JP2010143733A - 基板ハンドリングシステム及び基板ハンドリング方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の振動や変形を抑制しつつ基板を高速度で搬送する。
【解決手段】基板ハンドリングシステム１は、ガラス基板Ｇを搬送するための搬送路２０を備え、搬送路２０は、エアの吹出及び吸引によって搬送路２０上でガラス基板Ｇを浮上保持する基板浮上装置２５と、ガラス基板Ｇを保持し当該ガラス基板Ｇを移動させる駆動機構２４と、を有しており、ガラス基板Ｇを浮上保持しながら搬送方向Ｘに搬送する。この基板ハンドリングシステム１では、ガラス基板Ｇを高速度で搬送しても、ガラス基板Ｇの主面が傷付くのを確実に抑制できると共に、高い保持剛性によって、ガラス基板Ｇの振動を抑制し且つガラス基板Ｇに変形があってもこれを搬送路２０に倣った状態にすることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、基板ハンドリングシステム及び基板ハンドリング方法に関し、特に、大型の基板を搬送等する基板ハンドリングシステム及び基板ハンドリング方法に関する。

従来の基板ハンドリングシステムとしては、例えば特許文献１に記載されたものが知られている。この基板ハンドリングシステムでは、搬送路上の基板の下面に向けて送風ファンでエアを供給し、基板を浮上させる。そして、この状態で、駆動ローラによって搬送方向に基板を移動させる。これにより、基板の主面との接触を抑制しつつ、基板を搬送路上にて搬送方向に搬送することが図られている。
特開２００５−６７７７０号公報

ここで、上述したような基板ハンドリングシステムでは、例えば基板を高速度で搬送すると、場合によっては、基板が振動して損傷してしまうおそれがある。さらに、近年の基板の大型化に伴って、搬送する基板に振動やたわみ等の変形が生じ易いという問題もある。

そこで、本発明は、基板の振動や変形を抑制しつつ基板を高速度で非接触に搬送することができる基板ハンドリングシステム及び基板ハンドリング方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決するため、本発明に係る基板ハンドリングシステムは、基板を搬送するための搬送路を備え、搬送路は、エアの吹出及び吸引によって搬送路上で基板を浮上保持する搬送路浮上保持手段と、基板を保持し搬送方向に沿って基板を移動させる移動手段と、を有しており、基板を搬送路浮上保持手段で変形を抑制可能に浮上保持しながら移動手段で搬送方向に搬送することを特徴とする。

この基板ハンドリングシステムでは、搬送路上の基板が単に浮上されるのではなく、浮上保持、すなわち浮上されつつ充分な保持剛性（浮上高さ方向の変位に対する復元性能）でもって保持される。そして、この状態で、基板が搬送方向に沿って移動される。従って、基板を高速度で搬送しても、かかる保持剛性によって、基板の振動を抑制し且つ基板を搬送路に倣った状態にすることができる。つまり、本発明によれば、基板の振動や変形を抑制しつつ基板を高速度で搬送することが可能となる。

また、第１地点から第２地点へ基板を移載するためのアームをさらに備え、アームは、エアの吹出及び吸引によって基板を浮上保持するアーム浮上保持手段を有しており、基板をアーム浮上保持手段で非接触に懸垂するように浮上保持することが好ましい。このように、基板をアームで懸垂するように浮上保持して移載すると、基板をアームで下方から持ち上げて移載する場合に比べ、この浮上保持が高い保持剛性を有することから、第２地点に基板を容易に載置することができる。

また、アームは、搬送路上の第１地点から第２地点へ基板を移載し、搬送路は、搬送路浮上保持手段を制御する制御手段をさらに有し、制御手段は、アームが浮上保持を解除して基板を搬送路上に載置する際、エアの吹出で基板を受け止めた後に基板を浮上保持するように搬送路浮上保持手段を制御することが好ましい。これにより、基板を搬送路上に載置するに際して、エアのクッション効果が好適に発揮され、基板に加わる力を柔らげることができる。その結果、基板が傷付くのを一層抑制することが可能となる。

