JP2016526701A - レチクル整形装置、方法及びそれに用いる露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】【解決手段】レチクル整形装置（１００）であって、上表面（１５０）と下表面（１６０）を有する吸着装置（１１０）、及び位置決め面（２１０）を有する位置決め装置（２００）を含み、吸着装置（１１０）は少なくとも位置決め装置（２００）に対して垂直方向に動作し、吸着装置（１１０）の上表面（１５０）は位置決め面（２１０）と向かい合い、かつ位置決め面（２１０）と相互に接合し；更に、吸着装置（１１０）の下表面（１６０）に負圧源と接続することでレクチル（７００）を負圧吸着するために用いる真空チャンバー（１１１）が形成され；吸着装置（１１０）の下表面（１６０）に更にレチクル（７００）吸着時に持続的に吸着装置（１１０）の下表面（１６０）とレチクル（７００）の間に向かって正圧気流を供給するために用いる、正圧源と接続する少なくとも一つの正圧出口が形成され、正圧気流の大小は吸着装置（１１０）がレチクル（７００）を吸着可能な状況で吸着装置（１１０）の下表面（１６０）とレチクル（７００）の間にエア浮き面（１４０）を形成するように制御され、レチクル（７００）の変形を解消し、露光プロセスにおいてレチクル（７００）を良好な平面度とすることで、変形したレチクル（７００）と吸着装置（１１０）の間に真空とエア浮き面を比較的容易に構築することが可能である。

Description

本発明はフォトリソグラフィ分野に属し、レチクル整形装置、方法及びそれに用いる露光装置、特に大サイズのレクチル整形への適用に関するものである。

フォトリソグラフィ装置は、主に集積回路ＩＣ又はフラットパネルディスプレイ分野及びその他マイクロデバイスの製造に用いられる。フォトリソグラフィ装置によって、異なるレチクルパターンを有する複数層のレチクルは、半導体ウエハ又はＬＣＤ等のフォトレジストで被蓋されたウエハ上に正確に位置が合わせられ順次転写される。フォトリソグラフィ装置はおおよそ二種に分類され、一種はステップ・アンド・リピート方式のフォトリソグラフィ装置であり、レチクルパターンをウエハの一つの露光エリアに一度の露光で転写し、その後、ウエハをレチクル（又はレチクル）に対応して移動させ、即ち次の露光エリアをレチクルパターンと投影対物レンズの下方に移動させ、レチクルパターンをもう一度ウエハのもう一つの露光エリアに露光する。該プロセスをウエハ上の全ての露光エリアにレチクルパターンの像が形成されるまで繰り返す。もう一種はステップ・アンド・スキャン方式のフォトリソグラフィ装置であり、上述のプロセスにおいては、レチクルパターンを一度の露光で転写せず、投影露光フィールドのスキャン移動を通じて転写する。レチクルパターン転写プロセスにおいて、レチクルとウエハは投影システムと投影ビームに対応して同時に移動する。上述のフォトリソグラフィ設備は、レチクルとシリコンウエハ／基板のキャリアとして相応の装置を備えるものであり、レチクルを積載するキャリア及びシリコンウエハ／基板を積載するキャリアが正確な相対運動を生じることによってフォトリソグラフィの要件を満たす。上述のレチクルのキャリアはレチクルステージと呼ばれ、シリコンウエハ／基板のキャリアはウエハステージと呼ばれる。

スキャンフォトリソグラフィ装置において、レチクルステージは、通常、微動ステージと粗動ステージから構成され、微動ステージはレチクルの微細かつ精密な調整を行い、粗動ステージはレチクルの大ストロークスキャン露光動作を行う。レチクルの受け渡しはスキャンフォトリソグラフィ装置における最も重要な動作プロセスであり、露光について言えば、レチクルステージの平面度（垂直方向又はＺ方向の変形の度合い）と位置精度が露光の品質に多大な影響を及ぼす。

