CN109791369B - 物体保持装置、曝光装置、平板显示器之制造方法、元件制造方法、以及物体保持方法 - Google Patents

Abstract

一种物体保持装置，其中，保持基板(P)的基板保持具部(70)具有：多个夹具部(74)，分别具备保持基板(P)的保持面、以及设于保持面的背面侧的吸附部分与非吸附部分；底座部(72)，吸附夹具部(74)的吸附部分；定盘部(50)；以及管路部(62)，设于定盘部(50)与底座部(72)之间，具有经由夹具部(74)的非吸附部分使气体通过的管路，夹具部(74)，在使用通过非吸附部分的气体保持基板(P)，且解除吸附部分对底座部(72)的吸附后，从所述底座构件卸除第1构件。

Description

物体保持装置、曝光装置、平板显示器之制造方法、元件制造 方法、以及物体保持方法

技术领域

本发明，是关于物体保持装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、元件制造方法、以及物体保持方法，更详言之，是关于保持物体的物体保持装置及方法、具备所述物体保持装置的曝光装置、以及使用所述曝光装置的平板显示器或元件制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等的电子元件(微元件)的微影制程中，使用将形成于光罩或标线片(以下总称为「光罩」)的图案，使用能量束转印至玻璃板或晶圆(以下总称为「基板」)的曝光装置。

此种曝光装置中，已知有一种基板载台装置所具有的基板保持具以例如真空吸附来保持基板的基板保持装置(例如参照专利文献1)。

基板保持装置，被要求以高平面度保持基板。

先行技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0266961号说明书

发明概要

用于解决壳体的手段

本发明在上述情事下所完成，根据第1态样，提供一种物体保持装置，保持物体，其具有：多个第1构件，分别具备保持所述物体的第1保持面、以及设于所述第1保持面的背面侧的彼此不同位置的第1部分及第2部分；第2构件，具备保持所述第1构件的第2保持面，所述第1部分与所述第2部分中的所述第2部分固接于所述第2保持面；底座部；以及管路部，设于所述底座部与所述第2构件之间，具有经由所述第2构件而与所述第1构件的所述第1部分连通并使气体通过的管路；所述第1构件，在使用通过所述第1部分的所述气体保持所述物体，且解除所述第2部分对所述第2保持面的固接后，被从所述第2构件卸除。

根据第2态样，提供一种曝光装置，其具备：本发明的物体保持装置；以及图案形成装置，使用能量束对保持于所述物体保持装置的所述物体形成既定图案。

根据第3态样，提供一种平板显示器的制造方法，其包含：使用本发明的曝光装置使所述基板曝光的动作；以及使曝光后的所述基板显影的动作。

根据第4态样，提供一种元件制造方法，其包含：使用本发明的曝光装置使所述基板曝光的动作；以及使曝光后的所述物体显影的动作。

根据第5态样，提供一种物体保持方法，保持物体，其包含：使用多个第1构件保持所述物体的动作，该多个第1构件，分别具备保持所述物体的第1保持面、以及设于所述第1保持面的背面侧的彼此不同位置的第1部分及第2部分；使用第2构件保持所述第1构件的动作，该第2构件，具备保持所述第1构件的第2保持面，所述第1部分与所述第2部分中的所述第2部分固接于所述第2保持面；以及使用管路部使所述气体通过的动作，该管路部，设于底座部与所述第2构件之间，具有经由所述第2构件而与所述第1构件的所述第1部分连通并使气体通过的管路；使用所述多个第1构件保持所述物体的动作，包含使用通过所述第1部分的所述气体保持所述物体的动作；且包含：解除所述第2部分对所述第2保持面的固接，以从所述第2构件卸除所述第1构件的动作。

附图说明

图1为概略显示一实施形态的液晶曝光装置构成的图。

图2为显示图1的液晶曝光装置所具备的微动载台(省略上面的一部分)的图。

图3为图2的微动载台的分解图。

图4为图2的微动载台的俯视图。

图5为图4的A－A箭视剖面图。

图6为图4的B－B箭视剖面图。

图7为从微动载台去除一部分构件后的俯视图。

图8为用以说明微动载台的组装步骤的图。

图9为微动载台所具备的夹具部的俯视图。

图10为微动载台所具备的管路部及保持具部的剖面图。

图11为从夹具部的背面侧观看的俯视图。

图12为显示微动载台的变形例的一例的图。

图13为图12的微动载台的俯视图。

图14为图12的微动载台的剖面图。

图15为显示夹具部的连结构造的一例的图。

图16为显示夹具部的连结构造的另一例的图。

图17为显示夹具部的悬浮防止构造的一例的图。

图18为显示夹具部的悬浮防止构造的另一例的图。

图19为显示对微动载台的研磨加工的图。

图20为用以说明夹具部的交换步骤的图(其1)。

图21为用以说明夹具部的交换步骤的图(其2)。

图22为用以说明夹具部的交换步骤的图(其3)。

图23为用以说明夹具部的交换步骤的图(其4)。

图24为显示交换用夹具部的背面的图。

图25为用以说明夹具部的交换步骤的另一例(其1)的图。

图26为在图25的交换步骤所使用的夹具部的俯视图。

图27为用以说明夹具部的交换步骤的另一例(其2)的图。

图28为显示在图27的交换步骤所使用的夹具部的背面的图。

图29为显示夹具部的变形例的图。

图30为用以说明相邻的夹具部彼此的冲撞防止构造的图。

具体实施方式

以下，使用图1～图30说明一实施形态。

在图1概略显示有一实施形态的曝光装置(此处为液晶曝光装置10)的构成。液晶曝光装置10，以物体(此处为玻璃基板P)作为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、即所谓扫描机。玻璃基板P(以下单称为“基板P”)形成为俯视矩形(角型)，用于液晶显示设备(平板显示器)等。

液晶曝光装置10具有照明系12、投影光学系14、保持在表面(图1中为朝向+Z侧的面)涂布有抗蚀剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20、以及此等的控制系等。以下，将在曝光时光罩M与基板P相对投影光学系14分别被扫描的方向作为第1方向(此处为X轴方向)、将在水平面内与X轴正交的方向作为第2方向(此处为Y轴方向)、将与X轴及Y轴正交的方向作为Z轴方向(与投影光学系14的光轴方向平行的方向)，将绕X轴、Y轴、及Z轴的旋转方向分别作为θx、θy、以及θz方向来说明。又，将在X轴、Y轴、以及Z轴方向的位置分别作为X位置、Y位置、以及Z位置来进行说明。

照明系12，具有与例如美国专利第5,729,331号说明书等所公开的照明系相同构成，将曝光用照明光(照明光)IL照射于光罩M。照明光IL，使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或上述i线、g线、h线的合成光)。

