JPH06333808A - 薄膜フィルム圧着装置及び圧着方法 - Google Patents
薄膜フィルム圧着装置及び圧着方法Info
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- JPH06333808A JPH06333808A JP5116985A JP11698593A JPH06333808A JP H06333808 A JPH06333808 A JP H06333808A JP 5116985 A JP5116985 A JP 5116985A JP 11698593 A JP11698593 A JP 11698593A JP H06333808 A JPH06333808 A JP H06333808A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、ベースフィルム上に薄膜を積層し
た薄膜フィルムを基板に圧着し薄膜を転写する時、基板
と薄膜フィルムとの間に気泡混入がなく、構造や動作が
簡単で安価な装置で、短い処理時間で行うことを目的と
する。 【構成】 対置する一対の圧着台の一方に基板を、もう
一方の台に薄膜フィルムとその周囲を少なくとも高さが
薄膜フィルム接着面より高くたシール部材で閉じて囲
い、そのシール部材の内側を真空又は減圧する手段を具
備した装置において、シール部材又はシール部材と基板
を圧着台で挟み、かつ薄膜フィルム接着面と基板表面は
接触しない程度に圧着台を近接させた状態で、シール部
材で囲んだ閉領域を真空又は減圧した後、圧着台に圧力
をかけてシール部材を弾性変形させて薄膜フィルムを基
板に圧着させる。
た薄膜フィルムを基板に圧着し薄膜を転写する時、基板
と薄膜フィルムとの間に気泡混入がなく、構造や動作が
簡単で安価な装置で、短い処理時間で行うことを目的と
する。 【構成】 対置する一対の圧着台の一方に基板を、もう
一方の台に薄膜フィルムとその周囲を少なくとも高さが
薄膜フィルム接着面より高くたシール部材で閉じて囲
い、そのシール部材の内側を真空又は減圧する手段を具
備した装置において、シール部材又はシール部材と基板
を圧着台で挟み、かつ薄膜フィルム接着面と基板表面は
接触しない程度に圧着台を近接させた状態で、シール部
材で囲んだ閉領域を真空又は減圧した後、圧着台に圧力
をかけてシール部材を弾性変形させて薄膜フィルムを基
板に圧着させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜フィルムを基板に
圧着する技術に係り、特にフラットパネルディプレイ基
板、半導体集積回路基板、プリント回路基板等に感光性
レジスト薄膜フィルムを圧着する技術に関する。
圧着する技術に係り、特にフラットパネルディプレイ基
板、半導体集積回路基板、プリント回路基板等に感光性
レジスト薄膜フィルムを圧着する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜フィルム圧着装置は、特開平
１−２４４４６７号公報に記載されているように、真空
又は減圧状態の上箱と下箱からなる真空室、又は搬入出
口を設けた真空室内に基板と圧着装置を配置した構造と
なっており、先ず基板及び薄膜フィルムを真空室内に設
置し真空室を密閉し真空又は減圧状態した後に別の動作
手段で圧着装置を動作させる。
１−２４４４６７号公報に記載されているように、真空
又は減圧状態の上箱と下箱からなる真空室、又は搬入出
口を設けた真空室内に基板と圧着装置を配置した構造と
なっており、先ず基板及び薄膜フィルムを真空室内に設
置し真空室を密閉し真空又は減圧状態した後に別の動作
手段で圧着装置を動作させる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような薄膜フィルム圧着装置では、圧着装置を真空室内
に設置するためどうしても真空室が大型になり、又真空
室への基板及び薄膜フィルムの出し入れに於いて蓋の開
閉動作が必要となる等、装置が大型で構造や動作が複雑
になるという欠点がある。また、基板の一部分にのみ薄
膜フィルムを圧着したい場合にも、基板全体を真空室内
に設置し真空室全体を真空又は減圧状態に真空ポンプで
引くので、真空又は減圧時間がかかり、処理時間が長く
なるという欠点がある。
ような薄膜フィルム圧着装置では、圧着装置を真空室内
に設置するためどうしても真空室が大型になり、又真空
室への基板及び薄膜フィルムの出し入れに於いて蓋の開
閉動作が必要となる等、装置が大型で構造や動作が複雑
になるという欠点がある。また、基板の一部分にのみ薄
膜フィルムを圧着したい場合にも、基板全体を真空室内
に設置し真空室全体を真空又は減圧状態に真空ポンプで
引くので、真空又は減圧時間がかかり、処理時間が長く
なるという欠点がある。
【０００４】このような欠点を改善し、本発明の第１の
目的は装置構造や動作が簡単で安価な薄膜フィルム圧着
装置を提供すること、第２の目的は処理時間の短い薄膜
フィルム圧着方法を提供することである。
目的は装置構造や動作が簡単で安価な薄膜フィルム圧着
装置を提供すること、第２の目的は処理時間の短い薄膜
フィルム圧着方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の目的は、
対置する一対の圧着台の一方に基板を、もう一方の台に
薄膜フィルムとその周囲を少なくとも高さが薄膜フィル
ム接着面より高くたシール部材で閉じて囲い、そのシー
ル部材の内側を真空又は減圧する手段を具備した装置に
おいて達成された。
対置する一対の圧着台の一方に基板を、もう一方の台に
薄膜フィルムとその周囲を少なくとも高さが薄膜フィル
ム接着面より高くたシール部材で閉じて囲い、そのシー
ル部材の内側を真空又は減圧する手段を具備した装置に
おいて達成された。
【０００６】本発明の第２の目的は、シール部材又はシ
ール部材と基板を圧着台で挟み且つ薄膜フィルム接着面
と基板表面は接触しない程度に圧着台を近接させた状態
で、シール部材で囲んだ領域を真空又は減圧した後、圧
着台に圧力をかけてシール部材を弾性変形させて薄膜フ
ィルムを基板に圧着させることにより達成された。
ール部材と基板を圧着台で挟み且つ薄膜フィルム接着面
と基板表面は接触しない程度に圧着台を近接させた状態
で、シール部材で囲んだ領域を真空又は減圧した後、圧
着台に圧力をかけてシール部材を弾性変形させて薄膜フ
ィルムを基板に圧着させることにより達成された。
【０００７】
【作用】本発明の薄膜フィルム圧着装置では、真空室を
圧着装置とは別に具備する必要がなく、即ち真空室への
基板や薄膜フィルムの搬入出に伴う蓋の開閉機構や開閉
動作の必要がなくなるので、装置構造や動作が簡単で安
価な薄膜フィルム圧着装置が可能となる。
圧着装置とは別に具備する必要がなく、即ち真空室への
基板や薄膜フィルムの搬入出に伴う蓋の開閉機構や開閉
動作の必要がなくなるので、装置構造や動作が簡単で安
価な薄膜フィルム圧着装置が可能となる。
【０００８】また、本発明の薄膜フィルム圧着方法で
は、薄膜フィルム圧着必要部分に真空又は減圧する空間
を最小限に限定出来るので、素早く真空又は減圧するこ
とが可能となる。
は、薄膜フィルム圧着必要部分に真空又は減圧する空間
を最小限に限定出来るので、素早く真空又は減圧するこ
とが可能となる。
【０００９】
【実施例】実施例１ 図１は、本発明の実施例１を説明するための、カラー液
晶ディスプレイに使用するカラーフィルターの作成工程
で用いる、ガラス基板への着色レジスト薄膜フィルムの
圧着装置及び方法の装置断面図である。
晶ディスプレイに使用するカラーフィルターの作成工程
で用いる、ガラス基板への着色レジスト薄膜フィルムの
圧着装置及び方法の装置断面図である。
【００１０】図１（１）に示すように、上下一対の圧着
台の下台４は、荷重が基板２全体に均等にかかるように
０．３〜５．０mmの厚さのゴムシート６を敷き、その下
からヒーター７により４０〜１５０℃の一定温度に加熱
するようになっている。０．５〜２．０mmの厚さのガラ
ス基板２をそのゴムシート６上にレジスト薄膜被転写面
を上面にして設置する。上台３は、下台４同様に荷重が
基板２全体に均等にかかるようにゴムシート６を敷き、
その下からヒーター７により下台４と同じ温度に加熱す
るようになっている。そのゴムシート６面上にガラス基
板２と同じ又は小い面積の図４で説明する着色レジスト
薄膜フィルム１を薄膜接着面を下にして保持する。その
周囲−ガラス基板２より大きめの領域をゴム等の弾性体
シール部材５で閉じて囲い、外れないように上台に接着
又は溝にはめる等する。シール部材５の厚さは上台３及
び下台４のゴムシート６の厚さと設置する着色レジスト
