KR20150043699A - 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치 및 그 방법 - Google Patents

평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치 및 그 방법 Download PDF

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주식회사 에스에프에이
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Abstract

평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치는, 기판얼라인마크가 형성된 기판의 증착공정이 진행되는 공정챔버; 공정챔버 내부에서 상하로 이동가능하게 설치되며, 기판이 로딩(Loading)되는 서셉터; 기판을 향해 증착원의 증기를 선택적으로 통과시키되 마스크얼라인마크가 형성된 마스크를 지지하는 마스크지지유닛; 기판과 마스크의 얼라인여부를 인식하기 위해, 기판얼라인마크와 마스크얼라인마크를 촬영하는 얼라인카메라유닛; 및 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 결과로부터 마스크얼라인마크의 인식률을 파악하여 기판과 마스크가 얼라인되도록 제어하는 제어유닛를 포함한다.

Description

평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치 및 그 방법{CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR FLAT DISPLAY AND ITS METHOD}
본 발명은, 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 마스크에 부분적인 부식이 존재하는 경우에도 기판과 마스크의 얼라인이 가능한 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
최근 정보 통신 기술의 비약적인 발전과 시장의 팽창에 따라 디스플레이 소자로 평면디스플레이(Flat Display)가 각광받고 있다. 이러한 평면디스플레이로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 유기전계발광다이오드(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 등이 대표적이다.
여기서, 유기전계발광다이오드는, 상대적으로 빠른 응답속도, 기존의 액정표시장치보다 낮은 소비 전력, 경량성, 별도의 백라이트(back light)없이 초박형으로 만들 수 있는 점, 고휘도 등의 다양한 장점에 의해 차세대 디스플레이로서 주목받고 있다.
이러한 유기전계발광다이오드는 기판 위에 양극 막, 유기박막, 음극 막을 순서대로 입히고, 양극과 음극 사이에 전압을 걸어줌으로써 적당한 에너지의 차이가 유기박막에 형성되어 스스로 발광하는 원리이다.
즉, 주입되는 전자와 정공(hole)이 재결합하며 남는 여기 에너지가 빛으로 발생하는 것이다. 이때 유기 물질의 도판트의 양에 따라 발생하는 빛의 파장을 조절할 수 있으므로 풀 칼라(full color)의 구현이 가능하다.
다시 설명하면, 유기전계발광다이오드는 유기박막에 음극(Cathode)과 양극(Anode)을 통하여 주입된 전자(Electron)와 정공(Hole)이 재결합하여 여기자를 형성하고, 형성된 여기자로부터의 에너지에 의해 특정한 파장의 빛이 발생되는 현상을 이용한 표시장치이다.
따라서, 유기전계발광다이오드는 기판상에 양극, 유기박막, 음극의 적층형 구조를 가지고 있다. 기판은 일반적으로 유리(Glass)를 사용하지만 경우에 따라 구부림이 가능한 플라스틱(Plastic)이나 필름(Film) 종류를 사용하기도 한다.
기판상의 양극 전극은 주로 ITO(Indium-Tin-Oxide)를 사용한다. 유기박막은 전자수송층(Electron Transport Layer; ETL), 유기발광층(Emitting Layer; EML), 정공수송층(Hole Transport Layer; HTL) 등으로 구성되어 있으며, 별도의 전자주입층(Electron Injecting Layer; EIL) 또는 정공주입층(Hole Injecting Layer; HIL)을 추가로 삽입하기도 한다.
음극 전극으로는 일함수가 작은 마그네슘(Magnesium) 또는 리튬(Lithium) 등을 적용하는 데, 마그네슘은 유기박막과의 접착성이 상대적으로 우수한 은을 동시에 증착하고 안정도가 낮은 리튬은 알루미늄과 동시에 증착을 한다.
여기서, 양극 전극에 흔히 쓰이는 ITO는 반도체 제조 공정에서 일반적으로 사용되는 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 정교한 패터닝(Patterning)을 할 수 있다.
