JPH08190099A - 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置の製造装置 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置の製造装置Info
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- G02F1/13415—Drop filling process
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 減圧雰囲気中で一の透明基板上に液晶を滴下
した後、もう一方の透明基板を重ね合わせて液晶を封入
する滴下注入法を用いた液晶表示装置の製造方法に関
し、粗合わせである程度の位置合わせ精度と基板間の均
一な隙間を保持し、電圧保持率の低下を抑制する。 【構成】 第１の透明基板１上であって表示領域の外側
の領域に接着材２を環状に形成する工程と、環状の接着
材２の内周表面に紫外線を選択的に照射して、照射領域
を硬化させる工程と、接着材２で囲まれた領域の第１の
透明基板１上に液晶３を滴下する工程と、減圧雰囲気内
で第１の透明基板１と第２の透明基板４を重ね合わせ、
第１の透明基板１と第２の透明基板４の間の接着材２で
囲まれた隙間を接着材２により密封する工程と、接着材
２の全体に紫外線を照射して硬化させる工程とを有す
る。
した後、もう一方の透明基板を重ね合わせて液晶を封入
する滴下注入法を用いた液晶表示装置の製造方法に関
し、粗合わせである程度の位置合わせ精度と基板間の均
一な隙間を保持し、電圧保持率の低下を抑制する。 【構成】 第１の透明基板１上であって表示領域の外側
の領域に接着材２を環状に形成する工程と、環状の接着
材２の内周表面に紫外線を選択的に照射して、照射領域
を硬化させる工程と、接着材２で囲まれた領域の第１の
透明基板１上に液晶３を滴下する工程と、減圧雰囲気内
で第１の透明基板１と第２の透明基板４を重ね合わせ、
第１の透明基板１と第２の透明基板４の間の接着材２で
囲まれた隙間を接着材２により密封する工程と、接着材
２の全体に紫外線を照射して硬化させる工程とを有す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の製造方法
及び液晶表示装置の製造装置に関し、更に詳しくいえ
ば、減圧雰囲気中で一の透明基板上に液晶を滴下した
後、もう一方の透明基板を重ね合わせて液晶を封入する
滴下注入法と呼ばれる方法の改善に関する。
及び液晶表示装置の製造装置に関し、更に詳しくいえ
ば、減圧雰囲気中で一の透明基板上に液晶を滴下した
後、もう一方の透明基板を重ね合わせて液晶を封入する
滴下注入法と呼ばれる方法の改善に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空封入法によれば液晶表示パネルに液
晶を封入するのにかなりの時間を要していたが、滴下注
入法の開発により液晶封入に要する時間を大幅に短縮す
ることができ、注目される技術となっている。以下で従
来例に係る滴下注入法について図面を参照しながら説明
する。なお、図２２（ａ）は同図（ｂ）のＧ−Ｇ線断面
図である。
晶を封入するのにかなりの時間を要していたが、滴下注
入法の開発により液晶封入に要する時間を大幅に短縮す
ることができ、注目される技術となっている。以下で従
来例に係る滴下注入法について図面を参照しながら説明
する。なお、図２２（ａ）は同図（ｂ）のＧ−Ｇ線断面
図である。
【０００３】まず、図１９のフローチャートのステップ
Ｐ１で、ガラスなどからなる透明基板上に、液晶表示パ
ネルを形成する上で必要な部材を形成する。すなわち、
一つの液晶表示パネルについて２枚の透明基板を用意
し、その一方の透明基板の表面にはＴＦＴ（Thin Film
Transistor）、ドレインバスライン、ゲートバスライン
や画素電極などを形成し、その上に配向膜を形成して、
ＴＦＴ基板を作成する。他方の透明基板には、表面にＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタを形成
し、その上に透明なＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜から
なる対向電極を形成する。更にその上に配向膜を形成す
ることで、カラーフィルタ基板（以下ＣＦ基板と称す
る）を作成する。
Ｐ１で、ガラスなどからなる透明基板上に、液晶表示パ
ネルを形成する上で必要な部材を形成する。すなわち、
一つの液晶表示パネルについて２枚の透明基板を用意
し、その一方の透明基板の表面にはＴＦＴ（Thin Film
Transistor）、ドレインバスライン、ゲートバスライン
や画素電極などを形成し、その上に配向膜を形成して、
ＴＦＴ基板を作成する。他方の透明基板には、表面にＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタを形成
し、その上に透明なＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜から
なる対向電極を形成する。更にその上に配向膜を形成す
ることで、カラーフィルタ基板（以下ＣＦ基板と称す
る）を作成する。
【０００４】次に、ステップＰ２で、ＴＦＴ基板、ＣＦ
基板の表面に形成された配向膜をラビング処理する。次
いで、ステップＰ３で、ＴＦＴ基板にスペーサを散布す
る。これはＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に液晶を満たす
隙間を確保するためである。一方、ステップＰ４で、液
晶を封入する矩形領域を囲むようにＣＦ基板の表面に紫
外線硬化型のシール材を形成する。
基板の表面に形成された配向膜をラビング処理する。次
いで、ステップＰ３で、ＴＦＴ基板にスペーサを散布す
る。これはＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に液晶を満たす
隙間を確保するためである。一方、ステップＰ４で、液
晶を封入する矩形領域を囲むようにＣＦ基板の表面に紫
外線硬化型のシール材を形成する。
【０００５】次に、ステップＰ５でＣＦ基板表面のシー
ル材で囲まれた領域内に液晶を滴下する。次に、ステッ
プＰ６でＴＦＴ基板とＣＦ基板との両方を図２０に示す
ような貼り合わせ装置に導入して、装置内を真空排気す
る。次いで、ステップＰ７でＴＦＴ基板とＣＦ基板の粗
合せを行う。この工程は、減圧雰囲気中でＴＦＴ基板と
ＣＦ基板とをある程度の位置合せをして重ね合わせ、弱
く加圧する工程である。液晶はＴＦＴ基板とＣＦ基板の
間の隙間にシール材３２により密封される。
ル材で囲まれた領域内に液晶を滴下する。次に、ステッ
プＰ６でＴＦＴ基板とＣＦ基板との両方を図２０に示す
ような貼り合わせ装置に導入して、装置内を真空排気す
る。次いで、ステップＰ７でＴＦＴ基板とＣＦ基板の粗
合せを行う。この工程は、減圧雰囲気中でＴＦＴ基板と
ＣＦ基板とをある程度の位置合せをして重ね合わせ、弱
く加圧する工程である。液晶はＴＦＴ基板とＣＦ基板の
間の隙間にシール材３２により密封される。
【０００６】この工程では、まず表面にシール材３２が
形成され、液晶３３が滴下されたＣＦ基板３１が図２０
に示すような装置内のステージＳＴの上に載置される。
一方、ＴＦＴ基板３４は図２０に示す装置内に搬入さ
れ、図２１（ａ）に示すように支持具ＳＵによって支持
される。次に図２０の排気弁４２が開き、排気口４１か
ら真空排気されることにより、装置内の処理室４０が減
圧状態になる。次いでＴＦＴ基板３４が図２１（ａ）に
示すようにＣＦ基板３３に対向して配置されたのちに、
同図（ｂ）に示すようにＣＦ基板３１上に落下させる。
その後、図２０に示すような圧着具４３でＴＦＴ基板３
４が上方から圧着される。
形成され、液晶３３が滴下されたＣＦ基板３１が図２０
に示すような装置内のステージＳＴの上に載置される。
一方、ＴＦＴ基板３４は図２０に示す装置内に搬入さ
れ、図２１（ａ）に示すように支持具ＳＵによって支持
される。次に図２０の排気弁４２が開き、排気口４１か
ら真空排気されることにより、装置内の処理室４０が減
圧状態になる。次いでＴＦＴ基板３４が図２１（ａ）に
示すようにＣＦ基板３３に対向して配置されたのちに、
同図（ｂ）に示すようにＣＦ基板３１上に落下させる。
その後、図２０に示すような圧着具４３でＴＦＴ基板３
４が上方から圧着される。
【０００７】次いで、ステップＰ８で粗合せがなされた
透明基板を大気中に取出し、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板
３３の表示領域が対応するように精密な位置合せをす
る。この工程によって、滴下された液晶３３は図２２
（ａ），（ｂ）に示すようにシール材３２で囲まれた領
域のほぼ全面に遍く行き渡ることになる。その後、ステ
ップＰ９でシール材３２に紫外線を照射してこれを完全
に硬化させて、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板３１を固着す
ることにより液晶が封入された液晶表示パネルが形成さ
れる。
透明基板を大気中に取出し、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板
３３の表示領域が対応するように精密な位置合せをす
る。この工程によって、滴下された液晶３３は図２２
（ａ），（ｂ）に示すようにシール材３２で囲まれた領
域のほぼ全面に遍く行き渡ることになる。その後、ステ
ップＰ９でシール材３２に紫外線を照射してこれを完全
に硬化させて、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板３１を固着す
ることにより液晶が封入された液晶表示パネルが形成さ
れる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の製造方法によると、以下に示すような問題が生じ
る。まず第１に、図１９のステップＰ７に示す粗合せの
工程で、図２１（ａ），（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基
板３４をＣＦ基板３１の上に落下させている。このた
め、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板３１の位置合わせがずれ
やすいという問題がある。
来の製造方法によると、以下に示すような問題が生じ
る。まず第１に、図１９のステップＰ７に示す粗合せの
工程で、図２１（ａ），（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基
板３４をＣＦ基板３１の上に落下させている。このた
め、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板３１の位置合わせがずれ
やすいという問題がある。
【０００９】第２に、この粗合せ工程では、その後図２
０に示すような圧着部材４３でＴＦＴ基板３４を上から
加圧するが、このときに、圧着部材４３の加圧面の平坦
性等により広いＴＦＴ基板３４の全面に圧力を均一に加
えることが難しいため、液晶３３が均一に行き渡らなか
ったり、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板３１の隙間が均一に
ならなかったり、シールの一部が加圧不十分となってリ
ークしたりするなどの問題が生じていた。
０に示すような圧着部材４３でＴＦＴ基板３４を上から
加圧するが、このときに、圧着部材４３の加圧面の平坦
性等により広いＴＦＴ基板３４の全面に圧力を均一に加
えることが難しいため、液晶３３が均一に行き渡らなか
ったり、ＴＦＴ基板３４とＣＦ基板３１の隙間が均一に
ならなかったり、シールの一部が加圧不十分となってリ
ークしたりするなどの問題が生じていた。
【００１０】第３に、液晶と未硬化のシール材が接し、
かつその領域に紫外線照射がなされてしまうと、これに
よって液晶とシール材が反応して汚染が生じ、当該液晶
表示パネルの電圧保持率が低下する。なお、電圧保持率
とは、液晶パネルに電圧を間歇的に印加したときに、電
圧印加から次の電圧印加までの間に液晶を挟む両電極間
で蓄積電荷がリークせずにどの程度まで初期の電圧を維
持しているかを示す値であって、図２５（ａ），（ｂ）
の Ｂ／Ａ×１００ （％） で示される値である。上式でＡは図２５（ａ）の斜線部
の面積（リークがない場合の電極間に保持されている電
圧の時間積分）であって、Ｂは図２５（ｂ）の斜線部の
面積（実際に電極間に保持されている電圧の時間積分）
である。
かつその領域に紫外線照射がなされてしまうと、これに
よって液晶とシール材が反応して汚染が生じ、当該液晶
表示パネルの電圧保持率が低下する。なお、電圧保持率
とは、液晶パネルに電圧を間歇的に印加したときに、電
圧印加から次の電圧印加までの間に液晶を挟む両電極間
で蓄積電荷がリークせずにどの程度まで初期の電圧を維
持しているかを示す値であって、図２５（ａ），（ｂ）
の Ｂ／Ａ×１００ （％） で示される値である。上式でＡは図２５（ａ）の斜線部
の面積（リークがない場合の電極間に保持されている電
圧の時間積分）であって、Ｂは図２５（ｂ）の斜線部の
面積（実際に電極間に保持されている電圧の時間積分）
である。
【００１１】なお、図２３，２４は、液晶と未硬化のシ
ール材が接してしまった後に、シール材に紫外線を照射
して硬化させたときの電圧保持率と、紫外線の照射時間
との関係を示すグラフである。図２３に示すように、中
央（シール端より２５mm）、シール近傍（シール端より
１０mm）のいずれの領域でも、紫外線を照射した時間が
増えるに従って、その電圧保持率に低下がみられる。特
にシール近傍での低下は顕著で、２〜４％程度の低下が
確認できる。
ール材が接してしまった後に、シール材に紫外線を照射
して硬化させたときの電圧保持率と、紫外線の照射時間
との関係を示すグラフである。図２３に示すように、中
央（シール端より２５mm）、シール近傍（シール端より
１０mm）のいずれの領域でも、紫外線を照射した時間が
増えるに従って、その電圧保持率に低下がみられる。特
にシール近傍での低下は顕著で、２〜４％程度の低下が
確認できる。
【００１２】また、図２４は同様の製造方法で液晶を封
入して液晶表示パネルを形成した後に、８０℃の温度下
で当該液晶表示パネルを１０００時間放置した場合の電
圧保持率の変動の様子を示したグラフである。測定箇所
は中央（シール端より２５mm）である。図２４に示すよ
うに、この場合の電圧保持率の低下は更に顕著であるこ
とがわかる。
入して液晶表示パネルを形成した後に、８０℃の温度下
で当該液晶表示パネルを１０００時間放置した場合の電
圧保持率の変動の様子を示したグラフである。測定箇所
は中央（シール端より２５mm）である。図２４に示すよ
うに、この場合の電圧保持率の低下は更に顕著であるこ
とがわかる。
【００１３】以上図２３，図２４に示すように、液晶が
シール材に接した後に紫外線照射でシール材を硬化させ
る従来の滴下注入法によると、当該液晶表示パネルの電
圧保持率が低下するが、この電圧保持率が低下すると、
十分な大きさの駆動電圧が液晶表示パネルに加わらず、