また、上記作用効果を奏する構成として、具体的には、搬送路浮上保持手段及びアーム浮上保持手段のそれぞれが、複数の吹出部及び吸引部と、吹出部からエアを吹出するための吹出流路と、吸引部からエアを吸引するための吸引流路と、を含んで構成されている場合が挙げられる。

また、本発明に係る基板ハンドリング方法は、搬送路で基板を搬送する搬送工程を含み、搬送工程においては、エアの吹出及び吸引によって搬送路上で基板を浮上保持しながら、当該基板を搬送方向に搬送することを特徴とする。

この基板ハンドリング方法においては、搬送路上の基板が単に浮上されるのではなく、浮上保持でもって保持された状態で、基板が搬送方向に沿って移動される。従って、基板を高速度で搬送しても、基板の主面が傷付くのを確実に抑制できると共に、かかる保持剛性によって、基板の振動を抑制し且つ基板を搬送路に倣った状態にすることができる。よって、基板の振動やたわみ等の変形を抑制しつつ基板を高速度で搬送することが可能となる。

また、第１地点から第２地点へ基板をアームで移載する移載工程をさらに含み、移載工程においては、アームがエアの吹出及び吸引によって基板を非接触に懸垂するように浮上保持することが好ましい。これにより、基板をアームで下方から持ち上げて移載する場合に比べ、第２地点に基板を容易に載置することができる。

本発明によれば、基板の振動や変形を抑制しつつ基板を高速度で非接触に搬送することが可能となる。

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下において同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、「上」「下」等の語は、鉛直方向における上方、下方に対応するものである。ちなみに、説明の便宜上、参照する「特開２００６−２７３５７６号公報」を「文献２」と称し、「特開２００８−１１４９５４号公報」を「文献３」と称す。

図１は、本発明の一実施形態に係る基板ハンドリングシステムを示す概略図、図２は、図１の基板ハンドリングシステムの第１搬送路を示す断面図である。図１に示すように、基板ハンドリングシステム１は、第１搬送路２０、第２搬送路４０、ロボットアーム装置６０、及び処理テーブル８０を具備しており、ガラス基板Ｇの加工や検査工程においてガラス基板Ｇをハンドリング（搬送及び移載等）する。ここでのガラス基板Ｇは、薄型大型テレビ等の液晶画面に用いられる非常に大型のものであり、縦２８００ｍｍ×横３０００ｍｍ程度のいわゆる第１０世代サイズのものである。また、ガラス基板Ｇの厚さは、一般的に０．７ｍｍ程度である。

第１搬送路２０は、ベース２１と、駆動機構（移動手段）２４と、基板浮上装置（搬送路浮上保持手段）２５と、を備えている。ベース２１は、外形が直方体状をなし、床面等の水平面上に載置される。このベース２１の上面２１ａは、水平面状をなし、ガラス基板Ｇの搬送方向Ｘに沿って延在している。

図２に示すように、駆動機構２４は、リニアモータ機構で構成され、ガイドレール２２、スライダ２３、固定子２６ａ及び可動子２６ｂを含んでいる。ガイドレール２２は、搬送方向Ｘに延びるように、ベース２１の上面２１ａに一対設置されている。これら一対のガイドレール２２は、ガラス基板Ｇの幅よりも若干大きめの間隔で離間され、互いに平行に配置されている。スライダ２３は、一対のガイドレール２２のそれぞれに２個ずつ設けられている。これらスライダ２３は、ガイドレール２２にガイドされて、搬送方向Ｘに移動可能になっている。

固定子２６ａは、一対のガイドレール２２外側において当該ガイドレール２２に沿うように設けられている。可動子２６ｂは、固定子２６ａと作用して駆動される駆動体２７と、駆動体２７の両端から搬送方向Ｘに延設され駆動体２７ａとスライダ２３とを連結する連結部材２８と、を含んでいる。連結部材２８は、スライダ２３の外側面にそれぞれに固定されている。これにより、各ガイドレール２２に設けられたスライダ２３は、一定距離を保ったまま同期して移動する。