薄膜フィルム１及びガラス基板２の厚さを加えた量より
厚くし、シール部材５を上下の圧着台で挟んだときにガ
ラス基板２表面と薄膜フィルム１表面が接触しない程度
に厚くしておく。シール部材５の内側領域に排気穴８が
あり、真空ポンプにより真空又は減圧できるようになっ
ている。
台の下台４は、荷重が基板２全体に均等にかかるように
０．３〜５．０mmの厚さのゴムシート６を敷き、その下
からヒーター７により４０〜１５０℃の一定温度に加熱
するようになっている。０．５〜２．０mmの厚さのガラ
ス基板２をそのゴムシート６上にレジスト薄膜被転写面
を上面にして設置する。上台３は、下台４同様に荷重が
基板２全体に均等にかかるようにゴムシート６を敷き、
その下からヒーター７により下台４と同じ温度に加熱す
るようになっている。そのゴムシート６面上にガラス基
板２と同じ又は小い面積の図４で説明する着色レジスト
薄膜フィルム１を薄膜接着面を下にして保持する。その
周囲−ガラス基板２より大きめの領域をゴム等の弾性体
シール部材５で閉じて囲い、外れないように上台に接着
又は溝にはめる等する。シール部材５の厚さは上台３及
び下台４のゴムシート６の厚さと設置する着色レジスト
薄膜フィルム１及びガラス基板２の厚さを加えた量より
厚くし、シール部材５を上下の圧着台で挟んだときにガ
ラス基板２表面と薄膜フィルム１表面が接触しない程度
に厚くしておく。シール部材５の内側領域に排気穴８が
あり、真空ポンプにより真空又は減圧できるようになっ
ている。
【００１１】薄膜フィルム１とガラス基板２を設置した
後、図１（２）に示すように、シール部材５を圧着台で
挟み、かつ薄膜フィルム１の接着面と基板２の表面は接
触しない程度に圧着台を近接させた状態で、シール部材
５で囲んだ閉領域を真空ポンプにより約２０Ｔｏｒｒ以
下に真空又は減圧する。この時、薄膜フィルム１及びガ
ラス基板２は、ヒーター７により所定の温度まで加熱さ
れている。
後、図１（２）に示すように、シール部材５を圧着台で
挟み、かつ薄膜フィルム１の接着面と基板２の表面は接
触しない程度に圧着台を近接させた状態で、シール部材
５で囲んだ閉領域を真空ポンプにより約２０Ｔｏｒｒ以
下に真空又は減圧する。この時、薄膜フィルム１及びガ
ラス基板２は、ヒーター７により所定の温度まで加熱さ
れている。
【００１２】次に図１（３）に示すように、圧着台に圧
力をかけてシール部材５を弾性変形させて薄膜フィルム
１とガラス基板２を１．０〜２０kg／cm2 の圧力で加熱
圧着する。
力をかけてシール部材５を弾性変形させて薄膜フィルム
１とガラス基板２を１．０〜２０kg／cm2 の圧力で加熱
圧着する。
【００１３】以上の説明において、圧着台の上台下台、
基板２と薄膜フィルム１の上下、シール部材５の上下、
排気穴８の上下は逆でもよい。また、薄膜フィルム１
は、帯状ベースフィルム上の圧着部分に薄膜が積層さ
れ、そのベースフィルムをシール部材５で挟む構造でも
よい。
基板２と薄膜フィルム１の上下、シール部材５の上下、
排気穴８の上下は逆でもよい。また、薄膜フィルム１
は、帯状ベースフィルム上の圧着部分に薄膜が積層さ
れ、そのベースフィルムをシール部材５で挟む構造でも
よい。
【００１４】図３は、実施例１に用いたカラーフィルタ
ーの作成工程の説明図である。図３（１）に示すよう
に、洗浄されたガラス基板１１に第１色目の着色レジス
ト薄膜フィルム１を熱圧着してベースフィルム１３を剥
離し、１〜３μｍの厚さのレジスト薄膜１２を基板１１
上に転写する。次に画素パターンマスク１４を介してを
露光しパターンを焼き付ける。現像により非露光部分を
溶解し取り去り第１色目の画素１５のパターンを形成す
る。
ーの作成工程の説明図である。図３（１）に示すよう
に、洗浄されたガラス基板１１に第１色目の着色レジス
ト薄膜フィルム１を熱圧着してベースフィルム１３を剥
離し、１〜３μｍの厚さのレジスト薄膜１２を基板１１
上に転写する。次に画素パターンマスク１４を介してを
露光しパターンを焼き付ける。現像により非露光部分を
溶解し取り去り第１色目の画素１５のパターンを形成す
る。
【００１５】次に図３（２）に示すように、第１色目の
画素パターンを形成した基板の上に第２色目のレジスト
薄膜フィルムを画素１５の隙間に気泡なく熱圧着してベ
ースフィルム１３を剥離し、レジスト薄膜１２を基板１
