JPH09134949A - 真空チャック - Google Patents

真空チャック

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JPH09134949A
JPH09134949A JP27579996A JP27579996A JPH09134949A JP H09134949 A JPH09134949 A JP H09134949A JP 27579996 A JP27579996 A JP 27579996A JP 27579996 A JP27579996 A JP 27579996A JP H09134949 A JPH09134949 A JP H09134949A
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vacuum
wall
vacuum chuck
section
base plate
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JP27579996A
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Keiseki Ri
炯 錫 李
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B25B—TOOLS OR BENCH DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, FOR FASTENING, CONNECTING, DISENGAGING OR HOLDING
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 多様な大きさの部品を真空を用いて固定さ
せ、また、複数の区画が分割形成され、それぞれの区画
に対する真空の形成が独立に行われ、さらに、部品の固
定において真空の形成される区画と形成されない区画を
自動的に制御し得ること。 【解決手段】 ベースプレートと、ベースプレートの外
周に所定の高さで形成された外壁３３と、外壁３３で取
り囲まれた空間を複数の区画に形成するようにベースプ
レート上に形成され、外壁３３と同一の高さを有する少
なくとも一つの内壁３３’と、各区画内に外壁３３およ
び内壁３３’と同一の高さで形成された複数個の支持部
３２と、各区画内に少なくとも一つ以上設けられ、真空
源に連結された真空吸込み口３１とを含むことにより真
空チャック３０の区画を多様な大きさに設定して多様な
大きさの部品を吸着固定させ得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空チャックに関
し、特に多様な大きさの液晶ディスプレイ素子（ＬＣ
Ｄ）の平板ガラス又は半導体素子用のウェーハのような
部品を吸着して固定させ得る真空チャックに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイ素子の製作には、平板
ガラス上に電気回路パターンを形成する露光工程が含ま
れる。この露光工程は通常、特定波長の光に感光性フォ
トレジストを平板のガラス上にコーティングする工程
と、電気回路パターンの形成されたラチクルを上記平板
カラス上に覆わせた状態で露光を行うことによりフォト
レジストを感光させる工程とを含むものである。
【０００３】このような露光工程に用いられる液晶ディ
スプレイ素子用の露光装置は、回路パターンの形成され
たレチクルを装着するレチクルステージと、平板ガラス
を吸着固定し移動可能なプレートステージとから構成さ
れる。上記ステージ間には露光光源からの光を集束させ
るレンズが配置される。さらに、平板ガラス上の必要な
部分にのみレチクルを通じて光を照射し得るようにブラ
インダなどが設けられている。
【０００４】上記のような露光装置において、プレート
ステージは平板ガラスを吸着する真空チャックを具備す
る。真空チャックはプレートステージ上に付着されて平
板ガラスの平面性を保つ上に、プレートステージの移動
時にも平板ガラスが動かないように真空を用いて平板ガ
ラスを固定させる機能を有する。
【０００５】図６は、従来の技術による露光装置の概略
的な斜視図であり、図７（ａ）は、図６に示した真空チ
ャックの平面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）のＩ
Ｉ−ＩＩ線による部分断面図である。
【０００６】図６に示した露光装置１０にはベース１１
上で移動可能なプレートステージ１２が載置され、プレ
ートステージ１２の上部には真空チャック１３が形成さ
れる。真空チャック１３はその上部に載置された液晶表
示素子用の平板ガラス１４を吸着して固定させる。
【０００７】図７（ａ）および図７（ｂ）を参照して真
空チャック１３の動作について説明する。ここで、真空
チャック１３の横はｍであり、縦はｎである。真空チャ
ック１３の上面にはその上面から所定の高さで突出した
多数個の支持部２２が形成されている。該支持部２２は
その上に置かれた平板ガラス１４を支持することにより
平板ガラス１４の変形を防止する。真空チャック１３の
回りには支持部２２の突出高さと同一に側壁２３が形成
される。真空チャック１３には外部の真空源（図示せ
ず）に連結された複数の空気吸込み口２１が形成されて
いる。
【０００８】図７（ａ）において、真空チャック１３上
に平板ガラス１４を載置すると、真空チャック１３の上
面と、平板ガラス１４の底面と側壁２３との間には密閉
空間が形成される。該密閉空間の空気を上記真空源によ
り空気吸込み口２１を介して吸い込むと真空が形成さ
