JPH07335533A - 位置決め装置 - Google Patents

位置決め装置

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JPH07335533A
JPH07335533A JP6130240A JP13024094A JPH07335533A JP H07335533 A JPH07335533 A JP H07335533A JP 6130240 A JP6130240 A JP 6130240A JP 13024094 A JP13024094 A JP 13024094A JP H07335533 A JPH07335533 A JP H07335533A
Authority
JP
Japan
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piston
mask
cylinder
gas
positioning device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6130240A
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English (en)
Inventor
Setsuo Setoguchi
節男 瀬戸口
Fumiaki Sato
佐藤  文昭
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH07335533A publication Critical patent/JPH07335533A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 位置精度よく、かつ安全にX線露光用マスク
等の処理対象物を露光装置等の受け渡すべき装置の所定
の位置に位置決めすることができる位置決め装置を提供
する。 【構成】 中心軸に関して回転対称な内部空間を画定す
るシリンダと、前記内部空間内に挿入され、前記シリン
ダの内面との間に所定の空間を画定するピストンと、前
記所定の空間内に一対の空洞を形成するための、前記ピ
ストン及びシリンダのうち一方に支持された第1の手
段、及び該第1の手段の軸方向の両側に前記ピストン及
びシリンダのうち他方に支持され、前記ピストンを軸方
向に摺動可能に支持する第2の手段と、前記一対の空洞
にそれぞれ所定圧力のガスを供給するためのガス供給手
段とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は位置決め装置に関し、特
に、シンクロトロン放射光を光源とするX線露光に使用
されるX線露光用マスクの位置決め装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、LSI等の半導体素子を製造する
ための露光装置の分野においては、半導体素子の高集積
化に伴って、より高分解能の露光が可能なシンクロトロ
ン放射光等のX線を利用した露光装置が種々提案されて
いる。
【0003】X線露光に使用されるマスクは、例えば、
厚さ4mm程度のパイレックスガラス等の保持枠で、厚
さ1mm程度のシリコンウエハからなる支持体を保持し
固定した構造を有する。支持体の中央部には開口が設け
られ、その開口部には、厚さ2μm程度のSiNあるい
はSiCからなるX線透過膜が形成されている。X線透
過膜の表面には、厚さ1μm程度のWあるいはTa等の
X線吸収体により転写パターンが形成されている。
【0004】このX線露光用マスクの露光装置への取り
付けには、高い位置精度が要求される。例えば、1ギガ
ビットのDRAMでは設計線幅が0.15μm程度にな
ると予想され、このときの総合重ね合わせ精度は0.0
5μm以下の精度が要求される。また、このときに許容
されるマスク歪みは0.005μm以下であるといわれ
ている。
【0005】また、マスクのX線透過膜の機械的強度は
非常に弱いため、支持体のわずかな変形により容易に破
損する。このため、マスクに作用する力は十分に小さい
ことが要求される。
【0006】さらに、X線露光用マスクは高価なもので
あるため、その取扱には特に高い安全性が要求される。
以下に、図8を参照して特開平3−289121に開示
されたマスク位置決め方法について説明する。
【0007】図8は、マスク位置決め装置の正面図を示