１上に転写する。位置決めした第２色目の画素パターン
マスク１４を介して露光しパターンを焼き付ける。現像
により非露光部分を溶解し取り去り第２色目の画素１５
のパターンを形成する。
画素パターンを形成した基板の上に第２色目のレジスト
薄膜フィルムを画素１５の隙間に気泡なく熱圧着してベ
ースフィルム１３を剥離し、レジスト薄膜１２を基板１
１上に転写する。位置決めした第２色目の画素パターン
マスク１４を介して露光しパターンを焼き付ける。現像
により非露光部分を溶解し取り去り第２色目の画素１５
のパターンを形成する。
【００１６】次に図３（３）に示すように、第１、２色
目の画素パターンを形成した基板の上に第３色目のレジ
スト薄膜フィルム１を画素１５の隙間に気泡なく熱圧着
してベースフィルム１３を剥離し、レジスト薄膜１２を
基板上に転写する。位置決めした第３色目の画素パター
ンマスク１４を介してを露光しパターンを焼き付ける。
現像により非露光部分を溶解し取り去り第３色目の画素
パターンを形成する。
目の画素パターンを形成した基板の上に第３色目のレジ
スト薄膜フィルム１を画素１５の隙間に気泡なく熱圧着
してベースフィルム１３を剥離し、レジスト薄膜１２を
基板上に転写する。位置決めした第３色目の画素パター
ンマスク１４を介してを露光しパターンを焼き付ける。
現像により非露光部分を溶解し取り去り第３色目の画素
パターンを形成する。
【００１７】最後に図３（４）に示すように、第１、
２、３色目の画素パターンを形成した基板の上に第４色
目のレジスト薄膜フィルム１を画素１５の隙間に気泡な
く熱圧着してベースフィルム１３を剥離し、レジスト薄
膜１２を基板上に転写する。位置決めした第４色目のブ
ラックマトリクスパターンマスク１４を介してを露光し
パターンを焼き付ける。現像により非露光部分を溶解し
取り去り第４色目のブラックマトリクスパターン１６を
形成し、カラーフィルターが作成される。
２、３色目の画素パターンを形成した基板の上に第４色
目のレジスト薄膜フィルム１を画素１５の隙間に気泡な
く熱圧着してベースフィルム１３を剥離し、レジスト薄
膜１２を基板上に転写する。位置決めした第４色目のブ
ラックマトリクスパターンマスク１４を介してを露光し
パターンを焼き付ける。現像により非露光部分を溶解し
取り去り第４色目のブラックマトリクスパターン１６を
形成し、カラーフィルターが作成される。
【００１８】以上説明したように、第２色目以降は、先
に画素が形成されている基板の画素の隙間に気泡を混入
させないようにレジスト薄膜を密着させなければならな
い。本発明では、真空又は減圧下で加熱圧着することよ
り図４で説明する中間層１７及び感光性レジスト層１８
が軟化して、画素の隙間に侵入していくので気泡の混入
なくレジスト薄膜１２を密着させる事ができる。
に画素が形成されている基板の画素の隙間に気泡を混入
させないようにレジスト薄膜を密着させなければならな
い。本発明では、真空又は減圧下で加熱圧着することよ
り図４で説明する中間層１７及び感光性レジスト層１８
が軟化して、画素の隙間に侵入していくので気泡の混入
なくレジスト薄膜１２を密着させる事ができる。
【００１９】図４は、実施例１で使用される着色レジス
ト薄膜フィルム１の一例の断面図である。ベースフィル
ム１３の上に薄膜１２が設けられ、さらに薄膜１２は感
光性レジスト層１８を保護するための中間層１７と感光
性レジスト層１８で構成されている。ベースフィルム１
３としては、一般にポリエチレンテレフタレート、ポリ
プレピレンその他のポリマーから作られたフィルム（一
般に１０〜２００μｍの厚さを有する）が使用できる。
中間層１７としては、例えば、ポリビニルアルコールな
どの層であり、一般に１０〜５０μｍの層厚を有する。
感光性レジスト層１８は、光重合性レジストで形成され
たものであり、一般に１〜３μｍの層厚を有するもので
ある。この光重合性レジストとしては特に限定されず、
どのような材料であってもよい。
ト薄膜フィルム１の一例の断面図である。ベースフィル
ム１３の上に薄膜１２が設けられ、さらに薄膜１２は感
光性レジスト層１８を保護するための中間層１７と感光
性レジスト層１８で構成されている。ベースフィルム１
３としては、一般にポリエチレンテレフタレート、ポリ
プレピレンその他のポリマーから作られたフィルム（一
般に１０〜２００μｍの厚さを有する）が使用できる。