しかし、例えばフラットパネルディスプレイ分野に応用される分割レンズを備えたフォトリソグラフィ装置といった大レチクルをスキャンするフォトリソグラフィ装置において、Ｇ４．５世代からＧ６世代までは、通常、５２０×６１０ｍｍ及び５２０×８００ｍｍサイズのレチクルを使用し、Ｇ６以上では８５０×１２００ｍｍ及び８５０×１４００ｍｍサイズのレチクル、又はそれ以上のサイズを使用して、大面積露光の効率問題を解決している。レチクルサイズの増加によって、上述のレチクルの厚みは、通常８ｍｍとなり、これら大サイズレチクルは吸着時に自重により変形し、レチクルの水平方向の位置に変化を生じさせるおそれがあり、Ｚ方向の変形が５０μｍに達する場合もある。このような状況を制御しなければ、転写品質に深刻な影響を及ぼす。

この問題に関し、本分野の技術者は、レチクルの水平位置のΖ方向の変化をリアルタイムで測定し、その後、測定結果を入力することで、対物レンズの結像面をリアルタイムで制御する光電検出システムを採用しているが、この解決手段は、実現の難易度が高いと同時に、投影対物レンズに対する要求が極めて高く、更に高コストである。更に複数の吸着点を用いてレチクルを真空吸着し、真空圧力を調節することでレチクルの変形を補正する露光装置が存在する。しかし、該装置には、レチクルとその形状制御装置の位置が固定され、レチクルに過度な変形が生じた場合、両者間の間隙が大きくなり過ぎ、負圧が形成できないといった問題が有る。

本発明は、レチクルの変形を解消し、露光プロセスにおいてレチクルを良好な平面度とすることで、露光効果を向上させることができるレチクル整形装置、方法及びそれに用いる露光装置を提供する。

上述の技術問題を解決するため、本発明は、上表面及び下表面を有する吸着装置と、位置決め面を有する位置決め装置を含み、前記吸着装置は少なくとも前記位置決め装置に対して垂直方向に動作し、前記吸着装置の上表面は前記位置決め面と向かい合い、かつ前記位置決め面と相互に接合し、更に、前記吸着装置の下表面に負圧源と接続することでレクチルを負圧吸着するために用いる真空チャンバーが形成され、前記吸着装置の下表面に更に正圧源と接続する少なくとも一つの正圧出口が形成され、レクチル吸着時に持続的に吸着装置の下表面とレクチルの間に向かって正圧気流を供給するために用いられ、前記正圧気流の大小は吸着装置が前記レチクルを吸着可能な状況で吸着装置の下表面とレチクルの間にエア浮き面を形成するように制御されるレチクル整形装置を提供する。

必要に応じて、前記吸着装置の下表面に前記真空チャンバーの周囲に配列される複数の正圧出口が形成される。

必要に応じて、前記吸着装置はシリンダ及びピストンを含み、前記ピストンの一端はシリンダ内に位置し、シリンダを正圧空気圧室と負圧空気圧室に区分し、前記ピストンの他端は前記位置決め装置に可動式にて連接される。

更に、前記正圧空気圧室は、前記正圧源に接続され、正圧源開放時に吸着装置の上表面を位置決め装置の位置決め面に向かって接近させるよう駆動するために用いられる。

更に、前記真空チャンバーと前記負圧空気圧室は相互に連通されかつ前記負圧空気圧室を通じて前記負圧源に接続される。

更に、前記ピストンの他端はボールヒンジによって前記位置決め装置に連接される。更に、前記ピストン及びボールヒンジ内にチャネルが形成され、前記負圧空気圧室と前記真空チャンバーが相互に接続されかついずれも前記チャネルを通じて前記負圧源に接続される。

必要に応じて、前記レチクルのサイズが５２０×６１０ｍｍ以上である。

本発明は更に、正圧空気圧室内に正圧を供給し、吸着装置を上昇させ、レクチル整形指令を待ち；
レクチル整形指令を受信したら、正圧空気圧室内への正圧の供給を停止し、負圧空気圧室に向かって負圧を供給すると同時に、正圧出口に向かって正圧を供給し；
吸着装置をレチクル上方まで下降させ、吸着装置にてレチクルを吸着し、かつ吸着装置とレチクルの間にエア浮き面を形成し；
正圧空気圧室に正圧を再度供給し、吸着装置の上表面と位置決め面とが接合するまで吸着装置がレチクルを上方に向かって引き上げて移動させることでレクチル整形を完成させることを含む上述レチクル整形装置に応用するレクチル整形方法を提供する。

本発明は更に、少なくとも一つの露光装置と；前記少なくとも一つの露光装置の下方に配置される少なくとも一つの対物レンズと；前記少なくとも一つの露光装置と前記少なくとも一つの対物レンズの間に配置され、レクチルを支持運搬するためのレチクルステージと；前記少なくとも一つの対物レンズの下方に配置され、前記少なくとも一つの露光装置と前記少なくとも一つの対物レンズが協働することでレチクル上のパターンが基板上に転写される基板を支持運搬するための基板ステージと；レチクルステージの上方に配置される少なくとも一つのレチクル整形装置を含み、各レチクル整形装置は、上表面及び下表面を有する吸着装置と；位置決め面を有する位置決め装置と；を含み、前記吸着装置は少なくとも前記位置決め装置に対して垂直方向に動作し、前記吸着装置の上表面は前記位置決め面と向かい合い、かつ前記位置決め面と相互に接合し；更に、前記吸着装置の下表面に負圧源と接続することでレクチルを負圧吸着するために用いる真空チャンバーが形成され；更に、前記少なくとも一つのレチクル整形装置の位置は、各レチクル整形装置の吸着装置の上表面と位置決め装置の位置決め面を接合させる時に、吸着されるレチクルの少なくとも表面の一部が水平になるように配置され；各レチクル整形装置の前記吸着装置の下表面に更に正圧源と接続する少なくとも一つの正圧出口が形成され、レクチル吸着時に持続的に吸着装置の下表面とレクチルの間に向かって正圧気流を供給するために用いられ、前記正圧気流の大小は吸着装置が前記レチクルを吸着可能な状況で吸着装置の下表面とレチクルの間にエア浮き面を形成するように制御されることを含む露光装置を提供する。

必要に応じて、前記露光装置は複数の露光装置と複数の対物レンズを含み、前記複数の露光装置は水平方向に間隔を置いて配置され、前記複数の対物レンズは前記複数の露光装置の下方に配置されかつ前記複数の露光装置と協働することでレチクル上のパターンを基板上に転写する。

必要に応じて、各レチクル整形装置は間隔を置いて配列される隣接する二つの露光装置の間に水平方向に配置する。

必要に応じて、前記レチクルの少なくとも表面の一部は前記少なくとも一つの露光装置下方に位置する部分を含む。

従来技術との比較において、本発明は以下の優位性を有する。レチクルの変形を解消し、露光プロセスにおいてレチクルを良好な平面度とすることで、変形したレチクルと吸着表面の間に真空とエア浮き面を比較的容易に構築すること可能である。

図１は本発明の具体的な実施形態の一つにおけるレチクル整形装置の構造を示す図である。
図２は本発明の具体的な実施形態の一つにおけるレチクル整形装置の原理図（レクチル整形は不要）である。
図３は本発明の具体的な実施形態の一つにおけるレチクル整形装置の原理図（レクチル整形が必要）である。
図４は本発明の具体的な実施形態の一つにおけるレチクル整形装置の作業フロー図である。
図５は本発明の具体的な実施形態の一つにおける分割レンズ露光装置の構造を示す図である。
図６は図５中Ａ−Ａ面の断面図である。

図中：１００−レチクル整形装置、１１０−吸着装置、１１１−真空チャンバー、１１２−正圧チャネル、１１３−第一チャネル、１２０−シリンダ、１２１−負圧空気圧室、１２２−正圧空気圧室、１２３−ピストン、１３０−ボールヒンジ、１３１−第二チャネル、１４０−エア浮き面、１５０−上表面、１６０−下表面、２００−位置決め装置、２１０−位置決め面、３００−露光システム、４００−レチクルステージ、５００−分割対物レンズ、６００−基板ステージ、７００−レチクル、８００−露光視野、９００−基板。

本発明の上述の目的、特徴及び優位性をより明確に理解し易くするため、以下、図面と結びつけながら本発明の具体的な実施形態について詳細に説明する。なお本発明の図には等しく簡易な形式を採用し、かつ等しく正確ではない比率を採用したが、これは本発明の実施例の説明を分かり易く、かつ明確に補助することのみを目的としたものであることは言うまでもない。

本発明のレチクル整形装置１００は、図１と組み合わせて図２〜３を参照するに、上表面１５０と下表面１６０を有する吸着装置１１０、及び前記吸着装置１１０内に配置されるシリンダ１２０を含み、ピストン１２３の一端が前記シリンダ１２０内に位置し、他端がボールヒンジ１３０を通じて位置決め装置２００と連接され、前記ピストン１２３の一端が前記シリンダ１２０を正圧空気圧室１２２と負圧空気圧室１２１の両部分に区分し、前記吸着装置１１０の底部に真空チャンバー１１１が配置され、前記真空チャンバー１１１は第一チャネル１１３を通じて前記負圧空気圧室１２１と連通される。具体的には、正圧空気圧室１２２は外部の正圧源と接続することが可能であり、これにより正圧空気圧室１２２内に向かって正圧が供給され、負圧空気圧室１２１内には負圧を供給することが可能であり、負圧は真空チャンバー１１１を通じて負圧空気圧室１２１に供給される。正圧空気圧室１２２内に正圧が供給される時に、吸着装置１１０は上方に向かって持ち上げられ、これにより、レチクル７００をレチクルステージ４００上に配置し易くなる（図５参照）。

引き続き図１〜３を参照するに、前記真空チャンバー１１１周囲に正圧チャネル１１２が配置され、前記正圧チャネル１１２の入口端は前記吸着装置１１０の側面に位置し、前記正圧チャネル１１２の出口端は前記吸着装置１１０の下表面１６０に位置し、前記正圧チャネル１１２の入口端は正圧空気圧室１２２と同一の外部の正圧源に接続することができるが、バルブを通じて正圧の供給をそれぞれ個別に制御するか、又は前記正圧チャネル１１２の入口端を正圧空気圧室１２２とは異なる別の正圧源に接続し、正圧の供給を単独で制御することもできる。正圧空気圧室１２２内への正圧の供給を停止し、負圧空気圧室１２１内に向けて負圧を供給すると同時に、正圧チャネル１１２の入口端に向けて正圧を供給し、正圧を正圧チャネル１１２の出口端より流出させる。これにより、シリンダ１２０と吸着装置１１０は重力の作用下において下降し、吸着装置１１０とレチクル７００の間の距離を縮小させ、真空とエア浮き面の構築に寄与する。吸着装置１１０がレチクル７００と正に接触しようとする時に、正圧チャネル１１２、負圧空気圧室１２１と真空チャンバー１１１の作用下において、吸着装置１１０とレチクル７００の間にエア浮き面１４０が形成され、これにより吸着装置１００はレチクル７００と接触することはないものの、両者の距離が極めて接近するため、真空チャンバー１１１が真空を形成し、前記レチクル７００を吸着する。これにより、本発明のレチクル整形装置１００はレチクル７００を吸着できるのみならず、吸着装置１１０とレチクル７００の間に水平方向の摩擦が存在しないことを確実に保証できると同時に、両者の間に一定の接続の剛性をも付与することができる。

好ましくは、吸着装置１１０と位置決め装置２００の間にボールヒンジ１３０による連接方式を採用し、レチクル７００の変形時に、前記レチクル整形装置１００をレチクル面の変形方向に応じて適切に回転させることで、より適切に真空を構築し、レチクル７００を吸着することができる。

好ましくは、引き続き図１を参照するに、前記ボールヒンジ１３０の中心に第二チャネル１３１を配置し、前記負圧空気圧室１２１を前記第二チャネル１３１を通じて前記位置決め装置２００と連通させる。即ち、前記第二チャネル１３１は真空チャンバー１１１と負圧空気圧室１２１の負圧端入口であり、該入口を外部の負圧源と接続する。

図４と組み合わせて図１〜３及び図５〜６を参照するに、本発明は更にレチクル整形装置１００に応用する以下のレクチル整形方法を提供する。

レチクルステージ４００上にレチクル７００が存在しない時に、正圧空気圧室１２２内に正圧を供給し、レチクル整形装置１００を上昇させ、レクチル整形指令を待つ。なお前記レクチル整形指令はフォトリソグラフィ装置から発信されることは言うまでもない。