す。マスク位置決め装置は、マスク搬送装置とマスクス
テージから構成されている。マスク搬送装置は、マスク
摺動部100とガイド部101から構成される。マスク
摺動部100は、連結部102によりガイド部101の
リニアガイド103に、図の矢印Aの方向に摺動可能に
装着される。
【0008】マスク摺動部100には、マスクハンド1
04が設けられており、マスクフレーム105の両側面
を保持することができる。マスクフレーム105は、実
際にはリング状であり、中央部にパターンを形成したマ
スクが装着されている。
【0009】マスク摺動部100が図の右方に移動した
ときにマスクフレーム105が保持される位置に、マス
クステージ106が配置されている。マスクステージ1
06には、マスクフレーム105を押し当てて位置決め
するためのVブロック107と、マスクフレーム105
を吸着固定するための吸着部108が設けられている。
【0010】マスクを位置決めするときには、マスクハ
ンド104で所望のマスクフレーム105を保持し、マ
スク摺動部100を図の右方に移動する。マスクフレー
ム105をVブロック107に押し当てて図の上下左右
方向の位置決めを行う。次に、図には示さない回転機構
によりマスクフレーム105の中心軸回りの回転方向の
位置決めを行う。
【0011】マスクフレーム105の位置決めが完了す
ると、吸着部108によりマスクフレーム105を吸着
固定する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】マスクステージ106
の吸着部108が形成されたマスクフレーム吸着面とマ
スクハンド104で保持されたマスクフレーム105の
被吸着面は、相互に平行に配置されていることが望まし
いが、完全に平行になるようにマスクフレーム105を
保持することは困難である。マスクフレーム105は、
その中央部に取り付けられたマスクを位置精度よく変形
しないように固定するために剛性が高い材料で形成され
る。また、マスクステージ106のマスクフレーム吸着
面も、高い位置精度が要求されるため、剛性が高い材料
で形成される。
【0013】このように、完全には平行に配置されてい
ない剛性の高い2つの面を再現性よく吸着固定すること
は困難である。再現性よく吸着固定するためにマスクフ
レーム105をマスクステージ106の吸着面に強く押
しつけると、マスクフレーム105のわずかな変形によ
り、吸着固定後のマスクに歪みが残る場合がある。さら
に、マスクフレーム105の変形が大きくなるとマスク
が破損する場合もある。また、高い位置精度が要求され
るマスクステージ106の吸着面を破損したり、あるい
は寿命を縮めることになる。
【0014】また、図8に示す従来例によるマスク搬送
装置は、機構的に接触部分や摺動部分が多いため、ごみ
が発生しやすい。発生したごみがマスクやウエハの転写
部分に付着すると半導体装置の歩留りを落とすことにな
る。
【0015】本発明の目的は、位置精度よく、かつ安全
にX線露光用マスク等の処理対象物を露光装置等の受け
渡すべき装置の所定の位置に位置決めすることができる
位置決め装置を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の位置決め装置
は、中心軸に関して回転対称な内部空間を画定するシリ
ンダと、前記内部空間内に挿入され、前記シリンダの内
面との間に所定の空間を画定するピストンと、前記所定
の空間内に一対の空洞を形成するための、前記ピストン
及びシリンダのうち一方に支持された第1の手段、及び
該第1の手段の軸方向の両側に前記ピストン及びシリン
ダのうち他方に支持され、前記ピストンを軸方向に摺動
可能に支持する第2の手段と、前記一対の空洞にそれぞ
れ所定圧力のガスを供給するためのガス供給手段とを含
む。
【0017】
【作用】シリンダとピストンとの間に形成された空間内
に、軸方向と交わりシリンダ側にほぼ固定された面と、
この面に対向しピストン側にほぼ固定された面により空
洞が画定されている。この空洞に所定圧力の空気を導入
することにより、ピストンを軸方向に駆動することがで
きる。
【0018】また、シリンダ側及びピストン側にそれぞ
れ固定された面の向きが反対のもう一つの空洞が形成さ
れている。この空洞に所定圧力の空気を導入することに
より、ピストンを反対方向に駆動することができる。こ