また、駆動機構２４は、保持部材２９を複数有している。保持部材２９は、スライダ２３の内側面にそれぞれ固定され、バネ板部３０と吸着部３１とを含んでいる。バネ板部３０は、鉛直方向に沿って延びる基部３０ａと、幅方向（図示左右方向）に沿って延びる屈曲部３０ｂとを含んでいる。吸着部３１は、屈曲部３０ｂ上に固定されている。この保持部材２９によれば、ガラス基板Ｇがベース２１の上面２１ａから離間した状態にて、吸着部３１によるエア引きでガラス基板Ｇの側縁部が吸着され保持されることとなる。

基板浮上装置２５は、ガラス基板Ｇにエアを吹出し及び吸引する。基板浮上装置２５は、ベース２１の上面２１ａ側において一対のガイドレール２２間の全領域に敷き詰められるよう設けられている（図１参照）。

この基板浮上装置２５は、例えば文献２に示すような構成とされ、浮上ユニット３２と、定盤３３とを有している。定盤３３の上面は精密な水平面となるよう研磨され、浮上ユニット３２で支持されている。

図３は、図２の第１搬送路の一部拡大図である。図３に示すように、浮上ユニット３２の上面３２ａには、エアを吹き出すための吹出口（吹出部）３４ａと、エアを吸引するための吸引口（吸引部）３５ａとが設けられている。また、浮上ユニット３２の下面３２ｂには、エアを導入するための導入口３４ｂと、エアを引き出すための引出口３５ｂとが設けられている。ここでは、吹出口３４ａ、吸引口３５ａ、導入口３４ｂ、及び引出口３５ｂの開口が、隣り合うようにして均等に多数配置されている。

吹出口３４ａと導入口３４ｂとは、吹出流路３６により連通されている。一方、吸引口３５ａと引出口３５ｂとは、吸引流路３７により連通されている。また、導入口３４ｂには、導入管２を介してコンプレッサ３に接続されている。一方、引出口３５ｂには、吸引管４を介して吸引ポンプ５に接続されている。なお、これらの流路は図示上では直線的な流路に描かれているが、圧力損失が付加されるように流路を構成してもよく（例えば、文献２参照）、その他の種々の方法で流路を構成してもよい。

コンプレッサ３は、加圧したエアを吹き出すための給気装置であり、吸引ポンプ５は、エアを吸引するための吸気装置である。これらコンプレッサ３及び吸引ポンプ５には、コントローラ（制御手段）６が接続されており、これにより、コンプレッサ３及び吸引ポンプ５は、そのエアの吹出し量及び吸引量が制御される。

定盤３３は、エアを通すためのものとして、鉛直方向に延在する貫通孔３８を複数有している。これらの貫通孔３８は、複数の浮上ユニット３２の吹出口３４ａ及び吸引口３５ａに対応する数だけ、規則的に配列されて設けられている。この定盤３３の上面は、平面度が高く加工されており、ガラス基板Ｇに対する基準面として機能している。

この定盤３３は、複数の浮上ユニット３２上に載置されており、その複数の貫通孔３８が浮上ユニット３２の吹出口３４ａ及び吸引口３５ａにパッキン等を介して気密に連通されている。

図１に戻り、第２搬送路４０は、上記の第１搬送路と同様な構成を備えている。すなわち、第２搬送路４０にあっても、上述したベース２１、ガイドレール２２、スライダ２３、駆動機構２４及び基板浮上装置２５を備えている。

ロボットアーム装置６０は、第１搬送路（第１地点）２０から第２搬送路（第２地点）４０へガラス基板Ｇを移載、つまり移動させて載置するものである。このロボットアーム装置６０は、第１搬送路２０の搬送方向Ｘにおける下流側と第２搬送路４０の搬送方向Ｘにおける上流側との周辺に配置されている。

このロボットアーム装置６０では、連結機構６１を介して床面等に設けられた支持部６２でアーム６３が支持され、アーム６３が軸線Ａ回り回転方向に回転可能に構成されている。アーム６３は、その一方の主面６３ａ側でガラス基板Ｇを浮上保持する（以下、この「主面６３ａ」を「浮上保持面６３ａ」という）。

図４は、ロボットアーム装置のアームの浮上保持面側を示す図、図５は、図４のＶ−Ｖ線に沿っての断面図である。図４に示すように、アーム６３は、本体６４、基板浮上装置（アーム浮上保持手段）６５及びガイドピン６６を有している。