使用透射型的光罩来作为光罩M。在光罩M的下面(图1中为朝向－Z侧的面)形成有既定电路图案。光罩M，借由未图标的光罩载台装置被往扫描方向(X轴方向)以既定长行程驱动。

投影光学系14配置在光罩M的下方。投影光学系14具有与例如美国专利第6,552,775号说明书等所公开的投影光学系相同构成，为所谓的多透镜投影光学系，具备例如两侧远心的等倍系且形成正立正像的多个透镜模块。

在液晶曝光装置10，当以来自照明系12的照明光IL照明光罩M上的照明区域时，借由通过(透射)光罩M的照明光IL，经由投影光学系14将照明区域内的光罩M的电路图案的投影像(部分正立像)，形成于基板P上与照明区域共轭的照明光的照射区域(曝光区域)。接着，借由光罩M相对照明区域(照明光IL)在扫描方向相对移动且基板P相对曝光区域(照明光IL)在扫描方向相对移动，据以进行基板P上的1个照射(shot)区域的扫描曝光，在该照射区域转印形成在光罩M的图案。

基板载台装置20，用以使基板P相对投影光学系14(照明光IL)以高精度进行位置控制的装置，将基板P沿着水平面(X轴方向及Y轴方向)以既定长行程驱动，且微幅驱动于6自由度方向。用在液晶曝光装置10的基板载台装置(除了微动载台22以外)的构成并未特别限定，但本实施形态中，作为一例使用如美国专利申请公开第2012/0057140号说明书等所公开的、包含门型(gantry)的二维粗动载台与相对该二维粗动载台被微幅驱动的微动载台的所谓粗微动构成的基板载台装置20。

基板载台装置20具备微动载台22、Y粗动载台24、X粗动载台26、自重支承装置28等。

微动载台22，整体形成为俯视矩形(参照图2)的板状(或为箱形)，在其上面(基板载置面)载置基板P。微动载台22的上面的X轴及Y轴方向的尺寸设定为与基板P相同程度(实际上短些许)。基板P，借由在载置在微动载台22上面的状态下被微动载台22真空吸附保持，使大致整体(全面)沿着微动载台22的上面被平面矫正。是以，本实施形态的微动载台22，亦能称为是与以往基板载台装置所具备的基板保持具相同功能的构件。关于微动载台22的详细构成，留待后述。

Y粗动载台24配置于微动载台22的下方(－Z侧)。Y粗动载台24具有一对X柱30a。X柱30a由延伸于X轴方向之YZ剖面矩形的构件所构成。一对X柱30a，在Y轴方向以既定间隔平行配置。包含一对X柱30a在内，Y粗动载台24被未图示的Y致动器往Y轴方向以既定长行程驱动。

X粗动载台26，配置于Y粗动载台24的上方(+Z侧)且为微动载台22的下方(微动载台22与Y粗动载台24之间)处。X粗动载台26为俯视矩形的板状构件，经由多个机械式线性导引装置30b载置于一对X柱30a上。X粗动载台26，相对于Y粗动载台24可在X轴方向移动自如，而在Y轴方向则与Y粗动载台24一体地移动。X粗动载台26，相对于Y粗动载台24，被多个X致动器30c往X轴方向以既定长行程驱动。此外，图1中，作为X致动器30c虽图标有线性马达，但X致动器的种类并不特别限定。用以驱动Y粗动载台24的Y致动器的种类也同样地不特别限定。

在X粗动载台26的上面安装有Y固定件32a。Y固定件32a，与安装于微动载台22侧面的Y可动件32b一起构成用以对微动载台22赋予Y轴方向推力的Y线性马达(本实施形态中为音圈马达)。基板载台装置20中，Y线性马达在X轴方向分离而配置有多个。此外虽未图标，但基板载台装置20亦具有多个用以对微动载台22赋予X轴方向推力的X线性马达。X线性马达的构成，除了配置不同以外，其他均与Y线性马达相同。亦即，在X粗动载台26的上面安装有X固定件，在微动载台22的侧面安装有X可动件。

未图标的主控制装置，在X粗动载台26移动于X轴及/或Y轴方向时，以微动载台22与X粗动载台26的相对位置在既定范围内的方式，使用上述多个X、Y线性马达对微动载台22赋予水平面内3自由度方向(X轴、Y轴、θz的各方向)的推力，且使用上述多个X、Y线性马达将微动载台22相对于X粗动载台26往水平面内3自由度方向微幅驱动。微动载台22的水平面内3自由度方向的位置信息，使用经由镜座34a而固定于微动载台22的杆反射镜34b，借由未图标的激光干涉仪求出。此外，图1中虽仅图示延伸于X轴方向的Y杆反射镜，但实际上，在微动载台22的－Y侧侧面固定有Y杆反射镜，在微动载台22之－X侧侧面固定有延伸于Y轴方向的X杆反射镜。关于使用激光干涉仪的测量系统，由于已公开于例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书等，因此省略说明。此外，微动载台22在水平面内3自由度方向的位置信息，也可非使用干涉仪而使用具有读头与标尺的编码器系统来求出。

在X粗动载台26的上面安装有Z固定件36a。Z固定件36a，与安装于微动载台22下面的Z可动件36b一起构成用以对微动载台22赋予Z轴方向的推力的Z线性马达(本实施形态中为音圈马达)。基板载台装置20中，Z线性马达至少配置于不在同一直在线的三处。未图标的主控制装置，使用多个Z线性马达将微动载台22相对X粗动载台26往Z倾斜方向(Z轴、θx、θy的各方向)微幅驱动。微动载台22之Z倾斜方向的位置信息，借由安装于微动载台22下面的Z传感器38a，使用安装于自重支承装置28的标的物(target)38b而求出。基板载台装置20中，Z传感器38a(及对应之标的物38b)至少配置于不在同一直在线的三处。关于使用了多个Z传感器38a的测量系统，由于已公开于例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书等，因此省略说明。

自重支承装置28具备从下方支承微动载台22的自重的重量消除装置40a与从下方支承该重量消除装置40a的Y步进导件42a。

重量消除装置40a，被插入形成于X粗动载台26的开口部。重量消除装置40a，经由多个连结构件40b以机械方式连接于X粗动载台26，与X粗动载台26一体地移动于X轴、及/或Y轴方向。重量消除装置40a，经由调平装置44从下方以非接触方式支承微动载台22的自重。借此，微动载台22相对于重量消除装置40a的往X轴、Y轴、及θz方向的相对移动、以及相对于水平面的摆动(往θx、θy方向的相对移动)被容许。关于重量消除装置40a的构成及功能，由于已公开于例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书等，因此省略说明。