れら2つの空洞に供給するガス圧を調整することによ
り、所望の力で所望の方向にピストンを駆動することが
できる。
【0019】ピストン先端に取り付けられた吸着手段で
処理対象物を吸着することができる。ピストンで処理対
象物を吸着固定し、ピストンを往復駆動して処理対象物
を所望の力で押し出すことができる。
【0020】このように、処理対象物をピストンにより
所望の力で押し出すことにより、処理対象物が受け渡さ
れるべき位置に処理対象物を安定にかつ再現性よく位置
決めして配置することができる。
【0021】
【実施例】図1(A)は、本発明の実施例によるマスク
構造体10の正面図、図1(B)は、鎖線B1−B1に
沿う断面図を示す。
【0022】厚さ2mm、直径3インチのシリコン基板
からなるマスク支持体3の表面にX線透過膜4が形成さ
れている。X線透過膜4の表面には、所定パターンのX
線吸収体1a及びマスク位置合わせ用のマスクマーク1
が形成されている。X線透過膜4には、厚さ2μm程度
のSiN膜またはSiC膜等が用いられる。また、X線
吸収体1aには、厚さ1μm以下のタングステン(W)
またはタンタル(Ta)膜等が用いられる。
【0023】マスク支持体3の中央部には、裏面からシ
リコン基板をエッチングしてほぼ正方形の開口が形成さ
れX線透過領域5が画定されている。マスク保持枠2
は、厚さ4mmのパイレックスガラス板であり、その外
周は一辺の長さが約127mmの正方形の各頂点が三角
形状に切り落とされた八角形状をしている。また、その
中央部には直径約56mmの開口2aが設けられてい
る。なお、形状は必ずしも円形である必要はなく、X線
透過領域5を内包するように形成されていればよい。
【0024】マスク支持体3は、その中心が開口2aの
中心と一致し、X線透過領域5の一辺がマスク保持枠2
の外周の一辺とほぼ並行になるように接着剤で接着され
ている。
【0025】マスク保持枠2の上部の一辺には、長さ約
155mm、幅約17mm、厚さ約3mmの剛性の高い
位置決め用部材6が、その上部の一辺に沿って接着され
ている。位置決め用部材6の両端は、それぞれマスク保
持枠2の外周から約14mm突出している。
【0026】一方の突出部の下辺には、V字状の切り欠
き7が設けられている。他方の突出部の下辺には、一辺
が水平方向をなすL字状の切り欠き8が設けられてい
る。なお、位置決め用部材6は、左右別の部材で構成し
てもよいが、一体構造の方が位置決め操作が1回ですむ
利点がある。
【0027】また、V字状の切り欠き部は、後述する位
置決めピンと実質的に2点で接するものであればその他
の形状でもよい。例えば、台形状であってもよい。さら
に、位置決めピンと実質的に2点で接する互いに平行で
なくかつ鉛直面を挟んで向かい合うように形成された2
つの平面を有するものであれば、切り欠き部以外のもの
でもよい。例えば、三角形状の貫通孔であってもよい。
【0028】また、L字状の切り欠き部は、位置決めピ
ンと実質的に1点で接するものであればその他の形状で
もよい。例えば、ほぼ水平に形成された1つの平面が画
定されていれば切り欠きを設ける必要はない。
【0029】位置決め用部材6をマスク保持枠2に接着
する際に、V字状切り欠き7及びL字状切り欠き8と、
マスクマーク1との相対位置が所定の関係になるように
精度よく接着することにより、マスク支持体3をマスク
保持枠2に接着する際に発生した相対位置の誤差を吸収
することができる。
【0030】位置決め用部材6は、マスク支持体3より
も機械的強度が強いため、マスク支持体3を接着する場
合よりも容易に位置決めして接着することができる。次
に、図2を参照して、マスク構造体10をマスクチャッ
クまで搬送する機構について説明する。
【0031】図2は、マスク構造体10を保管している
マスク保管部、マスク構造体10をマクス保管部からマ
スクチャックに搬送するためのハンドリングアーム、及
びマスク構造体10が受け渡されるマスクチャックの正
面図を示す。
【0032】図2の左側にマスク構造体10を保管する
ためのマスク保管部を示す。レール11の図中左側に複
数のマスク構造体10が紙面に垂直な方向に一列に並ん
でマスクストッカ19に保管されている。レール11上
には、図の左右方向に移動可能な搬送チャック12が載
置されている。露光すべき所望のパターンのマスク構造
体10が、搬送チャック12によりマスクストッカ19