れ、よって平板ガラス１４は真空チャック１３に吸着固
定される。
【０００９】このような状態は図７（ｂ）によく示され
ている。すなわち、図７（ｂ）の参照符号２４で表示さ
れた空間には真空が形成され、平板ガラス１４を真空チ
ャック１３上に固定させる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来技術にお
ける真空チャックの問題のうち、最も根本的な問題は真
空チャックで固定させ得る部品、すなわち、平板ガラス
の大きさが制限されるということである。すなわち、真
空チャックで真空が形成されるためには平板ガラスの大
きさが略横がｍ、縦がｎでなければならなく、これより
大きかったり、小さい平板ガラスであっては、上記の如
き真空チャックでは固定させられない。
【００１１】従って、需要者の要求や設計変更などの理
由から平板ガラスの大きさが変更されるとき、ステージ
装置全体を再設計しなければならない。さらに、真空チ
ャックを入れ替える場合においても理想的な露光位置や
露光条件を再設定するには時間がかかり、その結果、生
産性の低下と共に高コストを招来するという問題点があ
った。
【００１２】本発明は、上記に鑑みてなされたものであ
って、多様な大きさの部品を真空を用いて固定させ得る
真空チャックを得ることを第１の目的とする。
【００１３】また、複数の区画が分割形成され、それぞ
れの区画に対する真空の形成が独立に行われる真空チャ
ックを得ることを第２の目的とする。
【００１４】また、部品の固定において真空の形成され
る区画と形成されない区画を自動的に制御し得る真空チ
ャックを得ることを第３の目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１に係る真空チャックは、ベースプレート
と、前記ベースプレートの外周に所定の高さで形成され
た外壁と、前記外壁で取り囲まれた空間を複数の区画に
形成するように前記ベースプレート上に形成され、前記
外壁と同一の高さを有する少なくとも一つの内壁と、前
記各区画内に少なくとも一つ以上設けられ、真空源に連
結された真空吸込み手段と、を備えるものである。
【００１６】また、請求項２に係る真空チャックは、前
記各区画内に前記外壁および内壁と同一の高さで形成さ
れた複数個の支持部材を、さらに含むものである。
【００１７】また、請求項３に係る真空チャックは、前
記複数個の区画が相異なったり同一の大きさの四角形を
形成するように前記外壁および内壁が配置されるもので
ある。
【００１８】また、請求項４に係る真空チャックは、前
記複数個の区画が円状および外郭の環状を形成するよう
に前記外壁および内壁が配置されるものである。
【００１９】また、請求項５に係る真空チャックは、前
記真空吸込み手段に対する真空の供給および遮断は、メ
インコントローラによるソレノイドバルブの自動動作に
より制御され、各区画の真空作用は手動的に選別し得る
ものである。
【００２０】また、請求項６に係る真空チャックは、前
記真空吸込み手段に対する各区画の真空供給および遮断
は、メインコントローラに対する各区画の該当ソレノイ
ドバルブを被固定物の大きさによって自動制御すること
により行うものである。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面に基づき本発
明に係る真空チャックの実施の形態を、さらに詳細に説
明する。
【００２２】図１（ａ）および図１（ｂ）を参照すれ
ば、本発明に係る一実施の形態による真空チャック３０
では平板ガラス１４が配置される上面が外壁３３と複数
の内壁３３’により複数個の区画に分割される。図１
（ａ）に示された真空チャック３０の場合、外壁３３お
よび内壁３３’により形成された区画は２０個である。
それぞれの区画は設計者の意図に応じて適切な面積が与
えられる。それぞれの区画には支持部３２と真空吸込み
口３１が形成される。
【００２３】支持部３２の高さは外壁３３および内壁３
３’の高さと一致することにより平板ガラス１４が真空
チャック３０上で変形させられることを防止する。真空
吸込み口３１はそれぞれの区画に一つ以上設けられ、こ
れによりそれぞれの区画が平板ガラス１４で覆われたと
き、その内部において独立に真空を形成させることがで
きる。
【００２４】図１（ｂ）は、図１（ｂ）のＩＩＩ−ＩＩ
Ｉ線による部分断面図である。外壁３３および内壁３
３’の高さは支持部３２の高さと同一であり、底面に形
成された真空吸込み口３１は真空パイプ３５を介して外
部の真空源４４（図２参照）に連結される。
【００２５】図２は、本発明に係る真空チャックに真空
を供給する真空配管図である。真空パイプ３５の一端部
はそれぞれの真空吸込み口３１に連結され、他端部はソ
レノイドバルブ４１を介して真空チャンバ４３および真
空源４４に連結される。ソレノイドバルブはメインコン
トローラ４２により中央で電気的に自動制御されたり、
または手動制御され得る。なお、４５はメインコントロ
ーラ４２からの信号を出力するＩ／Ｏポートであり、４
６はソレノイドバルブ４１を駆動する電源である。
【００２６】例えば、それぞれの区画に対する真空の供
給は手動バルブ（図示せず）を開閉させることにより制
御し、全体的な真空の供給はソレノイドバルブ４１を用
いて制御する方式を用い得る。すなわち、真空チャック
３０を用いた繰返し作業の中で平板ガラス１４で覆われ
ない真空チャック３０の特定区画に対してはバルブの遮
断でセッティングし、平板ガラス１４で覆われる他の区
画に対してはソレノイドバルブ４１を用いて断続的に開
閉する。
【００２７】図３および図４は、本発明に係る真空チャ
ック３０により平板ガラス１４を吸着する例を示す平面
図である。図３の場合、平板ガラス１４ａは真空チャッ
