TW574593B - Aligner - Google Patents

Description

574593 五、發明說明（1) 【發明之領域】 本發明係有關於一種曝光裝置。 【發明之背景】 微影方法已廣泛應用於許多領域，係於一物體的表面 上提供如光阻的光顯影物質以利用曝光裝置（al igner ) 曝光出一特定圖案，之後圖案藉由蝕刻製程便能形成在表 面上。近日來電路板或類似者都是使用這種曝光裝置來進 行微影製程。 要曝光的圖案通常被描繪在以一樹脂薄膜所製得的一 薄膜罩幕或一玻璃罩幕上。由於薄膜罩幕便宜，但會因紫 外光的曝光，溫度和濕度的改變而變形且其紫外光線穿透 性會變差，所以近來玻璃罩幕的使用率漸增。 當使用玻璃罩幕時主要是利用所謂的真空接觸方法， 其中玻璃罩幕和基板間的一間隙被抽真空以有更近的接 觸。 第7圖顯不真空接觸的方法。一玻璃罩幕gg由一罩幕 架支持以靠近一基板50，玻璃罩幕98和基板5〇間的空氣被 壓縮且會有一壓縮空氣層51的形成。壓縮空氣層51的壓力 將玻璃罩幕98往相反基板50的方向推，因此造成玻璃罩幕 98和基板50間的間隙G，這會使得曝光的準確率降低。 會消除真空接觸方法的間隙G，必需增加玻璃罩幕98 和基板50間的真空能力或延長真空時間，但 的延遲及增加設備的成本。 一 Ψ

574593 五、發明說明（2) 本發明的目的便是要解決這種問題。 【發明之目的與概述】 本發明之曝光裝置曝光裝置，包括：一玻璃罩幕，妗 製有曝光用的一圖案，當圖案曝光形成於一物件時用盘^ 件碰觸；一物體，能讓曝光光線所滲透，置於面對玻璃 幕相對於能接觸物件另一表面的一未接觸表面；一密閉= 間，形成於玻璃罩幕與物體之間；以及壓力裝置， ς 密閉空間。 滩 =能避免因玻璃罩幕與物件間-壓縮 =軋層的一壓力而造成玻璃罩幕向相反於物件的方向伸 通當一平板元件做為能讓曝光光線所滲 璃罩幕硬而…，使得能有效提供該玻璃i 藉以::麼力而向物件伸張’ 咖…仔間接觸的密合度能增加。此外可#用 力裝置使得密閉空間内的壓力能在部份玻 漸ΐί，:件之後，*整個玻璃罩幕接觸物件之逐 成玻璃軍幕與物件間有效的密合黏著。 顯易僅，下文特兴目的、特徵、和優點能更明 細說明如下。、牛車交佳實施例’並配合所附圖式，作詳 2099.4937.PF(N)；ahddub.ptd 第7頁 574593 五、發明說明（3) "一"" 一 ---- 【發明之實施例】 田第1圖為用於生產印刷電路板的曝光裝置的外觀，其 中提供有光阻的一基板50位於可在XYZ和0方向上由一棘 換裝置31的一可移動台板3〇上。 繪製有一電路圖案的一玻璃罩幕i置於面對基板5〇。 玻璃罩幕1與基板50將相互接觸，且玻璃罩幕1與基板5〇間 的間隙將經由真空設備（未繪示）吸在一起。接著玻璃罩 幕1上的電路圖案將藉由來自一曝光光源40的一曝光光線 進行曝光。

一CCD相機41用於調整玻璃罩幕1與基板5〇的位置。 、雖然玻璃罩幕1與基板5〇係如圖1的垂直安排，但本發 明並不限於此，也可做倒置的安排或使得玻璃罩幕丨與基 板5 0兩者都能直立利用的安排。 、 玻璃罩幕1在其周圍由一形成框形的罩幕架2所支持。

一壓力玻璃3被安置在該玻璃罩幕丨的一側，也就是相 對基板50的玻璃罩幕1的一側上，具有一些間隙面向一曝 光光源40。壓力玻璃3可換成非玻璃的材質，其能傳遞來 自曝光光源40的穿透曝光光線。壓力玻璃3較佳是較玻璃 罩幕1硬而難以被彎曲，因為壓力玻璃3最好不會因一密閉 空間4的一内部壓力而伸張，以使得玻璃罩幕}會因密閉空 間4的内部壓力而伸張。因此需要讓壓力玻璃3比較厚或類 似者。 壓力玻同樣也置於罩幕架2上且藉由玻璃罩幕1、罩幕 架2與壓力玻璃3的環繞來形成密閉空間4。密閉空間4經由

574593 五、發明說明（4) 一控制閥6連於一壓力源5而能被壓縮。此认 ^ ^ 於減小密閉空間4的内部的壓力至大氣壓此力外一控制閥7用 -控制器8控制壓力源5，#制閥6和控制_ 來調節密閉空間4的内部壓力。控制器8能 裝置31、CCD相機41及曝光光源40。 操作的方式請參照第2至第6圖的解釋。 圖2為控制閥6關閉與密閉空間4未被壓縮的狀離。接 =制閥6被打開，稍微高於大氣壓的空氣開始自壓力源5 ::入密閉空間4。圖3為導入高壓空間後由壓力p將玻璃 基板伸張5G ’及—中央凸起1G形成在玻璃罩幕1中 开的狀態。 瞬間下玻璃罩幕1將接近基板50，接著一壓縮空氣層 破璃罩幕1與基板5〇間出現，如圓4所示。當壓縮空氣 :51的壓力p小於密閉空間4的壓力p (p〉p)，玻璃罩幕/

七中央凸起10將持續伸張。控制器8將控制密閉壓力4 力而保持P>p的狀況。 S 一當控制閥7打開使得密閉空間4的壓力漸減，如圖5所 玻璃f幕1愈接近基板50使得中央凸起10首次踫觸基 ’接著玻璃罩幕i與基板5 0間的接觸將逐漸由中央凸 t展到其外圍，而玻璃罩幕1持續接近基板50以至於 K整個玻璃罩幕1如圖6所示與基板5G接觸-起。因此如 咕/庙所解釋者’如圖7所示介於玻璃罩幕98與基板50的間 本 不會出現。據此上述的曝光裝置能達成高精確的曝 7U 〇 1 Η 第9頁 2099.4937.PF(N)；ahddub.ptd 574593 五、發明說明（5) 在真控接觸方式的情況下，玻璃罩幕i與基板50係藉 由適當裝置將玻璃罩幕1與基板50間的空間抽真空而密合 地黏著一起。由於玻璃罩幕1與基板50間的空間要愈小愈 好，抽真空能在短時間内提供良好的密合黏著，而且不需 要太好性能的真空裝置就能達成。在黏著之後才經由導入 曝光光源40來進行曝光程序。 如上所述，本發明曝光裝置能改善玻璃罩幕1與被曝 光的物件間接觸的密合度以及曝光的精確度。

2099-4937-PF(N);ahddub.p t d 第10頁 574593 圖式簡單說明 圖式簡單說明： 第1圖繪示本發明一實施例的示黃 第2圖繪示本發明實施例 =二 明實施例操作的解釋圖。 第4圖繪示本發明實施例操 第5圖繪示本發明會妳存丨榀从幻鮮釋圖 楚β国仏 實施例操作的解釋圖。 :圖=本發明實施例操作的解釋圖。 第7A〜7C_示習知—曝光裝置的操作圖 符號說明 玻璃罩幕 壓力玻璃 壓力源〜5 ; 控制器〜8 ; 台板〜30 ; 曝光光源〜40 基板〜5 0 ; 玻璃罩幕〜98 3 罩幕架〜2 ; 密閉空間〜4 ; 控制閥〜6、7 ; 中央凸起〜10 ; 轉換裝置〜3 1 ; C C D相機〜4 1 ; 壓縮空氣層〜51 2099.4937-PF(N);ahddub.ptd 第11頁

Claims (1)

1. 574593 六 、申請專利範圍 1 · 一種曝光裝置，包括： 一玻螭罩幕，繪製有曝光用的一圖案，當該圖案曝光 形成於一物件時用與該物件碰觸； 一物體，能讓曝光光線所滲透，置於面對該玻璃罩幕 相對於能接觸該物件另一表面的一未接觸表面； 一密閉空間，形成於該玻璃罩幕與該物體之間；以及 壓力裝置，以壓縮該密閉空間。 2 ·如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置，其中該密 閉空間被壓縮以至於該玻璃罩幕可向該物件伸張。 3·如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置，更包括： 控制裝置，用以控制該屋力裝置，使該密閉空間内的 壓力能在部份該玻璃罩幕首次碰觸該物件之 玻璃革幕接觸該物件之前逐漸減少， 及整個該 其中該玻罩幕經由壓縮該密閉空間 件首次碰觸其該伸張的部份，之後藉由該 使該密閉空間的壓力能逐I 控制裝置的控制 該物件。 I力肖b处漸減少，该破璃罩幕便逐漸接觸 4·如申請專利範圍第丨項述 # ^ ^ 體為-平板且比該玻璃罩幕硬而難以弯先曲裝置’其中該物 5· 一種曝光裝置，包括： 一玻璃罩幕，繪製有曝光用的一 形成於一物件時用與該物件碰觸；·案，^該圖案曝光 一物體，能讓曝光光線 相對於能接觸該物侔另. 直於面對該玻璃罩幕 物件另—表面的一未接觸表面；

   574593 六 、申請專利範圍 一密閉空間，形成於該玻璃罩幕與該物體之間； 壓力裝置，以壓縮該密閉空間；以及 真空裝置使得當該玻璃罩幕與該物體接觸一起時，以 將該罩幕與該物件間的一空間抽真空，其中當該密閉空間 經由該壓力裝置所壓縮，且該空間經由該真空裝置抽真 空’該玻璃罩與該物件將相互接觸。 6 ·如申請專利範圍第5項所述之曝光裝置，其中該密 閉空間被壓縮以至於該玻璃罩幕可向該物件伸張。

   7·如申請專利範圍第6項所述之曝光裝置，更包括： 控制裝置，用以控制該壓力裝置，使該密閉空間内的 壓力能在部份該玻璃罩幕首次碰觸該物件之後，及整個該 玻璃罩幕接觸該物件之前逐漸減少， X 、，中該玻罩幕經由壓縮該密閉空間而伸張，並使該物 件首次碰觸其該伸張的部份，之後藉由該控制裝置的控制 Ϊ該密閉空間的壓力能逐漸減少，該玻璃罩幕便逐漸才!觸 ^ ^ 8·如申請專利範圍第5項所述之曝光裝置，其中該物 體為-平板且比該玻璃罩幕硬而難以,彎曲。山物

   2099-4937-PF(N);ahddub.ptd 第13頁