から取り出される。
【0033】図2の右側に、X線露光時にマスク構造体
10を固定するためのマスクチャック14を示す。マス
クチャック14の所定の位置にはマスク構造体10に設
けられたV字状及びL字状の切り欠き7、8を載せてマ
スク構造体10を保持するためのマスク位置決めピン1
5、16が設けられている。
【0034】マスク保管部とマスクチャック14との間
には、ハンドリングアーム13が配置されている。ハン
ドリングアーム13の先端には、マスク移し替え装置2
0が取り付けられている。ハドリングアーム13は、搬
送チャック12によって取り出された所望のマスク構造
体10をマスク移し替え装置20に真空吸着して保持
し、支点を中心に所定角回転することによって、マスク
チャック14の位置に搬送する。
【0035】図3は、ハンドリングアーム13の先端に
取り付けられたマスク移し替え装置20の斜視図を示
す。マスク構造体10を真空吸着する吸着面24の中央
部に、円環状凸部の端面に真空吸引口が設けられた吸着
部21が形成されている。吸着部21は、図1に示すマ
スク構造体10のマスク保持枠2を真空吸着して固定す
る。
【0036】吸着部21の周囲には、吸着面24の法線
方向に平行な中心軸を有し、吸着面24に開口を有する
3本のシリンダ22が設けられている。シリンダ22の
中には、シリンダ軸に対して平行な方向に摺動可能なピ
ストン23が収納されている。
【0037】次に、シリンダ22及びピストン23の構
造について、図4を参照して詳細に説明する。図4は、
図3のマスク移し替え装置20のシリンダ22及びピス
トン23の断面図を示す。図4(A)は、シリンダ22
の軸方向に沿う断面、図4(B)は、図4(A)の一点
鎖線B4−B4における断面を示す。シリンダ22の内
部は、吸着面24に連続するパッド収納部33、パッド
収納部33に連続し、一定の内径を有する円筒状形状の
案内部30、案内部30に連続し、案内部30の内径よ
りも小さな内径を有する絞り部32、及び絞り部32に
連続し、案内部30とほぼ同径の案内部31から構成さ
れている。
【0038】案内部30の中には、その内径よりもわず
かに小さい外径を有する円柱状のピストン前段部34が
収納されている。同様に、案内部31の中には、その内
径よりもわずかに小さい外径を有する円柱状のピストン
後段部35が収納されている。案内部30、31の内周
面とピストン前段部34、後段部35の外周面との間隙
部は、2μm〜20μm程度とすることが好ましい。
【0039】ピストン前段部34とピストン後段部35
は、絞り部32の内径よりもわずかに小さい外径を有す
る円柱状のピストン中段部36により連結されている。
このように、ピストン23は、ピストン前段部34、ピ
ストン後段部35及びピストン中段部36から構成され
ている。
【0040】ピストン中段部36の長さは、絞り部32
の軸方向の長さよりも長く構成されており、案内部3
0、31の中に、それぞれシリンダ22の内面とピスト
ンとに囲まれた前段空洞40、後段空洞41が形成され
る。
【0041】シリンダ22の側壁には、前段空洞40と
シリンダ外部とを接続するガス流路42、及び後段空洞
41とシリンダ外部とを接続するガス流路43が設けら
れている。
【0042】絞り部32の内周面には、円周方向に環状
の溝38が形成されている。溝38の内部空間は、シリ
ンダ22に90度間隔で対称的に設けられた4本のガス
流路37によってシリンダ外部と接続されている。
【0043】ピストン前段部34には、一端が前段空洞
40に開口し、他端が案内部30の内周面とピストン前
段部34の外周面との間の間隙部に開口する複数のガス
流路44が形成されている。同様に、ピストン後段部3
5には、一端が後段空洞41に開口し、他端が案内部3
1の内周面とピストン後段部35の外周面との間の間隙
部に開口する複数のガス流路45が形成されている。ガ
ス流路44、45のピストン外周面側の開口部は、ピス
トン外周面の円周方向に沿ってほぼ等間隔に配列されて
いる。
【0044】ピストン前段部34の前面には、マスク構
造体10を吸着するための吸着パッド46が取り付けら
れている。吸着パッド46は、例えばシリコンゴム等の
弾性体で形成される。一端が吸着パッド46の内面に開
口し、他端がピストン後段部35の背面に開口するガス
流路47がピストン23の中心軸に沿って形成されてい
る。