本体６４は、その形状が板状であってもよく、先端側が複数に分かれたフォーク形状であってもよい。図４に示される例では、先端側が四つ又形状となっている。また、本体６４は、浮上保持面６３ａ視においてガラス基板Ｇよりも大きな面積を有している。この本体６４の基端側は、可動ロッド６７を介してリンク６１に可動に連結されている。これにより、本体６４は、その長手方向に沿う軸線Ｂ回りに回転可能に構成されている。

基板浮上装置６５は、ガラス基板Ｇにエアを吹出し及び吸引するものである。この基板浮上装置６５は、本体６４の浮上保持面６３ａ側において外縁部を除く全領域に敷き詰められるよう設けられている。基板浮上装置６５は、上記基板浮上装置２５と同様に構成されており、図５に示すように、複数の浮上ユニット３２と、定盤３３とを有している。

ガイドピン６６は、浮上保持したガラス基板Ｇのズレ（浮上保持面６３ａに沿う方向の移動）を規制するものである。このガイドピン６６は、浮上保持面６３ａ側に出没可能に複数設けられている。つまり、ガイドピン６６がアーム６３の浮上保持面６３ａにて突出する状態と、ガイドピン６６がアーム６３内に収容される状態とが、相互に可変になっている。

このガイドピン６６は、本体６４の外縁部であって、浮上保持するガラス基板Ｇに対して隙間を有して囲う位置に設けられている（図４参照）。また、ガイドピン６６は、コントローラ６と接続されており、これにより、その出没状態が制御される。

図１に示すように、処理テーブル８０は、ガラス基板Ｇを検査・加工するためのものであり、ガントリ８１を備えている。この処理テーブル８０は、第２搬送路４０の下流側にて当該第２搬送路４０と連続するように構成され、この処理テーブル８０にも、基板浮上装置２５と同様な基板浮上装置が設けられている。

次に、基板浮上装置２５，６５によるガラス基板Ｇの浮上について、図３を参照しつつ詳細に説明する。

まず、コンプレッサ３で供給されたエアが、導入管２を通して導入口３４ｂから浮上ユニット３２の吹出流路３６に導入される。導入されたエアは、吹出流路３６内を流れて吹出口３４ａを介して吹出される。吹出されたエアは、定盤３３上のガラス基板Ｇと定盤３３との隙間を通して、吸引口３５ａを介して吸引ポンプ５で吸引される。

ここで、基板浮上装置２５においては、ガラス基板Ｇと定盤３３との隙間量である浮上高さをｈ、隙間内の圧力をガラス基板Ｇの面積で積分した量をＷとすると、力Ｗが浮上高さｈで変化することで保持剛性が生じる。なお、吹出流路３６に圧力損失回路を設けると、吹出口３４ａ及び吸引口３５ａの形状変更により高い保持剛性が得られることがわかっている（例えば文献２，３参照）。

この浮上高さｈの変化に基づく負荷容量Ｗの変化に与える感度（ｄＷ／ｄｈ）が、ガラス基板Ｇの保持剛性に相当する。よって、例えば、浮上高さｈの僅かの変化で負荷容量Ｗが大きく変化すると、力のバランスが大きく崩れるため、もとの平衡位置（隙間量）にすぐに戻ろうとすることになる。つまり、隙間内のエアは、仮想的なバネとして作用し、浮上保持されたガラス基板Ｇは、浮上高さを変更するような外乱に対しての復元力としての保持剛性を有することになる。

なお、浮上高さｈを０．１ｍｍ以下とすると、高い保持剛性が得られるため好ましい。さらに、浮上高さｈを０．０５ｍｍ以下とすると、一層強固な保持剛性が得られるために一層好ましい。また、保持剛性の大きさは、エアの圧力又は流量をコントローラ６で制御することによって制御可能である。