Y步进导件42a由与X轴平行延伸的构件所构成，配置于一对X柱30a间。重量消除装置40a，经由空气轴承40c载置于Y步进导件42a上。Y步进导件42a，经由机械式线性导引装置42b载置于架台16上，可相对架台16在Y轴方向移动自如，相对于此，在X轴方向的相对移动则被限制。架台16，支承上述投影光学系14等的构件的一部分，与Y粗动载台24、X粗动载台26在振动上分离。Y步进导件42a，经由多个连结构件42c以机械方式连接于一对X柱30a。Y步进导件42a，借由被Y粗动载台24牵引而与Y粗动载台24一体地移动于Y轴方向。

其次，说明微动载台22的构成。如图2所示，微动载台22具备定盘部50、管路部60、底座部72、及夹具部74。定盘部50形成为俯视矩形的箱状，管路部60及保持具部70分别形成为俯视矩形的板状。微动载台22，在定盘部50上配置(积层)有管路部60，在管路部60上配置(积层)有底座部72，进而在底座部72上配置(积层)有夹具部74，借此整体上成为四层构造。

定盘部50、管路部60、底座部72、及夹具部74各自在长度及宽度方向(X轴及Y轴方向)的尺寸设定为大致相同，相对于此，定盘部50在厚度方向(Z轴方向)的尺寸，则设定为较管路部60、底座部72、及夹具部74大(厚)。将定盘部50、管路部60、及底座部72相加后的在厚度方向(Z轴方向)的尺寸，设定为较夹具部74大(厚)。又，将定盘部50、管路部60、及底座部72相加后的重量较夹具部74重、具有例如2.5倍左右的重量。

最下层的定盘部50作为微动载台22底座的部分。定盘部50如图3所示，具备下面部52、上面部54、外壁部56、以及蜂巢构造体58。下面部52及上面部54，分别为借由CFRP(carbon-fiber-reinforced plastic)形成的俯视矩形的板状构件。外壁部56为俯视矩形的框状构件，由铝合金或CFRP形成。在外壁部56的内部充填有蜂巢构造体58。蜂巢构造体58由铝合金形成。此外，图3中，从避免图式复杂的观点来看，蜂巢构造体仅图示有一部分，但实际上，蜂巢构造体58大致无间隙地配置于外壁部56内部(参照图5及图6)。

蜂巢构造体58充填于内部的外壁部56，在上面接着有上面部54，且于下面接着有下面部52。借此，定盘部50做成所谓三明治构造，其轻量且高刚性(特别是在厚度方向具高刚性)，制作亦容易。此外，形成构成定盘部50的各要素的材料，不限于上述说明者，能适当变更。又，下面部52、上面部54、及外壁部56的连结构造也不限于接着。

在下面部52的中央部形成有开口52a。在蜂巢构造体58中对应于开口52a的部分形成有凹部(凹陷)(参照图5及图6)，在该凹部嵌入有上述的调平装置44。此处，调平装置44，只要具有将微动载台22支承为可相对水平面(往θx及θy方向)摆动自如的功能，则其构成并不特别限定。是以，图1中虽图标有球面轴承装置，但作为调平装置44并不限于此，也可如图5及图6所示的弹性铰链装置，也可如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书等所公开的拟似球面轴承装置。

管路部60具备延伸于Y轴方向的多个管62，在X轴方向排列配置有多个管62。管62在长度方向(Y轴方向)的尺寸，设定为与定盘部50在Y轴方向的尺寸大略相同。此外，管62的支数并不特别限定，可视微动载台22所要求的所欲性能适当变更。图6等中，为了使微动载台22的构成及功能的理解更为容易，管62的支数图示为较实际少。又，管62的XZ剖面的剖面形状也不特别限定。图6等中，虽使用XZ剖面矩形的所谓角管作为管62，但不限于此，也可使用如图12所示的所谓圆管。在使用圆管的情形，可加工成该圆管的外周面上面与下面彼此平行(加工成与长度方向正交的剖面为桶形)。本实施形态中，管62虽借由CFRP形成，但管62的材料也不特别限定，能适当变更。在不使用CFRP作为管62的材料的情形，较佳为使用膨张系数与CFRP不同的构件。又，虽说明多个管62延伸于Y轴方向且在X轴方向排列配置，但不限于此，也可延伸于X轴方向且在Y轴方向排列配置。

底座部72，如图3所示为俯视矩形的薄板状构件，由石材或陶瓷等形成。此外，底座部72的材料虽不特别限定，但较佳为硬度优异且容易高精度加工的材料。微动载台22中，多片底座部72载置于构成管路部60的多个管62上。各底座部72，以彼此密接(以能忽视间隙之程度接触)的状态铺满于管路部60，对多个管62借由接着剂予以固定。

各底座部72的各个，加工成表面(与对管62的接着面相反侧的面)的平面度非常高(研磨加工等)。又，多个底座部72，以铺满于管路部60上的状态，将各自的表面高度位置调整成可实质上忽视各底座部72间的段差的程度。此外，只要在管路部60上方，能形成与基板P(参照图1)具有同等面积的平面，则各底座部72的大小(面积)也可如图3所示具有共通的大小，也可如图7所示，混合有尺寸不同的底座部72。又，底座部72的总片数也不特别限定，也可借由一片底座部72构成。此外，虽说明了底座部72平面度加工成非常高，但不限于此。在一个或一部分的底座部72较其他底座部72低的情形，也可是底座部72的一部分缺口或具有凹陷。虽在下文将会说明，但在夹具部74载置于底座部72上时只要有平面度即可，较夹具部74大小还小的缺口或凹陷亦可位于底座部72。

上述各底座部72间的表面高度位置调整，可借由研磨加工等进行。此情形下，研磨加工较佳为在于微动载台22安装有各种附属物(杆反射镜34b、可动件32b,36b、多个夹具部74)的状态下成为所欲精度的方式考虑挠曲后进行。又，如图10所示，底座部72的上面中的端部附近被施以去角加工，在将多个底座部72铺满的状态下，在相邻的底座部72间形成有V字槽。在该V字槽充填有填缝材72a，能防止研磨加工时的水分等渗入于相邻的底座部72间。

返回图3，夹具部74为载置基板P(参照图1)的部分。夹具部74与管路部60及底座部72协同动作来吸附保持基板P。夹具部74为俯视矩形的薄板状构件，由陶瓷等形成。借由将夹具部74以陶瓷形成，能抑制来自基板P的静电的发生。此外，夹具部74的材料虽无特别限定，但较佳为轻量且容易高精度加工的材料。借由使用轻量的材料作为底座部72的材料，能防止底座部及/或管路部60的变形。夹具部74的厚度(例如8mm)设定为较底座部的厚度(例如12mm)薄。微动载台22中，在借由铺满了多个底座部72而形成的平面上，铺满有多片夹具部74(图2及图3中省略一部分图示)。夹具部74，被对应的(该夹具部74下方的)底座部72吸附保持。关于用以使夹具部74吸附保持于底座部72的构造(夹具部74的吸附保持构造)，在后文中说明。