그러나, 음극 전극의 패터닝은 음극 전극의 밑에 형성되어 있는 유기박막층이 포토리소그라피 공정 중 물이나 솔벤트(Solvent)에 노출될 경우 그 특성이 열화하기 때문에 일반적인 포토리소그라피 공정을 사용하기가 어렵다.
따라서, 음극 전극의 패터닝 공정은 금속 마스크를 사용한 화학 기상 증착(CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, CVD) 방식을 주로 이용하고 있다.
한편, 이와 같은 공정들에 의해 양품의 유기전계발광다이오드를 제조하기 위해서는 기판상에 박막증착이나 패턴식각 등 소정 처리를 진행하기 전에 먼저 각 층들의 토대인 기판을 정렬하는 것이 무엇보다 중요하다.
특히, 소정 패턴이 형성된 금속 마스크를 사용하여 음극 전극을 패터닝하는 공정은 기판의 상면에 마스크를 안착시킨 후 마스크의 패턴 사이사이를 통해 기판상에 소정 패턴박막을 증착하기 때문에 기판의 상면에 마스크를 안착시키고 공정을 진행하기 전에 먼저 기판을 정확히 정렬해야 한다.
일반적으로, 기판을 마스크에 정렬시키는 얼라인 방식은, 금속 마스크에 형성된 소정 크기의 원형홀과 기판의 얼라인 마크를 카메라 등으로 인식한 다음, 기판과 마스크를 정렬하는 방식을 사용하며, 이후, 기판과 마스크가 정렬되면 증착을 하게 된다.
즉, 금속 마스크에 형성되는 원형홀에 빛을 조사하게 되면, 빛이 원형홀을 통해 직진하게 되고 반사하지 않으므로, 카메라의 촬영된 결과에는 검은색으로 표시되고, 금속 마스크에서 원형홀이 형성되지 않은 금속부분은 빛이 반사되므로, 카메라의 촬영된 결과에는 흰색 등으로 표시된다.
그리고, 검은색으로 표시되는 원형홀 부분과 기판의 얼라인 마크를 맞추는 방식을 통해 마스크와 기판을 얼라인하게 된다.
하지만, 화학 기상 증착 공정 중 사용되는 금속 마스크에는 증착물질이 부착되므로 증착공정 후 금속 마스크에 부착된 증착물질을 제거하기 위해 플루오린(Fluorine)을 사용하여 금속 마스크의 클리닝(Cleaning)을 진행하게 되는데, 이러한 클리닝 과정에서 금속 마스크 자체와 금속 마스크의 코팅(Coating) 물질이 부식을 일으키면, 금속 마스크의 광 반사율이 변경되게 된다.
그리고, 금속 마스크의 변경된 광 반사율에 의해 금속 마스크의 원형홀의 경계가 불명확해지면서 원형홀의 인식률이 저하되는 문제점이 발생된다.
또한, 원형홀에 대한 인식률이 저하되면, 금속 마스크와 기판의 얼라인시 얼라인의 정확도가 현저히 감소하는 문제점도 발생된다.
대한민국공개특허 공개번호:제10-2007-0080536호(공개일자:2007년08월10일)
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 인식률에 따라 인식가능한 마스크얼라인마크를 선택하여 기판과 마스크의 얼라인을 진행하며, 이를 통해, 마스크의 부분적 부식에서도 기판과 마스크의 정렬이 가능한 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치 및 그 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 기판얼라인마크가 형성된 기판의 증착공정이 진행되는 공정챔버; 상기 공정챔버 내부에서 상하로 이동가능하게 설치되며, 상기 기판이 로딩(Loading)되는 서셉터; 상기 공정챔버 내부에서 배치되어 마스크얼라인마크가 형성된 마스크를 지지하는 마스크지지유닛; 상기 기판과 상기 마스크의 얼라인여부를 인식하기 위해, 상기 기판얼라인마크와 상기 마스크얼라인마크를 촬영하는 얼라인카메라유닛; 및 상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 결과로부터 상기 마스크얼라인마크의 인식률을 파악하여 상기 기판과 상기 마스크가 얼라인되도록 제어하는 제어유닛을 포함하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 마스크얼라인마크는 복수로 마련되며, 상기 제어유닛은, 상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 상기 마스크얼라인마크의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 높다고 판단되는 경우 필요마스크얼라인마크로 지정하며, 복수의 상기 마스크얼라인마크 중 상기 필요마스크얼라인마크를 사용하여 얼라인을 진행할 수 있다.
