JP4672784B2 - 露光機および露光機用チャックステージ - Google Patents
露光機および露光機用チャックステージ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4672784B2 JP4672784B2 JP2009123273A JP2009123273A JP4672784B2 JP 4672784 B2 JP4672784 B2 JP 4672784B2 JP 2009123273 A JP2009123273 A JP 2009123273A JP 2009123273 A JP2009123273 A JP 2009123273A JP 4672784 B2 JP4672784 B2 JP 4672784B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mounting surface
- chuck
- protrusions
- held
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
まず、図1により、本発明に係る露光機用チャックステージを備えた露光機の全体構成について説明する。
11 本体
12 駆動ステージ
13 チャックステージ
14 マスク
15 マスクホルダ
16 光源
17 反射鏡
18 マスキング要素
19 ガラス基板
20 載置面
21,22,23 チャック用壁部
24 真空吸引孔
25 突起部
Claims (3)
- 本体と、
前記本体に取り付けられ、露光対象となる感光材付きの矩形状基板を真空チャック方式で保持する露光機用チャックステージと、
前記露光機用チャックステージ上方に配置され、前記基板の外縁に沿って平行に延びるストライプ状のパターンを有するマスクと、
前記マスク上方に配置された光源とを備え、
前記露光機用チャックステージは、
保持対象となる基板を真空吸着するための真空吸引孔を有する載置面と、
前記載置面のうち保持対象となる基板の外縁に対応する部位に形成されたチャック用壁部と、
前記基板を支持するよう前記載置面上に形成された複数の突起部であって、前記載置面の面内にて不規則的に配置された複数の突起部とを有し、
前記複数の突起部を前記載置面の面内で不規則的に配置したことにより、前記基板を通過して前記載置面で反射される光に起因して生じるムラが不規則的なパターンを含むようにしたことを特徴とする、露光機。 - 前記各突起部は、保持対象となる基板の下面に接触する円形状の頂部端面を有することを特徴とする、請求項1に記載の露光機。
- 露光機用チャックステージにおいて、
保持対象となる基板を真空吸着するための真空吸引孔を有する載置面と、
前記載置面のうち保持対象となる基板の外縁に対応する部位に形成されたチャック用壁部と、
前記基板を支持するよう前記載置面上に形成された複数の突起部であって、前記載置面の面内にて不規則的に配置された複数の突起部とを有し、
前記複数の突起部を前記載置面の面内で不規則的に配置したことにより、前記基板を通過して前記載置面で反射される光に起因して生じるムラが不規則的なパターンを含むようにしたことを特徴とする、露光機用チャックステージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009123273A JP4672784B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 露光機および露光機用チャックステージ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009123273A JP4672784B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 露光機および露光機用チャックステージ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003114011A Division JP4500503B2 (ja) | 2003-04-18 | 2003-04-18 | 露光機および露光機用チャックステージ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009188427A JP2009188427A (ja) | 2009-08-20 |
JP4672784B2 true JP4672784B2 (ja) | 2011-04-20 |
Family
ID=41071306
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009123273A Expired - Fee Related JP4672784B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 露光機および露光機用チャックステージ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4672784B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101415386B1 (ko) * | 2009-11-25 | 2014-07-04 | 엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤 | 노광 유닛 및 기판의 노광 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0837227A (ja) * | 1994-07-25 | 1996-02-06 | Hitachi Ltd | ウエハチャックおよびそれを用いた露光装置 |
JPH09134949A (ja) * | 1995-10-27 | 1997-05-20 | Samsung Aerospace Ind Ltd | 真空チャック |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2002246375A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2002313898A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-10-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板載置台およびその製造方法ならびに処理装置 |
-
2009
- 2009-05-21 JP JP2009123273A patent/JP4672784B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0837227A (ja) * | 1994-07-25 | 1996-02-06 | Hitachi Ltd | ウエハチャックおよびそれを用いた露光装置 |
JPH09134949A (ja) * | 1995-10-27 | 1997-05-20 | Samsung Aerospace Ind Ltd | 真空チャック |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2002313898A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-10-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板載置台およびその製造方法ならびに処理装置 |
JP2002246375A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009188427A (ja) | 2009-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI291048B (en) | Light exposure apparatus | |
TW201712778A (zh) | 藉由控制晶圓支座以達成邊緣密封而減少背側沉積的方法及設備 | |
WO2019228006A1 (zh) | 蒸镀用掩模板的制作方法及蒸镀用掩模板 | |
JP4500503B2 (ja) | 露光機および露光機用チャックステージ | |
JP2006152396A (ja) | メタルマスク、電鋳用マスク原版及びマスター原版の製造方法 | |
CN111381434B (zh) | 掩膜板及曝光方法 | |
US20200291510A1 (en) | Deposition mask apparatus | |
WO2006109921A1 (en) | Manufacturing method of slanted-pyramid microlens and its application to light guide plate | |
JP6303154B2 (ja) | 成膜マスク、その製造方法及びタッチパネル | |
JP4799172B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2014203860A5 (ja) | ホルダ、ステージ装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 | |
JP4672784B2 (ja) | 露光機および露光機用チャックステージ | |
JP2004063669A (ja) | 半導体製造装置クリーニングウエハとその製造方法、およびそれを用いたクリーニング方法 | |
JP2013207128A (ja) | 基板保持装置、および、基板処理装置 | |
JP2001111078A (ja) | 薄膜太陽電池の製造装置 | |
JP2013171088A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光形成方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5355261B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光形成方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
EP1189111A1 (en) | Production device for printed board, production method for printed board and printed board | |
JP6347285B2 (ja) | 物体処理装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 | |
JP2009282110A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2020046681A (ja) | 露光装置 | |
TWI522734B (zh) | 非相位移光罩之製造方法 | |
KR20150043699A (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치 및 그 방법 | |
JP2008191352A (ja) | 露光装置、及び露光装置の負圧室の天板を交換する方法 | |
KR20020071398A (ko) | 반도체 장치의 제조에서 건식 식각 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101015 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101021 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110119 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4672784 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |