JP2000012663A - 基板保持方法及び装置、及びそれを備えた露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、基板を保持する基板保持方法及び装
置、及び基板保持装置を備え、マスクのパターンを基板
に転写する露光装置に関し、装置を交換しなくてもレジ
ストのパーティクルの発生を防止して多様な基板寸法に
対応して複数の大きさの基板を保持できる基板保持方法
及び装置、及びそれを備えた露光装置を提供することを
目的とする。 【解決手段】保持面７上でほぼ同一高さの平面に形成さ
れて縦横に並ぶ複数の凸状の基板支持部２を有し、複数
の基板支持部２間で縦横に形成される凹部空間Ｓにガラ
スプレートＰのエッジ部を位置させてガラスプレートＰ
を吸着保持することができるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を保持する基
板保持方法及び装置、及び基板保持装置を備え、マスク
のパターンを基板に転写する露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置、液晶表示装置あるいは薄膜
磁気ヘッド等の製造では、レチクルあるいはマスク（以
下、マスクという）に形成したパターンを半導体ウェハ
やガラスプレート等の基板上に転写する露光装置が用い
られている。近年、スループット向上の観点から、１枚
の基板で製造できるチップやパネルの数を増加させるた
め基板の大型化が進んでおり、とりわけ液晶表示装置を
製造する際に用いられるガラスプレートは、一枚で１２
インチパネル４枚あるいは６枚を製造できるまでに大型
化してきている。その一方で、液晶表示装置の表示領域
は用途により大小様々であるから、液晶表示装置の製造
ラインでは、比較的小型のガラスプレートから前述のよ
うな大型ガラスプレートにまで対応できる露光装置が要
求されており、このためガラスプレートを保持して移動
する露光装置の基板ステージに搭載された基板保持装置
は、複数種類の大きさのガラスプレートを載置すること
ができるようになっている。

【０００３】ところで、これらガラスプレートや半導体
ウェハの露光面側にはレジスト（感光剤）が塗布されて
いる。このレジストの塗布には一般にスピンコータが用
いられ、回転させたプレートやウェハ上にレジストを滴
下し、遠心力によりプレートやウェハ表面にレジストを
均一に拡げるようにして塗布が行われる。ところが、こ
の塗布方法では、プレートやウェハの周辺部（エッジ
部）でレジストの層厚が大きくなり、さらに基板裏面側
にレジストが回り込んでしまう現象が生じている。従っ
て基板保持装置の保持面上の基板保持部に例えばガラス
プレート裏面全体を接触させて吸着保持すると、ガラス
プレートエッジ部裏面のレジストが剥離してパーティク
ルが発生してしまう。

【０００４】このため例えば液晶表示装置の製造に用い
られる露光装置におけるガラスプレートを載置して移動
する基板ステージは、図８に示すような構造の基板保持
装置を搭載している。図８（ａ）は従来の基板保持装置
であって、ガラスプレートを吸着保持する保持面７０を
示している。従来の基板保持装置の保持面７０上には、
ほぼ同一高さの平面に形成された複数の凸状の基板支持
部７２ａ、７２ｂ、７２ｃ、７２ｄ、７２ｅが形成され
ている。これら複数の基板支持部７２ａ〜７２ｅのそれ
ぞれの間には図中横方向に凹部空間７４ａ、７４ｂ、７
４ｃ、７４ｄ、７４ｅ、７４ｆが形成されている。この
凹部空間７４ａ〜７４ｃのいずれか一つ、および凹部空
間７４ｄ〜７４ｆのいずれか一つにガラスプレートの横
方向エッジ部が位置し、またガラスプレートの縦方向エ
ッジ部は、保持面７０の縦方向両側面に形成された凹部
空間７４ｌ、７４ｒに位置するようにしてガラスプレー
トは吸着保持されるようになっている。なお、図示は省
略しているが基板支持部７２ａ〜７２ｅ面には複数の吸
着口（浅穴）が形成され、基板保持装置裏面側に設けら
れた配管系により真空圧が導入されるようになってい
る。