그리고, 상기 제어유닛은, 상기 마스크에서 대각선 상에 상호 배치되는 한 쌍의 상기 마스크얼라인마크가 상기 필요마스크얼라인마크인 경우를 포함하게 되면 얼라인을 진행할 수 있다.
또한, 상기 마스크얼라인마크는 복수로 마련되고, 상기 얼라인카메라유닛에 의한 촬영 결과를 표시하는 디스플레이유닛을 더 포함하며, 상기 제어유닛은, 상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 상기 마스크얼라인마크의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 낮다고 판단되는 경우 폐기마스크얼라인마크로 지정하고, 상기 디스플레이유닛을 통해 상기 폐기마스크얼라인마크를 표시하도록 마련될 수 있다.
그리고, 상기 마스크지지유닛은, 한 쌍으로 마련되어 상기 마스크가 안착되는 마스크안착부재; 및 상기 한 쌍의 마스크안착부재를 상호 연결하여 지지하는 적어도 하나의 연결지지부재를 포함할 수 있다.
또한, 상기 연결지지부재는 상기 공정챔버의 바닥면에 설치될 수 있다.
그리고, 상기 증착공정에 사용된 클리닝 가스의 배기(排氣)시 상기 클리닝 가스의 유동을 균일하게 하기 위해, 상기 서셉터에 결합되는 가스유동균일플레이트를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 가스유동균일플레이트는, 상기 서셉터에 대응되는 형상으로 형성되며, 상기 공정챔버로부터 미리 결정된 간격으로 이격되도록 상기 서셉터의 상측에 결합될 수 있다.
그리고, 상기 공정챔버는, 상기 얼라인카메라유닛의 촬영을 위해 상기 얼라인카메라유닛의 대응되는 위치에 형성되는 촬영홀; 및 상기 촬영홀에 결합되되 빛이 통과하도록 마련되는 뷰포트(Viewport)를 포함할 수 있다.
또한, 상기 얼라인카메라유닛의 촬영을 위해 상기 뷰포트에 결합되는 조명유닛을 더 포함할 수 있다.
그리고, 상기 뷰포트는, 상기 얼라인카메라유닛의 촬영을 위한 빛이 통과하는 통과창; 및 상기 통과창이 상기 촬영홀에 결합되도록 마련되는 결합부재를 포함하며, 상기 조명유닛은 적어도 하나로 마련되어 상기 통과창의 하부에 결합될 수 있다.
한편, 본 발명의 일 측면에 따르면, 평면디스플레이용 화학 기상 증착 방법에서, 마스크얼라인마크가 형성된 마스크에 기판얼라인마크가 형성된 기판이 결합되는 단계; 상기 기판과 상기 마스크의 얼라인여부를 인식하기 위해 얼라인카메라유닛을 통해 상기 기판얼라인마크와 상기 마스크얼라인마크를 촬영하는 단계; 상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 결과로부터, 제어유닛이 상기 마스크얼라인마크의 인식률을 파악하여 상기 기판과 상기 마스크가 얼라인되도록 제어하는 단계를 포함하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 방법이 제공될 수 있다.
또한, 상기 기판과 상기 마스크가 얼라인되도록 제어하는 단계는, 상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 상기 마스크얼라인마크의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 높다고 판단되는 경우 상기 제어유닛에서 필요마스크얼라인마크로 지정하며, 복수의 상기 마스크얼라인마크 중 상기 필요마스크얼라인마크를 사용하여 얼라인을 진행하는 단계를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 필요마스크얼라인마크를 사용하여 얼라인을 진행하는 단계는, 상기 마스크에서 대각선 상에 상호 배치되는 한 쌍의 상기 마스크얼라인마크가 상기 필요마스크얼라인마크인 경우를 포함하게 되면, 얼라인을 진행하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들은, 인식률에 따라 인식가능한 마스크얼라인마크를 선택하여 기판과 마스크의 얼라인을 진행하며, 이를 통해, 마스크의 부분적 부식에서도 기판과 마스크의 정렬이 가능한 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치를 개략적으로 도시한 측단면도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 기판얼라인마크와, 마스크얼라인마크를 도시한 도면이다.