一个(一片)夹具部74，面积设定为较一个(一片)底座部72小。图3所示的例中，虽显示在一片底座部72上载置两片夹具部74的情形，但在一片底座部72上所载置的夹具部74的片数并无特别限定。又，一片夹具部74的面积也不限于上述，也可具有与一片底座部72相同的面积，亦可具有较一片底座部72大的面积。接着，在相同面积的情形，也可于一片底座部72载置一片夹具部74，在夹具部74的面积较大的情形，也可以多片底座部72支承一片夹具部74。此外，也可将底座部72与夹具部74合称为保持具部70。此情形下，保持具部70为底座部72(下层)与夹具部74(上层)的两层构造。如上所述，微动载台22虽为定盘部50、管路部60、底座部72、夹具部74的四层构造，但也能为由定盘部50、管路部60、及保持具部70所构成的三层构造。

微动载台22中，借由载置于多片底座部72上的(铺满的)多片夹具部74形成基板载置面。各夹具部74，被高精度加工成厚度实质相同。是以，借由多片夹具部74形成的微动载台22的基板载置面，循着借由多个底座部72形成的平面，以高平面度形成。夹具部74，可交换/分离地载置于底座部72上。又，夹具部74，为对定盘部50及/或管路部60可交换/分离地载置。

其次说明夹具部74的构成。微动载台22是所谓销夹具型的保持具，在各夹具部74上面，如图9所示形成有多个销74a及周壁部74b。多个销74a以大致均等的间隔配置。由于销夹具型保持具中的销74a的径非常小(例如直径1mm程度)，且周壁部74b的宽度亦细，因此能减低在基板P的背面夹入杂质或异物而支承的可能性，因该异物的夹入导致的基板P变形的可能性也能减低。此外，销74a的支数及配置并不特别限定，能适当变更。周壁部74b形成为包围夹具部74上面的外周。多个销74a与周壁部74b设定为前端的高度位置(Z位置)相同。又，在夹具部74的上面，为了抑制照明光IL(参照图1)的反射，以表面成为黑色的方式施有皮膜处理、陶瓷熔射等各种表面加工。

微动载台22中，借由在基板P(分别参照图1)载置于多个销74a及周壁部74b上的状态下对周壁部74b所包围的空间供应真空吸引力(将空间内的空气真空吸引)，基板P即被吸附保持于夹具部74。基板P，循着多个销74a及周壁部74b的前端部被平面矫正。关于用以使夹具部74吸附保持基板P的构造(基板P的吸附保持构造)，将在后文说明。

又，微动载台22，能借由在基板P(参照图1)载置于多个销74a及周壁部74b上的状态下，对周壁部74b所包围的空间供应加压气体(压缩空气等)，而解除基板载置面上的该基板P的吸附。关于为了使基板载置面上的基板P的吸附解除、换言之为了使基板载置面上的基板P悬浮的构造(基板P的悬浮支承构造)，将在后文说明。

又，在夹具部74下面，也如图11所示形成有多个销74c、74d及周壁部74e。亦即夹具部74的下面也为销夹具构造。夹具部74，在载置于底座部72上的状态下，多个销74c、74d及周壁部74e的前端部接触于底座部72的上面。多个销74c、74d以大致均等间隔配置。销74d设定为径方向尺寸较销74c大(粗)，对底座部72(参照图10)的接触面积较销74c宽广。在销74d大致中央分别设有贯通孔74f、74g。此等贯通孔74f、74g构成为分别贯通夹具部74，且连通于与设于底座部72的吸引用管62b连通的贯通孔72b、以及与排气用管62c的贯通孔连通的底座部72的贯通孔。贯通孔74f用以吸引空气的孔，借由经由贯通孔74f真空吸引形成于夹具部74上面的销夹具与基板P所形成的空间(空气)，以吸附保持基板P。贯通孔74g用以排出(吹出)空气的压空排气孔，构成为径(开口径)较贯通孔74f小，在解除吸附于夹具部74上面的基板P的吸附时，经由贯通孔74g对基板P喷吹具有用以使基板P悬浮的喷流的空气。

此外，销74c,、74d的支数及配置并不特别限定，能适当变更。多个销74a与多个销74c、74d在XY方向的位置也可为相同，也可配置于不同的位置。周壁部74e形成为包围夹具部74下面的外周。多个销74c,74d与周壁部74e，前端的高度位置(Z位置)设定为相同。微动载台22中，在夹具部74载置于底座部72上的状态下，借由对周壁部74e所包围的空间供应真空吸引力，夹具部74被吸附保持于底座部72。亦即在夹具部74的下面(背面)侧，经由被底座部72、夹具部74的周壁部74e、销74c、及销74d所包围的空间(被真空吸引的空间)，将夹具部74固接于底座部72。另一方面，如上所述，夹具部74下面的贯通孔74f,、74g，由于配置成连通于底座部72的贯通孔，因此非固接于底座部72。

此处，所谓本实施形态中的夹具部74对底座部72的固接，如上述的真空吸附般，在对夹具部74下面的一部分(上述空间)作用吸附力的期间，不从底座部72剥离(不产生Z方向的位置偏移)，且维持不产生相对底座部72的相对位置偏移(在X、Y方向的位置偏移)的状态。再者，只要解除此真空吸附而无对夹具部74的上述吸附力的作用，也能从底座部72使夹具部74脱离(卸除)。此外，虽说明循着由多个底座部72形成的平面载置夹具部74，但也可不是平面。只要借由多个底座部72形成的面与夹具部74的下面的形状实质上相同，多个底座部72也可不是平面而为曲面。

此处，微动载台22，具有用以防止多个夹具部74从底座部72悬浮的各种机构。在图4～图6所示之例中，在夹具部74的+Y侧的端部形成有平板状的凸部76，且于－Y侧端部形成有与凸部76对应的凹部(因与凸部76重叠故未图示)。相邻的夹具部74，借由使凸部76与对应的凹部嵌合而机械式地连结。又，沿微动载台22外周配置的夹具部74，借由连结构件78而机械式地连结于底座部72。此外，各夹具部74，也可连结于定盘部50或管路部60(参照图12)。连结构件78，可设于底座部72、定盘部50、或者管路部60之例如+X侧且+Y侧的角，并使用另一构件，从－X侧与－Y侧将夹具部74对连结构件78按压以使之连结。

又，图12～图14所示的连结构造之例中，在夹具部74的+Y侧及－Y侧端部分别形成有凹部176，在对向的一对凹部176内插入带状的构件178(带构件178)。带构件178连结于定盘部50(亦可为底座部72或管路部60)，借此，防止夹具部74从底座部72悬浮。