次に、レクチル整形指令を受信したら、正圧空気圧室１２２への正圧の供給を停止し、負圧空気圧室１２１を開放して負圧を供給する。具体的には、レチクルステージ４００上にレチクル７００を配置した時に、フォトリソグラフィ装置がレチクル整形装置１００に向けてレクチル整形指令を発信し、レチクル整形装置１００は指令を受信した後、正圧空気圧室１２２内への正圧の供給を停止し、負圧空気圧室１２１と真空チャンバー１１１内に負圧を供給すると同時に、正圧チャネル１１２の入口端に向けても正圧を供給し、吸着装置１１０において負圧が形成された時に、負圧空気圧室１２１と真空チャンバー１１１を連通させる。

次に、吸着装置１１０は自重作用において下降し、吸着装置１１０がレチクル７００と正に接触しようとする時に、吸着装置１１０とレチクル７００の間にエア浮き面１４０が形成され、これにより、吸着装置１１０はレチクル７００と接触することはないものの、吸着装置１１０とレチクル７００の距離が極めて接近するため、吸着装置１１０の真空チャンバー１１１が真空を形成し、レチクル７００を吸着するという目的を達成する。

この時、吸着装置１１０において負圧が形成されるため、負圧空気圧室１２１と真空チャンバー１１１が連通される。次に、正圧空気圧室１２２内に正圧が再度供給され、吸着装置１１０の上表面１５０と位置決め装置２００の位置決め面２１０が接合するまでシリンダ１２０はレチクル７００とともに上方に引き上げられる。この時、吸着装置１１０は垂直方向において双方向の剛性を有し、レチクル７００を吸着できるのみならず、レチクル７００と吸着装置１１０が接触しないことを保証することもでき、レチクルステージ４００の水平方向の動作の際に、レチクル７００に対して影響が及ぼされることはない。好ましくは、位置決め面２１０の高さを調節することで、吸着装置１１０が上昇する高さを保証でき、上昇後のレチクル７００の表面が水平を維持できるようにすることで、レチクル７００の変形を解消し、これにより、レチクル７００が大きく変形した場合であっても、吸着装置１１０を上昇させるだけで形状制御を完了させることができ、その構造はシンプルで、操作性も良好である。

実際の応用プロセスにおいて、レチクル７００の整形は、上述の各ステップを繰り返すのみで完了する。

以上より、本発明のレチクル整形装置及び方法は、特に大レクチル整形に適用することで、レチクルの変形という問題を有効に解決することが可能である。以下に実施例を通じて本発明のレチクル整形装置及び方法の大レチクルスキャンフォトリソグラフィ装置における応用について説明する。

図１〜３と組み合わせて図５〜６を参照するに、本発明は更に前述のレチクル整形装置１００（即ち、吸着装置１１０と位置決め装置２００を含む）、露光システム３００、レチクルステージ４００、分割対物レンズ５００と基板ステージ６００を含む、分割レンズ露光装置に関わるものである。前記吸着装置１１０はレチクルの吸着に用いられ、かつ前記位置決め装置２００の位置決め面２１０と接合され、前記位置決め面２１０は前記露光システム３００と前記レチクルステージ４００の間に配置され、前記分割対物レンズ５００は前記レチクルステージ４００と前記基板ステージ６００の間に配置され、かつ前記分割対物レンズ５００と前記露光システム３００は垂直方向の位置において対応する。具体的には、露光システム３００は露光装置のために露光光源を提供し、レチクルステージ４００はレチクル７００の支持と位置決めを行い、分割対物レンズ５００は複数セットのレンズを接合して大視野の露光装置を構成し、基板ステージ６００は基板９００を支持運搬し、基板のために支持及び位置決め機能を提供する。この他、本発明の分割レンズ露光装置は更に物体距離が小さく、大小のサイズのレチクル７００に対し兼用できるという特徴を有する。

引き続き図１〜６を参照するに、前記露光システム３００と分割対物レンズ５００をそれぞれ複数セット備え、かつ前記複数セットの露光システム３００と分割対物レンズ５００は前記レチクル整形装置１００と交差して配置される。具体的には図６を重に参照するに、各分割レンズの配置位置（即ち、露光光源３００の露光視野８００）と吸着装置１１０の配置位置から分かるように、交互に配置されることによって、単一レンズの小視野にて大きな露光視野を構成することができ、レチクル７００上の大きな露光パターンを基板ステージ６００上に露光させることができ、このように視野に影響が及ばない複数の位置に吸着装置１１０が配置されることによりレチクル７００の変形が克服される。