도 3(a) 및 도 3(b)는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크의 부식(腐蝕) 전과 부식(腐蝕) 후의 얼라인마크를 각각 도시한 도면이다.
도 4(a)는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크얼라인마크의 인식률에 따라 얼라인이 가능한 상태를 도시한 도면이다.
도 4(b)는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크얼라인마크의 인식률에 따라 얼라인이 불가능한 상태를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 연결지지부재가 결합된 모습의 개략적인 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크안착부재에 연결지지부재가 결합된 사시도이다.
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 가스유동균일플레이트가 설치된 모습의 개략적인 측단면도이다.
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 뷰포트에 조명유닛이 결합된 모습의 개략적인 측단면도이다.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.
본 명세서에서 사용되는 '연결' 또는 '결합'이라는 용어는, 하나의 부재와 다른 부재를 직접 연결 또는 결합하는 경우뿐만 아니라 하나의 부재가 이음부재를 통해 다른 부재에 간접적으로 연결 또는 결합되는 경우도 포함됨을 밝혀 둔다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치를 개략적으로 도시한 측단면도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 기판얼라인마크와, 마스크얼라인마크를 도시한 도면이며, 도 3(a) 및 도 3(b)는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크의 부식(腐蝕) 전과 부식(腐蝕) 후의 얼라인마크를 각각 도시한 도면이고, 도 4(a)는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크얼라인마크의 인식률에 따라 얼라인이 가능한 상태를 도시한 도면이며, 도 4(b)는 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크얼라인마크의 인식률에 따라 얼라인이 불가능한 상태를 도시한 도면이다.
본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치는, 플렉시블 디스플레이(Flexible Display), 액정표시장치(Liquid Crystal Display, LCD ), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP) 또는 유기전계발광다이오드(Organic Light Emitting Diodes, OLED)의 증착공정에서 사용될 수 있다.
그리고, 증착공정에서 사용되는 기판(500)은 유리(Glass)를 사용할 수도 있고, 경우에 따라, 휘어짐 또는 구부림이 가능한 플라스틱(Plastic)이나 필름(Film) 종류를 사용할 수도 있다.
도 1을 참조하면, 공정챔버(100)는 기판(500)의 증착공정이 진행되도록 마련된다. 여기서, 증착공정은 외부의 고주파 전원에 의해 플라즈마(Plasma)화 되어 높은 에너지를 갖는 증착원의 증기를 기판(500)상으로 증착시키는 공정이다.
이러한 증착 공정을 수행하기 위해 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치는, 공정챔버(100) 내부에서 상하로 이동가능하게 설치되며, 기판(500)이 로딩(Loading)되는 서셉터(200)를 포함한다.
그리고, 공정챔버(100) 내부에는 전극(백킹 플레이트, 미도시)과, 전극의 하부에 마련되어 알에프(RF) 전극 및 가스유입구 역할을 하는 가스분배판(미도시)이 구비된다.
여기서, 가스분배판(미도시)은 접지 전극(미도시)과의 사이에 버퍼공간이 형성되도록 접지 전극(미도시)으로부터 소정 거리 이격되게 배치될 수 있으며, 가스분배판(미도시)의 판면에는 미세한 크기의 복수개의 관통공이 형성될 수 있다.
이러한 가스분배판(미도시)은, 기판(500)상에 증착되는 증착막의 균일도 유지를 위해 기판(500)이 로딩된 서셉터(200)와 실질적으로 나란하게 배치되며, 서셉터(200)와의 간격 역시 적절하게 조절된다.
이러한 구성에 의해, 증착 공정이 진행되면, 공정가스가 챔버의 상부에서 전극을 통해 하방으로 주입된 후, 버퍼공간을 통해 확산된 다음, 가스분배판(미도시)에 형성된 복수개의 관통공을 통해 분출됨으로써 기판(500)상에 증착막이 형성될 수 있게 된다.