表示パネルとして用いたときに、当該パネルのコントラ
ストが低下してしまうという問題が生じていた。
シール材に接した後に紫外線照射でシール材を硬化させ
る従来の滴下注入法によると、当該液晶表示パネルの電
圧保持率が低下するが、この電圧保持率が低下すると、
十分な大きさの駆動電圧が液晶表示パネルに加わらず、
表示パネルとして用いたときに、当該パネルのコントラ
ストが低下してしまうという問題が生じていた。
【００１４】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであって、粗合わせである程度の位置合わせ精度と
基板間の均一な隙間を保持し、電圧保持率の低下を抑制
することが可能な液晶表示装置の製造方法及び液晶表示
装置の製造装置を提供することを目的とする。
ものであって、粗合わせである程度の位置合わせ精度と
基板間の均一な隙間を保持し、電圧保持率の低下を抑制
することが可能な液晶表示装置の製造方法及び液晶表示
装置の製造装置を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記した課題は、第１
に、第１の透明基板上であって表示領域の外側の領域に
接着材を環状に形成する工程と、環状の前記接着材の内
周表面に紫外線を選択的に照射して、照射領域を硬化さ
せる工程と、前記接着材で囲まれた領域の前記第１の透
明基板上に液晶を滴下する工程と、減圧雰囲気内でスペ
ーサを介して前記第１の透明基板と第２の透明基板を重
ね合わせ、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板の
間の前記接着材で囲まれた隙間を前記接着材により密封
する工程と、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板
の対応する位置を合わせた後、前記接着材の全体に紫外
線を照射して硬化させる工程とを有することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法によって達成され、第２に、
第１の透明基板上であって表示領域の外側の領域に第１
の接着材を環状に形成する工程と、第１の接着材の形成
領域に対応するように第２の透明基板上であって表示領
域の外側の領域に第２の接着材を環状に形成する工程
と、前記第１の接着材と前記第２の接着材に紫外線を照
射して表層を硬化させる工程と、前記第１の接着材で囲
まれた領域の前記第１の透明基板上に液晶を滴下する工
程と、減圧雰囲気中で前記第１の透明基板と第２の透明
基板を重ね合わせ、前記第１の透明基板と前記第２の透
明基板の間の前記第１及び第２の接着材で囲まれた隙間
を前記第１及び第２の接着材により密封する工程と、前
記第１の透明基板と前記第２の透明基板の対応する位置
を合わせた後、前記第１及び前記第２の接着材に紫外線
を照射して硬化させ、前記第１の透明基板と前記第２の
透明基板を固着する工程とを有することを特徴とする液
晶表示装置の製造方法によって達成され、第３に、第１
の透明基板上であって表示領域の外側の領域に接着材を
環状に形成する工程と、前記接着材で囲まれた領域の前
記第１の透明基板上に液晶を滴下する工程と、減圧雰囲
気中でスペーサを介して前記第１の透明基板と第２の透
明基板を重ね合わせ、前記第１の透明基板と前記第２の
透明基板の間の前記接着材で囲まれた隙間を前記接着材
により密封する工程と、前記第１の透明基板と前記第２
の透明基板の対応する位置を合わせた後、前記接着材と
前記液晶とが接する前に、前記接着材に紫外線を照射し
て硬化させる工程とを有することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法によって達成され、第４に、前記第１の
透明基板の表示領域にはカラーフィルタ又は液晶駆動用
マトリクスが形成されており、前記第２の透明基板の表
示領域には液晶駆動用マトリクス又はカラーフィルタが
形成されていることを特徴とする第１乃至第３の発明の
いずれかに記載の液晶表示装置の製造方法によって達成
され、第５に、前記第１又は前記第２の透明基板の表示
領域の外側の領域であって、前記接着材の形成領域の内
側の領域に、前記液晶の広がり速度を遅らせる凸部が形
成されていることを特徴とする第３又は第４の発明に記
載の液晶表示装置の製造方法によって達成され、第６
に、前記液晶の広がり速度を遅らせる前記凸部は、前記
第１又は前記第２の透明基板の前記表示領域に形成する
カラーフィルタと同じ材料で形成されていることを特徴
とする第５の発明に記載の液晶表示装置の製造方法によ
って達成され、第７に、前記接着材の形成領域の内側領
域であって、前記接着材の形成領域に隣接する領域の前
記第１又は前記第２の透明基板上に、可動イオンを捕獲
する膜を形成することを特徴とする第１乃至第６の発明
のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法によって達
成され、第８に、前記第１の透明基板の一部と前記第２
の透明基板の一部とが接するように前記第１の透明基板
と前記第２の透明基板の間にスペーサ板を挟んだ後、前
記スペーサ板を除去して第１の透明基板と第２の透明基
板を重ね合わせ、前記隙間を密封することを特徴とする
第１乃至第７の発明のいずれかに記載の液晶表示装置の
製造方法によって達成され、第９に、前記第１の透明基
板は前記接着材が囲む環状領域の外側の領域に複数の穴
又は切除部を有し、前記第１の透明基板の前記穴又は前
記切除部に支持具を通し、該支持具の上に前記第２の透
明基板を載せて、前記支持具を降下させ、前記第２の透
明基板を前記第１の透明基板に重ね合わせることを特徴
とする第１乃至第７の発明のいずれかに記載の液晶表示
装置の製造方法によって達成され、第１０に、前記第１
又は前記第２の透明基板の表示領域に隣接する周辺領域
に前記表示領域のカラーフィルタの配列順序に従って予
備のカラーフィルタが形成されていることを特徴とする
第１乃至第９の発明のいずれかに記載の液晶表示装置の
製造方法によって達成され、第１１に、第１の透明基板
と第２の透明基板の重ね合わせを行う処理室と、前記処
理室内に置かれた前記第１又は前記第２の透明基板に面
し、前記第１又は前記第２の透明基板にガスを吹き付け
てこれを加圧するガス導入口を有することを特徴とする
液晶表示装置の製造装置によって達成され、第１２に、
前記ガス導入口は前記処理室の内部圧力を大気圧に戻す
ためのリーク口であることを特徴とする第１０の発明に
記載の液晶表示装置の製造装置によって達成される。
に、第１の透明基板上であって表示領域の外側の領域に
接着材を環状に形成する工程と、環状の前記接着材の内
周表面に紫外線を選択的に照射して、照射領域を硬化さ
せる工程と、前記接着材で囲まれた領域の前記第１の透
明基板上に液晶を滴下する工程と、減圧雰囲気内でスペ
ーサを介して前記第１の透明基板と第２の透明基板を重
ね合わせ、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板の
間の前記接着材で囲まれた隙間を前記接着材により密封
する工程と、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板
の対応する位置を合わせた後、前記接着材の全体に紫外
線を照射して硬化させる工程とを有することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法によって達成され、第２に、
第１の透明基板上であって表示領域の外側の領域に第１
の接着材を環状に形成する工程と、第１の接着材の形成
領域に対応するように第２の透明基板上であって表示領
域の外側の領域に第２の接着材を環状に形成する工程
と、前記第１の接着材と前記第２の接着材に紫外線を照
射して表層を硬化させる工程と、前記第１の接着材で囲
まれた領域の前記第１の透明基板上に液晶を滴下する工
程と、減圧雰囲気中で前記第１の透明基板と第２の透明
基板を重ね合わせ、前記第１の透明基板と前記第２の透
明基板の間の前記第１及び第２の接着材で囲まれた隙間
を前記第１及び第２の接着材により密封する工程と、前
記第１の透明基板と前記第２の透明基板の対応する位置
を合わせた後、前記第１及び前記第２の接着材に紫外線
を照射して硬化させ、前記第１の透明基板と前記第２の
透明基板を固着する工程とを有することを特徴とする液
晶表示装置の製造方法によって達成され、第３に、第１
の透明基板上であって表示領域の外側の領域に接着材を
環状に形成する工程と、前記接着材で囲まれた領域の前
記第１の透明基板上に液晶を滴下する工程と、減圧雰囲
気中でスペーサを介して前記第１の透明基板と第２の透
明基板を重ね合わせ、前記第１の透明基板と前記第２の
透明基板の間の前記接着材で囲まれた隙間を前記接着材
により密封する工程と、前記第１の透明基板と前記第２
の透明基板の対応する位置を合わせた後、前記接着材と
前記液晶とが接する前に、前記接着材に紫外線を照射し
て硬化させる工程とを有することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法によって達成され、第４に、前記第１の
透明基板の表示領域にはカラーフィルタ又は液晶駆動用
マトリクスが形成されており、前記第２の透明基板の表
示領域には液晶駆動用マトリクス又はカラーフィルタが
形成されていることを特徴とする第１乃至第３の発明の
いずれかに記載の液晶表示装置の製造方法によって達成
され、第５に、前記第１又は前記第２の透明基板の表示
領域の外側の領域であって、前記接着材の形成領域の内
側の領域に、前記液晶の広がり速度を遅らせる凸部が形
成されていることを特徴とする第３又は第４の発明に記
載の液晶表示装置の製造方法によって達成され、第６
に、前記液晶の広がり速度を遅らせる前記凸部は、前記
第１又は前記第２の透明基板の前記表示領域に形成する
カラーフィルタと同じ材料で形成されていることを特徴
とする第５の発明に記載の液晶表示装置の製造方法によ
って達成され、第７に、前記接着材の形成領域の内側領
域であって、前記接着材の形成領域に隣接する領域の前
記第１又は前記第２の透明基板上に、可動イオンを捕獲
する膜を形成することを特徴とする第１乃至第６の発明
のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法によって達
成され、第８に、前記第１の透明基板の一部と前記第２
の透明基板の一部とが接するように前記第１の透明基板
と前記第２の透明基板の間にスペーサ板を挟んだ後、前
記スペーサ板を除去して第１の透明基板と第２の透明基
板を重ね合わせ、前記隙間を密封することを特徴とする
第１乃至第７の発明のいずれかに記載の液晶表示装置の
製造方法によって達成され、第９に、前記第１の透明基
板は前記接着材が囲む環状領域の外側の領域に複数の穴
又は切除部を有し、前記第１の透明基板の前記穴又は前
記切除部に支持具を通し、該支持具の上に前記第２の透
明基板を載せて、前記支持具を降下させ、前記第２の透
明基板を前記第１の透明基板に重ね合わせることを特徴
とする第１乃至第７の発明のいずれかに記載の液晶表示
装置の製造方法によって達成され、第１０に、前記第１
又は前記第２の透明基板の表示領域に隣接する周辺領域
に前記表示領域のカラーフィルタの配列順序に従って予
備のカラーフィルタが形成されていることを特徴とする
第１乃至第９の発明のいずれかに記載の液晶表示装置の
製造方法によって達成され、第１１に、第１の透明基板
と第２の透明基板の重ね合わせを行う処理室と、前記処
理室内に置かれた前記第１又は前記第２の透明基板に面
し、前記第１又は前記第２の透明基板にガスを吹き付け
てこれを加圧するガス導入口を有することを特徴とする
液晶表示装置の製造装置によって達成され、第１２に、
前記ガス導入口は前記処理室の内部圧力を大気圧に戻す
ためのリーク口であることを特徴とする第１０の発明に
記載の液晶表示装置の製造装置によって達成される。
【００１６】
【作 用】本発明に係る液晶表示装置の製造方法によれ
ば、第１に、第１の透明基板に形成された環状の接着材
の内周表面に予め紫外線を選択的に照射して、照射領域
を硬化させている。このため、第１及び第２の透明基板
を重ね合わせて接着材により隙間に液晶を密封すると
き、液晶が接着材に接しても、内周表面は紫外線照射に
より硬化しているので、接着材と液晶との反応による液
晶汚染を防止することができる。これにより、液晶表示
装置の電圧保持率の低下を抑制し、コントラストの低下
を抑制することが可能になる。また、接着材の内周表面
だけの硬化なので、全面硬化の場合と比較して基板間の
固着はより強固になる。
ば、第１に、第１の透明基板に形成された環状の接着材
の内周表面に予め紫外線を選択的に照射して、照射領域
を硬化させている。このため、第１及び第２の透明基板
を重ね合わせて接着材により隙間に液晶を密封すると
き、液晶が接着材に接しても、内周表面は紫外線照射に
より硬化しているので、接着材と液晶との反応による液
晶汚染を防止することができる。これにより、液晶表示
装置の電圧保持率の低下を抑制し、コントラストの低下
を抑制することが可能になる。また、接着材の内周表面
だけの硬化なので、全面硬化の場合と比較して基板間の
固着はより強固になる。
【００１７】また、第１の透明基板と第２の透明基板に
ともに環状の接着材を形成し、接着材の表層のみを硬化
した後、接着材同士を接触させて第１の透明基板と第２
の透明基板を重ね合わせている。接着材同士が接触する
ため、表層のみが硬化していても、加圧するさいに潰れ
て未硬化の部分が現れて接触するようになる。従って、
その後の紫外線照射により第１の透明基板と第２の透明
基板同士の固着がより強固になる。また、たとえ潰れな
くても接着材同士なので、透明基板と接着材の場合に比
べて固着が強固になる。このように、接着材全面に紫外
線が照射されて表層が硬化していても、第１及び第２の
透明基板間の密着性が損なわれることはない。
ともに環状の接着材を形成し、接着材の表層のみを硬化
した後、接着材同士を接触させて第１の透明基板と第２
の透明基板を重ね合わせている。接着材同士が接触する
ため、表層のみが硬化していても、加圧するさいに潰れ
て未硬化の部分が現れて接触するようになる。従って、
その後の紫外線照射により第１の透明基板と第２の透明
基板同士の固着がより強固になる。また、たとえ潰れな
くても接着材同士なので、透明基板と接着材の場合に比
べて固着が強固になる。このように、接着材全面に紫外
線が照射されて表層が硬化していても、第１及び第２の
透明基板間の密着性が損なわれることはない。
【００１８】第２に、未硬化の接着材を介して第１の透
明基板と第２の透明基板を重ね合わせた後、接着材と液
晶とが接する前に、接着材に紫外線を照射して硬化させ
ている。このため、第１及び第２の透明基板の固着を確
実にするとともに、従来、未硬化の接着材と液晶が接
し、その領域に紫外線が照射されることによって生じて
いた液晶の汚染を抑制することができ、液晶汚染によっ
て当該液晶表示装置の電圧保持率が低下して、その表示
の際のコントラストが低下することを極力抑止すること
が可能になる。
明基板と第２の透明基板を重ね合わせた後、接着材と液
晶とが接する前に、接着材に紫外線を照射して硬化させ