好ましくは、図６に示す通り、複数セットの露光システム３００は水平Ｘ方向に沿って複数列に配列できると同時に、その位置は露光視野８００を反映できるものであって、各列の露光システム３００の個数、即ち各列における水平Ｙ方向に沿って排列される露光システム３００の個数は、同じでも異なっても良い。露光効果を保証するため、少なくとも該複数セットの露光システム３００の露光視野８００内に位置するレチクル部分が平坦な状態を維持することを確実に保証しなければならない。このために、各列の露光システム３００の各サイドに少なくとも一個のレチクル整形装置１００を配置する必要があり、その数量及び配置位置は実際の状況に応じてこれを調整することができ、ここにおいては如何なる形式の制限も行わない。露光システム３００と分割対物レンズ５００から離れた位置において、一個又は複数のレチクル整形装置１００を配置しても良いし、装置構造の簡易化を図るために配置しなくとも良い。なぜなら、露光システム３００と分割対物レンズ５００から離れた位置のレチクル７００の表面が仮に平滑ではなくとも、露光プロセスに何ら影響を及ぼさないからである。

図５〜６に本発明のレチクル整形装置の分割対物レンズを有する大レチクルスキャンフォトリソグラフィ装置への応用を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、前記レチクル整形装置を利用して中小サイズのレクチル整形を行い、露光品質を向上させることも可能である。この他、前記レチクル整形装置は非分割対物レンズを採用する露光装置においても応用することが可能である。

以上をまとめると、本発明が提供するレチクル整形装置は、レクチルを吸着するプロセスを通じて持続的にレチクルと吸着装置下表面の間に向けて正圧気流を供給することでエア浮き面を形成し、レチクルを成功裏に吸着する条件下において吸着装置とレチクルの直接的な接触を発生させることがないため、レチクルの水平移動プロセスにおいて、如何なる抵抗も発生しない。露光エリア内においてレチクル部分を吸着することによって、該部分のレチクル表面を上昇させ、平坦な状態が維持されるため、重力作用に起因して生じるレチクルの大変形を有効に解消でき、これにより露光プロセスにおいてレクチルは良好な平面度を保ち、露光効果が向上する。

本発明の精神と範囲を逸脱することなく発明に様々な修正や変更を加えることができるのは本分野の技術者にとって明らかである。本発明のこれらの修正や変更が本発明の請求の範囲及びその同等の技術の範囲内に属するものであるならば、これらの修正や変更も本発明の意図する範囲のものである。

Claims (14)