次に、基板ハンドリングシステム１を用いたガラス基板Ｇのハンドリング方法ついて、図６のフローチャートを参照しつつ説明する。

まず、基板浮上装置２５を作動させてエアの吹き出し及び吸引を行い、第１搬送路２０上の搬送方向Ｘにおける上流側にて、ガラス基板Ｇを水平に浮上保持する。この状態で、ガラス基板Ｇの側縁部を駆動機構２４の保持部材２９で吸着する（Ｓ２）。そして、駆動機構２４によりスライダ２３を移動させる。これにより、ガラス基板Ｇが浮上保持されながら、第１搬送路２０の下流側まで搬送方向Ｘに沿って高速度（例えば、２．０ｍ／ｓ）で搬送される（Ｓ３）。

続いて、コンプレッサ３を作動させ、アーム６３でエアの吹出しを行いつつ、ガラス基板Ｇの上面に対向するようにアーム６３の浮上保持面６３ａを例えば数ｍｍの位置まで接近させる。このとき、アーム６３がガラス基板Ｇに接触しないように十分なエアの吹出しを行う。次に、吸引ポンプ５を作動させ、吸引力が徐々に大きくなるようにアーム６３でエアの吸引を行う。これにより、アーム６３の下側の浮上保持面６３ａでもってガラス基板Ｇの上面が非接触で懸垂されるように浮上保持される（Ｓ４）。

続いて、アーム６３の本体６４に収容されたガイドピン６６を作動させ、浮上保持面６３ａからガイドピン６６が突出する状態にする（Ｓ５）。そして、アーム６３を上方へ移動させる。これにより、ガラス基板Ｇが、アーム６３で非接触に懸垂されるように持ち上がる（Ｓ６）。この状態で、支持部６２を回転してアーム６３を軸線Ａ回りに回転し、第２搬送路４０上の搬送方向Ｘにおける上流側へガラス基板Ｇを移動させる（Ｓ７）。

なお、ここでは、アーム６３が上方への移動を開始するのに先立ち、第１搬送路２０の浮上装置２５の吸引を止めて吹出しのみとしている。これは、ガラス基板Ｇを持ち上げるためにアーム６３が要する力を抑制するためである。

続いて、第２搬送路４０において基板浮上装置２５を作動させてエアの吹出しを行うと共に、アーム６３を徐々に下方に移動して、ガラス基板Ｇを徐々に下ろす。そして、第２搬送路４０に対してガラス基板Ｇの下面が例えば数ｍｍの位置まで接近したとき、アーム６３におけるエアの吸引を徐々に低下させてガラス基板Ｇをアーム６３から離す（アーム６３による浮上保持の解除）。その結果、第２搬送路４０上にて、アーム６３から離れたガラス基板Ｇが水平に浮上保持されつつ載置される（Ｓ８）。

ここで、ガラス基板Ｇを第２搬送路４０上に載置する際、第２搬送路４０においては、エアの吹出し及び吸引を次のようにコントローラ６で制御する。すなわち、まずエアの吹出を行うことで、アーム６３から離れたガラス基板Ｇを受け止める。これにより、載置の際にガラス基板Ｇに加わる衝撃力を柔らげる。また、アーム６３の振動を減衰させる。その後、かかるエアの吹出に加えてエアの吸引を行い、ガラス基板Ｇを浮上保持する。

続いて、ガラス基板Ｇを浮上保持した状態で、このガラス基板Ｇの側縁部に駆動機構２４の保持部材２９を吸着する（Ｓ９）。そして、駆動機構２４によりスライダ２３を移動させる。これにより、ガラス基板Ｇが浮上保持されながら、高速度で第２搬送路４０の下流側まで搬送されると共に（Ｓ１０）、高速度で処理テーブル８０上に搬入される（Ｓ１１）。

以上、本実施形態の基板ハンドリングシステム１では、第１及び第２搬送路２０，４０上の基板Ｇが単に浮上されるのではなく、変形を抑制可能に浮上保持される。すなわち、浮上されつつ充分な保持剛性で保持される。そして、この状態で、ガラス基板Ｇが搬送方向Ｘに沿って移動され搬送される。従って、ガラス基板Ｇを高速度で搬送しても、ガラス基板Ｇの主面が傷付くのを確実に抑制できると共に、かかる保持剛性によって、ガラス基板Ｇの振動を抑制し、且つガラス基板Ｇに初期変形があっても搬送路に倣った平面状態にすることができる。よって、本実施形態によれば、ガラス基板Ｇの振動やたわみ等の変形を抑制しつつガラス基板Ｇを高速度で搬送することが可能となる。