【0045】吸着面24のシリンダ22開口部近傍に
は、マスク構造体10を吸着固定するための吸着部21
が設けられている。ガス流路42、43からそれぞれ前
段空洞40、後段空洞41に圧縮ガスを供給すると、前
段空洞40、後段空洞41内は加圧される。加圧された
ガスは、ガス流路44、45を通ってシリンダ22の内
面とピストン23の外周面との間の間隙部に吹き出す。
このため、ピストン23は、シリンダ22の内周面に接
触しないように保持される。このように、静圧気体軸受
け機構が形成される。なお、間隙部に、より均一にガス
を吹きだすために、ピストン前段部34及びピストン後
段部35の外周面に円周方向に沿って所定の深さの溝を
形成し、この溝の底面にガス流路44、45が開口する
ようにしてもよい。
【0046】また、前段空洞40及び後段空洞41内の
ガス圧に差を設けることにより、ピストン23を前方ま
たは後方に平行移動することができる。この駆動力は、
ピストンの受圧面の面積のうち駆動方向に垂直な成分に
圧力差を乗じた大きさとなる。従って、前段空洞40及
び後段空洞41内の圧力を調整することによって、駆動
力を変化させることができる。
【0047】前段空洞40、後段空洞41から絞り部3
2の隙間に流入したガスは環状の溝38及びガス流路3
7を通って外部に排出される。このため、前段空洞40
と後段空洞41内の圧力が相互に干渉し合うことを防止
できる。
【0048】シリンダ22及びピストン23は、例えば
アルミニウム等の軽金属により形成される。シリンダ2
2の内周面及びピストン23の外周面は、摩擦低減及び
耐久性向上のための表面処理を施しておくことが好まし
い。例えば、アルマイト処理を施し、テフロンを含侵さ
せてもよい。
【0049】図5は、図4に示すピストン23を駆動
し、あるいは吸着パッド46によりマスク構造体10を
吸着するためのガス系統図を示す。一つのマスク移し替
え装置20には,図3に示すように3つのシリンダ及び
ピストンが設けられており、各ピストンは、ガスの供給
排気系に並列に接続されている。
【0050】清浄な圧縮空気を供給する圧縮空気源50
から導出されたガス流路が、バルブ51を通った後に分
岐し、それぞれ圧力制御弁52、53に導入されてい
る。圧縮空気源50は、例えば4kgf/cm2 の加圧
された圧縮空気を供給する。
【0051】圧力制御弁52、53は、外部から与えら
れた電気信号に応じて出力側のガス圧を調整する。出力
側の圧力が設定圧力よりも低くなったときには、設定圧
力になるように昇圧し、設定圧力よりも高くなったとき
には、出力側のガスを外部に逃がすことにより設定圧力
になるように降圧する。このように、圧力制御弁52、
53は、出力側の圧力が常に設定圧力になるように正確
に、かつ応答性よく制御することができる。
【0052】圧力制御弁52から導出されたガス流路
は、各シリンダ22内の後段空洞41に開口するガス流
路43に接続されている。圧力制御弁53から導出され
たガス流路は、各シリンダ22内の前段空洞40に開口
するガス流路42に接続されている。
【0053】圧力制御弁52、53の出力側の圧力を制
御することにより、前段空洞40及び後段空洞41内が
所望の圧力になるように制御することができる。このよ
うにして前段空洞40と後段空洞41内の圧力差を所望
の大きさにすることにより、所望の力でピストン23を
駆動することができる。例えば、前段空洞40と後段空
洞41との圧力差を0.1〜0.5kgf/cm2 の範
囲で変化させることにより、ピストン23を駆動するこ
とができる。
【0054】各吸着パッド46の内面に開口するガス流
路47は、流路切り換え弁55に接続されている。流路
切り換え弁55を切り替えることにより、ガス流路47
を真空源56または減圧弁54に接続することができ
る。減圧弁54は圧縮空気源50に接続されており、所
定圧力の圧縮空気をガス流路47に供給することができ
る。
【0055】ガス流路47を真空源56に接続すると、
吸着パッド46はマスク構造体10を吸着保持する。ガ
ス流路47を圧縮空気源50に接続すると、吸着パッド
46からマスク構造体10に向かって圧縮空気が吹きつ
けられる。
【0056】次に、図6を参照してマスク構造体10を
マスク移し替え装置からマスクチャックへ移し替える方
法について説明する。図6(A)に示すように、マスク
構造体10をマスク移し替え装置20で真空吸着し、マ