여기서, 전술한 바와 같이, 마스크(600)를 통해 기판(500)상에 증착공정을 진행하는 경우, 증착공정의 진행 전에 기판(500)을 정렬하는 것이 무엇보다 중요하다.
즉, 기판(500)을 향해 증착원의 증기를 선택적으로 통과시키도록 마련되는 마스크(600)를 사용하여 기판(500)에 증착하는 공정은, 기판(500)의 상면에 마스크(600)를 안착시킨 후 마스크(600)의 패턴 사이사이를 통해 기판(500)상에 소정 패턴박막을 증착하기 때문에 기판(500)의 상면에 마스크(600)를 안착시키고 공정을 진행하기 전에 먼저 기판(500)과 마스크(600)를 정확히 얼라인해야 한다.
이를 위해, 기판(500)에는 기판얼라인마크(510)가 형성될 수 있는데, 여기서, 기판얼라인마크(510)는 빛이 반사될 수 있는 다양한 형상의 마크로 마련될 수 있으며, 예를 들어, 도 2를 참조하면, 기판얼라인마크(510)는 십자형태로 마련될 수 있다.
그리고, 기판얼라인마크(510)는 기판(500)의 다양한 위치에 다양한 개수로 마련될 수 있지만, 이하에서는 설명의 편의를 위해 4개의 기판얼라인마크(510)가 기판(500)의 각 모서리에 마련되는 경우를 중심으로 설명한다.
또한, 후술하는 마스크얼라인마크(610)도 마스크(600)의 다양한 위치에 다양한 개수로 마련될 수 있지만, 설명의 편의를 위해 4개의 마스크얼라인마크(610)가 마스크(600)의 각 모서리에 마련되는 경우를 중심으로 설명한다. 다만, 본 명세서의 권리범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 마스크(600)는 공정챔버(100) 내부에 배치되는 마스크지지유닛(300)에 의해 지지되며, 마스크(600)의 하부에 기판(500)이 결합된다.
즉, 공정챔버(100)의 일측, 예를 들어, 측면게이트(G)를 통해 로봇암(미도시)에 의해 마스크(600)가 마스크지지유닛(300) 상부에 안착되면, 서셉터(200)가 상측으로 이동하게 되며, 서셉터(200)에 로딩되어 있는 기판(500)이 마스크(600)의 하부에 결합된다.
그리고, 도 2를 참조하면, 기판(500)에 형성된 기판얼라인마크(510)에 대응될 수 있도록, 마스크(600)에는 마스크얼라인마크(610)가 형성되는데, 마스크얼라인마크(610)는 마스크(600)에 형성된 개구를 포함하는 원형홀(610)일 수 있다.
여기서, 마스크(600) 하부에 기판(500)이 정확하게 결합되면, 마스크얼라인마크(610), 즉, 원형홀(610)에 십자형태의 기판얼라인마크(510)가 겹쳐질 수 있는데, 이 경우, 마스크얼라인마크(610)는 마스크(600)에 형성된 개구를 포함하는 원형홀(610)일 수 있므로, 원형홀(610)을 통해 십자형태의 기판얼라인마크(510)를 확인할 수 있다.
즉, 마스크(600) 하부에 기판(500)을 결합 후, 얼라인카메라유닛(400)을 통해 기판얼라인마크(510)와 마스크얼라인마크(610)를 촬영하게 되면, 기판(500)과 마스크(600)가 정확하게 정렬되었는지 인식할 수 있다.
여기서, 얼라인카메라유닛(400)은 후술하는 공정챔버(100) 하부에 배치되는 스테이지(800)에 결합되며, 공정챔버(100)에 형성된 뷰포트(120)를 통해 기판얼라인마크(510)와 마스크얼라인마크(610)를 촬영하게 된다.