中間層１７としては、例えば、ポリビニルアルコールな
どの層であり、一般に１０〜５０μｍの層厚を有する。
感光性レジスト層１８は、光重合性レジストで形成され
たものであり、一般に１〜３μｍの層厚を有するもので
ある。この光重合性レジストとしては特に限定されず、
どのような材料であってもよい。
【００２０】着色レジスト薄膜フィルム１を基板に圧着
した後ベースフィルム１３を剥離して感光性レジスト層
１８を基板に転写する場合、中間層１７をベースフィル
ム１３側に密着した状態で同時に剥離してもよいし、ベ
ースフィルム１３のみを剥離して感光性レジスト薄膜１
８上に残してもよい。中間層１７を感光性レジスト薄膜
１８上に残す場合は、露光後の現像で中間層１７が全て
現像液に溶解しパターン形成した感光性レジスト層１８
のみ残る。本発明の実施例１ではベースフィルム１３剥
離時に中間層１７を感光性レジスト層１８側に残し、実
施例２ではベースフィルム１３剥離時に中間層１７を同
時に剥離する。
した後ベースフィルム１３を剥離して感光性レジスト層
１８を基板に転写する場合、中間層１７をベースフィル
ム１３側に密着した状態で同時に剥離してもよいし、ベ
ースフィルム１３のみを剥離して感光性レジスト薄膜１
８上に残してもよい。中間層１７を感光性レジスト薄膜
１８上に残す場合は、露光後の現像で中間層１７が全て
現像液に溶解しパターン形成した感光性レジスト層１８
のみ残る。本発明の実施例１ではベースフィルム１３剥
離時に中間層１７を感光性レジスト層１８側に残し、実
施例２ではベースフィルム１３剥離時に中間層１７を同
時に剥離する。
【００２１】実施例２ 図２は、本発明の実施例２を説明するための、カラーフ
ィルターの白抜け欠陥修正工程で用いる、カラーフィル
ター基板への着色レジスト薄膜フィルムを圧着装置及び
方法の装置断面図である。
ィルターの白抜け欠陥修正工程で用いる、カラーフィル
ター基板への着色レジスト薄膜フィルムを圧着装置及び
方法の装置断面図である。
【００２２】図２（１）に示すように、上下一対の圧着
台の下台４に、カラーフィルター基板９をレジスト膜面
を上面にして設置し、下からヒーター７により５０〜１
５０℃の一定温度に加熱する。上台３は、荷重が薄膜フ
ィルム１全体に均等にかかるように薄膜フィルム１より
大きめの面積のゴムシート６を敷き、その下からヒータ
ー７により下台４と同じ温度に加熱するようになってお
り、そのゴムシート６面上に少なくとも白抜け欠陥より
大きめの面積の図４で説明した着色レジスト薄膜フィル
ム１を薄膜接着面を下にして保持する。その周囲−薄膜
フィルム１を載せたゴムシート６より大きめの領域をゴ
ム等の弾性体シール部材５で閉じて囲い、はずれないよ
うに上台に接着又は溝にはめる等する。シール部材５の
厚さは上台３のゴムシート６の厚さと設置する薄膜フィ
ルム１厚さを加えた量より厚くし、シール部材５とカラ
ーフィルター基板９を上下の圧着台で挟んだときにカラ
ーフィルター基板９表面と薄膜フィルム１表面が接触し
ない程度に厚くしておく。上台３のシール部材５の内側
領域に排気穴があり、真空ポンプにより真空又は減圧で
きるようになっている。
台の下台４に、カラーフィルター基板９をレジスト膜面
を上面にして設置し、下からヒーター７により５０〜１
５０℃の一定温度に加熱する。上台３は、荷重が薄膜フ
ィルム１全体に均等にかかるように薄膜フィルム１より
大きめの面積のゴムシート６を敷き、その下からヒータ
ー７により下台４と同じ温度に加熱するようになってお
り、そのゴムシート６面上に少なくとも白抜け欠陥より
大きめの面積の図４で説明した着色レジスト薄膜フィル
ム１を薄膜接着面を下にして保持する。その周囲−薄膜
フィルム１を載せたゴムシート６より大きめの領域をゴ
ム等の弾性体シール部材５で閉じて囲い、はずれないよ
うに上台に接着又は溝にはめる等する。シール部材５の
厚さは上台３のゴムシート６の厚さと設置する薄膜フィ
ルム１厚さを加えた量より厚くし、シール部材５とカラ
ーフィルター基板９を上下の圧着台で挟んだときにカラ
ーフィルター基板９表面と薄膜フィルム１表面が接触し
ない程度に厚くしておく。上台３のシール部材５の内側
領域に排気穴があり、真空ポンプにより真空又は減圧で
きるようになっている。
【００２３】薄膜フィルム１とカラーフィルター基板９
を設置した後、図２（２）に示すように、シール部材５
