック1
0はθステージ11、Yステージ12、Xステージ1
3、Zステージ14によりxyz方向に移動可能であ
り、且つz軸を中心として水平方向(θ方向)に回動可
能になっている。θステージ11、Yステージ12、X
ステージ13、Zステージ14は制御装置5に制御され
るように構成されている。プリント配線基板Kはそのパ
ターン転写面Sを上に向けてチャック10に載置される
ようになっている。パターン転写面Sには感光剤が塗布
されるか或いは感光フィルムが貼着されている。
ィルムマスク保持装置2が備えられている。該フィルム
マスク保持装置2は枠形状のホルダ20を備えており、
該ホルダ20は枠形状の4隅に備えられた吊下脚21を
介して基台9から吊り下げられている。吊下脚21は基
台9に対して上下方向移動可能に装着されており、スプ
リング24により常態ではホルダ20を下方に押圧する
ようになっている。フィルムマスク保持装置2の内側に
は同様に枠形状のフレーム22が脱着可能に装着されて
おり、該フレーム22の下面に粘着テープ23を介して
フィルムマスクFを貼着するようになっている。フレー
ム22に透明フィルムを張り付けて、該透明フィルムに
フィルムマスクFを貼着するようにしても良い。フレー
ム22の上下方向位置は、ホルダ20の下面がチャック
10の上面に接触したときに、フィルムマスクFがプリ
ント配線基板Kのパターン転写面Sに接触せず、僅かに
隙間があくような位置に調整してある。
形成されており、該吸着孔31には電磁弁32を介して
真空ポンプ33が接続している。この吸着孔31と電磁
弁32と真空ポンプ33でクランプ装置3を構成してお
り、ホルダ20とチャック10をその周囲において吸着
させて締結するようになっている。なお、この実施例で
は前記したスプリング24とクランプ装置3とを併用し
てチャック10とホルダ20とを締結するようにしてい
るが、どちらか一方だけを採用しても良い。
設置されている。この実施例においてはフィルムマスク
Fの背面に直接空気を導入するのではなく、加圧フィル
ムPの背面に空気を導入して、該加圧フィルムPにより
フィルムマスクFを押しつけるように構成されている。
なお、云うまでもなくこの構成に限定されるものではな
く、通常の構成のように直接フィルムマスクFの背面側
に加圧装置4により空気を供給するようにしても良い。
40と、該ガラス板40を周囲において支持する枠形の
支持フレーム42を備えており、該支持フレーム42が
基台9に固定されている。支持フレーム42の下側には
加圧フィルムPが装着されている。該加圧フィルムPも
露光波長に対して透明であり、かつ柔軟性を有して膨張
収縮が可能になっている。加圧フィルムPはその周囲を
支持フレーム42の下面に密着固定されており、ガラス
板40との間に所定の密閉隙間Gを形成するようになっ
ている。該隙間Gには支持フレーム42に設けられた給
排気孔46が開口しており、該給排気孔46に連結され
た空気源45から微圧エアー供給装置44及び高速給気
装置47を介して空気が供給されるようになっている。
加圧フィルムPは隙間Gに導入された空気により膨張し
てフィルムマスクF方向に膨らむようになっている。加
圧フィルムPは周囲を支持フレーム42に密閉されて固
定されているため、中央部が凸の球面形状に類似した形
状に膨張する。前記したホルダ20は常態ではスプリン
グ24により下方に押し下げられており、この状態で加
圧フィルムPが膨らんでも、加圧フィルムPとフィルム
マスクFとは接触しないだけの距離が設けてある。なお
加圧フィルムPは通常のシート状のものでも良いし、或
いは膨張した場合に中央部が凸になり易いように予め立
体的な形状としても良い。また隙間Gに導入する流体は
空気だけではなく、他のどのような気体或いは液体など
の流体であっても良い。
置44と高速給気装置47が接続しており、これらの一
方から空気が供給されるようになっている。微圧エアー
供給装置44は図2に示すように減圧弁440と電磁弁
441とから校正されており、空気源45からの空気を
減圧弁440で所定の微圧に減圧して、電磁弁441の
開閉により給排気孔46を介して隙間Gに空気を所定圧
で供給するようになっている。微圧エアー供給装置44
からの空気の供給は、後述するように隙間G内の空気圧
を所定の微圧に維持するために用いられるもので、その
圧力は加圧フィルムPがフィルムFに接触する際のダメ
ージ及びステージへの影響を考慮してゲージ圧0.01
〜0.02気圧程度が望ましい。微圧エアー供給装置4
4は加圧フィルムPがフィルムマスクFに接触して押さ
れる際に、加圧フィルムPの内圧が上昇しないように微
圧調整する機能も備えており、電磁弁441を開とする
ことにより、減圧弁440から空気を排気して隙間G内
の圧力を減少するように構成されている。微圧エアー供
給装置44はこの実施例では制御装置5に制御されてお
り、電磁弁441の開閉を自動的に行うように構成され
ているが、これに限定されるものではなく、手動で行う