ている。このため、第１及び第２の透明基板の固着を確
実にするとともに、従来、未硬化の接着材と液晶が接
し、その領域に紫外線が照射されることによって生じて
いた液晶の汚染を抑制することができ、液晶汚染によっ
て当該液晶表示装置の電圧保持率が低下して、その表示
の際のコントラストが低下することを極力抑止すること
が可能になる。
【００１９】第３に、第１又は第２の透明基板の表示領
域の外側の領域であって、接着材の形成領域の内側の領
域に、液晶の広がり速度を遅らせる凸部が形成されてい
る。凸部により第１又は第２の透明基板間の隙間が狭く
なるため、液晶が接着材に達するまでの時間が長くなる
ので、接着材と液晶とが接する前に、接着材に紫外線を
照射して硬化させることを容易に行うことが可能にな
る。特に、凸部として第１又は第２の透明基板の表示領
域に形成するカラーフィルタと同じ材料を用いることに
より、表示領域へのカラーフィルタの形成と同時に一度
に形成することができ、工程が簡略化される。
域の外側の領域であって、接着材の形成領域の内側の領
域に、液晶の広がり速度を遅らせる凸部が形成されてい
る。凸部により第１又は第２の透明基板間の隙間が狭く
なるため、液晶が接着材に達するまでの時間が長くなる
ので、接着材と液晶とが接する前に、接着材に紫外線を
照射して硬化させることを容易に行うことが可能にな
る。特に、凸部として第１又は第２の透明基板の表示領
域に形成するカラーフィルタと同じ材料を用いることに
より、表示領域へのカラーフィルタの形成と同時に一度
に形成することができ、工程が簡略化される。
【００２０】第４に、接着材の形成領域の内側領域であ
って、接着材の形成領域に隣接する領域の第１又は第２
の透明基板上に、可動イオンを捕獲する膜を形成してい
る。このため、接着材と液晶との反応等により液晶中に
可動イオンが発生しても捕獲されるため、可動イオンを
介した蓄積電荷のリークを抑制することができる。これ
により、当該液晶表示装置の電圧保持率の低下をより確
実に抑止することが可能になる。
って、接着材の形成領域に隣接する領域の第１又は第２
の透明基板上に、可動イオンを捕獲する膜を形成してい
る。このため、接着材と液晶との反応等により液晶中に
可動イオンが発生しても捕獲されるため、可動イオンを
介した蓄積電荷のリークを抑制することができる。これ
により、当該液晶表示装置の電圧保持率の低下をより確
実に抑止することが可能になる。
【００２１】第５に、第１の透明基板に第２の透明基板
を重ね合わせる際に、第１の透明基板の一部と第２の透
明基板の一部とが接するように第１の透明基板と第２の
透明基板との間にスペーサ板を挟んだ後、これを除去し
ている。基板を落下させていた従来に比して、第１の透
明基板に第２の透明基板がゆっくりと重ね合わされるた
め、粗合わせの精度が向上する。また、衝撃が小さいた
めシール材の潰れが偏らず、基板間の隙間の間隔の均一
性の向上を図ることが出来る。
を重ね合わせる際に、第１の透明基板の一部と第２の透
明基板の一部とが接するように第１の透明基板と第２の
透明基板との間にスペーサ板を挟んだ後、これを除去し
ている。基板を落下させていた従来に比して、第１の透
明基板に第２の透明基板がゆっくりと重ね合わされるた
め、粗合わせの精度が向上する。また、衝撃が小さいた
めシール材の潰れが偏らず、基板間の隙間の間隔の均一
性の向上を図ることが出来る。
【００２２】第６に、第１の透明基板は複数の穴又は切
除部を有し、これらの穴又は切除部に支持具を通し、該
支持具の上に第２の透明基板を載せて、支持具を降下さ
せ、第２の透明基板を第１の透明基板に重ね合わせてい
る。このため、予め位置合わせをしておいて支持具を降
下させる速度を遅くすれば、位置ずれせずにそのまま重
ね合わせることが出来るので、粗合わせの精度が向上す
る。しかも、基板がシール材に接触する際の偏りも少な
く、かつ衝撃が小さいためシール材の潰れが偏らず、基
板間の隙間の間隔の均一性が向上する。
除部を有し、これらの穴又は切除部に支持具を通し、該
支持具の上に第２の透明基板を載せて、支持具を降下さ
せ、第２の透明基板を第１の透明基板に重ね合わせてい
る。このため、予め位置合わせをしておいて支持具を降
下させる速度を遅くすれば、位置ずれせずにそのまま重
ね合わせることが出来るので、粗合わせの精度が向上す
る。しかも、基板がシール材に接触する際の偏りも少な
く、かつ衝撃が小さいためシール材の潰れが偏らず、基
板間の隙間の間隔の均一性が向上する。
【００２３】第７に、表示領域にカラーフィルタを形成
するときに、液晶表示装置の表示領域に隣接する周辺領
域にも表示領域のカラーフィルタの配列順序に従って予
備のカラーフィルタを形成しているので、重ね合わせの
際に第１の透明基板が第２の透明基板の表示領域からは
ずれても、はずれた端の部分を予備のカラーフィルタに
合わせればよい。このため、位置合わせするための調整
幅が少なく、調整が容易であるとともに、調整のための
透明基板の大幅な移動による接着材へのダメージ付与を
避けることができる。
するときに、液晶表示装置の表示領域に隣接する周辺領
域にも表示領域のカラーフィルタの配列順序に従って予
備のカラーフィルタを形成しているので、重ね合わせの
際に第１の透明基板が第２の透明基板の表示領域からは
ずれても、はずれた端の部分を予備のカラーフィルタに
合わせればよい。このため、位置合わせするための調整
幅が少なく、調整が容易であるとともに、調整のための
透明基板の大幅な移動による接着材へのダメージ付与を
避けることができる。
【００２４】第９に、本発明に係る液晶表示装置の製造
装置においては、第１の透明基板と第２の透明基板とを
収納して重ね合わせる処理室と、処理室内を減圧する減
圧手段と、第１の透明基板又は第２の透明基板の表面か
らガスを吹き付けるガス導入口が設けられている。ガス
導入口として処理室内の減圧状態を大気圧に戻すための
リーク口で代用することもできる。
装置においては、第１の透明基板と第２の透明基板とを
収納して重ね合わせる処理室と、処理室内を減圧する減
圧手段と、第１の透明基板又は第２の透明基板の表面か
らガスを吹き付けるガス導入口が設けられている。ガス
導入口として処理室内の減圧状態を大気圧に戻すための
リーク口で代用することもできる。
【００２５】ガスは一般に等方的に圧力を及ぼし、かつ
透明基板の表面に遍く行き渡るため、透明基板に凹凸が
あったとしても、加圧力は均一になる。これにより、第
１及び第２の透明基板の形成する隙間を均一な間隔とす
ることができるので、液晶表示パネルを駆動する際、液
晶全体に一定の電界がかかることになり、表示特性の均
一性が増す。
透明基板の表面に遍く行き渡るため、透明基板に凹凸が
あったとしても、加圧力は均一になる。これにより、第
１及び第２の透明基板の形成する隙間を均一な間隔とす
ることができるので、液晶表示パネルを駆動する際、液
晶全体に一定の電界がかかることになり、表示特性の均
一性が増す。
【００２６】
【実施例】以下で、本発明の実施例に係る液晶表示装置
の製造方法及びその製造装置を図面を参照しながら説明
する。 （１）第１の実施例 以下で本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造
方法について図１のフローチャート及び図２（ａ），
（ｂ），図３（ａ），（ｂ）を参照しながら説明する。
図２（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
の製造方法及びその製造装置を図面を参照しながら説明
する。 （１）第１の実施例 以下で本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造
方法について図１のフローチャート及び図２（ａ），
（ｂ），図３（ａ），（ｂ）を参照しながら説明する。
図２（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【００２７】まず、図１のステップＰ１で、ガラスなど
からなる透明基板上に、液晶表示パネルを作成する上で
必要な部材を形成する。すなわち、一つの液晶表示パネ
ルについて、１０．４インチ相当のガラス板からなる２
枚の透明基板を用意し、第１の透明基板の表面に、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタを形成す
るため、成膜／パターニングを３回繰り返す。続いて、
カラーフィルタ上に透明なＩＴＯ（Indium Tin Oxide）
膜からなる対向電極を形成した後、対向電極上に配向膜
を形成して、カラーフィルタ基板（以下ＣＦ基板と称す
る）１を作成する。
からなる透明基板上に、液晶表示パネルを作成する上で
必要な部材を形成する。すなわち、一つの液晶表示パネ
ルについて、１０．４インチ相当のガラス板からなる２
枚の透明基板を用意し、第１の透明基板の表面に、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタを形成す
るため、成膜／パターニングを３回繰り返す。続いて、
カラーフィルタ上に透明なＩＴＯ（Indium Tin Oxide）
膜からなる対向電極を形成した後、対向電極上に配向膜
を形成して、カラーフィルタ基板（以下ＣＦ基板と称す
る）１を作成する。
【００２８】他方、第２の透明基板の表面にＴＦＴ（Th
in Film Transistor）、ドレインバスライン、ゲートバ
スライン及び画素電極などを形成し、その上に配向膜を
形成してＴＦＴ基板４を作成する。次いで、ステップＰ
３でＴＦＴ基板４表面にスペーサＳＰを散布する。スペ
ーサＳＰは、重ね合わされたＣＦ基板１とＴＦＴ基板４
の間の液晶封入の隙間を確保するものである。スペーサ
ＳＰとしては密着性を有する直径５．０μｍのプラスチ
ック球を用いる。密着性は、散布後加熱処理を行うこと
により付与される。液晶が広がる間にスペーサＳＰが移
動しないようにし、かつ重ね合わせの作業を容易に行う
ためである。
in Film Transistor）、ドレインバスライン、ゲートバ
スライン及び画素電極などを形成し、その上に配向膜を
形成してＴＦＴ基板４を作成する。次いで、ステップＰ
３でＴＦＴ基板４表面にスペーサＳＰを散布する。スペ
ーサＳＰは、重ね合わされたＣＦ基板１とＴＦＴ基板４
の間の液晶封入の隙間を確保するものである。スペーサ
ＳＰとしては密着性を有する直径５．０μｍのプラスチ
ック球を用いる。密着性は、散布後加熱処理を行うこと
により付与される。液晶が広がる間にスペーサＳＰが移
動しないようにし、かつ重ね合わせの作業を容易に行う
ためである。
【００２９】次に、ステップＰ４で、図２（ａ）に示す
ように、液晶を封入する矩形領域を囲むように、表示領
域から約５ｍｍ程度外側のＣＦ基板１の表面に紫外線硬
化型の接着材（Ｔ−４７０、長瀬チバ製）からなるシー
ル材２を環状に形成する。なお、シール材２は加圧によ
り最終的に幅２ｍｍ程度になる。次に、ステップＰ５
で、図２（ａ），（ｂ）に示すように、ＣＦ基板１に形
成された環状のシール材２の内周表面２Ａに紫外線を選
択的に照射して照射部分のシール材２の表層を半硬化状
態にする（以下でこの処理をプリキュアと称する）。こ
の場合、照射部分のシール材２の表層のみが硬化するよ
うに、５００ｍＪ程度の弱い強度の紫外線を照射する。
ように、液晶を封入する矩形領域を囲むように、表示領
域から約５ｍｍ程度外側のＣＦ基板１の表面に紫外線硬
化型の接着材（Ｔ−４７０、長瀬チバ製）からなるシー
ル材２を環状に形成する。なお、シール材２は加圧によ
り最終的に幅２ｍｍ程度になる。次に、ステップＰ５
で、図２（ａ），（ｂ）に示すように、ＣＦ基板１に形
成された環状のシール材２の内周表面２Ａに紫外線を選
択的に照射して照射部分のシール材２の表層を半硬化状
態にする（以下でこの処理をプリキュアと称する）。こ
の場合、照射部分のシール材２の表層のみが硬化するよ
うに、５００ｍＪ程度の弱い強度の紫外線を照射する。
【００３０】次いで、ステップＰ６で、シール材２で囲
まれた領域内のＣＦ基板１の表面に液晶を滴下する。次
に、ステップＰ７で、ＴＦＴ基板４とＣＦ基板１との両
方を貼り合わせ装置に導入して、装置内を真空排気す
る。次いで、ステップＰ８で、粗合わせを行う。即ち、
図３（ａ）に示すように、減圧雰囲気中でＴＦＴ基板４
とＣＦ基板１とをまず対向させた後、同図（ｂ）に示す
ように、ＣＦ基板１とＴＦＴ基板４を重ね合わせ、大雑
把に位置合せする。粗合わせの精度は、±５０μｍ程度
である。粗合わせすることにより、精密な位置合わせの
とき調整幅を少なくしてシール材２へのダメージ付与を
防止し、ＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間の液晶を封入す
る隙間の密封性を確保する。
まれた領域内のＣＦ基板１の表面に液晶を滴下する。次
に、ステップＰ７で、ＴＦＴ基板４とＣＦ基板１との両
方を貼り合わせ装置に導入して、装置内を真空排気す
る。次いで、ステップＰ８で、粗合わせを行う。即ち、
図３（ａ）に示すように、減圧雰囲気中でＴＦＴ基板４
とＣＦ基板１とをまず対向させた後、同図（ｂ）に示す
ように、ＣＦ基板１とＴＦＴ基板４を重ね合わせ、大雑
把に位置合せする。粗合わせの精度は、±５０μｍ程度
である。粗合わせすることにより、精密な位置合わせの
とき調整幅を少なくしてシール材２へのダメージ付与を
防止し、ＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間の液晶を封入す
る隙間の密封性を確保する。
【００３１】続いて、基板を軽く加圧し、シール材２を
潰して基板間の隙間に液晶を密封する。次に、ステップ
Ｐ９で、粗合わせがなされた基板を大気中に取出し、精
密な位置合せをする（以下でこの工程を精密合わせと称
する）。この工程を経て、滴下された液晶３はシール材
２で囲まれた領域のほぼ全部に遍く行き渡る。その後、
ステップＰ１０で、５０００ｍＪ程度の高い強度の紫外
線をシール材２に照射してこれを完全に硬化させて、Ｔ
ＦＴ基板４とＣＦ基板１を固着することにより、液晶表
示パネルが作成される。なお、紫外線の最適強度は接着
剤により異なる。
潰して基板間の隙間に液晶を密封する。次に、ステップ
Ｐ９で、粗合わせがなされた基板を大気中に取出し、精
密な位置合せをする（以下でこの工程を精密合わせと称
する）。この工程を経て、滴下された液晶３はシール材
２で囲まれた領域のほぼ全部に遍く行き渡る。その後、
ステップＰ１０で、５０００ｍＪ程度の高い強度の紫外
線をシール材２に照射してこれを完全に硬化させて、Ｔ
ＦＴ基板４とＣＦ基板１を固着することにより、液晶表
示パネルが作成される。なお、紫外線の最適強度は接着
剤により異なる。
【００３２】以上説明したように、本発明の第１の実施
例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、図１のステ
ップＰ５の工程で、図２に示すように、シール材２の内
周表面にプリキュアを施しているので、ステップＰ１０
の工程で液晶３が完全硬化前のシール材２に達したとし
ても、未硬化のシール材と液晶とは直接接しない。従来
問題となっていた液晶汚染は液晶と、未硬化のシール材
とが直接接し、かつその領域に紫外線照射がなされるこ
とによって生じるが、上記ではそのような汚染は生じに