とカラーフィルター基板９を圧着台で挟み、かつ薄膜フ
ィルム１接着面とカラーフィルター基板９の表面は接触
しない程度に圧着台を近接させた状態で、シール部材５
で囲んだ閉領域を真空ポンプにより約２０Ｔｏｒｒ以下
に真空又は減圧する。この時、薄膜フィルム１及びカラ
ーフィルター基板９は、ヒーター７により所定の温度ま
で加熱されている。
を設置した後、図２（２）に示すように、シール部材５
とカラーフィルター基板９を圧着台で挟み、かつ薄膜フ
ィルム１接着面とカラーフィルター基板９の表面は接触
しない程度に圧着台を近接させた状態で、シール部材５
で囲んだ閉領域を真空ポンプにより約２０Ｔｏｒｒ以下
に真空又は減圧する。この時、薄膜フィルム１及びカラ
ーフィルター基板９は、ヒーター７により所定の温度ま
で加熱されている。
【００２４】次に図２（３）に示すように、圧着台に圧
力をかけてシール部材５を弾性変形させて薄膜フィルム
１とカラーフィルター基板９を１．０〜２０kg／cm2 の
圧力で加熱圧着する。
力をかけてシール部材５を弾性変形させて薄膜フィルム
１とカラーフィルター基板９を１．０〜２０kg／cm2 の
圧力で加熱圧着する。
【００２５】以上の説明において、圧着台の上下は逆で
もよい。また、薄膜フィルム１は、帯状ベースフィルム
上の圧着部分に薄膜が積層され、そのベースフィルムを
シール部材５で挟む構造でもよい。
もよい。また、薄膜フィルム１は、帯状ベースフィルム
上の圧着部分に薄膜が積層され、そのベースフィルムを
シール部材５で挟む構造でもよい。
【００２６】次にカラーフィルターの白抜け欠陥修正工
程について説明する。カラーフィルターの白抜け欠陥
は、カラー液晶パネルにしたときに白い輝点として目立
ち表示品位を著しく低下させるため、欠陥カラーフィル
ターとして不合格とされる。しかし、この不合格カラー
フィルターの白抜け欠陥を修正し再生することにより一
転合格品と同等の製品とし、歩留り、コストダウンに大
きく貢献するため、近年その各種の修正方法が提案され
ている。
程について説明する。カラーフィルターの白抜け欠陥
は、カラー液晶パネルにしたときに白い輝点として目立
ち表示品位を著しく低下させるため、欠陥カラーフィル
ターとして不合格とされる。しかし、この不合格カラー
フィルターの白抜け欠陥を修正し再生することにより一
転合格品と同等の製品とし、歩留り、コストダウンに大
きく貢献するため、近年その各種の修正方法が提案され
ている。
【００２７】図５は、カラーフィルターの白抜け欠陥修
正工程の説明図である。図５（１）に示すように、カラ
ーフィルターの白抜け欠陥部分に修正すべき色で少なく
とも欠陥部を含むサイズのレジスト薄膜フィルム１を本
発明装置及び方法で圧着する。
正工程の説明図である。図５（１）に示すように、カラ
ーフィルターの白抜け欠陥部分に修正すべき色で少なく
とも欠陥部を含むサイズのレジスト薄膜フィルム１を本
発明装置及び方法で圧着する。
【００２８】次いで図５（２）に示すように、ベースフ
ィルム１３及び中間層１７を剥がした後で、カラーフィ
ルター基板９の裏面からマスクを介さずに少なくとも欠
陥部分を含んで露光する。また所定のマスクを介してカ
ラーフィルター層の表面から露光しても良いし、レーザ
ー光などのビームを用いて露光しても良い。裏面から露
光する場合には、欠陥部以外の画素上に転写されたレジ
スト薄膜は、下層の画素に光が遮蔽されるため露光量は
かなり減少する。このため欠陥部で十分硬化するのに必
要な露光量を与えれば、欠陥部以外のレジスト薄膜は未
硬化状態で現像処理により除去される。
ィルム１３及び中間層１７を剥がした後で、カラーフィ
ルター基板９の裏面からマスクを介さずに少なくとも欠
陥部分を含んで露光する。また所定のマスクを介してカ
ラーフィルター層の表面から露光しても良いし、レーザ
ー光などのビームを用いて露光しても良い。裏面から露
光する場合には、欠陥部以外の画素上に転写されたレジ
スト薄膜は、下層の画素に光が遮蔽されるため露光量は
かなり減少する。このため欠陥部で十分硬化するのに必
要な露光量を与えれば、欠陥部以外のレジスト薄膜は未
硬化状態で現像処理により除去される。
【００２９】次いで図５（３）に示すように、未露光の
除去するため現像する。現像は同様に公知の方法で溶剤
もしくは現像液、特にアルカリ水溶液で浸漬するか、現