スクチャック14の正面に移動する。このとき、ピスト
ン23は、完全にシリンダ22内に収納されており、マ
スク構造体10は図3に示す吸着部21により真空吸着
されている。
【0057】ピストン23を前方に移動し、吸着パッド
46でマスク構造体10を真空吸着する。吸着パッド4
6で真空吸着した後、吸着部21による吸着を解除す
る。図6(B)に示すように、ピストン23をさらに前
方に移動し、マスク構造体10をマスクチャック14の
マスク保持面に押しつける。このとき、ピストン23の
駆動力を調整することにより、マスク構造体10を所望
の圧力でマスクチャック14に押しつけることができ
る。このようにして、マスク構造体10とマスクチャッ
ク14の接触面同士をなじませることができる。
【0058】図6(C)に示すように、吸着パッド46
による真空吸着を解除し、真空パッド46及びマスクチ
ャック14の両方から圧縮空気を吹き出す。ピストン2
3の前方への駆動力よりも圧縮空気の吹き出しによる後
方への駆動力の方が大きくなるように各部のガス圧を調
整しておくことにより、ピストン23はわずかに後方に
移動する。マスク構造体10は自重で落下し、位置決め
用部材6のV字状切り欠きが位置決めピン15にはまり
込む。
【0059】図6(D)に示すように、マスクチャック
14からの圧縮空気の吹き出しを停止する。ピストン2
3を後方へ駆動する力が弱くなり、ピストン23が前方
へ移動する。同時に、マスク構造体10がマスクチャッ
ク14に押しつけられる。マスクチャック14により、
マスク構造体10を真空吸着する。
【0060】図6(E)に示すように、ピストン23を
後方へ移動させシリンダ22内に収納する。このよう
に、3本のピストン23でマスク構造体10を真空吸着
してマスクチャック14に押し当てることにより、マス
ク構造体10とマスクチャック14の接触面同士を安全
により確実になじませることができる。
【0061】次に、図7を参照して他の実施例によるシ
リンダとピストンの構造について説明する。図7(A)
は、他の実施例によるシリンダとピストンの軸方向に沿
う断面図、図7(B)は、図7(A)の一点鎖線B7−
B7における断面図を示す。シリンダとピストンの構造
以外の部分は、上記実施例と同様の構造である。
【0062】シリンダ22の内面は一定の内径を有する
円筒状形状である。ピストン23は、シリンダ22の内
径よりも小さい外径を有する円柱状形状である。シリン
ダ22の軸方向の中間部に、内径がピストン23の外径
よりもやや大きく外径がシリンダ22の内径よりもやや
小さい円環状の固定リング60が配置されている。固定
リング60の外周面には円周方向に3本の溝が形成さ
れ、この溝のうち両端の溝にシリコーンゴム等の弾性体
からなるOリング61がはめ込まれている。Oリング6
1は、固定リング60の外周面とシリンダ22の内周面
に密着し、固定リング60は、Oリング61により半径
方向に弾性的に支持される。
【0063】また、固定リング60の外周面に形成され
た中央の溝には、シリンダ22に形成されたネジ穴に挿
入された固定ピン62の先端部が係合している。固定リ
ング60は、固定ピン62により軸方向に移動しないよ
うに拘束されている。なお、固定ピン62は、図7
(B)に示すように120度間隔で三方から挿入されて
いる。固定ピン62による拘束はゆるやかなものであ
り、固定リング60は、軸方向にわずかに移動すること
ができ、また軸方向に対してわずかに傾くことができ
る。
【0064】固定リング60の内周面には円周方向に環
状の溝81が形成されている。溝81内の空間は、固定
リング60に60度間隔で対称的に設けられた6本のガ
ス流路81及びシリンダ22に120度間隔で固定ピン
62と交互に設けられた3本のガス流路79を介してシ
リンダ外部と接続されている。
【0065】ピストン23の前方部分に、内径がピスト
ン23の外径よりもやや大きく外径がシリンダ22の内
径よりもやや小さい円環状のピストンリング65がはめ
込まれている。同様に、ピストン23の反対側の端部に
も、ピストンリング66がはめ込まれている。
【0066】ピストンリング65、66が係合する部分
のピストン23の外周面には、円周方向に溝が形成さ
れ、Oリング67、68がはめ込まれて装着されてい
る。ピストンリング65、66は、それぞれOリング6