【０００５】図８（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）はそれぞれ基
板保持装置の保持面７０にそれぞれ大きさの異なるガラ
スプレートＰ（斜線を施した領域）を載置した状態を示
している。図８（ｂ）では凹部空間７４ｃ、および凹部
空間７４ｆにガラスプレートＰの横方向エッジ部が位置
し、またガラスプレートＰの縦方向エッジ部は、保持面
７０の縦方向両側面に形成された凹部空間７４ｌ、７４
ｒに位置させて基板支持部７２ａ〜７２ｅ全てでガラス
プレートを吸着保持している。図８（ｃ）では、凹部空
間７４ｂ、７４ｅにガラスプレートＰの横方向エッジ部
を位置させ、縦方向エッジ部を保持面７０の縦方向両側
面に形成された凹部空間７４ｌ、７４ｒに位置させて基
板支持部７２ａ、７２ｂ、７２ｄでガラスプレートを吸
着保持している。図８（ｄ）では、凹部空間７４ａ、７
４ｄにガラスプレートＰの横方向エッジ部を位置させ、
縦方向エッジ部を保持面７０の縦方向両側面に形成され
た凹部空間７４ｌ、７４ｒに位置させて基板支持部７２
ａだけでガラスプレートを吸着保持している。図９は、
例として図８（ｄ）の凹部空間７４ａ近傍を縦方向に切
断した基板保持装置とガラスプレートＰの部分側断面図
を示している。図９から明らかなように、ガラスプレー
トＰのエッジ部裏面にまで回り込んだレジスト層ｒは凹
部空間７４ａに位置しており、基板支持部の何れとも接
触することがないのでパーティクルの発生を防止するこ
とができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように従来の露光
装置に搭載された基板保持装置では、横方向に形成され
た凹部空間により、パーティクルの発生なしに例えば３
種類の大きさのガラスプレートを保持することができる
ようになっている。ところが、この基板保持装置では、
凹部空間７４ａ〜７４ｆは露光処理に供される特定のガ
ラスプレートの外形に合わせて形成されており、予め処
理対象とされた限られた種類のプレートにしか対応する
ことができない。従って従来の露光装置では、保持させ
るプレートの寸法に応じて適切な基板保持装置を選択し
て搭載する必要が生じる。ところが、基板保持装置は高
い平面度が得られるように超精密加工が施された基板支
持部を有しており高価で慎重な取り扱いが要求されるた
め、複数の基板保持装置を保有することは装置購入費用
や保管費用の面から十分な運用が困難となる問題を有し
ている。さらに、処理対象のプレートの大きさが変更さ
れて基板保持装置の交換作業が発生すると、交換作業に
要する手間や時間による露光処理のスループットの低下
を招くという問題が生じる。

【０００７】本発明は、上記従来の基板保持装置および
それを備えた露光装置が有している技術的課題を解決す
るためになされたものであり、その目的は、装置を交換
しなくてもレジストのパーティクルの発生を防止して多
様な基板寸法に対応して複数の大きさの基板を保持でき
る基板保持方法及び装置、及びそれを備えた露光装置を
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の一実施の形態を
表す図１乃至図７を用いて説明すると、上記目的は、基
板（Ｐ）を保持する基板保持装置において、縦横若しく
は同心円状若しくは放射状に設けられた複数の凸状の基
板支持部（２，３）を有し、複数の基板支持部（２，
３）間で形成される空間（Ｓ）に基板（Ｐ）のエッジ部
を位置させて基板（Ｐ）を保持することを特徴とする基
板保持装置によって達成される。また、複数の基板支持
部（２，３）のうち、少なくとも一以上の基板支持部
（２，３）が基板（Ｐ）を吸着する吸着面を有している
ことを特徴とする。前記吸着面は、基板（Ｐ）の形状及
び大きさの少なくとも一方に基づいて切り替え可能であ
ることを特徴とする。また、前記吸着面は、複数種類の
面積を有することを特徴とする。