像液のスプレーからの噴霧を与えること、さらにブラシ
でのこすりまたは超音波を照射しつつ処理することで行
なわれる。
除去するため現像する。現像は同様に公知の方法で溶剤
もしくは現像液、特にアルカリ水溶液で浸漬するか、現
像液のスプレーからの噴霧を与えること、さらにブラシ
でのこすりまたは超音波を照射しつつ処理することで行
なわれる。
【００３０】
【発明の効果】本発明の構成の薄膜フィルムの圧着装置
では、気泡混入がなく、密着性のよい薄膜フィルム１の
圧着を、構造や動作が簡単で安価な装置で、短い処理時
間で行えるという効果がある。
では、気泡混入がなく、密着性のよい薄膜フィルム１の
圧着を、構造や動作が簡単で安価な装置で、短い処理時
間で行えるという効果がある。
【図１】図１は、本発明の実施例１を説明するための、
カラー液晶ディスプレイに使用するカラーフィルターの
作成工程で用いる、ガラス基板への顔料分散レジスト薄
膜フィルムの圧着装置及び方法の装置断面図である。
カラー液晶ディスプレイに使用するカラーフィルターの
作成工程で用いる、ガラス基板への顔料分散レジスト薄
膜フィルムの圧着装置及び方法の装置断面図である。
【図２】図２は、本発明の実施例２を説明するための、
カラーフィルターの白抜け欠陥修正工程で用いる、カラ
ーフィルター基板への顔料分散レジスト薄膜フィルムを
圧着装置及び方法の装置断面図である。
カラーフィルターの白抜け欠陥修正工程で用いる、カラ
ーフィルター基板への顔料分散レジスト薄膜フィルムを
圧着装置及び方法の装置断面図である。
【図３】図３は、実施例１に用いたカラーフィルターの
作成工程の説明図である。
作成工程の説明図である。
【図４】図４は、実施例１及び２で使用される顔料分散
レジスト薄膜フィルムの一例の断面図である。
レジスト薄膜フィルムの一例の断面図である。
【図５】図５は、実施例２に用いたカラーフィルターの
白抜け欠陥修正工程の説明図である。
白抜け欠陥修正工程の説明図である。
１ レジスト薄膜フィルム ２ ガラス基板 ３ 圧着台の上台 ４ 圧着台の下台 ５ シール部材 ６ ゴムシート ７ ヒーター ８ 排気穴 ９ カラーフィルター基板 １１ 洗浄済ガラス基板 １２ レジスト薄膜 １３ ベースフィルム １４ 画素パターンマスク １５ 画素 １６ ブラックマトリクス １７ 中間層 １８ 感光性レジスト層
Claims (2)
- 【請求項１】 ベースフィルム上に薄膜を積層した薄膜
フィルムと薄膜を転写する基板を対置する一対の圧着台
の間に設置し、その隙間を真空又は減圧し圧着する薄膜
フィルム圧着装置において、対置する一対の圧着台の一
方に基板を、もう一方の台に薄膜フィルムとその周囲を
少なくとも高さが薄膜フィルム接着面より高くしたシー
ル部材で閉じて囲い、そのシール部材の内側を真空又は
減圧する手段を具備したことを特徴とする薄膜フィルム
圧着装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の薄膜フィルム圧着装置
において、シール部材又はシール部材と基板を圧着台で
挟み、かつ薄膜フィルム接着面と基板表面は接触しない
程度に圧着台を近接させた状態で、シール部材で囲んだ
閉領域を真空又は減圧した後、圧着台に圧力をかけてシ
ール部材を弾性変形させて薄膜フィルムを基板に圧着さ
せることを特徴とする薄膜圧着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5116985A JPH06333808A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 薄膜フィルム圧着装置及び圧着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5116985A JPH06333808A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 薄膜フィルム圧着装置及び圧着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06333808A true JPH06333808A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14700636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5116985A