くい。
例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、図１のステ
ップＰ５の工程で、図２に示すように、シール材２の内
周表面にプリキュアを施しているので、ステップＰ１０
の工程で液晶３が完全硬化前のシール材２に達したとし
ても、未硬化のシール材と液晶とは直接接しない。従来
問題となっていた液晶汚染は液晶と、未硬化のシール材
とが直接接し、かつその領域に紫外線照射がなされるこ
とによって生じるが、上記ではそのような汚染は生じに
くい。
【００３３】この事実は、実験によっても確認されてい
る。以下でその実験結果を表１を参照しながら説明す
る。実施例のように作製したパネルのシール近傍での電
圧保持力を測定するとプリキュアを行わなかった場合に
比較して極めて良好な結果となった。その測定結果を以
下の表１に示す。
る。以下でその実験結果を表１を参照しながら説明す
る。実施例のように作製したパネルのシール近傍での電
圧保持力を測定するとプリキュアを行わなかった場合に
比較して極めて良好な結果となった。その測定結果を以
下の表１に示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】なお、上記の表１において用いた液晶はZL
I-4792（メルク製）であって、配向膜はJALS-214（ＪＳ
Ｒ製）である。表１に示す結果によれば、プリキュアを
行わなかったパネルについては電圧保持率が９６．０％
であるのに対して、プリキュアを行ったパネルは電圧保
持率が９８．０％と高い。また８０℃で１０００時間経
過後の電圧保持率についてはプリキュアなしのパネルが
９４．０％まで低下しているのに比して、プリキュアを
施したパネルは９７％と高い。以上のように、プリキュ
アを行うことにより、初期での電圧保持率の低下が抑制
されるとともに、長期間使用した後でも電圧保持率の低
下を抑制することができる。
I-4792（メルク製）であって、配向膜はJALS-214（ＪＳ
Ｒ製）である。表１に示す結果によれば、プリキュアを
行わなかったパネルについては電圧保持率が９６．０％
であるのに対して、プリキュアを行ったパネルは電圧保
持率が９８．０％と高い。また８０℃で１０００時間経
過後の電圧保持率についてはプリキュアなしのパネルが
９４．０％まで低下しているのに比して、プリキュアを
施したパネルは９７％と高い。以上のように、プリキュ
アを行うことにより、初期での電圧保持率の低下が抑制
されるとともに、長期間使用した後でも電圧保持率の低
下を抑制することができる。
【００３６】以上示したように、本発明の実施例に係る
液晶表示装置の製造方法によれば、電圧保持率の低下を
抑制することができるので、電圧保持率の低下が原因と
なる当該液晶表示パネルのコントラストの低下を抑制す
ることが可能となる。 （２）第２の実施例 以下で、本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法について図４を参照しながら説明する。なお、図
１のステップＰ１〜Ｐ３については第１の実施例と同様
な工程なので、重複を避けるため説明を省略する。
液晶表示装置の製造方法によれば、電圧保持率の低下を
抑制することができるので、電圧保持率の低下が原因と
なる当該液晶表示パネルのコントラストの低下を抑制す
ることが可能となる。 （２）第２の実施例 以下で、本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法について図４を参照しながら説明する。なお、図
１のステップＰ１〜Ｐ３については第１の実施例と同様
な工程なので、重複を避けるため説明を省略する。
【００３７】まず、図１のステップＰ４で、ＣＦ基板１
のほか、ＴＦＴ基板４の表面にもシール材を形成する。
すなわち、図４に示すようにＣＦ基板１の表面に紫外線
硬化型の接着材（Ｔ−４７０、長瀬チバ製）からなる第
１のシール材２Ｂを液晶を封入する矩形領域を囲むよう
に環状に形成し、かつ第１のシール材２Ｂの形成パター
ンと同じパターンの第２のシール材５をＴＦＴ基板４の
表面に形成する。
のほか、ＴＦＴ基板４の表面にもシール材を形成する。
すなわち、図４に示すようにＣＦ基板１の表面に紫外線
硬化型の接着材（Ｔ−４７０、長瀬チバ製）からなる第
１のシール材２Ｂを液晶を封入する矩形領域を囲むよう
に環状に形成し、かつ第１のシール材２Ｂの形成パター
ンと同じパターンの第２のシール材５をＴＦＴ基板４の
表面に形成する。
【００３８】次いで、ステップＰ５のプリキュア工程で
は第１のシール材２と、第２のシール材５の両方にプリ
キュアを施す。このとき、第１の実施例では液晶と接す
る部分となる、環状のシール材の内周表面のみを選択的
に半硬化状態にしていたが、本実施例ではシール材の全
体をプリキュアして、図４に示すように第１のシール材
２の表層２Ｃを半硬化状態にし、第２のシール材５の表
層５Ａも同様にして半硬化状態にする。
は第１のシール材２と、第２のシール材５の両方にプリ
キュアを施す。このとき、第１の実施例では液晶と接す
る部分となる、環状のシール材の内周表面のみを選択的
に半硬化状態にしていたが、本実施例ではシール材の全
体をプリキュアして、図４に示すように第１のシール材
２の表層２Ｃを半硬化状態にし、第２のシール材５の表
層５Ａも同様にして半硬化状態にする。
【００３９】次に、ステップＰ７までは第１の実施例と
同様の工程を経て、ステップＰ８ＴＦＴ基板４とＣＦ基
板１を重ね合わせて粗合せした後、両者を軽く加圧し、
ＴＦＴ基板４とＣＦ基板１の間の隙間を密封する。この
とき、粗合わせにより、図４に示すように、第１のシー
ル材２の形成領域に第２のシール材５の形成領域とを一
致させる。
同様の工程を経て、ステップＰ８ＴＦＴ基板４とＣＦ基
板１を重ね合わせて粗合せした後、両者を軽く加圧し、
ＴＦＴ基板４とＣＦ基板１の間の隙間を密封する。この
とき、粗合わせにより、図４に示すように、第１のシー
ル材２の形成領域に第２のシール材５の形成領域とを一
致させる。
【００４０】その後、第１の実施例と同様の工程を経
て、液晶表示パネルが作成される。以上説明したよう
に、本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造方
法によれば、ＣＦ基板１の表面に第１のシール材２を形
成するのみならず、ＴＦＴ基板４の表面にも第２のシー
ル材５を形成して両者をプリキュアし、のちに第１及び
第２のシール材２Ｂ及び５を位置合せしてＴＦＴ基板４
とＣＦ基板１とを圧着している。
て、液晶表示パネルが作成される。以上説明したよう
に、本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造方
法によれば、ＣＦ基板１の表面に第１のシール材２を形
成するのみならず、ＴＦＴ基板４の表面にも第２のシー
ル材５を形成して両者をプリキュアし、のちに第１及び
第２のシール材２Ｂ及び５を位置合せしてＴＦＴ基板４
とＣＦ基板１とを圧着している。
【００４１】このため、第１の実施例と同様にして、第
１のシール材２Ｂ，第２のシール材５には予めステップ
Ｐ５でプリキュアが施されて半硬化状態になっているの
で、未硬化のシール材と液晶が直接接触せず、液晶の汚
染を抑止することができる。これにより、液晶汚染によ
る液晶表示装置の電圧保持率の低下を抑制し、表示の際
のコントラストの低下を抑制することが可能になる。
１のシール材２Ｂ，第２のシール材５には予めステップ
Ｐ５でプリキュアが施されて半硬化状態になっているの
で、未硬化のシール材と液晶が直接接触せず、液晶の汚
染を抑止することができる。これにより、液晶汚染によ
る液晶表示装置の電圧保持率の低下を抑制し、表示の際
のコントラストの低下を抑制することが可能になる。
【００４２】また、本実施例においては第１の実施例と
異なり、重ね合わせの際、第１のシール材２と第２のシ
ール材５とが接着されるので、ＣＦ基板１にのみシール
材が形成されている液晶表示パネルに比して、両者の密
着性がさらに向上する。第１及び第２のシール材２及び
５の全部の領域に紫外線を照射して半硬化状態にして
も、これらの間の密着性は損なわれることはない。
異なり、重ね合わせの際、第１のシール材２と第２のシ
ール材５とが接着されるので、ＣＦ基板１にのみシール
材が形成されている液晶表示パネルに比して、両者の密
着性がさらに向上する。第１及び第２のシール材２及び
５の全部の領域に紫外線を照射して半硬化状態にして
も、これらの間の密着性は損なわれることはない。
【００４３】なお、第１の実施例と同様に、第１，第２
のシール材２，５の内周面に選択的に紫外線を照射して
照射領域を半硬化状態にしてもよい。さらにＵＶプリキ
ュアを行うことは、粘度の低い材料（塗布性は良好）を
用いて粘度の高いシールを形成することが可能であるこ
とを意味し、パネルを大気に戻した際の大気圧によるシ
ールダメージを低減する効果もある。
のシール材２，５の内周面に選択的に紫外線を照射して
照射領域を半硬化状態にしてもよい。さらにＵＶプリキ
ュアを行うことは、粘度の低い材料（塗布性は良好）を
用いて粘度の高いシールを形成することが可能であるこ
とを意味し、パネルを大気に戻した際の大気圧によるシ
ールダメージを低減する効果もある。
【００４４】（３）第３の実施例 以下で、本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法について図５（ａ），（ｂ）を参照しながら説明
する。図５（ａ）は断面図、図５（ｂ）は平面図で、図
５（ａ）は同図（ｂ）のＢ−Ｂ線断面図である。なお、
第１，第２の実施例と共通する事項については、重複を
避けるため説明を省略する。
造方法について図５（ａ），（ｂ）を参照しながら説明
する。図５（ａ）は断面図、図５（ｂ）は平面図で、図
５（ａ）は同図（ｂ）のＢ−Ｂ線断面図である。なお、
第１，第２の実施例と共通する事項については、重複を
避けるため説明を省略する。
【００４５】まず、図１のステップＰ１で透明基板上に
液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する工
程で、ＴＦＴ基板４は第１の実施例と同様の工程で形成
するが、ＣＦ基板１の表示領域にカラーフィルタをパタ
ーニングして形成する際に、表示領域の外側領域であっ
て、シール材を形成する領域の内側の領域に、環状のカ
ラーフィルタと同じ材料の凸部６Ａ，６Ｂをパターニン
グして形成する。
液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する工
程で、ＴＦＴ基板４は第１の実施例と同様の工程で形成
するが、ＣＦ基板１の表示領域にカラーフィルタをパタ
ーニングして形成する際に、表示領域の外側領域であっ
て、シール材を形成する領域の内側の領域に、環状のカ
ラーフィルタと同じ材料の凸部６Ａ，６Ｂをパターニン
グして形成する。
【００４６】このとき、凸部６Ａ，６Ｂが形成された領
域は、その周辺の領域よりも高く盛り上がり、この上に
ＩＴＯ膜からなる透明電極７や配向膜８が形成される
と、図５（ａ）に示すような凸部９Ａ，９Ｂが生じて隙
間が狭くなる。その後は第１の実施例と同様の工程を経
る。ただし、ステップＰ５のプリキュアについては省略
してもよい。
域は、その周辺の領域よりも高く盛り上がり、この上に
ＩＴＯ膜からなる透明電極７や配向膜８が形成される
と、図５（ａ）に示すような凸部９Ａ，９Ｂが生じて隙
間が狭くなる。その後は第１の実施例と同様の工程を経
る。ただし、ステップＰ５のプリキュアについては省略
してもよい。
【００４７】ところで、液晶汚染が生じる原因は液晶と
未硬化の接着材が直接接し、且つその領域に紫外線照射
処理がなされる為である。滴下注入法を用いても、１０
インチクラスのＴＦＴ液晶パネルに完全に液晶が行き渡
るには数分（５分程度）の時間かかるため、張り合わせ
室より、パネルを取出し、液晶がシール材に達する前に
出来るだけ早くシール材に紫外線照射して硬化すれば、
液晶汚染による電圧保持率の低下を抑制することが可能
になる。しかし、本実施例のように、透明基板の中央部
からシール材に至る間に凸部９Ａ，９Ｂを設けて隙間を
狭くして液晶の広がりを遅くすることにより、一層確実
に未硬化のシール材と液晶との接触を避けることが可能
となる。
未硬化の接着材が直接接し、且つその領域に紫外線照射
処理がなされる為である。滴下注入法を用いても、１０
インチクラスのＴＦＴ液晶パネルに完全に液晶が行き渡
るには数分（５分程度）の時間かかるため、張り合わせ
室より、パネルを取出し、液晶がシール材に達する前に
出来るだけ早くシール材に紫外線照射して硬化すれば、
液晶汚染による電圧保持率の低下を抑制することが可能
になる。しかし、本実施例のように、透明基板の中央部
からシール材に至る間に凸部９Ａ，９Ｂを設けて隙間を
狭くして液晶の広がりを遅くすることにより、一層確実
に未硬化のシール材と液晶との接触を避けることが可能
となる。
【００４８】以下の表２に、１４インチの評価基板を用
いて、液晶とシール材とが接触する前に紫外線照射処理
を行ったものと、液晶と接触した後に紫外線照射処理を
行ったものとの比較を行った結果を示す。
いて、液晶とシール材とが接触する前に紫外線照射処理
を行ったものと、液晶と接触した後に紫外線照射処理を
行ったものとの比較を行った結果を示す。
【００４９】
【表２】
【００５０】なお、上記の表２において用いた液晶はZL
I-4792（メルク製）であって、配向膜はJALS-214（ＪＳ
Ｒ製）である。表２に示す結果によれば、液晶とシール
材とが接触する前に紫外線照射を行ったパネルについて
は電圧保持率が９８％であるのに対して、液晶とシール
材とが接触した後に紫外線照射を行ったパネルは電圧保
持率が９６％と低く、また８０℃で１０００時間経過後
の電圧保持率については接触前に紫外線照射したパネル
が９８％という高い値を維持しているのに比して、接触
後に紫外線照射したパネルでは９４％まで低下してい
る。従って、シール材に液晶が接する前に紫外線照射を
することにより、電圧保持率の低下を抑制できるという
事実が確認できた。
I-4792（メルク製）であって、配向膜はJALS-214（ＪＳ
Ｒ製）である。表２に示す結果によれば、液晶とシール
材とが接触する前に紫外線照射を行ったパネルについて
は電圧保持率が９８％であるのに対して、液晶とシール
材とが接触した後に紫外線照射を行ったパネルは電圧保
持率が９６％と低く、また８０℃で１０００時間経過後
の電圧保持率については接触前に紫外線照射したパネル
が９８％という高い値を維持しているのに比して、接触
後に紫外線照射したパネルでは９４％まで低下してい
る。従って、シール材に液晶が接する前に紫外線照射を
することにより、電圧保持率の低下を抑制できるという
事実が確認できた。
【００５１】本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置
の製造方法はこの事実を利用している。すなわち、ＣＦ
基板１上表示領域とシール材の形成領域の間にカラーフ
ィルタと同じ材料からなる凸部６Ａ，６Ｂをパターニン
グにより形成する。なお、凸部６Ａ，６ＢはＲ，Ｇ，Ｂ
のうち少なくとも１層を形成すればよい。続いて、凸部
６Ａ，６Ｂ上に透明電極７及び配向膜８を順次形成して