ク３０の区画のうち最大区画よりやや大きいので一つの
区画により十分に吸着され得る。
【００２８】従って、前述したソレノイドバルブ４１の
作用により該当区画にのみ真空を供給して平板ガラス１
４ａを固定させる。これに対して、図４の場合は平板ガ
ラス１４ｂの大きさが９個の区画の大きさに当たるの
で、この９個の区画に真空を供給し、他の１１個の区画
に対しては真空を遮断する。
【００２９】以上、本発明は、液晶ディスプレイ素子用
の長方形の平板ガラス１４ａ，１４ｂを吸着固定させ得
る真空チャックに限定して説明したが、本発明はこれに
限定されるものではない。例えば、半導体素子用の円状
のウェーハを吸着固定させ得る真空チャックが本発明に
係る技術的思想により具現化でき、その一実施の形態を
図５（ａ）および図５（ｂ）に示してある。
【００３０】図５（ａ）および図５（ｂ）を参照する
と、ウェーハは通常的に円状に加工されるので、これを
固定させる真空チャックも円状であることが望ましい。
図５（ａ）の真空チャック７０では相異なる直径の円状
の壁７１、７２、７３を同心円状に配置することにより
中心部の円状の区画および他の環状の区画が形成され
る。
【００３１】真空吸込み口７７、７８、７９に対する真
空の供給は半径方向に設けられた真空パイプ７４、７
５、７６により行う。それぞれの区画には支持部８０が
形成される。図５（ａ）のＶＩＩ−ＶＩＩ線による断面
図である図５（ｂ）において、支持部８０の高さは外側
の環状の区画を形成する側壁７１、７２の高さと同一で
あることが判る。ウェーハは同一高さの支持部８０と側
壁７１、７２上に配置されることにより変形が防止され
る。
【００３２】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明に係る真空チ
ャックによれば、真空チャックの区画を様々な大きさで
設定することにより様々な大きさの部品を吸着固定させ
得る長所がある。さらに、メインコントローラで自動に
それぞれの区画に対する真空の制御が可能なので部品の
大きさに係らず容易に真空チャックを用いることができ
る。
【００３３】以上、実施の形態を通じて本発明を詳細に
説明したが、当業者にとってはこれから多様な変形例を
導き出すことが可能であることを理解することができ
る。従って、本発明の真の保護範囲は、特許請求の範囲
のみにより定められるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る真空チャックの構成を示す平面図
および部分断面図である。
【図２】図１に示した真空チャックの真空供給配管を示
す説明図である。
【図３】本発明に係る真空チャックの利用状態を示す平
面図である。
【図４】本発明に係る真空チャックの利用状態を示す平
面図である。
【図５】本発明に係る他の真空チャックの構成を示す平
面図および断面図である。
【図６】通常的な液晶ディスプレイ素子の露光装置の概
略構成を示す斜視図である。
【図７】従来の技術による真空チャックの構成を示す平
面図および部分断面図である。
【符号の説明】
１４ 平板ガラス ３０ 真空チャック ３１ 真空吸込み口 ３２ 支持部 ３３ 外壁 ３３’内壁 ３５ 真空パイプ ４１ ソレノイドバルブ ４２ メインコントローラ ４３ 真空チャンバ ４４ 真空源 ７０ 真空チャック ７１〜７３ 壁 ７４〜７６ 真空パイプ ７７〜７９ 真空吸込み口 ８０ 支持部

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ベースプレートと、 前記ベースプレートの外周に所定の高さで形成された外
    壁と、 前記外壁で取り囲まれた空間を複数の区画に形成するよ
    うに前記ベースプレート上に形成され、前記外壁と同一
    の高さを有する少なくとも一つの内壁と、 前記各区画内に少なくとも一つ以上設けられ、真空源に
    連結された真空吸込み手段と、 を備えることを特徴とする真空チャック。
  2. 【請求項２】 前記各区画内に前記外壁および内壁と同
    一の高さで形成された複数個の支持部材を、さらに含む
    ことを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
  3. 【請求項３】 前記複数個の区画が相異なったり同一の
    大きさの四角形を形成するように前記外壁および内壁が
    配置されることを特徴とする請求項１に記載の真空チャ
    ック。
  4. 【請求項４】 前記複数個の区画が円状および外郭の環
    状を形成するように前記外壁および内壁が配置されるこ
    とを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
  5. 【請求項５】 前記真空吸込み手段に対する真空の供給
    および遮断は、メインコントローラによるソレノイドバ
    ルブの自動動作により制御され、各区画の真空作用は手
    動的に選別し得ることを特徴とする請求項１〜４のいず
    れか一つに記載の真空チャック。
  6. 【請求項６】 前記真空吸込み手段に対する各区画の真
    空供給および遮断は、メインコントローラに対する各区
    画の該当ソレノイドバルブを被固定物の大きさによって
    自動制御することにより行うことを特徴とする請求項１
    〜４のいずれか一つに記載の真空チャック。
JP27579996A 1995-10-27 1996-10-18 真空チャック Pending JPH09134949A (ja)

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