【０００９】また上記目的は、基板（Ｐ）を保持して移
動可能な基板ステージを有し、マスクのパターンを基板
（Ｐ）に転写する露光装置において、基板ステージは、
上記いずれかの基板保持装置を備えていることを特徴と
する露光装置によって達成される。

【００１０】また上記目的は、基板（Ｐ）を保持する基
板保持方法において、縦横若しくは同心円状若しくは放
射状に設けられた複数の凸状の基板支持部（２，３）で
基板を支持する工程と、複数の基板支持部（２，３）間
で形成される空間（Ｓ）に基板（Ｐ）のエッジ部を位置
づける工程とを有することを特徴とする基板保持方法に
よって達成される。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態による
基板保持方法及び装置、及びそれを備えた露光装置を図
１乃至図４を用いて説明する。図１は本実施の形態によ
る基板保持装置の斜視図であり、ガラスプレートを吸着
保持する保持面７を斜め上方から見ている状態を示して
いる。この基板保持装置の保持面７上には、ほぼ同一高
さの平面に形成されて縦横にマトリクス状に並ぶ複数の
凸状の基板支持部２が形成されている。以降説明の都合
上図１に示す各基板支持部２は、図中上方から左斜下方
に行ａ〜ｉをとり右斜下方に列１〜７をとった添字ａ１
〜ｉ７を付して表すものとする。これら複数の基板支持
部２ａ１〜２ｉ７の隣り合うもの同士により、保持面７
には溝状に横方向に走る８本の凹部空間Ｓａ〜Ｓｈと、
縦方向に走る６本の溝状の凹部空間Ｓ１〜Ｓ６が形成さ
れている。ここで凹部空間Ｓを識別する添字は、図中上
方から左斜下方に添字ａ〜ｈをとり右斜下方に添字１〜
６をとって示している。また、保持面７の外周囲の４つ
の辺部にも凹部空間Ｓｔ、Ｓｂ、Ｓｌ、Ｓｒが設けられ
ている。

【００１２】このように本実施の形態による基板保持装
置は、保持面上でほぼ同一高さの平面に形成されて縦横
に並ぶ複数の凸状の基板支持部２を有し、複数の基板支
持部２間で縦横に形成される凹部空間Ｓにガラスプレー
トＰのエッジ部を位置させてガラスプレートＰを吸着保
持することができるようになっている。より具体的に
は、保持面７上に横方向に８本、縦方向に６本および辺
部に４本の凹部空間Ｓｘ（ｘは添字）が設けられてお
り、従ってこれら凹部空間Ｓｘのうち横方向の凹部空間
Ｓｘのいずれか２つにガラスプレートの横方向エッジ部
が位置し、および縦方向の凹部空間Ｓｘのいずれか２つ
にガラスプレートの縦方向エッジ部が位置するようにガ
ラスプレートを吸着保持することができるようになって
いる。

【００１３】また、基板支持部２ａ１〜２ｉ７の各上面
は吸着面として吸着口４が形成され、基板保持装置裏面
側に設けられた配管系８により真空圧が導入されるよう
になっている。配管系８は大別すると、基板支持部２ａ
１〜２ｉ７の吸着口４のそれぞれに一端部が裏面側から
接続された複数の配管８ａと、複数の配管８ａの他端部
が接続された電磁弁８ｂとで構成される。電磁弁８ｂに
は図示しない真空源に接続される吸引口９が設けられ、
真空源により真空圧が導入されるようになっている。電
磁弁８ｂは、複数の配管８ａのそれぞれに対応した弁
（図示せず）を有しており、図示を省略した制御系から
の指令により、各弁の開閉をそれぞれ独立に行うことが
できるようになっている。

【００１４】従って、基板保持装置の保持面７に載置さ
れたガラスプレートの載置位置に基づいて電磁弁８ｂの
各弁の開閉を制御することにより、プレート吸着に用い
られる基板支持部２の吸着口４に配管８ａを介して真空
圧を導入し、プレート吸着に供しない基板支持部２の吸
着口４には真空圧を導入しないようにすることができる
ようになっている。