기판(500)과 마스크(600)가 정확하게 정렬되었는지 여부의 인식과정에 대해 보다 상세히 설명하면, 전술한 바와 같이, 마스크(600)에 형성되는 마스크얼라인마크(610), 즉, 원형홀(610)에 빛을 조사하게 되면 빛이 원형홀(610)을 통해 직진하게 되고 반사하지 않으므로 얼라인카메라유닛(400)의 촬영된 결과에는 검은색으로 표시되고, 마스크(600)에서 원형홀(610)이 형성되지 않은 금속부분은 빛이 반사되므로 카메라의 촬영된 결과에는 흰색 등으로 표시된다.
그리고, 검은색으로 표시되는 원형홀(610) 부분과 십자형태의 기판얼라인마크(510)의 겹치는 부분을 통해 기판(500)과 마스크(600)가 정확하게 정렬되었는지 인식할 수 있으며, 기판(500)과 마스크(600)가 정확하게 정렬되지 않은 경우, 스테이지(800)를 구동하여 얼라인을 실행할 수 있다.
여기서, 스테이지(800)는 3차원 평면상의 X축, Y축, Z축으로 구동가능하게 마련될 뿐만 아니라 축을 중심으로 회전 가능하게 마련될 수 있다. 또한, 스테이지(800)는 LM가이드(Linear Motion Guide)를 포함하여 구성될 수 있다.
그리고, 스테이지(800)에 서셉터(200)가 결합되어 스테이지(800)가 구동하게 되면 스테이지(800)에 연결된 서셉터(200) 역시 스테이지(800)의 구동방향에 연동되어 대응되는 방향으로 구동되며, 서셉터(200)에 로딩되어 있는 기판(500) 역시 X축, Y축, Z축으로 구동되고 또한 축을 중심을 회전하게 된다. 이러한 작동과정을 통해 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인을 실행하게 된다.
한편, 기판(500)에 결합되는 마스크(600)는 금속 내지 합금, 예를 들어, 철과 니켈의 합금인 인바(Invar)를 사용할 수 있는데, 전술한 바와 같이, 증착공정 후 마스크(600)에 부착된 증착물질을 제거하기 위해 플루오린(Fluorine)을 사용하여 마스크(600)의 클리닝(Cleaning)을 진행하게 되면, 마스크(600)가 부식되어 부식지점(620)에서 광 반사율이 변하게 된다.
즉, 마스크(600)에서 부식지점(620)에 빛을 조사하게 되면, 광 반사율의 변화로 인해 해당 부분, 즉, 부식지점(620)이 검은색으로 표시된다.
여기서, 마스크(600)에 형성되는 마스크얼라인마크(610)인 원형홀(610) 역시 검은색으로 표시되므로, 원형홀(610)의 주위에 부식이 발생되면 원형홀(610) 주위도 검은색으로 표시되어서, 원형홀(610)과 마스크(600) 금속 내지 합금 부분의 경계가 모호해진다.
즉, 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인 여부를 판단하기 위해, 얼라인카메라유닛(400)에 의해 촬영된 결과로부터 십자형태의 기판얼라인마크(510)가 마스크(600)의 원형홀(610)에 겹쳐지는지 여부를 살펴보게 된다.
여기서, 도 3(a)에서처럼 기판얼라인마크(510)가 마스크(600)의 원형홀(610)에 겹쳐지게 되면 기판(500)과 마스크(600)가 정확하게 정렬된 것으로 판단할 수 있다.
그러나, 도 3(b)에서처럼 부식으로 인해 마스크(600)의 금속 내지 합금 부분과 원형홀(610)의 경계가 모호해지게 되면, 십자형태의 기판얼라인마크(510)가 원형홀(610)을 벗어나는 경우에도 설정범위 내에서 정렬이 되었다고 판단할 수 있으며, 이는 증착과정에서 공정오차를 발생시킬 수 있게 된다.
따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치는 제어유닛(미도시)에 의해, 얼라인카메라유닛(400)에 의해 촬영된 결과로부터 마스크얼라인마크(610)의 인식률을 판단하고, 해당 인식률이 미리 설정된 범위보다 높다고 판단되는 마스크얼라인마크(610)를 사용하여 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인을 실시하게 된다. 이하, 이에 대해 상세히 설명한다.