ようにしても良い。
タンク471とその前後に配設された電磁弁470及び
電磁弁472から構成されており、電磁弁470を開と
して空気タンク471に空気を蓄えておくようになって
いる。空気タンク471には隙間Gと同量(圧力と体積
の積が等しくなる量)の空気が蓄えられるようになって
おり、電磁弁472を開とする事により高速で隙間Gに
空気を供給できるように構成されている。空気タンク4
71の空気圧力は4〜5気圧程度になっており、これに
より隙間Gへの高速給気を行えるように構成されてい
る。隙間G内部の圧力はほぼ大気圧程度としており、空
気タンク471の容積はこの圧力差に基づいて決定され
る。例えば空気タンク471内に4気圧の空気をためる
場合、隙間G内の空気との圧力差は3気圧となり、空気
タンク471の容積は隙間Gの容積の3分の1とする。
この高速給気装置47も同様に制御装置5に制御されて
おり、電磁弁470、472の開閉を自動的に行うよう
になっている。またこれに限定されることなく、手動な
どにより開閉を行わせるようにしても良い。
び圧力測定装置49が接続している。該高速排気装置4
8は図2に示すように電磁弁480と消音器481を備
えており、隙間G内部が所定圧力以上になった場合、電
磁弁480を開いて高速で隙間Gを大気開放して、隙間
G内部の圧力を下げて加圧フィルムPを縮小できるよう
になっている。圧力測定装置49は隙間G内部の圧力を
測定して、その結果を制御装置5に送り、該制御装置5
は隙間Gが所定圧力以上になった場合に、高速排気装置
48を制御して隙間Gの高速減圧を行わせるようになっ
ている。なお、消音器481は開放の際の騒音を減少す
るためのものである。
気装置47の電磁弁470を開いて、空気タンク471
内部に空気をためる。そして、電磁弁472を開いて給
排気孔46を介して隙間G内に空気を満たす。これは極
めて高速で行われる。そして、電磁弁472を閉じて電
磁弁441を開き、隙間G内をゲージ圧で0.01〜
0.02の微圧に保つ。電磁弁441は露光が終了する
まで開にしておく。露光に際して加圧フィルムPがフィ
ルムマスクFに押しつけらると、隙間G内部の圧力が上
昇するが、電磁弁441が開状態であるから、減圧弁4
40から微量の排気が行われ、隙間G内部は所定圧に保
たれる。また加圧フィルムPの圧縮速度が速く、減圧弁
440からの排気が間に合わない場合や、その他なんら
かの原因で隙間G内部が所定圧力以上に上昇すると、こ
れが圧力測定装置49により検出されて、高速排気装置
48の電磁弁480が開となり、隙間G内部の圧力を急
速に減少させる。そのため、加圧フィルムPやフィルム
マスクFの破損或いは伸び等の発生を防止できる。ま
た、露光終了の際には電磁弁480を開とする事により
高速で加圧フィルムPを縮小させることができる。
のである。この高速給気装置47’はシリンダ474と
その前後に配設された電磁弁473及び電磁弁475を
備えており、最初に電磁弁473を開いてシリンダ47
4内に高圧空気を導入し、次に電磁弁473を閉じ空気
をため込むようになっている。そして、電磁弁475を
大気開放側に開き、シリンダ474にため込んだ空気を
大気圧とし、シリンダ474を隙間G内に空気を導入す
る側に開くと同時に電磁弁473をシリンダ474を押
し戻す側に開いて、シリンダ474にため込んだ1気圧
の空気を隙間G内に導入するように構成されている。こ
の構成の場合、シリンダ474内の空気圧は1気圧であ
るため、シリンダ474の容積は隙間Gの容積と同じで
よい。以上の構成においても、シリンダ474のストロ
ークにより強制的に空気を隙間G内に給気するため、同
様に高速給気が可能になる。
装置6が設けられており、フィルムマスクFとプリント
配線基板Kの位置合わせを行う様に構成されている。該
位置計測装置6はTVカメラ60と画像処理装置61を
備えており、該TVカメラ60によりフィルムマスクF
に設けられた位置決め基準マーク63とプリント配線基
板Kに設けられた位置決め基準マーク62の位置のxy
方向のずれを検出し、該ずれ量の信号を制御装置5に送
って、この制御装置5でθステージ11、Yステージ1
2、Xステージ13を制御して、チャック10を移動さ
せて、該ずれを解消するように構成されている。TVカ
メラ60の上方には更に光源7が設けられており、露光
用の光を投射するようになっている。なお、TVカメラ
60は水平方向移動可能に構成してあり、露光時には光
源7の光を遮らないように端部に退避させることが出来
るように構成されている。
ず、高速給気装置47の電磁弁470を開いて空気源4
5から空気タンク471に空気を溜め、電磁弁472を
開いて隙間Gに空気を高速導入して、加圧フィルムPを
フィルムマスクF側に膨らませる。そして、電磁弁47
2を閉じて、電磁弁441を開として微圧エアー供給装
置44により隙間G内の圧力を微圧に保つ。次に、所望
のフィルムマスクFをフレーム22に取り付け、該フレ