更に高い凸部９Ａ，９Ｂを形成している。
の製造方法はこの事実を利用している。すなわち、ＣＦ
基板１上表示領域とシール材の形成領域の間にカラーフ
ィルタと同じ材料からなる凸部６Ａ，６Ｂをパターニン
グにより形成する。なお、凸部６Ａ，６ＢはＲ，Ｇ，Ｂ
のうち少なくとも１層を形成すればよい。続いて、凸部
６Ａ，６Ｂ上に透明電極７及び配向膜８を順次形成して
更に高い凸部９Ａ，９Ｂを形成している。
【００５２】こうして凸部９Ａ，９Ｂが形成された領域
でのＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間のギャップは図５
（ａ）に示すように狭くなり、圧着によって拡散された
液晶３がシール材２に達するまでの時間を伸ばすことが
できるので、液晶３がシール材２に達する前に、余裕を
もってシール材に紫外線を照射し、硬化させることが可
能になる。
でのＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間のギャップは図５
（ａ）に示すように狭くなり、圧着によって拡散された
液晶３がシール材２に達するまでの時間を伸ばすことが
できるので、液晶３がシール材２に達する前に、余裕を
もってシール材に紫外線を照射し、硬化させることが可
能になる。
【００５３】これにより、当該液晶表示装置の電圧保持
率の低下を抑制し、表示の際のコントラストの低下を抑
止することが可能になる。なお、カラーフィルタによっ
て形成される凸部のパターンは、図５（ａ），（ｂ）に
示すように環状のパターンでもよいが、本発明はこれに
限らず、例えば図６に示すような、島状のパターンが点
在しているような凸部９Ｃを形成してもよい。この場合
も図５（ａ），（ｂ）に示すようなパターンの凸部９
Ａ，９Ｂを形成した場合と同様の効果を奏する。
率の低下を抑制し、表示の際のコントラストの低下を抑
止することが可能になる。なお、カラーフィルタによっ
て形成される凸部のパターンは、図５（ａ），（ｂ）に
示すように環状のパターンでもよいが、本発明はこれに
限らず、例えば図６に示すような、島状のパターンが点
在しているような凸部９Ｃを形成してもよい。この場合
も図５（ａ），（ｂ）に示すようなパターンの凸部９
Ａ，９Ｂを形成した場合と同様の効果を奏する。
【００５４】（４）第４の実施例 以下で、本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法について図７（ａ），（ｂ），図８（ａ），
（ｂ）を参照しながら説明する。図７（ａ），（ｂ），
図８（ａ）は断面図であり、図８（ｂ）は平面図であ
る。図８（ａ）は同図（ｂ）のＣ−Ｃ線断面図である。
なお、第１，第２又は第３の実施例と共通する事項につ
いては、重複を避けるため説明を省略する。
造方法について図７（ａ），（ｂ），図８（ａ），
（ｂ）を参照しながら説明する。図７（ａ），（ｂ），
図８（ａ）は断面図であり、図８（ｂ）は平面図であ
る。図８（ａ）は同図（ｂ）のＣ−Ｃ線断面図である。
なお、第１，第２又は第３の実施例と共通する事項につ
いては、重複を避けるため説明を省略する。
【００５５】まず、図１のステップＰ１〜Ｐ７までは第
１の実施例と同様の工程を経る。ステップＰ８の粗合わ
せの工程で、図７（ａ）に示すように、減圧雰囲気中
で、載置台ＳＴ上に載置されたＣＦ基板１の一辺にＴＦ
Ｔ基板４の一辺が接するように両者の間に厚さ２ｍｍの
スペーサ板１１を挟みこんで載置しておく。例えば、図
８（ａ），（ｂ）に示すように、重ね合わせたＣＦ基板
１とＴＦＴ基板４の間の一箇所にスペーサ板１１を挟み
こむ。
１の実施例と同様の工程を経る。ステップＰ８の粗合わ
せの工程で、図７（ａ）に示すように、減圧雰囲気中
で、載置台ＳＴ上に載置されたＣＦ基板１の一辺にＴＦ
Ｔ基板４の一辺が接するように両者の間に厚さ２ｍｍの
スペーサ板１１を挟みこんで載置しておく。例えば、図
８（ａ），（ｂ）に示すように、重ね合わせたＣＦ基板
１とＴＦＴ基板４の間の一箇所にスペーサ板１１を挟み
こむ。
【００５６】また、各基板１，４の四隅には位置ずれが
起きないようにガイド棒１０を設けておく。次いで、ス
ペーサ板１１を横方向に引き抜くと、図７（ｂ）に示す
ようにＴＦＴ基板４が自重でＣＦ基板１上に落ちて重な
る。このとき、ＴＦＴ基板４の四隅にはガイド棒１０が
配置されているので、ＴＦＴ基板４がスペーサ板１１に
引きずられてずれることはほとんどない。その後の工程
は、第１の実施例と同様であるため、説明を省略する。
起きないようにガイド棒１０を設けておく。次いで、ス
ペーサ板１１を横方向に引き抜くと、図７（ｂ）に示す
ようにＴＦＴ基板４が自重でＣＦ基板１上に落ちて重な
る。このとき、ＴＦＴ基板４の四隅にはガイド棒１０が
配置されているので、ＴＦＴ基板４がスペーサ板１１に
引きずられてずれることはほとんどない。その後の工程
は、第１の実施例と同様であるため、説明を省略する。
【００５７】以上説明したように、本発明の第４の実施
例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、ＴＦＴ基板
４の一辺とＣＦ基板１の一辺とが接するようにこれらの
間にスペーサ板１１を挟んでおき、これを引き抜いてＣ
Ｆ基板１とＴＦＴ基板１を重ね合わせている。ＴＦＴ基
板をＣＦ基板に対向させたのちに自由落下させることに
よって液晶が急激に圧着されていた従来に比して、本実
施例では少なくともＴＦＴ基板４の一辺とＣＦ基板１の
一辺とが接しているので、比較的ゆっくりと落下する。
このため、ＣＦ基板１上に形成されたシール材２は従来
ほど大きな圧力を受けず、シール材２の潰れも偏らな
い。従って、ＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間のギャップ
の間隔の不均一も生じない。
例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、ＴＦＴ基板
４の一辺とＣＦ基板１の一辺とが接するようにこれらの
間にスペーサ板１１を挟んでおき、これを引き抜いてＣ
Ｆ基板１とＴＦＴ基板１を重ね合わせている。ＴＦＴ基
板をＣＦ基板に対向させたのちに自由落下させることに
よって液晶が急激に圧着されていた従来に比して、本実
施例では少なくともＴＦＴ基板４の一辺とＣＦ基板１の
一辺とが接しているので、比較的ゆっくりと落下する。
このため、ＣＦ基板１上に形成されたシール材２は従来
ほど大きな圧力を受けず、シール材２の潰れも偏らな
い。従って、ＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間のギャップ
の間隔の不均一も生じない。
【００５８】なお、本実施例ではスペーサ板１１をＣＦ
基板１とＴＦＴ基板４との間の一箇所にのみ挟んでこれ
を引き抜くことでＴＦＴ基板４をＣＦ基板１に重ね合わ
せているが、本発明はこれに限らず、図８（ｃ），
（ｄ）に示すように、２つのスペーサ板１１Ａ，１１Ｂ
を対向してＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間に挟みこんで
二点で支持したような場合でも同様の効果を奏し、さら
に図９（ａ），（ｂ）に示すように３つのスペーサ板１
１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃを挟みこんで三点で支持しても同
様の効果を奏する。少なくともＣＦ基板１の一辺とＴＦ
Ｔ基板の一辺とが接していればよい。なお、図８
（ｃ），図９（ａ）は断面図、８（ｄ），図９（ｂ）は
平面図であり、図８（ｃ）は同図（ｄ）のＤ−Ｄ線断面
図であり、図９（ｂ）は同図（ａ）のＥ−Ｅ線断面図で
ある。
基板１とＴＦＴ基板４との間の一箇所にのみ挟んでこれ
を引き抜くことでＴＦＴ基板４をＣＦ基板１に重ね合わ
せているが、本発明はこれに限らず、図８（ｃ），
（ｄ）に示すように、２つのスペーサ板１１Ａ，１１Ｂ
を対向してＣＦ基板１とＴＦＴ基板４の間に挟みこんで
二点で支持したような場合でも同様の効果を奏し、さら
に図９（ａ），（ｂ）に示すように３つのスペーサ板１
１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃを挟みこんで三点で支持しても同
様の効果を奏する。少なくともＣＦ基板１の一辺とＴＦ
Ｔ基板の一辺とが接していればよい。なお、図８
（ｃ），図９（ａ）は断面図、８（ｄ），図９（ｂ）は
平面図であり、図８（ｃ）は同図（ｄ）のＤ−Ｄ線断面
図であり、図９（ｂ）は同図（ａ）のＥ−Ｅ線断面図で
ある。
【００５９】また、本実施例に係る方法を用いると複数
の液晶表示パネルについて、ＴＦＴ基板をＣＦ基板上に
載置することが短時間でできるようになる。以下でこの
ことについて図１０，１１を参照しながら説明する。す
なわち、図１０に示すように、ＣＦ基板とＴＦＴ基板を
交互に積み重ね、その周囲にガイド棒１０を配置する。
この状態を横からみた図が図１１である。下から順にＴ
ＦＴ基板４Ｃ，ＣＦ基板１Ｃ，ＴＦＴ基板４Ｂ，ＣＦ基
板１Ｂ，ＴＦＴ基板４Ａ，ＣＦ基板１Ａが順次積層され
ており、それらの間にはそれぞれスペーサ板１１Ｃ，１
１Ｂ，１１Ａが挟みこまれている。
の液晶表示パネルについて、ＴＦＴ基板をＣＦ基板上に
載置することが短時間でできるようになる。以下でこの
ことについて図１０，１１を参照しながら説明する。す
なわち、図１０に示すように、ＣＦ基板とＴＦＴ基板を
交互に積み重ね、その周囲にガイド棒１０を配置する。
この状態を横からみた図が図１１である。下から順にＴ
ＦＴ基板４Ｃ，ＣＦ基板１Ｃ，ＴＦＴ基板４Ｂ，ＣＦ基
板１Ｂ，ＴＦＴ基板４Ａ，ＣＦ基板１Ａが順次積層され
ており、それらの間にはそれぞれスペーサ板１１Ｃ，１
１Ｂ，１１Ａが挟みこまれている。
【００６０】各ＴＦＴ基板をＣＦ基板に載置するには、
各スペーサ板１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃを横方向に引き抜
くだけで、複数の液晶表示パネルに対応する複数のＴＦ
Ｔ基板を、それぞれに対応するＣＦ基板上に、短時間で
容易に載置することが可能になる。 （５）第５の実施例 以下で本発明の第５の実施例に係る液晶表示装置の製造
方法について図１２（ａ）〜（ｃ）を参照しながら説明
する。なお、第１〜第４の実施例と共通する事項につい
ては、重複を避けるため説明を省略する。
各スペーサ板１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃを横方向に引き抜
くだけで、複数の液晶表示パネルに対応する複数のＴＦ
Ｔ基板を、それぞれに対応するＣＦ基板上に、短時間で
容易に載置することが可能になる。 （５）第５の実施例 以下で本発明の第５の実施例に係る液晶表示装置の製造
方法について図１２（ａ）〜（ｃ）を参照しながら説明
する。なお、第１〜第４の実施例と共通する事項につい
ては、重複を避けるため説明を省略する。
【００６１】まず、図１のステップＰ１で透明基板上に
液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する工
程で、ＴＦＴ基板４は第１の実施例と同様の工程で形成
するが、ＣＦ基板１についてはその四隅に超鋼ドリル
や、炭酸ガスレーザを用いて、直径１mmの複数のガイド
孔１Ｈを空けておく。次いで、図１のステップＰ２〜Ｐ
７までは第１の実施例と同様の工程を経た後に、図１の
ステップＰ８の粗合せの工程で、図１２（ａ）に示すよ
うに、載置台ＳＴ上のＣＦ基板１の四隅に形成されたガ
イド孔１Ｈに支持棒１２Ａ，１２Ｂを通し、この上にＴ
ＦＴ基板４を載置する。この段階ではＴＦＴ基板４とＣ
Ｆ基板１とを２mm程度の間隔に離しておく。なお、図１
２（ａ）には支持棒１２Ａ，１２Ｂを２本示し、２本を
省略している。
液晶表示パネルを形成する上で必要な部材を形成する工
程で、ＴＦＴ基板４は第１の実施例と同様の工程で形成
するが、ＣＦ基板１についてはその四隅に超鋼ドリル
や、炭酸ガスレーザを用いて、直径１mmの複数のガイド
孔１Ｈを空けておく。次いで、図１のステップＰ２〜Ｐ
７までは第１の実施例と同様の工程を経た後に、図１の
ステップＰ８の粗合せの工程で、図１２（ａ）に示すよ
うに、載置台ＳＴ上のＣＦ基板１の四隅に形成されたガ
イド孔１Ｈに支持棒１２Ａ，１２Ｂを通し、この上にＴ
ＦＴ基板４を載置する。この段階ではＴＦＴ基板４とＣ
Ｆ基板１とを２mm程度の間隔に離しておく。なお、図１
２（ａ）には支持棒１２Ａ，１２Ｂを２本示し、２本を
省略している。
【００６２】その後、図１２（ｂ），（ｃ）に示すよう
に、支持棒１２Ａ，１２Ｂを徐々に降下させてＴＦＴ基
板４をＣＦ基板１と重ね合わせる。その後の図１のステ
ップＰ９以降の工程は第１の実施例と同様であるため、
説明を省略する。以上説明したように、本発明の第５の
実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、ＣＦ基
板１の四隅にガイド孔１Ｈを形成し、これに支持棒１Ｈ
を通して、支持棒１Ｈの上にＴＦＴ基板４を載置し、支
持棒１Ｈを徐々に降下させることでＴＦＴ基板４をＣＦ
基板１と重ね合わせ、粗合わせを行っている。
に、支持棒１２Ａ，１２Ｂを徐々に降下させてＴＦＴ基
板４をＣＦ基板１と重ね合わせる。その後の図１のステ
ップＰ９以降の工程は第１の実施例と同様であるため、
説明を省略する。以上説明したように、本発明の第５の
実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれば、ＣＦ基
板１の四隅にガイド孔１Ｈを形成し、これに支持棒１Ｈ
を通して、支持棒１Ｈの上にＴＦＴ基板４を載置し、支
持棒１Ｈを徐々に降下させることでＴＦＴ基板４をＣＦ
基板１と重ね合わせ、粗合わせを行っている。
【００６３】このため、予め位置合わせをしておいて支
持具を降下させる速度を遅くすれば、位置ずれせずにそ
のまま重ね合わせることが出来るので、粗合わせの精度
が向上する。しかも、基板がシール材２に接触する際の
偏りも少なく、かつ衝撃が小さいためシール材２の潰れ
が偏らず、基板間の隙間の間隔の均一性が向上する。ま
た、本実施例と同様に、ＣＦ基板１にガイド孔１Ｈの代
わりに、図１３（ａ），（ｂ）に示すようにＣＦ基板１
の四隅に切除部１Ｋを形成して、その切除部１Ｋに支持
棒１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄを通してこれら四本
の支持棒１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ上にＴＦＴ基
板４を載置して、支持棒１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２
Ｄを降下させてＴＦＴ基板４をＣＦ基板１と重ね合わせ
るという方法を用いても、本実施例のガイド孔１Ｈを用
いた方法と同様に、ＴＦＴ基板４をＣＦ基板１上にゆっ
くりと降下させることができるので、本実施例と同様の
効果を奏する。
持具を降下させる速度を遅くすれば、位置ずれせずにそ
のまま重ね合わせることが出来るので、粗合わせの精度
が向上する。しかも、基板がシール材２に接触する際の
偏りも少なく、かつ衝撃が小さいためシール材２の潰れ
が偏らず、基板間の隙間の間隔の均一性が向上する。ま