1. 上表面及び下表面を有する吸着装置と、
   位置決め面を有する位置決め装置と、
   を含むレチクル整形装置であって、
   前記吸着装置は少なくとも前記位置決め装置に対して垂直方向に動作し、前記吸着装置の上表面は、前記位置決め面と向かい合い、かつ前記位置決め面と相互に接合するものであり、前記吸着装置の下表面に負圧源と接続することでレクチルを負圧吸着するために用いる真空チャンバーが形成され、
   前記吸着装置の下表面に更に正圧源と接続する少なくとも一つの正圧出口が形成され、前記正圧出口はレクチル吸着時に持続的に吸着装置の下表面とレクチルの間に向かって正圧気流を供給するために用いられるものであり、
   前記正圧気流の大小は吸着装置が前記レチクルを吸着可能な状況で吸着装置の下表面とレチクルの間にエア浮き面を形成するように制御される、
   ことを特徴とするレチクル整形装置。
2. 前記吸着装置の下表面に前記真空チャンバーの周囲に配列される複数の正圧出口が形成される、
   ことを特徴とする請求項１に記載のレチクル整形装置。
3. 前記吸着装置はシリンダ及びピストンを含み、
   前記ピストンの一端はシリンダ内に位置し、前記シリンダが正圧空気圧室と負圧空気圧室に区分され、
   他端前記ピストンの他端は前記位置決め装置に可動式にて連接される、
   ことを特徴とする請求項１に記載のレチクル整形装置。
4. 前記正圧空気圧室は、前記正圧源に接続され、正圧源開放時に吸着装置の上表面を位置決め装置の位置決め面に向かって接近させるよう駆動するために用いられる、
   ことを特徴とする請求項３に記載のレチクル整形装置。
5. 前記真空チャンバーと前記負圧空気圧室が相互に接続され、かつ前記負圧空気圧室を通じて前記負圧源に接続される、
   ことを特徴とする請求項３に記載のレチクル整形装置。
6. 前記ピストンの他端がボールヒンジによって前記位置決め装置に連接される、
   ことを特徴とする請求項３に記載のレチクル整形装置。
7. 前記ピストン及びボールヒンジ内にチャネルが形成され、前記負圧空気圧室と前記真空チャンバーが相互に接続され、かついずれも前記チャネルを通じて前記負圧源に接続される、
   ことを特徴とする請求項６に記載のレチクル整形装置。
8. 前記レチクルのサイズが５２０×６１０ｍｍ以上である、
   ことを特徴とする請求項１に記載のレチクル整形装置。
9. 正圧空気圧室内に正圧を供給し、吸着装置を上昇させ、レクチル整形指令を待ち；
   レクチル整形指令を受信したら、正圧空気圧室内への正圧の供給を停止し、負圧空気圧室に向かって負圧を供給し、正圧出口に向かって正圧を供給し；
   吸着装置をレチクル上方に達するまで下降させ、吸着装置にてレチクルを吸着し、かつ吸着装置とレチクルの間にエア浮き面を形成し；
   正圧空気圧室に正圧を再度供給し、吸着装置の上表面と位置決め面とが接合するまで吸着装置がレチクルを上方に向かって引き上げて移動させることでレクチル整形を完成させる、
   ことを特徴とする請求項３〜８のいずれか一項に記載のレチクル整形装置に応用されるレクチル整形方法。
10. 少なくとも一つの露光装置と；
    前記少なくとも一つの露光装置の下方に配置される少なくとも一つの対物レンズと；
    前記少なくとも一つの露光装置と前記少なくとも一つの対物レンズの間に配置され、レクチルを支持運搬するためのレチクルステージと；
    前記少なくとも一つの対物レンズの下方に配置され、前記少なくとも一つの露光装置と前記少なくとも一つの対物レンズが協働することでレチクル上のパターンが基板上に転写される基板を支持運搬するための基板ステージと；
    レチクルステージの上方に配置される少なくとも一つのレチクル整形装置を含み、
    各レチクル整形装置は、上表面及び下表面を有する吸着装置と；
    位置決め面を有する位置決め装置と：を含み、
    前記吸着装置は少なくとも前記位置決め装置に対して垂直方向に動作し、前記吸着装置の上表面は前記位置決め面と向かい合い、かつ前記位置決め面と相互に接合し；
    前記吸着装置の下表面に負圧源と接続することでレクチルを負圧吸着するために用いる真空チャンバーが形成され、
    前記少なくとも一つのレチクル整形装置の位置は、各レチクル整形装置の吸着装置の上表面と位置決め装置の位置決め面を接合させる時に、吸着されるレチクルの少なくとも表面の一部が水平になるように配置され、
    各レチクル整形装置の前記吸着装置の下表面に更に正圧源と接続する少なくとも一つの正圧出口が形成され、レクチル吸着時に持続的に吸着装置の下表面とレクチルの間に向かって正圧気流を供給するために用いられ、
    前記正圧気流の大小は吸着装置が前記レチクルを吸着可能な状況で吸着装置の下表面とレチクルの間にエア浮き面を形成するように制御される、
    ことを特徴とする露光装置。
11. 前記露光装置複数の露光装置と複数の対物レンズを含み、前記複数の露光装置は水平方向に間隔を置いて配置され、
    前記複数の対物レンズが前記複数の露光装置の下方に配置され、かつ前記複数の露光装置と協働することでレチクル上のパターンを基板上に転写する、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
12. 各レチクル整形装置が間隔を置いて配列される隣接する二つの露光装置の間に水平方向に配置される、
    ことを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
13. 前記レチクルのサイズが５２０×６１０ｍｍ以上である、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
14. 前記レチクルの少なくとも表面の一部が前記少なくとも一つの露光装置下方に位置する部分を含む、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
    

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