Pending JPH06333808A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 薄膜フィルム圧着装置及び圧着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06333808A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001189228A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-07-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 積層体の製造方法と積層体加圧装置 |
| US7017637B2 (en) | 2001-09-25 | 2006-03-28 | Dainippon Screen Mfg. Co. Ltd. | Thin film forming apparatus and thin film forming method |
| CN102886962A (zh) * | 2011-07-18 | 2013-01-23 | Yts公司 | 滚筒方式面板的胶片附着装置 |
| CN113346005A (zh) * | 2021-06-17 | 2021-09-03 | 太原工业学院 | 夹芯式薄膜传感器真空环境压合装置及方法 |
| CN113432763A (zh) * | 2021-06-17 | 2021-09-24 | 中北大学 | 夹芯式pvdf压力计真空环境压制装置及方法 |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP5116985A patent/JPH06333808A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001189228A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-07-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 積層体の製造方法と積層体加圧装置 |
| EP1158549A1 (en) * | 1999-10-18 | 2001-11-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laminated body manufacturing method and laminated body pressurizing device |
| EP1158549A4 (en) * | 1999-10-18 | 2006-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATED BODY AND DEVICE FOR PRESSURIZING LAMINATED BODY |
| US7017637B2 (en) | 2001-09-25 | 2006-03-28 | Dainippon Screen Mfg. Co. Ltd. | Thin film forming apparatus and thin film forming method |
| KR100566790B1 (ko) * | 2001-09-25 | 2006-04-03 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 박막형성장치 및 박막형성방법 |
| CN102886962A (zh) * | 2011-07-18 | 2013-01-23 | Yts公司 | 滚筒方式面板的胶片附着装置 |
| CN113346005A (zh) * | 2021-06-17 | 2021-09-03 | 太原工业学院 | 夹芯式薄膜传感器真空环境压合装置及方法 |
| CN113432763A (zh) * | 2021-06-17 | 2021-09-24 | 中北大学 | 夹芯式pvdf压力计真空环境压制装置及方法 |
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