また、ガラス基板Ｇを高速度で搬送できることから、ガラス基板Ｇのハンドリング時間の短縮化も可能となり、生産コストを低減することもできる。さらに、ガラス基板Ｇを浮上保持して搬送することから、ガラス基板Ｇの主面に汚れが付着するのを防止することもできる。

ちなみに、ガラス基板Ｇにあっては、その大きさが年々大型化しているものの、その厚さが従来と同程度であるため、ハンドリングの際にたわみ易く、振動や変形も残り易くなっている。よって、本実施形態のガラス基板Ｇの振動や変形を抑制するという上記効果は、特に有効なものである。

ところで、従来のアームでは、通常、第１搬送路にてガラス基板Ｇを下方から持ち上げ、このガラス基板Ｇを第２搬送路にて下ろすことによってガラス基板Ｇを移載する。詳言すると、図７（ａ），（ｂ）に示すように、第２搬送路８１においては、ガラス基板Ｇをアーム８２から下ろすために、ガラス基板Ｇをリフトピン８３で一旦支持する。そして、図７（ｃ）に示すように、この支持状態で、ガラス基板Ｇからアーム８２が引き抜かれるように離される。よって、従来のアーム８２を用いてガラス基板Ｇを移載する場合には、ガラス基板Ｇがリフトピン８３で傷つかないように、アーム８２の振動が小さくなるまでアーム８２を第２搬送路８１上でしばらく停止（すなわち、アーム８２を図７（ａ）の状態で一時停止）させる必要がある。

この点、本実施形態では、上述したように、ガラス基板Ｇをアーム６３で非接触に懸垂するように浮上保持して移載する。そのため、ガラス基板Ｇをアーム６３から下ろすために、ガラス基板Ｇをリフトピン８３で一旦支持する必要がなく、振動が小さくなるまでアーム６３を一時停止させる必要がない。よって、ガラス基板Ｇを下方から持ち上げて移載する場合に比べ、ガラス基板Ｇを第２搬送路４０に容易に載置することができると共に、スループットを向上することが可能となる。また、上記リフトピン８３も不要となる。

また、本実施形態では、上述したように、アーム６３が浮上保持したガラス基板Ｇのズレを規制するためのガイドピン６６を有しているため、ガラス基板Ｇがズレてアームから外れるのを抑制することができる。

また、本実施形態では、上述したように、ガラス基板Ｇを第２搬送路４０上に載置する際、エアの吹出でガラス基板Ｇを受け止めた後に浮上保持している。よって、ガラス基板Ｇを第２搬送路４０上に載置するに際して、エアのクッション効果が好適に発揮され、ガラス基板Ｇに加わる力を柔らげることができる。その結果、ガラス基板Ｇが傷付くのを一層抑制することが可能となる。

なお、本実施形態のアーム６３は、上記のように、軸線Ｂ回りに回転可能に構成されている。よって、上記Ｓ４〜Ｓ６の際、アーム６３の下側にガラス基板Ｇを懸垂するように浮上保持した後、この状態でアーム６３を軸線Ｂ回りに１８０°回転させることで、ガラス基板Ｇをアーム６３の上面側に浮上保持してもよい。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態は、ガラス基板Ｇをハンドリングするものであるが、半導体基板等の基板をハンドリングしても勿論よい。

また、上記実施形態では、ガラス基板Ｇが水平となる状態で浮上保持されるよう搬送路２０，４０を構成したが、垂直或いは垂直に近い状態で浮上保持されるよう搬送路２０，４０を構成してもよく、浮上保持されるガラス基板Ｇの主面の角度は限定されるものではない。例えば、垂直となるようにガラス基板Ｇを浮上保持すると、ガラス基板Ｇを鉛直搬送することが可能となり、ガラス基板Ｇがさらに大型化しても基板ハンドリングシステム１の占有スペースの増大を抑制することができる。