此外，夹具部74的连结构造及悬浮防止构造能适当变更。凸部76与对应该凸部76的凹部虽设于夹具部74的Y侧端部，但也可设于X侧端部，也可设于Y侧与X侧的两端部。图15所示之例中，在夹具部74及在Y轴方向的两端部形成有凹部276(榫眼)，作为与夹具部74的本体部分不同零件而准备的榫278，借由接着剂组装于该凹部276。此例中，由于在成型时无突出于夹具部74的本体部分表面，因此能以所欲外形尺寸高精度地加工。又，只要榫278非为脆性材料，则也不易产生缺口。

又，图16所示之例中，在夹具部74的下面侧埋入有磁铁374。此情形下，借由将底座部72以磁性材料形成，能防止夹具部74的悬浮、脱落等。在此情形，也可不使各夹具部74连结。为了更确实防止夹具部74的悬浮、脱落等，也可使各夹具部74连结。又，也可借由夹具部74的磁铁374进行对底座部72的暂时固定，进而将夹具部74吸附保持于底座部72。

又，图12～图14所示之例中，虽借由带状的带构件178使各夹具部74连结于定盘部50，但亦可如图17所示，取代带构件178改借由钢绳476连结各夹具部74。又，也可如图18所示，取代上述带构件178(参照图13)、钢绳476(参照图17)，将一支棒材576插入相邻的夹具部74间的构造。此情形下，形成于夹具部74在Y轴方向的端部的凹部578，可以一支棒材576跨一对夹具部74的方式形成为剖面三角形。

其次，分别使用图7等，说明上述微动载台22中的夹具部74的吸附保持构造、基板P的吸附保持构造、以及基板P的悬浮支承构造。如上所述，微动载台22的管路部60由多个管62构成。如图7所示，于多个管62，包含用以供应吸附夹具部74的真空吸引力的吸引用管62a、用以供应吸附基板P的真空吸引力的吸引用管62b、用以供应使基板P悬浮的加压气体的排气用管62c、以及配置于上述管62a～62c间的间隙的管62d。管62d非供应真空吸引力或加压气体，而专用以发挥与各管62a～62c一起支承多个底座部72的构件的功能。此外，图7虽显示在五支一组的管62(管62a为两支，管62b为一支，管62c为两支)上经由底座部72载置夹具部74之例(与一片夹具部74对应地配置五支一组的管62之例)，但各管62a～62c的支数、组合、配置等不限于此，能适当变更。又，也可不分别设置吸引用管62b与排气用管62c，也可设置兼用各自的功能的兼用管62e。

如图10所示，在基板吸引用的管62b的长度方向的一端(本实施形态中为－Y侧的端部)嵌入有插塞64。又，在管62b的长度方向的另一端嵌入有附接头的插塞66(以下，单称为“接头66”)。经由未图示的管路构件(管等)从微动载台22外部对接头66供应(管62b内部成为真空状态)真空吸引力(参照图10的黑箭头)。在设有兼用管62e的情形，也可切换真空吸引力与加压气体来供应。

在管62b的上面形成有多个贯通孔68。又，在保持具部70的底座部72，在载置于管62b上的状态下与贯通孔68在XY平面内的位置大致相同的位置形成有贯通孔72b。进而，在保持具部70的夹具部74，在载置于底座部72上的状态下与贯通孔68、72b在XY平面内的位置大致相同的位置形成有贯通孔74f。贯通孔68、72b、74f为连通，在对管62b内供应真空吸引力后，经由上述贯通孔68、72b、74f对夹具部74上面中周壁部74b(参照图9)所包围的空间供应真空吸引力。借此，微动载台22吸附保持载置于夹具部74上的基板P(参照图1)。

此外，也可视微动载台内的位置，变更对贯通孔68、72b、74f供应的真空吸引力的强度。借由增强对配置于微动载台22中央部的贯通孔68、72b、74f的真空吸引力的强度，能消除在基板P中央部产生的空气滞留。又，也可在空气滞留已消除时，减弱真空吸引力的强度。又，也可使对配置于微动载台22中央部的贯通孔68、72b、74f供应的真空吸引力，较配置于微动载台22周边部的贯通孔68、72b、74f快，亦即赋予时间差来供应。此处，如图11所示，贯通孔74f形成为贯通销74d(粗销)，来自管62b的真空吸引力不供应至夹具部74的下面侧。

此外，图9中，虽显示在夹具部74形成有两个贯通孔74f之例，但贯通孔74f(对应的贯通孔68、72b也相同)的数量及配置不限于此，能适当变更。此外，贯通孔68、72b,、74f的直径也可分别不同。也可使位于较下方的贯通孔的直径增大、亦即使贯通孔68的直径较贯通孔74f的直径大，或与此相反地，使位于较上方的贯通孔的直径增大、亦即使贯通孔74f的直径较贯通孔68的直径大。借此，在积层(载置)夹具部74、底座部72、管62b时的位置对齐变得容易。又，贯通孔68、72b、74f的直径，也可设成越接近微动载台的中央附近的贯通孔68、72b、74f越大。又，贯通孔68、72b、74f的直径，也可在Y轴方向越接近插塞64越大。

夹具部74的吸附保持构造，与上述基板P的吸附保持构造大致相同构成。亦即，在夹具部吸引用的管62a的两端部分别嵌入有插塞64与接头66，经由接头66从微动载台22外部对管62a内供应真空吸引力。在管62a的上面形成有贯通孔(参照图7)，经由形成于该贯通孔与底座部72的贯通孔(参照图7)，对夹具部74下面中周壁部74e(参照图11)所包围的空间供应真空吸引力。图11中的符号D，显示与形成于底座部72的贯通孔对应的区域，可知真空吸引力被供应至与销74c、74d不重叠的位置。

上述实施形态中，作为对夹具部74对底座部72固接的方法(构成)，说明了真空吸附的方法(构成)，但固接夹具部74的方法不限于吸附。例如，也可借由将夹具部74的背面的一部分以接着材接着于底座部72，而将夹具部42固接于底座部72。此情形下，接着夹具部74与底座部72的接着剂所被要求的性能，两者亦剥离且不易偏移。接着剂硬化时会变得非常硬而膨张，且被要求接着剂不会将夹具部74从底座部72顶起、亦即不产生段差。由于借由夹具部74背面与底座部72紧贴来决定夹具部42上面的平面度，因此接着剂较佳为使用在硬化前会以糊状进入夹具部42背面的槽部但硬化后具有弹力性的橡胶状之物，例如使用湿气硬化型的能剥离的变形硅系密封材料等。