【００１５】また、上記基板保持装置を備えた露光装置
に搬送されるガラスプレートのサイズは搬送時に予め判
明しているため、上記基板保持装置のどの凹部空間Ｓに
ガラスプレートが位置し、どの基板支持部２の吸着口４
で吸着を行わせるかは予め分かっている。

【００１６】一般に搬送アームにより、ガラスプレート
を露光装置に搬送する前にガラスプレートの大まかな位
置合わせ（以下、プリアライメントという）が行われ
る。凹部空間Ｓは、プリアライメントの精度およびプリ
アライメント後の搬送アームによる搬送精度および位置
決め精度を考慮して、これらの許容精度以上の幅を有す
るように形成されることが望ましい。

【００１７】また、基板保持装置に載置されたガラスプ
レートのエッジを検出する機構を別途設けるようにして
もよい。ガラスプレートのエッジ検出機構として、例え
ばカメラ等の撮像手段により基板保持装置の画像信号を
得て、得られた画像信号からガラスプレートのエッジ検
出を行う機構や、凸状の基板支持部２に重さを検出する
センサを設け、センサで重さが検出された基板支持部２
と、重さが検出されない基板支持部２との境界にガラス
プレートのエッジが位置していると認識する機構として
もよい。

【００１８】次に、図２を用いて本実施の形態による基
板保持方法を説明する。図２（ａ）は、ガラスプレート
を吸着保持する本基板保持装置の保持面７の平面図を示
している。図２（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）はそれぞれ基板
保持装置の保持面７にそれぞれ大きさの異なるガラスプ
レートＰ（斜線を施した領域）を載置した状態を示して
いる。図２（ｂ）では保持面７の上下横方向両側面に形
成された凹部空間Ｓｔおよび凹部空間Ｓｂにガラスプレ
ートＰの横方向エッジ部が位置し、またガラスプレート
Ｐの縦方向エッジ部は、保持面７の縦方向両側面に形成
された凹部空間Ｓｌ、Ｓｒに位置させて基板支持部２ａ
１〜２ｉ７全てでガラスプレートＰを支持し、且つ電磁
弁８ｂを制御して全吸着口４（図中●で示す）に吸着力
を作用させるようにしている。

【００１９】図２（ｃ）は、図２（ｂ）で示したガラス
プレートＰより一回り小さいガラスプレートＰを載置保
持させた例を示す。この例では横方向に溝が走る凹部空
間Ｓａ、ＳｉにガラスプレートＰの横方向エッジ部を位
置させ、縦方向に溝が走る凹部空間Ｓ１、Ｓ６に縦方向
エッジ部を位置させて、凹部空間Ｓａ、Ｓｉ、Ｓ１、Ｓ
６で画定される領域内の基板支持部２ｂ２〜２ｈ６でガ
ラスプレートＰを支持するようにしている。この場合に
は、電磁弁８ｂを制御して基板支持部２ｂ２〜２ｈ６の
各吸着口４に真空圧を導入し、基板支持部２ａ１〜２ａ
７、２ｂ１、２ｂ７、２ｃ１、２ｃ７、２ｄ１、２ｄ
７、２ｅ１、２ｅ７、２ｆ１、２ｆ７、２ｇ１、２ｇ
７、２ｈ１、２ｈ７、２ｉ１〜２ｉ７の各吸引口４には
真空圧を導入しないようにしている（図中○で示す）。

【００２０】図２（ｄ）は、さらに小型の２枚のガラス
プレートＰ１、Ｐ２を本基板保持装置の保持面７に載置
保持された例を示している。この例では、横方向に溝が
走る凹部空間Ｓｔ、ＳｄにガラスプレートＰ１の横方向
エッジ部を位置させ、縦方向に溝が走る凹部空間Ｓ１、
Ｓ６に縦方向エッジ部を位置させて、凹部空間Ｓｔ、Ｓ
ｄ、Ｓ１、Ｓ６で画定される領域内の基板支持部２ａ２
〜２ｄ６でガラスプレートＰ１を支持するようにしてい
る。