ーム22をホルダ20に装着する。前記したように加圧
フィルムPを膨らませてもフィルムマスクFとは接触し
ないようにホルダ20の最下位置を調整してある。次に
プリント配線基板Kをチャック10に載置し、吸引装置
(図示せず)により吸引して固定する。そして、Zステ
ージ14を駆動してプリント配線基板Kのパターン転写
面SとフィルムマスクFとの間隔が0.5〜1mm程度
になるまでチャック10を上昇させる。
ーク62と位置決め基準マーク63のxy方向のずれ量
を測定し、該測定結果を制御装置5に送る。制御装置5
はxyθ方向の補正量を計算して、該補正量に基づいて
Xステージ13、Yステージ12、θステージ11を制
御し、チャック10をxyθ方向に移動させて該ずれ量
を解消する。これにより位置合わせが行われる。
によりチャック10を上昇させて、チャック10の上面
とホルダ20の下面を接触させ、スプリング24の押圧
力によりホルダ20がチャック10に押しつけられるよ
うにする。この状態でフィルムマスクFとプリント配線
基板Kのパターン転写面Sとの間には僅かに隙間があい
ている。同時に真空ポンプ33でチャック10の外周部
を真空吸引することによりチャック10とホルダ20が
更に強固に締結される。
スクFとプリント配線基板Kのずれ量を測定し、許容値
内であればそのまま更にZステージ14を上昇させてチ
ャック10とホルダ20を上昇させ、最終的にガラス板
40とプリント配線基板Kの間隔が0.5〜1mm程度
になるまで接近させる。また許容値外であれば、Zステ
ージ14を下降させて前記と同様にずれ量が解消するよ
うに制御する。
フィルムマスクFは次第に加圧フィルムPに接触する。
加圧フィルムPはその中心部が一番膨らんでいるため、
中心部から加圧フィルムPに接触しながら、潰れてゆき
フィルムマスクFをプリント配線基板Kに全面的に密着
させる。隙間Gの空気は加圧フィルムPが潰されるのに
伴って微圧エアー供給装置44側に押し戻され、減圧弁
440から排気される。また加圧フィルムPの圧縮速度
が速く急激に隙間Gの空気圧力が上昇した場合には、圧
力測定装置49と高速排気装置48の動作により高圧空
気を高速に排気する。そのため隙間G内部の圧力は常に
一定圧に保たれ、フィルムマスクFは加圧フィルムPに
より一定の加圧力でプリント配線基板Kに押しつけられ
ることになる。
を退避させた後に光源7を点灯し、フィルムマスクFの
回路パターンをプリント配線基板Kのパターン転写面S
上に転写する。
先に膨らませておいて、加圧フィルムPにフィルムマス
クFを接触させていたが、これに限定されることなく、
例えばガラス板40とプリント配線基板Kを先に0.5
〜1mm程度に接近させておいて、加圧フィルムPを膨
らませるようにしても良い。この場合フィルムマスクF
とプリント配線基板Kの間に空気層が残らないように配
慮する必要がある。そのためには、例えば図2に示すよ
うにチャック10の上面をフィルムマスクF側に凸形状
とし、加圧フィルムPを膨らませてフィルムマスクFを
加圧するときにフィルムマスクFとプリント配線基板K
が中心から外周に向かって徐々に接触し、空気層が残ら
ずに全面密着させるように構成しても良い。
クFとプリント配線基板Kの位置ずれの確認は、TVカ
メラ60を上下方向にも移動可能としておき、チャック
10とホルダ20の上昇位置で露光直前に再度行っても
良い。露光直前に行うほうが、より信頼性の高いパター
ン転写を実現できる。
気装置48の電磁弁480を開として、隙間Gの空気を
高速で排気して加圧フィルムPを縮小する。
高速給気装置47と高速排気装置48により隙間Gへの
給気と排気を高速で行わせることができる。また、微圧
エアー供給装置44により隙間G内部の圧力を一定に保
つことができる。更に圧力測定装置49と高速排気装置
48により隙間G内部の圧力が所定値以上になった場合
高速で隙間G内の圧力を減少させることができるから、
加圧フィルムPやフィルムマスクFの破損や伸びなどを
防止することが可能になる。
の一面側に空間を形成し、該空間に流体を導入すること
によりフィルムを加圧し、被対象物に密着させるフィル
ムの加圧密着装置において、流体源と、該流体源からの
流体を高速に前記空間に供給する高速供給手段と、該流
体源からの流体を所定圧力で前記空間に供給する微圧供
給手段と、前記空間の流体を高速で排出する高速排出手
段と、前記空間の流体圧力を検出する手段とを備えてい
るため、フィルムの一面側に形成された空間に高速で流
体を供給し排気でき、しかも所定の微圧に該空間を維持
することができる。
ブロック図。
例を示すブロック図。
持装置、3:クランプ装置、4:加圧装置、5:制御装
置、6:位置計測装置、7:光源、9:基台、10:チ
ャック、11:θステージ、12:Yステージ、13:
Xステージ、14:Zステージ、20:ホルダ、21:
吊下脚、22:フレーム、23:粘着テープ、24:ス
プリング、31:吸着孔、32:電磁弁、33:真空ポ
ンプ、40:ガラス板、42:支持フレーム、44:微
圧エアー供給装置、45:空気源、46:給排気孔、4
7:高速給気装置、48:高速排気装置、49:圧力測
定装置、60:TVカメラ、61:画像処理装置、6
2:位置決め基準マーク、63:位置決め基準マーク、
440:減圧弁、441:電磁弁、470:電磁弁、4
71:空気タンク、472:電磁弁、473:電磁弁、
474:シリンダ、475:電磁弁、480:電磁弁、
481:消音器。
Claims (3)
- 【請求項1】 フィルムの一面側に空間を形成し、該空
間に流体を導入することによりフィルムを加圧し、被対
象物に密着させるフィルムの加圧装置において、 流体源と、 該流体源からの流体を高速に前記空間に供給する高速供
給手段と、 該流体源からの流体を所定圧力で前記空間に供給する微
圧供給手段と、 前記空間の流体を高速で排出する高速排出手段と、 前記空間の流体圧力を検出する手段と、 を備えたことを特徴とするフィルムの加圧装置。 - 【請求項2】 フィルムの一面側に空間を形成し、該空
間に流体を導入することによりフィルムを加圧し、被対
象物に密着させるフィルムの加圧装置において、 流体源と、 該流体源からの流体を高速に前記空間に供給する高速供
給手段と、 前記空間の流体圧力を検出する手段と、 前記空間の流体圧力が所定値よりも小さな場合、該流体
源からの流体を所定の微圧で前記空間に供給することが
可能な微圧供給手段と、 前記空間の流体圧力が所定値よりも大きな場合、前記空
間の流体を高速で排出することが可能な高速排出手段
と、 を備えたことを特徴とするフィルムの加圧装置。 - 【請求項3】 フィルムの一面側に空間を形成し、該空
間に流体を導入することによりフィルムを加圧し、被対
象物に密着させるフィルムの加圧装置において、 流体源と、 該流体源からの流体を高速に前記空間に供給する高速供
給手段と、 該流体源からの流体を所定圧力で前記空間に供給する微
圧供給手段と、 前記空間の流体を高速で排出する高速排出手段と、 前記空間の流体圧力を検出する手段と、 前記検出する手段からの空間の流体圧力を入力し、該流
体圧力が所定値よりも小さな場合、該流体源からの流体
を所定の微圧で前記空間に供給するように前記微圧供給
手段を制御し、該空間の流体圧力が所定値よりも大きな
場合前記空間の流体を高速で排出するように前記高速排
出手段を制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とするフィルムの加圧装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4350226A JPH0822571B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 露光装置におけるフィルムの加圧装置 |
TW086209914U TW329340U (en) | 1992-10-09 | 1993-09-25 | Aligner for alignment employing film mask |
GB9319933A GB2271430A (en) | 1992-10-09 | 1993-09-28 | Method for alignment employing film mask and aligner therefor |
KR1019930020824A KR100205199B1 (ko) | 1992-10-09 | 1993-10-08 | 필름마스크를 이용한 노광방법 및 장치 |
KR1019980005700A KR0152425B1 (en) | 1992-10-09 | 1998-02-24 | Aligner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4350226A JPH0822571B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 露光装置におけるフィルムの加圧装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06198737A true JPH06198737A (ja) | 1994-07-19 |
JPH0822571B2 JPH0822571B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=18409078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4350226A Expired - Lifetime JPH0822571B2 (ja) | 1992-10-09 | 1992-12-04 | 露光装置におけるフィルムの加圧装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0822571B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101885625B1 (ko) * | 2018-01-22 | 2018-08-07 | (주)명인에어테크 | 철판 절곡기 |