又，作为将夹具部74固接于底座部72的方法，也可兼用上述真空吸附的方法与接着的方法。

此外，由于从对夹具部74涂布有接着材的位置无法进行空气的进出，因此在夹具部74背面涂布接着剂时，涂布于不阻塞用以吸附保持基板P的空气的流路及吸引孔的位置。

又，也可在夹具部74内部内藏磁铁，且借由磁性材料形成底座部72(参照图2等)，并借由此磁铁的磁力将夹具部474固接于底座部72。

又，虽也可考虑使磁铁与磁性材料的关系反转，将夹具部74以磁性材料形成，并在底座部72设置磁铁的构成，但在此时，若磁性材料为例如金属，则由于在夹具部74表面易产生静电，因此必须进行静电措施(利用除电装置)。又，也必须进行因曝光用光的照射热或从载台传递的热等的热措施、温度管理(利用冷却用气体)。

此外，在装置的运搬时或组装时等，无法将夹具部74吸附保持(真空吸附)于底座部72的情形，也可使用上述接着剂或磁铁等使夹具部74不从底座部72偏离(脱离)。

基板P的悬浮支承构造，也与上述基板P的吸附保持构造大致相同地构成。亦即，在对基板悬浮用的管62c供应加压气体后，即经由形成于该管62c的贯通孔、分别连通于该贯通孔的底座部72的贯通孔、以及夹具部74的贯通孔74g(参照图9)，对周壁部74b内供应加压气体。借此，微动载台22，能从下方使载置于夹具部74上的基板P(参照图1)悬浮。如以上所述，借由管路部60、底座部72、夹具部74，吸附保持基板P并沿着基板载置面予以平面矫正。亦即，也可以说是借由管路部60、底座部72、夹具部74的三层构造而具有基板保持具的功能。

此外，微动载台22也可具有使用机械构件使基板P从夹具部74悬浮的悬浮销。悬浮销具有抵接基板P之面，借由支承该面的棒状构件构成。以悬浮销之面与夹具部74的上面形成基板载置面。又，悬浮销借由配置于各夹具部74间而亦发挥夹具部74的悬浮防止构造的功能。此外，悬浮销的数量或配置无特别限定。

此外，虽说明了管路部60为具备多个管62的构成，但亦可借由在一片或多个板状构件设置槽，并以定盘部50及/或底座部72覆盖该槽，据以形成加压气体(压缩空气等)流动的流路或形成供应真空吸引力(真空吸引空间内的空气)的流路。

以上述方式构成的液晶曝光装置10(参照图1)中，在未图标的主控制装置的管理下，借由未图示的板装载器，对微动载台22上进行基板P的装载，且使用未图示的对准检测系执行对准测量，在该对准测量结束后，对设定于基板P上的多个照射区域逐次进行步进扫描方式的曝光动作。此曝光动作由于与以往以来进行的步进扫描方式的曝光动作相同，因此其详细说明省略。

在上述对准测量时及扫描曝光时，微动载台22吸附保持基板P。又，在曝光对象的基板P载置于基板载置面上前的预对准动作时、或者在将曝光完毕的基板P搬出至外部装置时等，微动载台22对基板P的下面喷出加压气体，而从基板载置面上解除基板P的吸附。

根据以上说明的本实施形态的微动载台22(基板保持具)，由于将多个夹具部74以砖瓦状铺满于借由多个底座部72形成的平面上据以形成基板载置面(基板保持面)，因此仅将各夹具部74的厚度以良好精度加工，即能容易地确保基板载置面的平面度。又，由于夹具部74较基板P尺寸小，因此可容易地以高精度并以良好平面度进行加工。又，作为夹具部74虽为轻量且高刚性，但使用难以大型化的陶瓷材料较为容易。

又，基板载台装置20中，微动载台22的交换，并不需要交换基板载置部整体，仅交换所欲夹具部74即可，因此効率佳。

又，由于将各夹具部74经由真空吸附固定于底座部72，因此能使吸附力均等地作用于夹具部74。是以，能抑制夹具部74的变形。

又，微动载台22中，由于最下层的定盘部50由蜂巢构造体形成，因此轻量且刚性高，能将基板P以良好平面度加以保持。

又，微动载台22，由于在定盘部50与底座部72之间配置(插入)有管路部60，因此相较于将管路构件另外连接于保持具部70的情形，包含底座部72及夹具部74的配置(也含交换)在内的微动载台22的组装容易。

此外，微动载台22，虽说明了其是定盘部50、管路部60、底座部72、夹具部74的四层构造，但在管路部60的上面能形成与底座部72上面同等的平面度的情形时，也可不将底座部72积层于管路部60上。此情形，也可称微动载台22为定盘部50、管路部60，夹具部74的三层构造。

其次，说明微动载台22的组装步骤及夹具部74的交换方法。微动载台22，作为一例为在定盘部50上载置管路部60后在管路部60上载置保持具部70，借此来组装。如上所述，保持具部70，借由铺满多个底座部72而形成有平面度高的平面，并借由在该平面上铺满多个夹具部74而形成。

此处，多个夹具部74虽分别被高精度加工成厚度均一，但由于夹具部74的片数多，因此可能难以使所有夹具部74的厚度严谨地均一。

因此，如图19所示，在借由多个底座部72形成的平面上铺满多个夹具部74后，对借由该多个夹具部74形成的面(基板载置面)施以研磨加工，据以将基板载置面加工成高精度(平面度)的平面。此外，本实施形态中，由于加工对象物为大型的微动载台22，因此研磨加工藉由手动使研磨工具98对加工对象物移动的手工研磨。借此，无须严谨地管理多个夹具部74个别的厚度，即能制造具有平面度非常高的基板载置面的微动载台22。此外，较佳为以手工研磨时使用的水分不渗透至夹具部74下方的方式，如上所述使用填缝材(参照图10)等对相邻的底座部72间的接缝进行防水加工。又，图19中，虽显示在各夹具部74对底座部72被真空吸附保持的状态下进行研磨加工的情形，但该吸附保持也可不一定要进行。

又，由于在夹具部74形成有与基板P接触的多个小径的销74a，因此可能会产生该销74a的破损或表面加工(皮膜等)的缺损等。如上所述，本实施形态中，由于能仅将产生该缺损的夹具部74作重点交换，因此虽効率佳，但可能在交换后所安装的夹具部74与其他(已设置)的夹具部74之间产生微幅的段差。

图20所示之例中，交换用的夹具部174，形成为较已设置的夹具部74薄。在夹具部174的下面，沿着外周(周壁部74e前端)涂布有接着剂。又，接着剂，涂布成包围形成在夹具部174的气体供应用及真空吸引用的孔部。如图24所示，周壁部74e的前端及形成于销74d的孔部的周围，形成有槽，在该槽涂布接着剂。接着剂，较佳为接触空气后会硬化，且硬化后易于剥离之物。此外，接着剂涂布用的槽也可形成于底座部72。