제어유닛(미도시)은 얼라인카메라유닛(400)에 의해 촬영된 마스크얼라인마크(610)의 인식률을 판단한다. 즉, 마스크얼라인마크(610) 주변이 일부 부식되어 있더라도 마스크얼라인마크(610)의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 높다고 판단되는 경우, 해당 마스크얼라인마크(610)를 필요마스크얼라인마크(611)로 지정한다.
그리고, 마스크얼라인마크(610) 주변의 부식에 의해 마스크얼라인마크(610)의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 낮다고 판단되는 경우, 해당 마스크얼라인마크(610)를 폐기마스크얼라인마크(612)로 지정한다.
여기서, 제어유닛(미도시)은, 사용자가 폐기마스크얼라인마크(612)를 인식할 수 있도록 디스플레이유닛(미도시)을 통해 폐기마스크얼라인마크(612)를 표시하며, 사용자는 해당 폐기마스크얼라인마크(612)에 생성된 부식을 제거하거나 또는 필요에 따라 마스크(600)를 교체할 수 있다.
한편, 제어유닛(미도시)은 필요마스크얼라인마크(611)로 지정된 마스크얼라인마크(610)를 사용하여 얼라인을 진행할 수 있을지 여부를 판단한다. 여기서, 복수의 필요마스크얼라인마크(611)를 통해 얼라인을 진행할 수 있다고 판단되면, 전술한 바와 같이, 스테이지(800)를 X축, Y축, Z축으로 구동하거나 축을 중심을 회전하여 얼라인을 진행하게 된다.
그리고, 복수의 필요마스크얼라인마크(611)를 통해 얼라인을 진행할 수 없다고 판단되면, 디스플레이유닛(미도시)을 통해 얼라인 진행 불가 표시를 하게 되며, 사용자는 부식 제거 또는 마스크(600) 교체 등의 작업을 수행하게 된다.
여기서, 복수의 필요마스크얼라인마크(611)를 통해 얼라인의 진행여부를 판단하는 과정에 대해 설명한다.
도 4(a)를 참조하면, 제어유닛(미도시)은, 마스크(600)에서 대각선 상에 상호 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)인 경우를 포함하게 되면 얼라인을 진행할 수 있는 것으로 판단한다.
구체적으로, 도 4(a)의 (1)을 참조하면, 4개의 마스크얼라인마크(610)가 모두 필요마스크얼라인마크(611)이고, 이 경우, 대각선 상에 배치되는 두 쌍의 마스크얼라인마크(X1,Y1)가 필요마스크얼라인마크(611)이므로, '대각선 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)인 경우를 포함'하는 경우에 해당되며, 얼라인을 진행할 수 있게 된다.
그리고, 도 4(a)의 (2)를 참조하면, 3개의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)이고, 1개의 마스크얼라인마크(610)가 폐기마스크얼라인마크(612)인데, 여기서, 대각선 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(X2)가 필요마스크얼라인마크(611)이므로, 이 경우 역시 '대각선 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)인 경우를 포함'하는 경우에 해당되며, 얼라인을 진행할 수 있게 된다.
또한, 도 4(a)의 (3)을 참조하면, 2개의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)이고, 2개의 마스크얼라인마크(610)가 폐기마스크얼라인마크(612)인데, 여기서, 대각선 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(X3)가 필요마스크얼라인마크(611)이므로, 이 경우 역시 '대각선 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)인 경우를 포함'하는 경우에 해당되며, 얼라인을 진행할 수 있게 된다.
한편, 도 4(b)를 참조하면, 2개의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)이고, 2개의 마스크얼라인마크(610)가 폐기마스크얼라인마크(612)인데, 여기서, 대각선이 아닌 라인 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(X4)가 필요마스크얼라인마크(611)이므로, '대각선 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)인 경우를 포함'하는 경우에 해당되지 않으며, 이 경우, 얼라인을 진행할 수 없게 된다.
즉, 대각선 상에 배치되는 필요마스크얼라인마크(611)가 적어도 한 쌍이 존재하는 경우에 얼라인을 진행할 수 있게 된다.