また、上記実施形態では、アーム６３で第２搬送路４０にガラス基板Ｇを移載したが、処理テーブル８０にガラス基板Ｇを直接移載してもよい。また、基板ハンドリングシステム１が、ガラス基板Ｇを積層するように収納する収納カセット等をさらに備え、この収納カセット等にガラス基板Ｇが搬入、搬出又は移載されてもよい。

また、上記実施形態では、保持部材２９が、ガラス基板Ｇの側縁部に吸着することで保持したが、ガラス基板Ｇの対向する側端部を挟持したり、ガラス基板Ｇの側縁部を上下から把持したり等することで保持してもよい。また、上記実施形態では、駆動機構２４をリニアモータ機構で構成したが、駆動機構２４をローラ機構等の種々の機構で構成してもよい。なお、例えばロボットアーム装置６０の支持台６２に車輪を設け、ロボットアーム装置６０を床面上にて移動可能に構成してもよい。

本発明の一実施形態に係る基板ハンドリングシステムを示す概略図である。 図１の基板ハンドリングシステムの第１搬送路を示す断面図である。 図２の一部拡大図である。 図１の基板ハンドリングシステムにおけるロボットアーム装置のアームの浮上保持面側を示す図である。 図４のＶ−Ｖ線に沿っての断面図である。 図１の基板ハンドリングシステムを用いたガラス基板のハンドリング方法のフローチャートである。 従来の基板ハンドリングシステムを用いたガラス基板のハンドリング方法の説明図である。

符号の説明

１…基板ハンドリングシステム、６…コントローラ（制御手段）、２０…第１搬送路（搬送路，第１地点）、２４…駆動機構（移動手段）、２５，６５…基板浮上装置（搬送路浮上保持手段）、３４ａ…吹出口（吹出部）、３５ａ…吸引口（吸引部）、３６…吹出流路、３７…吸引流路、４０…第２搬送路（搬送路，第２地点）、６３…アーム、６５…基板浮上装置（アーム浮上保持手段）、Ｇ…ガラス基板（基板）。

Claims (6)

1. 基板を搬送するための搬送路を備え、
   前記搬送路は、エアの吹出及び吸引によって前記搬送路上で前記基板を浮上保持する搬送路浮上保持手段と、前記基板を保持し搬送方向に沿って前記基板を移動させる移動手段と、を有しており、前記基板を前記搬送路浮上保持手段で変形を抑制可能に浮上保持しながら前記移動手段で前記搬送方向に搬送することを特徴とする基板ハンドリングシステム。
2. 第１地点から第２地点へ前記基板を移載するためのアームをさらに備え、
   前記アームは、エアの吹出及び吸引によって前記基板を浮上保持するアーム浮上保持手段を有しており、前記基板を前記アーム浮上保持手段で非接触に懸垂するように浮上保持することを特徴とする請求項１記載の基板ハンドリングシステム。
3. 前記アームは、前記搬送路上の第１地点から前記第２地点へ前記基板を移載し、
   前記搬送路は、前記搬送路浮上保持手段を制御する制御手段をさらに有し、
   前記制御手段は、前記アームが浮上保持を解除して前記基板を前記搬送路上に載置する際、エアの吹出で前記基板を受け止めた後に前記基板を浮上保持するように前記搬送路浮上保持手段を制御することを特徴とする請求項２記載の基板ハンドリングシステム。
4. 前記搬送路浮上保持手段及び前記アーム浮上保持手段のそれぞれは、複数の吹出部及び吸引部と、前記吹出部からエアを吹出するための吹出流路と、前記吸引部からエアを吸引するための吸引流路と、を含んで構成されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項記載の基板ハンドリングシステム。
5. 搬送路で基板を搬送する搬送工程を含み、
   前記搬送工程においては、エアの吹出及び吸引によって前記搬送路上で前記基板を浮上保持しながら、当該基板を搬送方向に搬送することを特徴とする基板ハンドリング方法。
6. 第１地点から第２地点へ前記基板をアームで移載する移載工程をさらに含み、
   前記移載工程においては、前記アームがエアの吹出及び吸引によって前記基板を非接触に懸垂するように浮上保持することを特徴とする請求項５に記載の基板ハンドリング方法。

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