【００２１】また、横方向溝の凹部空間Ｓｅ、Ｓｂにガ
ラスプレートＰ２の横方向エッジ部を位置させ、縦方向
溝の凹部空間Ｓ１、Ｓ６に縦方向エッジ部を位置させ
て、凹部空間Ｓｅ、Ｓｂ、Ｓ１、Ｓ６で画定される領域
内の基板支持部２ｆ２〜２ｉ６でガラスプレートＰ２を
支持するようにしている。この場合には、電磁弁８ｂを
制御して基板支持部２ａ２〜２ｄ６、２ｆ２〜２ｉ６の
各吸着口４に真空圧を導入し、基板支持部２ａ１〜２ｉ
１、２ａ７〜２ｉ７、２ｅ２〜２ｅ６の各吸引口４には
真空圧を導入しないようにしている。

【００２２】このように縦横に設けられた複数の凸状の
基板支持部で基板を支持する工程と、複数の基板支持部
間で形成される空間に基板のエッジ部を位置づける工程
とを有することを特徴とする基板保持方法によれば、凹
部空間Ｓｘが縦横に溝状に多数形成されているので、従
来必要とされた、露光処理に供されるガラスプレートの
外形に合わせて複数の基板支持装置を用意しておく必要
が無くなる利点を有している。従って、ガラスプレート
の端部裏面に付着したレジストによるパーティクルの発
生なしに、多数種類のガラスプレートを装置の交換なく
保持することができるようになる。なお、上述ではプレ
ート下面の吸着口４は全て吸引力を働かせるようにして
いるが、電磁弁８ｂの制御によりプレート下面に位置す
る複数の吸引口４に対して真空圧を導入する吸引口４を
選択するようにしてももちろんよい。

【００２３】次に、図３を用いて本実施の形態による基
板保持装置を備えた露光装置について説明する。図３
は、本実施の形態による露光装置の概略の構成を示して
いる。本実施の形態では、ステップ・アンド・スキャン
方式の露光動作を採用した投影露光装置を例にとって説
明する。照明系１００は、水銀ランプ、あるいはＫｒＦ
エキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ等の光源からの
照明光を、フライアイレンズ、コンデンサーレンズ等を
介してマスクステージＭＳＴに載置されたマスクＭ上に
照度均一に照射するようになっている。マスクステージ
ＭＳＴは駆動系１０２により走査方向に移動できるよう
になっている。また、マスクステージＭＳＴの走査方向
一端には、図示しないレーザ干渉計がマスクステージＭ
ＳＴの位置決め測長系として搭載されている。

【００２４】マスクＭに形成されたパターンの像は投影
光学系ＰＬによって例えば等倍でガラスプレートＰ上に
転写される。ガラスプレートＰは本実施の形態による保
持面７を備えた基板保持装置（ここではプレートホルダ
１１０という）上に保持されるようになっている。ガラ
スプレートＰは図示しないプレート搬送機構から搬送さ
れてプレートホルダ１１０に吸着保持される際、主制御
部１０６からの指令により正確にホルダ１１０上の凹部
空間Ｓにエッジ部が位置するようにして載置されるよう
になっている。

【００２５】プレートホルダ１１０は投影光学系ＰＬに
対して走査方向に移動可能なプレートステージＰＳＴ上
に設けられ、このプレートステージＰＬＴは駆動系１０
４の駆動により走査方向に移動するようになっている。
またプレートステージＰＳＴの走査方向の座標位置は図
示を省略したレーザ干渉計によって計測されるようにな
っている。

【００２６】本実施の形態による走査型投影露光装置に
おける露光シーケンスと制御は、主制御部１０６によっ
て統括的に管理される。主制御部１０６は、マスクステ
ージＭＳＴおよびプレートステージＰＳＴの走査方向側
に設けられたレーザ干渉計からの位置情報の入力、駆動
系１０２、１０４からの速度情報の入力等に基づいて、
スキャン露光時にマスクステージＭＳＴとプレートステ
ージＰＳＴとを所定の速度比を保ちつつ、マスクＭに形
成されたパターンとガラスプレートＰ上に形成されたパ
ターンとの相対位置関係を所定のアライメント誤差内に
抑えたまま相対移動させて、マスクＭのパターン全面を
ガラスプレートＰ上の所定のショット領域に正確に転写
することができるようになっている。