た、本実施例と同様に、ＣＦ基板１にガイド孔１Ｈの代
わりに、図１３（ａ），（ｂ）に示すようにＣＦ基板１
の四隅に切除部１Ｋを形成して、その切除部１Ｋに支持
棒１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄを通してこれら四本
の支持棒１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ上にＴＦＴ基
板４を載置して、支持棒１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２
Ｄを降下させてＴＦＴ基板４をＣＦ基板１と重ね合わせ
るという方法を用いても、本実施例のガイド孔１Ｈを用
いた方法と同様に、ＴＦＴ基板４をＣＦ基板１上にゆっ
くりと降下させることができるので、本実施例と同様の
効果を奏する。
【００６４】さらに、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に、
エンジニアリングプラスチック用充填材として用いられ
ているガラスカプセルを挟んで、これをスペーサ板とし
て用いる方法もある。このガラスカプセルは基板を圧着
する際の加圧により破壊されて細かくなるため、ギャッ
プ制御上何の問題も生じない。また、基板上に残存する
ガラスカプセルの破片は透明なので、表示上の問題も生
じない。
エンジニアリングプラスチック用充填材として用いられ
ているガラスカプセルを挟んで、これをスペーサ板とし
て用いる方法もある。このガラスカプセルは基板を圧着
する際の加圧により破壊されて細かくなるため、ギャッ
プ制御上何の問題も生じない。また、基板上に残存する
ガラスカプセルの破片は透明なので、表示上の問題も生
じない。
【００６５】（６）第６の実施例 以下で、本発明の第６の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法について図面を参照しながら説明する。なお、第
１〜第５の実施例と共通する事項については、重複を避
けるため説明を省略する。まず、図１のステップＰ１〜
Ｐ３までは第１の実施例と同じ工程を経る。ステップＰ
４のシールを形成する工程では第１〜第５の実施例と異
なり、まずＣＦ基板１の表面のシール材を形成すべき領
域に、可動イオンを捕獲する膜の一例であるシランカッ
プリング材からなる膜１３Ａ（東レ：AP-400）を環状に
形成する。
造方法について図面を参照しながら説明する。なお、第
１〜第５の実施例と共通する事項については、重複を避
けるため説明を省略する。まず、図１のステップＰ１〜
Ｐ３までは第１の実施例と同じ工程を経る。ステップＰ
４のシールを形成する工程では第１〜第５の実施例と異
なり、まずＣＦ基板１の表面のシール材を形成すべき領
域に、可動イオンを捕獲する膜の一例であるシランカッ
プリング材からなる膜１３Ａ（東レ：AP-400）を環状に
形成する。
【００６６】同様にして、ＴＦＴ基板４の表面にも、の
ちにシール材が圧着されるべき領域に同じシランカップ
リング材からなる膜１３Ｂを形成する。なお、これらの
膜１３Ａ，１３Ｂは印刷により形成し、硬化のため温度
３００℃にて３０分間熱処理を施す。次いで、ＣＦ基板
１上に形成されたシランカップリング材からなる膜１３
Ａ上に、紫外線硬化型の接着材（Ｔ−４７０、長瀬チバ
製）からなるシール材２を環状に形成する。
ちにシール材が圧着されるべき領域に同じシランカップ
リング材からなる膜１３Ｂを形成する。なお、これらの
膜１３Ａ，１３Ｂは印刷により形成し、硬化のため温度
３００℃にて３０分間熱処理を施す。次いで、ＣＦ基板
１上に形成されたシランカップリング材からなる膜１３
Ａ上に、紫外線硬化型の接着材（Ｔ−４７０、長瀬チバ
製）からなるシール材２を環状に形成する。
【００６７】その後、図１のステップＰ５〜Ｐ１０まで
は第１の実施例と同様の工程を経て、図１４に示すよう
な断面形状を有する液晶表示パネルが完成する。ステッ
プＰ８の粗合わせの工程では、少なくともＴＦＴ基板４
のシランカップリング材からなる膜１３Ｂがシール材２
の内側の領域に存在する。以上説明したように、本発明
の第６の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれ
ば、図１４に示すように、環状のシール材２の内側の領
域であってシール材２の形成領域に、可動イオンを捕獲
する膜であるシランカップリング材からなる膜１３Ａ，
１３Ｂを形成している。
は第１の実施例と同様の工程を経て、図１４に示すよう
な断面形状を有する液晶表示パネルが完成する。ステッ
プＰ８の粗合わせの工程では、少なくともＴＦＴ基板４
のシランカップリング材からなる膜１３Ｂがシール材２
の内側の領域に存在する。以上説明したように、本発明
の第６の実施例に係る液晶表示装置の製造方法によれ
ば、図１４に示すように、環状のシール材２の内側の領
域であってシール材２の形成領域に、可動イオンを捕獲
する膜であるシランカップリング材からなる膜１３Ａ，
１３Ｂを形成している。
【００６８】このため、シール材２の付近に存在する可
動イオンがシランカップリング材からなる膜１３Ａ，１
３Ｂによって捕獲されるため、可動イオンを介した蓄積
電荷のリークを抑制することができる。これにより、電
圧保持率の低下を抑制することができ、表示の際の当該
液晶表示装置のコントラストの低下を抑制することが可
能になる。
動イオンがシランカップリング材からなる膜１３Ａ，１
３Ｂによって捕獲されるため、可動イオンを介した蓄積
電荷のリークを抑制することができる。これにより、電
圧保持率の低下を抑制することができ、表示の際の当該
液晶表示装置のコントラストの低下を抑制することが可
能になる。
【００６９】シランカップリング材からなる膜をシール
材の形成領域近傍に形成すると、電圧保持率の低下を抑
制することができるという事実は、本願発明者による実
験によって確認されている。以下でこの実験結果につい
て説明する。下記の表３は、シランカップリング材（東
レ製：AP-400）からなる膜をシール材の形成領域の隣接
領域に形成した液晶表示パネルの電圧保持率と、これを
用いていない従来の液晶表示パネルの電圧保持率とを比
較した実験結果を示している。
材の形成領域近傍に形成すると、電圧保持率の低下を抑
制することができるという事実は、本願発明者による実
験によって確認されている。以下でこの実験結果につい
て説明する。下記の表３は、シランカップリング材（東
レ製：AP-400）からなる膜をシール材の形成領域の隣接
領域に形成した液晶表示パネルの電圧保持率と、これを
用いていない従来の液晶表示パネルの電圧保持率とを比
較した実験結果を示している。
【００７０】
【表３】
【００７１】なお、上記の表３において用いた液晶はZL
I-4792（メルク製）であって、配向膜はJALS-214（ＪＳ
Ｒ製）である。表３に示す結果によれば、シランカップ
リング材からなる膜をシール材の形成領域の隣接領域に
形成した液晶表示パネルの電圧保持率が９７％であるの
に対して、シランカップリング材からなる膜を有しない
従来の液晶表示パネルの電圧保持率は９６％と低く、ま
た８０℃で１０００時間経過後の電圧保持率については
シランカップリング材からなる膜を有する液晶表示パネ
ルが９７％という高い値を維持しているのに対して、こ
れを有しない従来の液晶表示パネルは９４％まで低下し
ている。従って、シール材の形成領域の隣接領域にシラ
ンカップリング材からなる膜を形成した液晶表示パネル
については、電圧保持率の低下が抑制されることが確認
された。
I-4792（メルク製）であって、配向膜はJALS-214（ＪＳ
Ｒ製）である。表３に示す結果によれば、シランカップ
リング材からなる膜をシール材の形成領域の隣接領域に
形成した液晶表示パネルの電圧保持率が９７％であるの
に対して、シランカップリング材からなる膜を有しない
従来の液晶表示パネルの電圧保持率は９６％と低く、ま
た８０℃で１０００時間経過後の電圧保持率については
シランカップリング材からなる膜を有する液晶表示パネ
ルが９７％という高い値を維持しているのに対して、こ
れを有しない従来の液晶表示パネルは９４％まで低下し
ている。従って、シール材の形成領域の隣接領域にシラ
ンカップリング材からなる膜を形成した液晶表示パネル
については、電圧保持率の低下が抑制されることが確認
された。
【００７２】なお、本実施例では可動イオンを捕獲する
膜の一例としてシランカップリング材からなる膜を用い
ているが、これに限らず、可動イオンを捕獲する性質を
有する膜であって、液晶を汚染しないような膜であれ
ば、本発明を適用することができる。 （７）第７の実施例 以下で、本発明の第７の実施例に係る液晶表示装置の製
造装置について図面を参照しながら説明する。この装置
は、図１のステップＰ７の真空排気工程と、ステップＰ
８の粗合せ工程で用いる貼り合わせ装置である。ＣＦ基
板とＴＦＴ基板を収納して、内部を減圧し、これらの基
板を重ね合わせて粗合せし、更に基板間の隙間に液晶を
封入する工程に用いられる。
膜の一例としてシランカップリング材からなる膜を用い
ているが、これに限らず、可動イオンを捕獲する性質を
有する膜であって、液晶を汚染しないような膜であれ
ば、本発明を適用することができる。 （７）第７の実施例 以下で、本発明の第７の実施例に係る液晶表示装置の製
造装置について図面を参照しながら説明する。この装置
は、図１のステップＰ７の真空排気工程と、ステップＰ
８の粗合せ工程で用いる貼り合わせ装置である。ＣＦ基
板とＴＦＴ基板を収納して、内部を減圧し、これらの基
板を重ね合わせて粗合せし、更に基板間の隙間に液晶を
封入する工程に用いられる。
【００７３】本実施例に係る液晶表示装置の製造装置
は、図１５に示すように、処理室２０、排気弁２１、排
気口２２、リーク弁２３、リーク口２４及び載置台ＳＴ
を有する。処理室２０はその内部でＣＦ基板１とＴＦＴ
基板４との貼り合わせを行う室である。排気弁２１は減
圧手段の一部を構成し、不図示の真空ポンプと排気口２
１との間に設けられている。排気弁２１を開き、排気口
２２を通じて処理室２０内のガスを排気することによ
り、処理室２０内を減圧状態にする。
は、図１５に示すように、処理室２０、排気弁２１、排
気口２２、リーク弁２３、リーク口２４及び載置台ＳＴ
を有する。処理室２０はその内部でＣＦ基板１とＴＦＴ
基板４との貼り合わせを行う室である。排気弁２１は減
圧手段の一部を構成し、不図示の真空ポンプと排気口２
１との間に設けられている。排気弁２１を開き、排気口
２２を通じて処理室２０内のガスを排気することによ
り、処理室２０内を減圧状態にする。
【００７４】また、リーク弁２３はリーク口２４と、不
活性ガス等を収納した不図示のガスボンベとの間に設け
られ、リーク弁２３を開くことにより、不図示のガスボ
ンベから噴出するガスをリーク口２４を介して処理室２
０内に導入する。リーク弁２３とリーク口２４はリーク
手段を構成する。なお、リーク弁２３には不活性ガス等
を収納したガスボンベを接続しなくてもよく、大気によ
るリークを行ってもよい。
活性ガス等を収納した不図示のガスボンベとの間に設け
られ、リーク弁２３を開くことにより、不図示のガスボ
ンベから噴出するガスをリーク口２４を介して処理室２
０内に導入する。リーク弁２３とリーク口２４はリーク
手段を構成する。なお、リーク弁２３には不活性ガス等
を収納したガスボンベを接続しなくてもよく、大気によ
るリークを行ってもよい。
【００７５】上記の液晶表示装置の製造装置を用いる液
晶表示装置の製造方法について以下で説明する。第１の
実施例と同様にして図１のステップＰ１〜Ｐ６の工程を
経た後に、図１のステップＰ７で、環状のシール材２の
内側領域に液晶３が滴下されているＣＦ基板１と、ＴＦ
Ｔ基板４とが図１５に示す貼り合わせ装置の処理室２０
の内部に搬入される。ＣＦ基板１は載置台ＳＴの上に載
置される。
晶表示装置の製造方法について以下で説明する。第１の
実施例と同様にして図１のステップＰ１〜Ｐ６の工程を
経た後に、図１のステップＰ７で、環状のシール材２の
内側領域に液晶３が滴下されているＣＦ基板１と、ＴＦ
Ｔ基板４とが図１５に示す貼り合わせ装置の処理室２０
の内部に搬入される。ＣＦ基板１は載置台ＳＴの上に載
置される。
【００７６】次いで、排気弁２１が開き、その先に設け
られた不図示の真空ポンプによって処理室２０が排気さ
れる。ここでは５分間排気を行い、処理室２０内の到達
真空度を５mTorr とした。その後、図１のステップＰ８
の粗合せ工程で、減圧状態下でシール材２を介してＴＦ
Ｔ基板４とＣＦ基板１とを重ね合わせ、粗合わせを行
う。続いて、加圧を行う。
られた不図示の真空ポンプによって処理室２０が排気さ
れる。ここでは５分間排気を行い、処理室２０内の到達
真空度を５mTorr とした。その後、図１のステップＰ８
の粗合せ工程で、減圧状態下でシール材２を介してＴＦ
Ｔ基板４とＣＦ基板１とを重ね合わせ、粗合わせを行
う。続いて、加圧を行う。
【００７７】この加圧工程では、瞬間的にリーク弁２３
を開いて、窒素ガス等をリーク口２４からその下のＴＦ
Ｔ基板４の上に噴出する。窒素ガスが吹き付けられるこ
とでＴＦＴ基板４がＣＦ基板１に加圧される。ガスは一
般に対象物に対して等方的に圧力を及ぼし、ＴＦＴ基板
４の表面に遍く行き渡る。従って、これがＴＦＴ基板４
の上面に吹き付けられると、ＴＦＴ基板４の受ける圧力
はほぼ均一になり、ＴＦＴ基板４は均一な力で加圧され
るため、基板１，４間の隙間の間隔は均一になる。これ
により、液晶表示パネルの電極に駆動電圧が印加された
場合、基板間の液晶に印加される電界も均一になるの
で、表示特性が向上する。
を開いて、窒素ガス等をリーク口２４からその下のＴＦ
Ｔ基板４の上に噴出する。窒素ガスが吹き付けられるこ
とでＴＦＴ基板４がＣＦ基板１に加圧される。ガスは一
般に対象物に対して等方的に圧力を及ぼし、ＴＦＴ基板
４の表面に遍く行き渡る。従って、これがＴＦＴ基板４
の上面に吹き付けられると、ＴＦＴ基板４の受ける圧力
はほぼ均一になり、ＴＦＴ基板４は均一な力で加圧され
るため、基板１，４間の隙間の間隔は均一になる。これ
により、液晶表示パネルの電極に駆動電圧が印加された
場合、基板間の液晶に印加される電界も均一になるの
で、表示特性が向上する。
【００７８】また、同様にガスを用いた加圧をする貼り
合わせ装置として、図１６に示すような張合わせ装置も
考えられる。この装置は、液晶表示パネルのシール材２
の形成領域に沿ってリーク孔２４が形成されていること
が図１５に示す装置と異なっている。図１６に示す貼り
合わせ装置を用いてＣＦ基板１に重ね合わされたＴＦＴ
基板４を加圧するには、図１５に示す装置と同様にリー
ク弁２３を開き、不図示のガスボンベから噴出されるガ
スをリーク孔２４から吹き付けることで加圧する。この
装置では、図１６に示すように、リーク孔２４がシール
材２の形成領域に沿って形成されているので、噴出する
ガスはシール材２の形成領域にのみ吹き付けられること
になる。
合わせ装置として、図１６に示すような張合わせ装置も
考えられる。この装置は、液晶表示パネルのシール材２
の形成領域に沿ってリーク孔２４が形成されていること
が図１５に示す装置と異なっている。図１６に示す貼り
合わせ装置を用いてＣＦ基板１に重ね合わされたＴＦＴ
基板４を加圧するには、図１５に示す装置と同様にリー