如图21所示，夹具部174由于较其他夹具部74薄，因此在夹具部174与夹具部74之间形成段差。因此，在与交换用夹具部174相邻的一对夹具部74间，架设借由陶瓷形成的板98。此板98，只要为实质的刚体，则也可为陶瓷以外的材料。夹具部174由于较夹具部74薄，因此在夹具部174的上面与板98的下面之间形成间隙。

其次，如图22所示，从配置于夹具部174下方的底座部72供应压缩空气。该流路，在底座部72中沿着管62的长度方向(此处为Y轴方向)形成有多个，其一部分的上面侧形成为较细。又，如图24所示，在交换用的夹具部174的下面，与销74c同样地形成有往下方突出的座面74h，上述压缩空气对座面74h的前端喷出。借此，如图22所示，夹具部174借由压缩空气的静压而悬浮于底座部72上，紧贴于板98的下面。在此状态下经过既定时间后，接着剂即硬化。接着剂，在硬化后发挥周壁部74e的一部分、以及气体供应用及气体吸引用的管路的功能。

又，如图23所示，在卸除架设于一对夹具部74间的板98后，夹具部174表面的高度位置，成为与其他夹具部74的表面的高度位置实质上一致的状态。借此，确保由多个夹具部74与交换用夹具部174形成的基板载置面整体的平面度。根据以上说明的夹具部74的交换方向，可在不从基板载台装置20卸除微动载台22的情形下容易地仅交换所欲夹具部74(基板载置面的一部分)。

此外，交换用夹具部174的定位及固定步骤并不限于此。图26所示之例中，在形成于夹具部174的真空吸引用的贯通孔74f(参照图9)，安装有能从上方容易地卸除的插塞94。又，为了将基板P悬浮支承而喷出加压气体的管路，形成于较其他销74a粗些许的销74i的内部，在该销74i的前端部，有加压气体喷出用的孔部74g开口。此情形下，如图25所示，在板98连接有真空吸附用的接头98a，交换用夹具部174，借由从上面侧被真空吸引，而使其他夹具部74与上面的高度位置一致。插塞94在上述接着剂硬化后被卸除。根据本例，与上述之例(参照图24等)不同地，不需对底座部72及夹具部174的背面施加气流用之加工。

又，图27及图28所示之例中，在交换用夹具部174形成有多个在厚度方向贯通的螺孔，在该螺孔螺合有固定螺丝(set screw)74j。又，在板98中与上述螺孔一致的位置，在厚度方向贯通形成有较固定螺丝74j的螺丝径大的工具孔98b。此例中，从工具孔98b插入工具98c并旋动固定螺丝74j后，固定螺丝74j的前端部抵接于底座部72，其后夹具部174从底座部72抬起而紧贴于板98。此例中，由于不需要空气(高压，真空压)来使交换用的夹具部174的上面的面位置与已设置的夹具部74的上面的面位置一致，因此夹具部74的交换作业容易。此外，在图27及图28所示之例中，由于借由固定螺丝74j来以机械方式界定夹具部174上面的高度位置，因此将夹具部174与底座部72接着的接着剂不限于硬化性，可使用填缝剂之类有弹力性。

此外，以上说明的实施形态的微动载台22等的构成仅为一例，其能适当变更。如图29所示的变形例的夹具部474，也可将夹具部474整体以多孔质材形成。可借由对该多孔质材供应真空吸引力来吸附保持基板P。此情形下，可在夹具部474内部内藏磁铁且借由磁性材料形成底座部72(参照图2等)，并以磁力将夹具部474固接(固定)于底座部72。

又，作为将以多孔质材形成的夹具部474固接于底座部72的方法，也可使用上述接着剂的方法。又，在多孔质材的夹具部474的下面的一部分形成能真空吸附的区域(例如于一部分形成凹孔，在该凹孔部覆盖以无空气泄漏的方式防止空气泄漏的构件(橡胶等)而能真空吸引的空间等)时，也可借由真空吸引来固接。又，如上所述将夹具部474以多孔质材形成，并对该多孔质材供应加压气体，借此能制得将基板P悬浮支承的非接触保持具。在以多孔质材形成的夹具部474的上面(基板载置面)形成有多个与管路部60连通的微小孔部。非接触保持具32，借由从管路部60供应的加压气体(例如压缩空气)经由上述孔部(的一部分)对基板P的下面喷出而使基板P悬浮。又，非接触保持具，与上述加压气体的喷出并用地，借由真空吸引力吸引基板P下面与基板支承面之间的空气。借此，对基板P作用荷重(预装载)，而沿着非接触保持具的上面将基板P予以平面矫正。亦即能一边将基板P予以平面矫正(一边使之成为平坦)一边将该基板P在夹具部474上悬浮支承(非接触支承)。

又，如图30所示的变形例所示，为了防止相邻的夹具部74彼此的冲撞，也可在相邻的夹具部74间插入缓冲构件676。缓冲构件676可借由黏弹性体形成。

此外，以上说明的实施形态的构成能适当变更。上述实施形态中，微动载台22虽能选择性地进行基板P的非接触支承(对基板P下面的加压气体的喷出)与基板P的吸附保持(基板P的真空吸引)的构成，但不限于此，也可仅进行此等功能的一方的形态。

又，上述实施形态中，各夹具部74虽借由真空吸引力固定(在非机械式地拘束的状态下固定)在底座部72的构成，但不限于此，也可将各夹具部74经由接着剂等固定于底座部72。此情形下，由于要分别确保夹具部74的安定性及交换容易性，因此作为上述接着剂，较佳为使用硬化时的变形少且能容易剥离的接着剂、例如环氧树脂系的接着剂。又，此情形下，为了使自底座部72的剥离容易，可在底座部72或夹具部74预先涂布剥离剂、离模剂。作为剥离剂、离模剂，可使用涂膜薄(例如0.1～1.0μm左右)且表面张力低的氟系离模剂等。

又，本实施形态的微动载台22，虽能在水平面内2轴方向以长行程移动，但不限于此，也可仅在水平面内的1轴方向以长行程移动的构成，在水平面内的位置也可固定。又，微动载台22，虽可在水平面内6自由度方向微幅移动的构成，但也可在不微幅移动的构成的基板保持构件(基板保持具)适用上述实施形态的构成。

又，照明光可以是ArF准分子激光光(波长193nm)、KrF准分子激光光(波长248nm)等的紫外光、或F2激光光(波长157nm)等的真空紫外光。此外，作为照明光，也可使用将从DFB半导体激光或光纤激光发出的红外线带或可见光带的单一波长激光光以例如掺杂有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器加以增幅，使用非线性光学结晶加以波长转换为紫外光的谐波。再者，也可使用固体激光(波长：355nm、266nm)等。