【００２７】なお本露光装置の製造は、複数のレンズか
ら構成される照明系１００、投影光学系ＰＬを露光装置
本体に組み込み光学調整するとともに、多数の機械部品
からなるマスクステージＭＳＴやプレートステージＰＳ
Ｔを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、さ
らに総合調整（電気調整、動作確認等）をすることによ
り行われる。なお、露光装置の製造は温度およびクリー
ン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望まし
い。

【００２８】また、液晶表示パネルは、例えばアクティ
ブマトリクス方式の場合、パネル上に形成すべき回路パ
ターンが描画されたマスクを作製する工程と、本実施の
形態による露光装置によりマスクのパターンをガラス基
板に露光して基板上にトランジスタ・アレイ等を作製す
るアレイ工程、２枚のガラス基板を貼り合わせて液晶を
封止するセル作製工程、そして液晶を封止したガラス基
板にＴＡＢやバックライト等を取り付けるモジュール作
製工程等を経て製造される。

【００２９】また、半導体デバイスの場合は、デバイス
の機能、性能設計を行うステップ、この設計ステップに
基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料か
らウェハを製作するステップ、本実施の形態による露光
装置によりレチクルのパターンをウェハに露光するステ
ップ、デバイス組立ステップ（ダイシング工程、ボンデ
ィング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等
を経て製造される。

【００３０】このように本露光装置は、本実施の形態に
よる基板保持装置を搭載しているので、従来の露光装置
に要求されているプレート寸法に応じて適切な基板保持
装置を選択して搭載し直す必要がない。従って、高価で
慎重な取り扱いが要求される基板保持装置を複数保有す
る必要もなく、装置購入費用や保管費用の面からも大き
な利点を有している。さらに、処理対象のプレートの大
きさの変更に伴う基板保持装置の交換作業も発生しない
ので、交換作業に要する手間や時間によるスループット
の低下も招かないという利点も有している。

【００３１】図４は本実施の形態による基板保持装置の
変形例であって、ガラスプレートを吸着保持する基板保
持装置の保持面７の平面図を示している。図４を図２
（ａ）と対比しつつ説明すると、図４に示す保持面７に
は、図２（ａ）に示した基板支持部２よりさらに細かな
正方形状の基板支持部２ａ１〜２ｏ１２を形成してお
り、比較的簡単な加工により種々多数のガラスプレート
に対応できる基板保持装置を実現できることを示してい
る。

【００３２】次に、本発明の第２の実施の形態による基
板保持装置を図５及び図６を用いて説明する。図５は本
実施の形態による基板保持装置の保持面７を示してい
る。図５において、この基板保持装置の保持面７上に
は、ほぼ同一高さの平面に形成されて所定の間隔をおい
て縦横に並ぶ複数の凸状の基板支持部２が形成されてい
る。この基板支持部２は凸状周囲が円筒形形状をしてお
り上面の吸着面中央部に吸着口４が形成されている。こ
れら所定の間隔をおいた複数の基板支持部２間にはそれ
より小さな円筒形状でほぼ高さが基板支持部２と同一の
平面に形成された凸状の基板支持部３が縦横に形成され
ている。基板支持部３には吸着口４は形成されていな
い。これら基板支持部２および基板支持部３の隣合うも
の同士により、保持面７には溝状に縦横に走る複数の凹
部空間Ｓが形成されている。本実施の形態による基板保
持装置では、保持面７上で図中上下あるいは左右に溝が
完全に貫通した凹部空間Ｓｖ１、Ｓｈ１と、相対的に大
きな基板支持部２により遮られて溝が途中で途切れてい
る凹部空間Ｓｖ２、Ｓｈ２との２種類の凹部空間Ｓが形
成されている。