KR101955944B1 (ko) * | 2018-04-26 | 2019-03-08 | (주)명인에어테크 | 철판 절곡기 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63239000A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-10-05 | Meiki Co Ltd | ホツトプレス |
JPH03184828A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-12 | Toppan Printing Co Ltd | 装飾装置 |
-
1992
- 1992-12-04 JP JP4350226A patent/JPH0822571B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63239000A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-10-05 | Meiki Co Ltd | ホツトプレス |
JPH03184828A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-12 | Toppan Printing Co Ltd | 装飾装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0822571B2 (ja) | 1996-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4107316B2 (ja) | 基板貼合装置 | |
TWI678575B (zh) | 保持裝置、定位裝置以及貼合裝置 | |
US20070125491A1 (en) | Method of removing particle on substrate, apparatus therefor, and coating and development apparatus | |
JP2008055607A (ja) | スクリーン印刷装置とその印刷方法 | |
JP2018117113A (ja) | 位置決め装置 | |
JP2534196B2 (ja) | ウエ−ハ貼付方法 | |
KR100982673B1 (ko) | 미세 패턴 임프린트 장치 | |
JP3586817B2 (ja) | 画像形成用露光装置とワーク位置決め方法 | |
JPH06198737A (ja) | フィルムの加圧装置 | |
JP2004102215A (ja) | 基板組立装置 | |
KR20080039202A (ko) | 노광장치 | |
JP2005533284A (ja) | 印刷回路板の露光装置 | |
JPH1041376A (ja) | 基板保持装置、基板保持方法及び露光装置 | |
JP2509134B2 (ja) | プリント配線基板の露光方法及び装置 | |
KR100205199B1 (ko) | 필름마스크를 이용한 노광방법 및 장치 | |
JP2002079163A (ja) | スリットコータ | |
JP2004184940A (ja) | 露光装置 | |
US20030007139A1 (en) | Aligner | |
JP4374984B2 (ja) | シート貼付け装置、及び、フィルムシートが貼り付けられた表示パネルの製造方法 | |
JP4420640B2 (ja) | 基板貼り合わせ装置及び基板貼り合わせ方法 | |
JPH0627674A (ja) | 露光装置 | |
JP6789368B2 (ja) | プリント基板用露光装置 | |
JP6646556B2 (ja) | コンタクト露光装置 | |
JP2002091011A (ja) | 密着露光装置 | |
JP3137620B2 (ja) | マスク保護部材装着治具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080306 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110306 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130306 Year of fee payment: 17 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130306 Year of fee payment: 17 |