ク弁２３を開き、不図示のガスボンベから噴出されるガ
スをリーク孔２４から吹き付けることで加圧する。この
装置では、図１６に示すように、リーク孔２４がシール
材２の形成領域に沿って形成されているので、噴出する
ガスはシール材２の形成領域にのみ吹き付けられること
になる。
【００７９】ＴＦＴ基板４とＣＦ基板１の加圧の際に
は、結局シール材２を均一に加圧することが重要であ
る。この装置によれば、シール材２に沿ってガスを吹き
つけ、シール材２を均一に加圧することができるので、
図１５に示す装置と同様に、基板１，４間のギャップの
間隔を均一にすることができる。 （８）第８の実施例 以下で本発明の第８の実施例に係る液晶表示装置の製造
装置について図１７を参照しながら説明する。この装置
は、第７の実施例で説明した液晶表示装置の製造装置と
同様に、図１のステップＰ７の真空排気工程と、ステッ
プＰ８の粗合せ工程で用いる貼り合わせ装置であり、Ｃ
Ｆ基板とＴＦＴ基板を装置内に搬入した後に、装置内を
排気し、これらの基板を粗合せする。
は、結局シール材２を均一に加圧することが重要であ
る。この装置によれば、シール材２に沿ってガスを吹き
つけ、シール材２を均一に加圧することができるので、
図１５に示す装置と同様に、基板１，４間のギャップの
間隔を均一にすることができる。 （８）第８の実施例 以下で本発明の第８の実施例に係る液晶表示装置の製造
装置について図１７を参照しながら説明する。この装置
は、第７の実施例で説明した液晶表示装置の製造装置と
同様に、図１のステップＰ７の真空排気工程と、ステッ
プＰ８の粗合せ工程で用いる貼り合わせ装置であり、Ｃ
Ｆ基板とＴＦＴ基板を装置内に搬入した後に、装置内を
排気し、これらの基板を粗合せする。
【００８０】本実施例に係る液晶表示装置の製造装置
は、図１７に示すように、処理室２０、排気弁２１、排
気口２２、第１のリーク弁２３Ａ、第２のリーク弁２３
Ｂ、第１のリーク口２４Ａ、第２のリーク口２４Ｂ、圧
着板２５及び載置台ＳＴを有する。処理室２０はその内
部で貼り合わせを行う室であって、排気弁２１は、不図
示の真空ポンプと排気口２１との間に設けられ、排気弁
２１を開き、排気口２２を通じて処理室２０内のガスを
排気して、減圧状態にする。
は、図１７に示すように、処理室２０、排気弁２１、排
気口２２、第１のリーク弁２３Ａ、第２のリーク弁２３
Ｂ、第１のリーク口２４Ａ、第２のリーク口２４Ｂ、圧
着板２５及び載置台ＳＴを有する。処理室２０はその内
部で貼り合わせを行う室であって、排気弁２１は、不図
示の真空ポンプと排気口２１との間に設けられ、排気弁
２１を開き、排気口２２を通じて処理室２０内のガスを
排気して、減圧状態にする。
【００８１】第１のリーク弁２３Ａはリーク口２４Ａの
外部に設けられており、第１のリーク弁２３Ａを開くこ
とにより、不図示のガスボンベからのガスを、圧着板２
５の上面に吹き付ける。圧着板２５は、伸縮自在のベロ
ーズＶＳによって載置台ＳＴの上に支持され、かつ処理
室２０内と隔絶されており、ガスが吹き付けられると、
ベローズＶＳが伸びて載置台ＳＴの上に搭載されたＴＦ
Ｔ基板の上面を圧着する。
外部に設けられており、第１のリーク弁２３Ａを開くこ
とにより、不図示のガスボンベからのガスを、圧着板２
５の上面に吹き付ける。圧着板２５は、伸縮自在のベロ
ーズＶＳによって載置台ＳＴの上に支持され、かつ処理
室２０内と隔絶されており、ガスが吹き付けられると、
ベローズＶＳが伸びて載置台ＳＴの上に搭載されたＴＦ
Ｔ基板の上面を圧着する。
【００８２】第１のリーク弁２３Ｂはリーク口２４Ｂの
外部に設けられており、第１のリーク弁２３Ｂを開くこ
とにより、装置外部の空気が、処理室２０内に導入され
る。上記の液晶表示装置の製造装置を用いる液晶表示装
置の製造方法について以下で説明する。第１の実施例と
同様にして図１のステップＰ１〜Ｐ６の工程を経た後
に、図１のステップＰ７で、シール材２が表面に形成さ
れて液晶３が滴下されたＣＦ基板１と、ＴＦＴ基板４と
が図１５に示す貼り合わせ装置の処理室２０の内部に搬
入され、ＣＦ基板１は載置台ＳＴの上に載置される。
外部に設けられており、第１のリーク弁２３Ｂを開くこ
とにより、装置外部の空気が、処理室２０内に導入され
る。上記の液晶表示装置の製造装置を用いる液晶表示装
置の製造方法について以下で説明する。第１の実施例と
同様にして図１のステップＰ１〜Ｐ６の工程を経た後
に、図１のステップＰ７で、シール材２が表面に形成さ
れて液晶３が滴下されたＣＦ基板１と、ＴＦＴ基板４と
が図１５に示す貼り合わせ装置の処理室２０の内部に搬
入され、ＣＦ基板１は載置台ＳＴの上に載置される。
【００８３】ＴＦＴ基板４をＣＦ基板１上に対向配置し
たのちに、排気弁２１を開き、その先に設けられた不図
示の真空ポンプによって処理室２０が真空排気される。
５分間排気を行って、到達真空度を５mTorr とした。そ
の後、図１のステップＰ８の粗合せ工程で、真空状態下
でＴＦＴ基板４をＣＦ基板１上に載置して、対向密着状
態とし、加圧を行う。
たのちに、排気弁２１を開き、その先に設けられた不図
示の真空ポンプによって処理室２０が真空排気される。
５分間排気を行って、到達真空度を５mTorr とした。そ
の後、図１のステップＰ８の粗合せ工程で、真空状態下
でＴＦＴ基板４をＣＦ基板１上に載置して、対向密着状
態とし、加圧を行う。
【００８４】この加圧工程では、瞬間的に第１のリーク
弁２３Ａを開くとき、不図示のガスポンプから噴出され
る窒素ガスが第１のリーク口２４Ａからその下の圧着板
２５に均一な圧力で吹き付けられ、ＴＦＴ基板４がこの
圧着板２５によって加圧されてＴＦＴ基板４がＣＦ基板
１に圧着される。この加圧方法によると、ガスを用いて
圧着板２５を加圧し、その圧着板２５でＴＦＴ基板４を
圧着している。ガスは一般に等方性を有し、これが圧着
板２５の上面に吹き付けられると、そのガスは圧着板２
５の全面に遍く行き渡り、かつその圧力はほぼ均一にな
る。この均一な圧力でＴＦＴ基板４を加圧するので、従
来と異なり、ＴＦＴ基板４とＣＦ基板１とを均一な力で
加圧することが可能になる。
弁２３Ａを開くとき、不図示のガスポンプから噴出され
る窒素ガスが第１のリーク口２４Ａからその下の圧着板
２５に均一な圧力で吹き付けられ、ＴＦＴ基板４がこの
圧着板２５によって加圧されてＴＦＴ基板４がＣＦ基板
１に圧着される。この加圧方法によると、ガスを用いて
圧着板２５を加圧し、その圧着板２５でＴＦＴ基板４を
圧着している。ガスは一般に等方性を有し、これが圧着
板２５の上面に吹き付けられると、そのガスは圧着板２
５の全面に遍く行き渡り、かつその圧力はほぼ均一にな
る。この均一な圧力でＴＦＴ基板４を加圧するので、従
来と異なり、ＴＦＴ基板４とＣＦ基板１とを均一な力で
加圧することが可能になる。
【００８５】これにより、これらの基板の間で液晶が均
一に行き渡るようにすることができるので、基板１，４
間のギャップの間隔を均一にすることができ、表示特性
を向上させることが可能になる。 （９）第９の実施例 以下で、本発明の第９の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法について図１８（ａ），（ｂ）を参照しながら説
明する。なお、第１〜第８の実施例と共通する事項につ
いては、重複を避けるため説明を省略する。
一に行き渡るようにすることができるので、基板１，４
間のギャップの間隔を均一にすることができ、表示特性
を向上させることが可能になる。 （９）第９の実施例 以下で、本発明の第９の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法について図１８（ａ），（ｂ）を参照しながら説
明する。なお、第１〜第８の実施例と共通する事項につ
いては、重複を避けるため説明を省略する。
【００８６】まず、図１のステップＰ１で、ガラスなど
からなる透明基板上に、液晶表示パネルを形成する上で
必要な部材を形成する工程で、ＴＦＴ基板４側の加工は
第１の実施例と同様であるが、ＣＦ基板１にカラーフィ
ルタを形成する工程で、図１８（ｂ）に示すように当該
液晶表示装置の表示領域ＣＲにカラーフィルタを形成す
るのと同時に表示領域ＣＲに隣接する周辺領域にも、表
示領域ＣＲのカラーフィルタの配列順序に従って予備の
カラーフィルタＣＭを形成しておく。その後の工程は第
１の実施例と同様であるため説明を省略する。
からなる透明基板上に、液晶表示パネルを形成する上で
必要な部材を形成する工程で、ＴＦＴ基板４側の加工は
第１の実施例と同様であるが、ＣＦ基板１にカラーフィ
ルタを形成する工程で、図１８（ｂ）に示すように当該
液晶表示装置の表示領域ＣＲにカラーフィルタを形成す
るのと同時に表示領域ＣＲに隣接する周辺領域にも、表
示領域ＣＲのカラーフィルタの配列順序に従って予備の
カラーフィルタＣＭを形成しておく。その後の工程は第
１の実施例と同様であるため説明を省略する。
【００８７】本発明の第９の実施例に係る液晶表示装置
の製造方法によれば、図１８（ａ），（ｂ）に示すよう
に、表示領域ＣＲに隣接する周辺領域にも表示領域ＣＲ
のカラーフィルタの配列順序に従って予備のカラーフィ
ルタＣＭを形成しているので、ＴＦＴ基板４とＣＦ基板
１とを重ね合わせたときに位置合わせのずれが生じて
も、表示領域ＣＲからはみ出した端の部分をこの予備の
カラーフィルタＣＭの位置に合わせればよい。このた
め、位置合わせのための調整幅が少なく、調整が容易で
あるとともに、調整のための基板の大幅な移動による接
着材へのダメージ付与を避けることが出来る。
の製造方法によれば、図１８（ａ），（ｂ）に示すよう
に、表示領域ＣＲに隣接する周辺領域にも表示領域ＣＲ
のカラーフィルタの配列順序に従って予備のカラーフィ
ルタＣＭを形成しているので、ＴＦＴ基板４とＣＦ基板
１とを重ね合わせたときに位置合わせのずれが生じて
も、表示領域ＣＲからはみ出した端の部分をこの予備の
カラーフィルタＣＭの位置に合わせればよい。このた
め、位置合わせのための調整幅が少なく、調整が容易で
あるとともに、調整のための基板の大幅な移動による接
着材へのダメージ付与を避けることが出来る。
【００８８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明に係る液晶表
示装置の製造方法によれば、第１の透明基板に形成され
た環状の接着材の内周表面に予め紫外線を選択的に照射
して、照射領域を硬化させている。このため、第１及び
第２の透明基板の間の隙間に密封された液晶と接着材と
の反応による液晶汚染を防止することができる。これに
より、液晶表示装置の電圧保持率の低下を抑制し、コン
トラストの低下を抑制することが可能になる。また、接
着材の内周表面だけの硬化なので、全面硬化の場合と比
較して基板間の固着はより強固になる。
示装置の製造方法によれば、第１の透明基板に形成され
た環状の接着材の内周表面に予め紫外線を選択的に照射
して、照射領域を硬化させている。このため、第１及び
第２の透明基板の間の隙間に密封された液晶と接着材と
の反応による液晶汚染を防止することができる。これに
より、液晶表示装置の電圧保持率の低下を抑制し、コン
トラストの低下を抑制することが可能になる。また、接
着材の内周表面だけの硬化なので、全面硬化の場合と比
較して基板間の固着はより強固になる。
【００８９】また、第１の透明基板と第２の透明基板に
ともに環状の接着材を形成し、接着材の表層のみを硬化
した後、接着材同士を接触させて第１の透明基板と第２
の透明基板を重ね合わせている。接着材同士が接触する
ため、表層のみが硬化していても、第１の透明基板と第
２の透明基板同士の固着がより強固になる。
ともに環状の接着材を形成し、接着材の表層のみを硬化
した後、接着材同士を接触させて第１の透明基板と第２
の透明基板を重ね合わせている。接着材同士が接触する
ため、表層のみが硬化していても、第１の透明基板と第
２の透明基板同士の固着がより強固になる。
【００９０】更に、未硬化の接着材を介して第１の透明
基板と第２の透明基板を重ね合わせた後、接着材と液晶
とが接する前に、接着材に紫外線を照射して硬化させて
いる。このため、第１及び第２の透明基板の固着を確実
にするとともに、従来、未硬化の接着材と液晶が接し、
その領域に紫外線が照射されることによって生じていた
液晶の汚染を抑制することができ、液晶汚染によって当
該液晶表示装置の電圧保持率が低下して、その表示の際
のコントラストが低下することを極力抑止することが可
能になる。
基板と第２の透明基板を重ね合わせた後、接着材と液晶
とが接する前に、接着材に紫外線を照射して硬化させて
いる。このため、第１及び第２の透明基板の固着を確実
にするとともに、従来、未硬化の接着材と液晶が接し、
その領域に紫外線が照射されることによって生じていた
液晶の汚染を抑制することができ、液晶汚染によって当
該液晶表示装置の電圧保持率が低下して、その表示の際
のコントラストが低下することを極力抑止することが可
能になる。
【００９１】特に、第１又は第２の透明基板の表示領域
の外側の領域であって、接着材の形成領域の内側の領域
に、液晶の広がり速度を遅らせる凸部を形成することに
より、接着材と液晶とが接する前に、一層時間の余裕を
もって接着材に紫外線を照射して硬化させることが可能
になる。また、接着材の形成領域の内側領域であって、
接着材の形成領域に隣接する領域の第１又は第２の透明
基板上に、可動イオンを捕獲する膜を形成している。
の外側の領域であって、接着材の形成領域の内側の領域
に、液晶の広がり速度を遅らせる凸部を形成することに
より、接着材と液晶とが接する前に、一層時間の余裕を
もって接着材に紫外線を照射して硬化させることが可能
になる。また、接着材の形成領域の内側領域であって、
接着材の形成領域に隣接する領域の第１又は第２の透明
基板上に、可動イオンを捕獲する膜を形成している。
【００９２】このため、接着材と液晶との反応等により
液晶中に生じる可動イオンを介した蓄積電荷のリークを
抑制することができる。これにより、当該液晶表示装置
の電圧保持率の低下をより確実に抑止することが可能に
なる。更に、第１の透明基板に第２の透明基板を重ね合
わせる際に、第１の透明基板の一部と第２の透明基板の
一部とが接するように第１の透明基板と第２の透明基板
との間にスペーサ板を挟んだ後、これを除去している。
液晶中に生じる可動イオンを介した蓄積電荷のリークを
抑制することができる。これにより、当該液晶表示装置
の電圧保持率の低下をより確実に抑止することが可能に
なる。更に、第１の透明基板に第２の透明基板を重ね合
わせる際に、第１の透明基板の一部と第２の透明基板の
一部とが接するように第１の透明基板と第２の透明基板
との間にスペーサ板を挟んだ後、これを除去している。
【００９３】また、第１の透明基板は複数の穴又は切除
部を有し、これらの穴又は切除部に支持具を通し、該支
持具の上に第２の透明基板を載せて、支持具を降下さ
せ、第２の透明基板を第１の透明基板に重ね合わせてい
る。このため、従来に比して、粗合わせの精度が向上
し、基板間の隙間の間隔の均一性の向上を図ることが出
来る。
部を有し、これらの穴又は切除部に支持具を通し、該支
持具の上に第２の透明基板を載せて、支持具を降下さ
せ、第２の透明基板を第１の透明基板に重ね合わせてい
る。このため、従来に比して、粗合わせの精度が向上