【００３３】本実施の形態による基板保持装置において
も第１の実施の形態と同様に、保持面７上に縦横に多数
の凹部空間Ｓｘ（ｘは添字）が設けられている。従っ
て、これら凹部空間Ｓｘのうち横方向の凹部空間Ｓｘの
いずれか２つにガラスプレートの横方向エッジ部を位置
させ、縦方向の凹部空間Ｓｘのいずれか２つにガラスプ
レートの縦方向エッジ部が位置させるようにしてガラス
プレートを吸着保持することができ、ガラスプレートの
端部裏面に付着したレジストによるパーティクルの発生
なしに、多数種類のガラスプレートを装置の交換なく保
持することができるようになる。

【００３４】さらに、本実施の形態では基板支持部２，
３を円筒形状にしてガラスプレートとの接触面を円形状
にしており、また吸着口４が形成された吸着面を有する
大型の基板支持部２を分散させ、その間を吸着口４を持
たない小さな基板支持部３を複数設けるようにしたの
で、例えば図１、図２及び図４で示した第１の実施の形
態における基板支持部２よりガラスプレート裏面との接
触面積を格段に小さくすることができるようになる。こ
のため、プレート配置の自由度が向上すると共に、プレ
ートの剥離帯電を防止し、またリンギングによるプレー
トと基板保持装置間の張り付きを軽減させることもでき
るようになる。

【００３５】次に、図６を用いて本実施の形態による基
板保持装置裏面側の配管系の構成を説明する。図６は、
保持面７の裏面側を示す斜視図であり、基板支持部２の
吸着口４に対応する位置にそれぞれ配管用継手１４が取
り付けられている。この配管用継手１４は、吸着口４に
真空圧を導入するために真空源と接続する配管１２を接
続したり取り外したりできるようになっている。従っ
て、保持すべき複数のガラスプレートの大きさが予め所
定範囲内であるような場合や、吸着力を加減する必要が
あるとき等には、使用すべき吸着口４を選択して当該選
択された吸着口４に対してのみ配管１２を接続すること
により、無駄な配管を無くして基板保持装置裏面側の空
間を節約したり、基板保持装置の重量を軽減することが
できるようになっている。

【００３６】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の
変形が可能である。例えば、上記第１の実施の形態にお
ける基板支持部２の基板吸着面の形状は矩形形状であっ
たが、本発明はこれに限られず、第２の実施の形態と同
様に基板吸着面が円形形状であってももちろんよい。ま
た同様に、第２の実施の形態における基板支持部２，３
の基板吸着面を円形形状から矩形形状にすることももち
ろん可能である。

【００３７】また、第２の実施の形態ではガラスプレー
トの大きさなどに応じて必要な吸着口４に配管１２を繋
ぐようにしたが、全ての吸着口４にバルブ機構が設けら
れた配管を接続し、真空圧の要不要に応じて各吸着口４
の配管のバルブを開閉するようにしてもよい。

【００３８】また、上記実施の形態においては、保持面
７上でほぼ同一高さの平面に基板支持部２，３を形成し
たが、本発明はこれに限られず、露光装置の投影光学系
の像面に合わせるように基板支持部２，３の高さを可変
にしても適用可能である。

【００３９】さらに上記実施の形態においては、液晶表
示装置製造用の長方形のガラスプレートを吸着する場合
を例にとって、凹部空間が縦横に形成される場合につい
て説明したが、本発明はこれに限られず、例えば、円形
状基板（例えば半導体ウェハ）を吸着保持させるため、
図７に示すように基板支持部２を同心円状、放射状に形
成して、凹部空間を同心円状、放射状に形成した基板保
持装置とすることも可能である。図７は、基板載置面が
円形形状の基板保持装置上に半導体装置製造用のウェハ
Ｗを載置した例を示している。