7、68により半径方向に弾性的に支持されている。O
リング67、68によりピストンリング65、66の内
周面とピストン23の外周面との間を気密にシールして
いる。
【0067】また、ピストンリング65、66は、それ
ぞれピストン23の端部側で外周面の円周方向に形成さ
れた溝にはめ込まれた軸止め輪69、70によって軸方
向外側の位置が固定されている。
【0068】このように、シリンダ22の内周面とピス
トン23の外周面との間には、ピストンリング65と固
定リング60とに挟まれた前段空洞71と、固定リング
60とピストンリング66とに挟まれた後段空洞72が
形成される。
【0069】シリンダ22の側壁には、前段空洞71及
び後段空洞72とシリンダ22の外部とを接続するガス
流路73、74がそれぞれ形成されている。ピストンリ
ング65には、一端が前段空洞71に開口し、他端がピ
ストンリング65とシリンダ22との間隙部に開口する
複数のガス流路75が形成されている。同様に、ピスト
ンリング66には、一端が後段空洞72に開口し、他端
がピストンリング66とシリンダ22との間隙部に開口
する複数のガス流路76が形成されている。
【0070】ピストン23の先端部には、マスク構造体
10を吸着するための吸着パッド78が取り付けられて
いる。ピストン23には、中心軸に沿って一端が吸着パ
ッド78の内面に開口し、他端がピストン23の他方の
端面に開口するガス流路77が形成されている。
【0071】このように構成されたシリンダ、ピストン
構造は、固定リング60、ピストンリング65、66が
それぞれ図4に示すシリンダ及びピストンの絞り部3
2、ピストン前段部34及びピストン後段部35と同様
の機能を果たす。ガス流路79、81は、図4に示すガ
ス流路37と同様の機能を果たす。ガス流路73、7
4、77は、それぞれ図4に示すガス流路42、43、
47に対応する。従って、これらガス流路を図5に示す
ガス系の対応するガス流路に接続することにより、図4
に示すシリンダ、ピストン構造と同様の機能を果たすこ
とができる。
【0072】また、図7に示すピストン、シリンダ構造
においては、ピストンリング65、66とシリンダ22
との間隙、固定リング60とピストン23との間隙の精
度は、部品の単品加工精度によって決まり、組み立て精
度に依存しない。従って、より高精度の微小な間隙を実
現することができる。
【0073】さらに、ピストンリング65、66はピス
トン23に対して、固定リング60はシリンダ22に対
して半径方向に弾性体からなるOリングによって弾性的
に支持されている。このため、半径方向の加工精度、組
み立て誤差を吸収することができる。
【0074】また、摺動部に静圧気体軸受けが形成され
ない場合でも、Oリング61、67、68として適当な
弾性係数を有する材料を選ぶことにより、摺動部の最大
摩擦抵抗を小さくし、摺動によるごみの発生を抑制する
ことができる。
【0075】上記実施例では、シリンダに支持された絞
り部あるいは固定リングの両側に、ピストンに支持され
たピストン前段部、後段部あるいはピストンリングを配
置した場合について説明したが、この位置関係を逆にし
てもよい。例えば、ピストンの中間部に円環状に突出し
た部分を設け、この突出した部分の両側にシリンダから
円環状に内方に突出した絞り部を設けてもよい。また
は、ピストンの中間部にピストンに支持された1つのピ
ストンリングを配置し、このピストンリングの両側にシ
リンダに支持された固定リングを配置してもよい。
【0076】また、上記実施例では、ピストン前段部と
ピストン後段部の外径が等しい場合について説明した
が、異なる径としてもよい。以上実施例に沿って本発明
を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではな
い。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能な
ことは当業者に自明であろう。
【0077】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
X線露光用のマスク等を安全に、かつ確実に露光装置等
の対象物に位置決めして固定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例によるX線露光用マスク構造体
の正面図及び断面図である。