し、基板間の隙間の間隔の均一性の向上を図ることが出
来る。
【００９４】更に、表示領域にカラーフィルタを形成す
るときに、液晶表示装置の表示領域に隣接する周辺領域
にも表示領域のカラーフィルタの配列順序に従って予備
のカラーフィルタを形成している。このため、位置合わ
せするための調整幅が少なく、調整が容易であるととも
に、調整のための透明基板の大幅な移動による接着材へ
のダメージ付与を避けることができる。
るときに、液晶表示装置の表示領域に隣接する周辺領域
にも表示領域のカラーフィルタの配列順序に従って予備
のカラーフィルタを形成している。このため、位置合わ
せするための調整幅が少なく、調整が容易であるととも
に、調整のための透明基板の大幅な移動による接着材へ
のダメージ付与を避けることができる。
【００９５】また、本発明に係る液晶表示装置の製造装
置においては、第１の透明基板と第２の透明基板とを収
納して重ね合わせる処理室と、処理室内を減圧する減圧
手段と、第１の透明基板又は第２の透明基板の表面から
ガスを吹き付けるガス導入口が設けられている。ガス導
入口として処理室内の減圧状態を大気圧に戻すためのリ
ーク口で代用することもできる。
置においては、第１の透明基板と第２の透明基板とを収
納して重ね合わせる処理室と、処理室内を減圧する減圧
手段と、第１の透明基板又は第２の透明基板の表面から
ガスを吹き付けるガス導入口が設けられている。ガス導
入口として処理室内の減圧状態を大気圧に戻すためのリ
ーク口で代用することもできる。
【００９６】このため、加圧力が均一になり、第１及び
第２の透明基板の形成する隙間を均一な間隔とすること
ができるので、液晶表示パネルを駆動する際、液晶全体
に一定の電界がかかり、表示特性の均一性が増す。
第２の透明基板の形成する隙間を均一な間隔とすること
ができるので、液晶表示パネルを駆動する際、液晶全体
に一定の電界がかかり、表示特性の均一性が増す。
【図１】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明するフローチャートである。
造方法を説明するフローチャートである。
【図２】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する図（その１）である。
造方法を説明する図（その１）である。
【図３】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する図（その２）である。
造方法を説明する図（その２）である。
【図４】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する図である。
造方法を説明する図である。
【図５】本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する図（その１）である。
造方法を説明する図（その１）である。
【図６】本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する図（その２）である。
造方法を説明する図（その２）である。
【図７】本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する断面図（その１）である。
造方法を説明する断面図（その１）である。
【図８】本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する上面図（その１）である。
造方法を説明する上面図（その１）である。
【図９】本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する上面図（その２）である。
造方法を説明する上面図（その２）である。
【図１０】本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置の
製造方法を説明する斜視図である。
製造方法を説明する斜視図である。
【図１１】本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置の
製造方法を説明する断面図（その２）である。
製造方法を説明する断面図（その２）である。
【図１２】本発明の第５の実施例に係る液晶表示装置の
製造方法を説明する断面図である。
製造方法を説明する断面図である。
【図１３】本発明の第５の実施例に係る液晶表示装置の
製造方法を説明する図である。
製造方法を説明する図である。
【図１４】本発明の第６の実施例に係る液晶表示装置の
製造方法を説明する断面図である。
製造方法を説明する断面図である。
【図１５】本発明の第７の実施例に係る液晶表示装置の
製造装置を説明する図（その１）である。
製造装置を説明する図（その１）である。
【図１６】本発明の第７の実施例に係る液晶表示装置の
製造装置を説明する図（その２）である。
製造装置を説明する図（その２）である。
【図１７】本発明の第８の実施例に係る液晶表示装置の
製造方法を説明する断面図である。
製造方法を説明する断面図である。
【図１８】本発明の第９の実施例に係る液晶表示装置の
製造方法を説明する図である。
製造方法を説明する図である。
【図１９】従来例に係る液晶表示装置の製造方法を説明
するフローチャートである。
するフローチャートである。
【図２０】従来例に係る液晶表示装置の製造装置を説明
する断面図である。
する断面図である。
【図２１】従来例に係る液晶表示装置の製造方法を説明
する図（その１）である。
する図（その１）である。
【図２２】従来例に係る液晶表示装置の製造方法を説明
する図（その２）である。
する図（その２）である。
【図２３】従来例の問題点を説明するグラフ（その１）
である。
である。
【図２４】従来例の問題点を説明するグラフ（その２）
である。
である。
【図２５】液晶表示パネルの電圧保持率を説明する図で
ある。
ある。
１ ＣＦ基板（第１の透明基板）、 １Ａ，１Ｂ，１Ｃ ＣＦ基板、 １Ｈ ガイド孔、 １Ｋ 切除部、 ２ シール材（接着材）、 ２Ａ シール材の内周面、 ２Ｂ 第１のシール材（第１の接着材）、 ２Ｃ 半硬化状態のシール材、 ３ 液晶、 ４ ＴＦＴ基板（第２の透明基板）、 ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ ＴＦＴ基板、 ５ 第２のシール材（第２の接着材）、 ５Ａ 半硬化状態のシール材、 ６Ａ，６Ｂ，９Ａ，９Ｂ，９Ｃ 凸部、 ７ 透明電極、 ８ 配向膜、 １０ ガイド棒、 １１ １１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ スペーサ板、 １２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ 支持棒、 １３Ａ，１３Ｂ シランカップリング材からなる膜（可
動イオンを捕獲する膜）、 ２０ 処理室、 ２１ 排気弁、 ２２ 排気口、 ２３ リーク弁、 ２３Ａ 第１のリーク弁、 ２３Ｂ 第２のリーク弁、 ２４，２４Ａ リーク口、 ２４Ｂ 第２のリーク口、 ２５ 圧着板、 ＣＲ 表示領域、 ＣＭ 予備のカラーフィルタ、 ＳＴ 載置台、 ＳＰ スペーサ、 ＶＳ ベローズ。
動イオンを捕獲する膜）、 ２０ 処理室、 ２１ 排気弁、 ２２ 排気口、 ２３ リーク弁、 ２３Ａ 第１のリーク弁、 ２３Ｂ 第２のリーク弁、 ２４，２４Ａ リーク口、 ２４Ｂ 第２のリーク口、 ２５ 圧着板、 ＣＲ 表示領域、 ＣＭ 予備のカラーフィルタ、 ＳＴ 載置台、 ＳＰ スペーサ、 ＶＳ ベローズ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大室 克文 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 鈴木 洋二 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 第１の透明基板上であって表示領域の外
側の領域に接着材を環状に形成する工程と、 環状の前記接着材の内周表面に紫外線を選択的に照射し
て、照射領域を硬化させる工程と、 前記接着材で囲まれた領域の前記第１の透明基板上に液
晶を滴下する工程と、 減圧雰囲気内でスペーサを介して前記第１の透明基板と
第２の透明基板を重ね合わせ、前記第１の透明基板と前
記第２の透明基板の間の前記接着材で囲まれた隙間を前
記接着材により密封する工程と、 前記第１の透明基板と前記第２の透明基板の対応する位
置を合わせた後、前記接着材の全体に紫外線を照射して
硬化させる工程とを有することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法。 - 【請求項２】 第１の透明基板上であって表示領域の外
側の領域に第１の接着材を環状に形成する工程と、 第１の接着材の形成領域に対応するように第２の透明基
板上であって表示領域の外側の領域に第２の接着材を環
状に形成する工程と、 前記第１の接着材と前記第２の接着材に紫外線を照射し
て表層を硬化させる工程と、 前記第１の接着材で囲まれた領域の前記第１の透明基板
上に液晶を滴下する工程と、 減圧雰囲気中で前記第１の透明基板と第２の透明基板を
重ね合わせ、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板
の間の前記第１及び第２の接着材で囲まれた隙間を前記
第１及び第２の接着材により密封する工程と、 前記第１の透明基板と前記第２の透明基板の対応する位
置を合わせた後、前記第１及び前記第２の接着材に紫外
線を照射して硬化させ、前記第１の透明基板と前記第２
の透明基板を固着する工程とを有することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 第１の透明基板上であって表示領域の外
側の領域に接着材を環状に形成する工程と、 前記接着材で囲まれた領域の前記第１の透明基板上に液
晶を滴下する工程と、 減圧雰囲気でスペーサを介して前記第１の透明基板と第
２の透明基板を重ね合わせ、前記第１の透明基板と前記
第２の透明基板の間の前記接着材で囲まれた隙間を前記
接着材により密封する工程と、 前記第１の透明基板と前記第２の透明基板の対応する位
置を合わせた後、前記接着材と前記液晶とが接する前
に、前記接着材に紫外線を照射して硬化させる工程とを
有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項４】 前記第１の透明基板の表示領域にはカラ
ーフィルタ又は液晶駆動用マトリクスが形成されてお
り、前記第２の透明基板の表示領域には液晶駆動用マト
リクス又はカラーフィルタが形成されていることを特徴
とする請求項１乃至３のいずれかに記載の液晶表示装置
の製造方法。 - 【請求項５】 前記第１又は前記第２の透明基板の表示
領域の外側の領域であって、前記接着材の形成領域の内
側の領域に、前記液晶の広がり速度を遅らせる凸部が形
成されていることを特徴とする請求項３又は請求項４記
載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項６】 前記液晶の広がり速度を遅らせる前記凸
部は、前記第１又は前記第２の透明基板の前記表示領域
に形成するカラーフィルタと同じ材料で形成されている
ことを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項７】 前記接着材の形成領域の内側領域であっ
て、前記接着材の形成領域に隣接する領域の前記第１又
は前記第２の透明基板上に、可動イオンを捕獲する膜を
形成することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいず
れかに記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項８】 前記第１の透明基板の一部と前記第２の
透明基板の一部とが接するように前記第１の透明基板と
前記第２の透明基板の間にスペーサ板を挟んだ後、前記
スペーサ板を除去して第１の透明基板と第２の透明基板
を重ね合わせ、前記隙間を密封することを特徴とする請
求項１乃至請求項７のいずれかに記載の液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項９】 前記第１の透明基板は前記接着材が囲む
環状領域の外側の領域に複数の穴又は切除部を有し、前
記第１の透明基板の前記穴又は前記切除部に支持具を通
し、該支持具の上に前記第２の透明基板を載せて、前記
支持具を降下させ、前記第２の透明基板を前記第１の透
明基板に重ね合わせることを特徴とする請求項１乃至請
求項７のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１０】 前記第１又は第２の透明基板の表示領
域に隣接する周辺領域に前記表示領域のカラーフィルタ
の配列順序に従って予備のカラーフィルタが形成されて
いることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか
に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１１】 第１の透明基板と第２の透明基板の重
ね合わせを行う処理室と、 前記処理室内に置かれた前記第１又は前記第２の透明基
板に面し、前記第１又は前記第２の透明基板にガスを吹
き付けてこれを加圧するガス導入口を有することを特徴
とする液晶表示装置の製造装置。 - 【請求項１２】 前記ガス導入口は前記処理室の内部圧
力を大気圧に戻すためのリーク口であることを特徴とす
る請求項１１記載の液晶表示装置の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00285295A JP3545076B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00285295A JP3545076B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004064622A Division JP3639299B2 (ja) | 2004-03-08 | 2004-03-08 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08190099A true JPH08190099A (ja) | 1996-07-23 |
| JP3545076B2 JP3545076B2 (ja) | 2004-07-21 |
Family
ID=11540932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00285295A Expired - Fee Related JP3545076B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3545076B2 (ja) |
Cited By (134)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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