【００４０】図中プリアライメント用のノッチ（切り欠
き部）が設けられたウェハＷのエッジ部を破線で示して
いる。図７において、基板支持装置の基板載置面のほぼ
中心に位置する基板支持部２から同心円状、放射状に複
数の基板支持部２が設けられ、複数の基板支持部２間に
も同様に同心円状、放射状に基板支持部３が形成されて
いる。従って、これらの基板支持部２，３で同心円状に
形成される凹部空間にウェハＷのエッジ部を位置させて
所定の吸着口４により吸引力を作用させてウェハを吸着
保持することにより、ウェハＷの端部裏面に付着したレ
ジストによるパーティクルの発生なしに、大きさの異な
った多数種類のウェハＷを装置の交換なく保持すること
ができるようになる。

【００４１】また例えば、上記実施の形態における露光
装置はステップ・アンド・スキャン方式の露光動作をし
ているが、本発明はこれに限られず、ステップ・アンド
・リピート方式の露光装置にももちろん適用することが
できる。また第１の実施の形態で説明した露光装置に第
２の実施の形態による基板保持装置を搭載させることも
もちろん可能である。

【００４２】

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、装置を交
換しなくてもレジストのパーティクルの発生を防止して
多様な基板寸法に対応して複数の大きさの基板を保持で
きる基板保持装置、及びそれを備えた露光装置を実現す
ることができる。また、本発明によれば、周辺露光およ
び現像の工程が省略できるので、露光装置としての生産
性（スループット）をさらに向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態による基板保持装置
の斜視図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態による基板保持方法
を説明する図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態による基板保持装置
を備えた露光装置を示す図である。

【図４】本発明の第１の実施の形態による基板保持装置
の変形例を示す図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態による基板保持装置
の平面図である。

【図６】本発明の第２の実施の形態による基板保持装置
を裏面側からみた斜視図である。

【図７】本発明による基板保持装置の変形例を示す図で
ある。

【図８】従来の基板保持方法を説明する図である。

【図９】基板保持装置で保持した基板端部、および基板
端部のレジストの状態を示す部分断面図である。

【符号の説明】

２、３、７２ａ〜７２ｅ 基板支持部 ４ 吸着口 ７、７０ 保持面 ８ 配管系 ８ａ 配管 ８ｂ 電磁弁 ９ 吸引口 ７４ａ〜７４ｆ 凹部空間 ７４ｌ、７４ｒ 凹部空間 １００ 照明系 １０２、１０４ 駆動系 １０６ 主制御部 １１０ プレートホルダ ＡＸ 光軸 Ｍ マスク ＭＳＴ マスクステージ Ｐ ガラスプレート ＰＬ 投影光学系 ＰＳＴ プレートステージ ｒ レジスト層 Ｓ 凹部空間 Ｗ ウェハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を保持する基板保持装置において、 縦横若しくは同心円状若しくは放射状に設けられた複数
   の凸状の基板支持部を有し、前記複数の基板支持部間で
   形成される空間に前記基板のエッジ部を位置させて前記
   基板を保持することを特徴とする基板保持装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の基板保持装置において、 前記複数の基板支持部のうち、少なくとも一以上の基板
   支持部が前記基板を吸着する吸着面を有していることを
   特徴とする基板保持装置。
3. 【請求項３】請求項２記載の基板保持装置において、 前記吸着面は、前記基板の形状及び大きさの少なくとも
   一方に基づいて切り替え可能であることを特徴とする基
   板保持装置。
4. 【請求項４】請求項２記載の基板保持装置において、 前記吸着面は、複数種類の面積を有することを特徴とす
   る基板保持装置。
5. 【請求項５】基板を保持して移動可能な基板ステージを
   有し、マスクのパターンを基板に転写する露光装置にお
   いて、 前記基板ステージは、請求項１乃至４のいずれかに記載
   の基板保持装置を備えていることを特徴とする露光装
   置。
6. 【請求項６】基板を保持する基板保持方法において、 縦横若しくは同心円状若しくは放射状に設けられた複数
   の凸状の基板支持部で前記基板を支持する工程と、 前記複数の基板支持部間で形成される空間に前記基板の
   エッジ部を位置づける工程とを有することを特徴とする
   基板保持方法。