JPWO2011065386A1 - 露光ユニット及び基板の露光方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本発明の第1実施例に係る露光ユニット及び基板の露光方法について、図面に基づいて詳細に説明する。
(Z軸回りの回転)させる。
[第2実施例]
まず、図16(A)に示すように、露光用光がセルSe1に照射されることで、セルSe1が露光されるが。この時にセルSe1直下(露光用光照射エリア)の第1の吸着領域80a、第2の吸着領域800b、第4の吸着領域800d及び第5の吸着領域800eは非吸着状態に制御される。これに対し、セルSe1以外(露光用光照射エリア)を示すL字ライン部Q1の第3の吸着領域800c、第6の吸着領域800f、第7の吸着領域800g、第8の吸着領域800h及び第9の吸着領域800iは吸着状態に制御される。この場合に、第10の周囲吸着領域800j及び第12の周囲吸着領域800lは吸着を行っても良いし行わなくとも良い。このように、露光用光照射エリア直下の吸着領域の吸着を行わないことで、吸着による基板の歪が回避可能となる。
尚、この吸着領域の切り替えは、セルSe1の露光終了後、セルSe2へのステップ移動前に行われる。こうすることで、ステップ時に基板Wがずれてしまうことが防止される。
例えば、セルSe1からセルSe2へのステップ時には、第7の吸着領域800g、第8の吸着領域800h及び第9の吸着領域800iについては常時吸着状態のままなので、第3の吸着領域800c、第6の吸着領域800fから第1の吸着領域800a、第4の吸着領域800dに吸着制御を切り替えることとなる。
2 第1の近接露光装置本体
3 第2の近接露光装置本体
4 第3の近接露光装置本体
5 第4の近接露光装置本体
10 マスク保持部
12b 開口
14 チャック部
20 基板保持部
21 ワークチャック
22 吸着面
80a 第1の吸着領域
80b 第2の吸着領域
80c 第3の吸着領域
80d 第4の吸着領域
80e 第5の吸着領域
80f 第6の吸着領域
80g 第7の吸着領域
81a,81b,81c,81d 第1の仕切り壁
82a,82b,82c,82d 第2の仕切り壁
83a,83b,83c,83d 第3の仕切り壁
800a 第1の吸着領域
800b 第2の吸着領域
800c 第3の吸着領域
800d 第4の吸着領域
800e 第5の吸着領域
800f 第6の吸着領域
800g 第7の吸着領域
800h 第8の吸着領域
800i 第9の吸着領域
800j 第10の吸着領域
800k 第11の吸着領域
800l 第12の吸着領域
800m 第13の吸着領域
810a 第1の仕切り壁
810b 第2の仕切り壁
810c 第3の仕切り壁
810d 第4の仕切り壁
810e 第5の仕切り壁
810f 第6の仕切り壁
810g 第7の仕切り壁
810h 第8の仕切り壁
810i 第9の仕切り壁
810j 第10の周囲仕切り壁
810k 第11の周囲仕切り壁
810l 第12の周囲仕切り壁
810m 第13の周囲仕切り壁
M マスク
W ガラス基板(被露光材)
Claims (6)
- 複数のマスクのパターンを基板に順次露光転写する露光ユニットであって、
前記露光ユニットは、
前記パターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
前記基板を吸着して保持する吸着面を有する基板保持部と、
露光用光を照射する照射部と、
を有し、前記露光用光を照射することで前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する複数の露光装置本体を備え、
前記基板保持部の吸着面には、
隣り合う吸着領域を仕切るために形成され、前記基板の裏面に当接可能な仕切り壁と、
前記各吸着領域において前記基板の裏面に当接可能な複数の突起と、が設けられ、
前記複数の露光装置本体の各基板保持部の吸着面は、略同一外形寸法を有するとともに、前記各基板保持部の仕切り壁は、前記露光装置本体毎に異なる位置に形成されることを特徴とする露光ユニット。 - 前記基板保持部の吸着面には、前記各吸着領域が吸着又は非吸着になるよう制御する吸着制御部が設けられており、
前記吸着制御部は前記露光用光の照射エリアに対応する吸着領域を他の吸着領域とは独立に制御する請求項1記載の前記露光ユニット。 - 前記吸着制御部は前記照射エリアに対応する前記吸着領域が非吸着になるように制御する請求項2記載の前記露光ユニット。
- 前記吸着制御部は前記露光用光の照射エリアに対応する吸着領域が他の吸着領域より減圧となるよう制御する請求項2記載の前記露光ユニット。
- パターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、基板を吸着して保持する吸着面を有する基板保持部と、露光用光を照射する照射部とを有し、前記露光用光を照射することで前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する複数の露光装置本体を用いて、前記各マスクのパターンを前記基板に順次露光する基板の露光方法であって、前記露光方法は、
前記吸着面の隣り合う吸着領域を仕切る仕切り壁が前記露光装置本体毎に異なる位置で前記基板の裏面と当接するように、前記複数の露光装置本体によって前記基板を順次露光する工程を有することを特徴とする露光方法。 - 前記露光用光の照射エリアに対応する吸着領域が他の吸着領域とは独立に制御される請求項5に記載の前記露光方法。
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