【図2】本発明の実施例によるX線露光用マスク構造体
搬送装置の正面図である。
【図3】本発明の実施例によるマスク移し替え装置の斜
視図である。
【図4】図3に示すマスク移し替え装置のシリンダとピ
ストンの断面図である。
【図5】図3に示すマスク移し替え装置を駆動するため
のガス系統図である。
【図6】マスク構造体をマスク移し替え装置からマスク
チャックへ移し替える方法を説明するためのマスク移し
替え装置及びマスクチャックの部分側面図である。
【図7】図3に示すマスク移し替え装置のシリンダとピ
ストンの他の構成例による断面図である。
【図8】従来例によるマスク移し替え装置の正面図であ
る。
【符号の説明】
1 マスクマーク 1a X線吸収体 2 マスク保持枠 2a 開口 3 マスク支持体 4 X線透過膜 5 X線透過領域 6 位置決め用部材 7 V字状切り欠き 8 L字状切り欠き 10 マスク構造体 11 レール 12 搬送チャック 13 ハンドリングアーム 14 マスクチャック 15、16 位置決めピン 19 マスクストッカ 20 マスク移し替え装置 21 吸着部 22 シリンダ 23 ピストン 24 吸着面 30、31 案内部 32 絞り部 33 パッド収納部 34 ピストン前段部 35 ピストン後段部 36 ピストン中段部 40 前段空洞 41 後段空洞 42、43、44、45、47 ガス流路 46 吸着パッド 50 圧縮空気源 51 バルブ 52、53 圧力制御弁 54 減圧弁 55 流路切り換え弁 56 真空弁 60 固定リング 61、67、68 Oリング 62 固定ピン 65、66 ピストンリング 69、70 軸止め輪 71 前段空洞 72 後段空洞 73、74、75、76、77 ガス流路 78 吸着パッド 100 マスク摺動部 101 ガイド部 102 連結部 103 リニアガイド 104 マスクハンド 105 マスクフレーム 106 マスクステージ 107 Vブロック 108 吸着部

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中心軸に関して回転対称な内部空間を画
    定するシリンダと、 前記内部空間内に挿入され、前記シリンダの内面との間
    に所定の空間を画定するピストンと、 前記所定の空間内に一対の空洞を形成するための、前記
    ピストン及びシリンダのうち一方に支持された第1の手
    段、及び該第1の手段の軸方向の両側に前記ピストン及
    びシリンダのうち他方に支持され、前記ピストンを軸方
    向に摺動可能に支持する第2の手段と、 前記一対の空洞にそれぞれ所定圧力のガスを供給するた
    めのガス供給手段とを含む位置決め装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の手段は、前記一方に径方向に
    柔軟に支持されている請求項1記載の位置決め装置。
  3. 【請求項3】 前記第2の手段は、前記他方に径方向に
    柔軟に支持されている請求項1または2記載の位置決め
    装置。
  4. 【請求項4】 前記第2の手段と前記一方との間には隙
    間が形成されており、 さらに、前記隙間に圧縮ガスを吹きだすためのガス流路
    を含む請求項1〜3のいずれかに記載の位置決め装置。
  5. 【請求項5】 前記ガス流路は、前記一対の空洞に一端
    が開口し、前記隙間に他端が開口するガス流路である請
    求項4記載の位置決め装置。
  6. 【請求項6】 さらに、前記ピストンの一端に設けら
    れ、処理対象物を吸着するための吸着手段を含む請求項
    1〜5のいずれかに記載の位置決め装置。
  7. 【請求項7】 前記吸着手段は、 前記ピストンの前記一端に取り付けられた弾性材料から
    なる吸着パッドと、 前記吸着パッド内に一端が開口し、前記ピストンの反対
    側の端部に他端が開口する他のガス流路とを含んで構成
    される請求項1〜6のいずれかに記載の位置決め装置。
  8. 【請求項8】 前記第1の手段と前記他方との間には他
    の隙間が形成されており、 さらに前記他の隙間から前記シリンダの外部にガスを排
    出するためのガス排出手段を含む請求項1〜7のいずれ
    かに記載の位置決め装置。
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