又，虽针对投影光学系14为具备多个支光学系的多透镜方式投影光学系的情形做了说明，但投影光学系的支数不限于此，只要是1支以上即可。此外，也不限于多透镜方式的投影光学系，也可以是使用例如欧夫那(Ofner)型大型反射镜的投影光学系等。再着，作为投影光学系14可以是缩小系及扩大系的任一种。

又，曝光装置的用途不限于将液晶显示元件图案转印至方型玻璃板片的液晶用曝光装置，也能广泛的适用于例如有机EL(Electro-Luminescence)面板制造用的曝光装置、半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及DNA芯片等的曝光装置。此外，不仅仅是半导体元件等的微元件，为制造光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子束曝光装置等所使用的标线片或光罩，而将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等曝光装置的制造，也能适用。

又，作为曝光对象的物体不限于玻璃板，也可以是晶圆、陶瓷基板、薄膜构件、或光罩母板等其他物体。此外，曝光对象物为平板显示器用基板的情形时，该基板的厚度无特限定，也包含例如薄膜状(具可挠性的片状构件)。又，本实施形态的曝光装置，在曝光对象物为一边长度、或对角长500mm以上的基板时尤其有效。

液晶显示元件(或半导体元件)等的电子元件，经由进行元件的功能性能设计的步骤、依据此设计步骤制作光罩(或标线片)的步骤、制作玻璃基板(或晶圆)的步骤、以上述各实施形态的曝光装置及其曝光方法将光罩(标线片)的图案转印至玻璃基板的微影步骤、对曝光后的玻璃基板进行显影的显影步骤、将残存抗蚀剂部分以外的部分的露出构件以蚀刻加以去除的蚀刻步骤、将蚀刻后不要的抗蚀剂去除的抗蚀剂除去步骤、以及元件组装步骤、检査步骤等而制造出。此场合，在微影步骤使用上述实施形态的曝光装置实施所述曝光方法，在玻璃基板上形成元件图案，因此能以良好的生产性制造高积体度的元件。

产业上的可利用性：

如以上的说明，本发明的物体保持装置适于保持物体。又，本发明的曝光装置适于在物体形成既定图案。又，本发明的平板显示器的制造方法适于制造平板显示器。又，本发明的元件制造方法适于制造微元件。

附图标记说明：

10 液晶曝光装置

20 基板载台装置

22 微动载台

50 定盘部

60 管路部

70 保持具部

72 底座部

74 夹具部

P 基板

Claims (17)

1.一种物体保持装置，保持物体，其具有：

多个第1构件，分别具备保持所述物体的第1保持面、以及设于所述第1保持面的背面侧的彼此不同位置的第1部分及第2部分；

第2构件，具备保持所述第1构件的第2保持面，所述第1部分与所述第2部分中的所述第2部分固接于所述第2保持面；

底座部；以及

管路部，于所述底座部与所述第2构件之间，且在所述底座部上排列设有多个，具有经由所述第2构件与所述第1构件的所述第1部分连通以使气体通过的管路；

所述管路部具有第1管路及第2管路；

所述多个第1构件，在使用通过所述第1管路及所述第1部分的所述气体，以第1保持力来保持所述物体的第1位置，并使用通过所述第2管路及所述第1部分的所述气体，以与所述第1保持力不同的第2保持力来保持所述物体的第2位置，且解除所述第2部分对所述第2保持面的固接后，被从所述第2构件卸除。

2.如权利要求1所述的物体保持装置，其特征在于，所述第2部分被吸附于所述第2保持面。

3.如权利要求2所述的物体保持装置，其特征在于，所述第2部分具备被真空吸引的构造。

4.如权利要求2或3所述的物体保持装置，其特征在于，所述第2部分，具有能以多个点保持所述物体下面的多个销部、包围所述多个销部的壁部、以及形成于所述壁部内侧的孔部，借由经由所述孔部吸引所述壁部内的气体以吸附保持所述物体。

5.如权利要求2或3所述的物体保持装置，其特征在于，所述管路部，具备使保持所述物体的气体通过的第3管路、以及使将所述第2部分吸附于所述第2保持面的气体通过的第4管路。

6.如权利要求1至3中任一项所述的物体保持装置，其特征在于，所述第2部分的至少一部分，借由接着剂接着于所述第2保持面。

7.如权利要求1至3中任一项所述的物体保持装置，其特征在于，所述第1构件以多孔质材形成。

8.如权利要求2所述的物体保持装置，其特征在于，所述第2部分与所述第2保持面中的一方具备磁石，另一方具备磁性材料。

9.如权利要求1至3中任一项所述的物体保持装置，其特征在于，所述第2构件能分割成多个部分构件，

所述第1构件的面积小于所述部分构件的面积。

10.如权利要求1至3中任一项所述的物体保持装置，其特征在于，所述第1构件，从所述第1保持面吸引气体，以在所述第1保持面上吸引保持所述物体。

11.如权利要求1至3中任一项所述的物体保持装置，其特征在于，所述第1构件，从所述第1保持面喷出气体，以在所述第1保持面上悬浮支承所述物体。

12.一种曝光装置，其具备：

权利要求1至11中任一项所述的物体保持装置；以及

图案形成装置，使用能量束对保持于所述物体保持装置的所述物体形成既定图案。

13.如权利要求12所述的曝光装置，其特征在于，所述物体是用于平板显示器的基板。

14.如权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，所述基板的至少一边的长度或对角长为500mm以上。

15.一种平板显示器的制造方法，其包含：

使用权利要求12或13所述的曝光装置使基板曝光的动作；以及

使曝光后的所述基板显影的动作。

16.一种元件制造方法，其包含：

使用权利要求14所述的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及

使曝光后的所述物体显影的动作。

17.一种物体保持方法，保持物体，其包含：

使用多个第1构件保持所述物体的动作，该多个第1构件，分别具备保持所述物体的第1保持面、以及设于所述第1保持面的背面侧的彼此不同位置的第1部分及第2部分；

使用第2构件保持所述第1构件的动作，该第2构件，具备保持所述第1构件的第2保持面，所述第1部分与所述第2部分中的所述第2部分固接于所述第2保持面；以及

使用管路部使气体通过的动作，该管路部，于底座部与所述第2构件之间，且在所述底座部上排列设有多个，具有经由所述第2构件与所述第1构件的所述第1部分连通以使气体通过的管路；

所述管路部具有第1管路及第2管路；

使用所述多个第1构件保持所述物体的动作，包含使用通过所述第1管路及所述第1部分的所述气体，以第1保持力来保持所述物体的第1位置的动作，与使用通过所述第2管路及所述第1部分的所述气体，以与所述第1保持力不同的第2保持力来保持所述物体的第2位置的动作；

且包含：解除所述第2部分对所述第2保持面的固接，以从所述第2构件卸除所述第1构件的动作。

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