그리고, 제어유닛(미도시)은 전술한 과정을 통해 얼라인의 진행여부를 판단 후 얼라인을 진행하거나, 디스플레이유닛(미도시)을 통해 얼라인 진행 불가 표시를 하게 된다.
이하, 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 인식률에 따라 인식가능한 마스크얼라인마크(610)를 선택하여 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인을 진행하는 것에 대한 작용 및 효과에 대해 설명한다.
우선, 공정챔버(100)의 측면게이트(G)를 통해 마스크(600)가 마스크지지유닛(300) 상부에 안착되면, 서셉터(200)가 상측으로 이동하여 기판(500)이 마스크(600)의 하부에 결합된다.
그리고, 얼라인카메라유닛(400)이 기판얼라인마크(510)와 마스크얼라인마크(610)를 촬영하게 되며, 기판얼라인마크(510)와 마스크얼라인마크(610)가 미리 결정된 범위 내에서 겹치게 되면, 제대로 정렬된 것으로 판단하여 증착공정을 진행하게 된다.
그러나, 기판얼라인마크(510)와 마스크얼라인마크(610)가 미리 결정된 범위 내에서 겹치지 않으면, 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인을 실시하게 된다.
여기서, 마스크(600)는 금속 또는 합금으로 마련되어 부식될 수 있으므로, 얼라인카메라유닛(400)의 촬영결과 마스크얼라인마크(610)의 인식률이 미리 설정된 범위보다 낮을 수 있다.
이 경우, 제어유닛(미도시)은 인식률이 낮은 마스크얼라인마크(610)를 폐기마스크얼라인마크(612)로 지정하여 디스플레이유닛(미도시)을 통해 표시하고, 인식률이 높은 마스크얼라인마크(610)를 필요마스크얼라인마크(611)로 지정 후, 필요마스크얼라인마크(611)를 통해 얼라인 가능여부를 판단하게 된다.
그리고, 필요마스크얼라인마크(611)를 통해 얼라인이 가능하다고 판단되면, 제어유닛(미도시)은 스테이지(800)를 구동하여 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인을 실시하게 되며, 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인이 완료되면 증착공정을 진행하게 된다.
이를 통해, 마스크(600)의 부분적 부식에서도 기판(500)과 마스크(600)의 정렬이 가능한 효과가 있다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 연결지지부재가 결합된 모습의 개략적인 측단면도이고, 도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 마스크안착부재에 연결지지부재가 결합된 사시도이다.
이하, 본 발명의 제2실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 연결지지부재(320)에 의해 마스크안착부재(310)의 진동이 방지되는 것에 관한 작용 및 효과에 대해 설명하되, 본 발명의 제1실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 설명한 내용과 공통되는 부분은 전술한 설명으로 대체한다.
제2실시예는 제1실시예와 대비시, 마스크지지유닛(300)이 진동을 방지할 수 있는 연결지지부재(320)를 포함한다는 점에서 제1실시예와 차이가 있다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 마스크지지유닛(300)은 마스크안착부재(310)와, 연결지지부재(320)를 포함하여 구성될 수 있다.
마스크안착부재(310)는 로봇암(미도시)에 의해 측면게이트(G)를 통해 공정챔버(100) 내부로 인입되는 마스크(600)가 안착되도록 마련되는데, 마스크안착부재(310)는 한 쌍으로 마련되어 상호 이격 배치될 수 있다.
그리고, 연결지지부재(320)는 한 쌍의 마스크안착부재(310)를 상호 연결하여 지지하도록 마련된다. 즉, 한 쌍의 마스크안착부재(310)가 상호 이격되어 배치되는 경우, 기판(500)과 마스크(600)를 얼라인하기 위해 스테이지(800)가 구동되면 마스크안착부재(310)에 진동 내지 소음이 발생하게 된다.
하지만, 연결지지부재(320)가 한 쌍의 마스크안착부재(310)를 상호 연결하는 것을 통해 마스크안착부재(310)에 발생되는 진동 내지 소음을 방지할 수 있게 된다.
여기서, 연결지지부재(320)는 서셉터(200) 하부에 설치될 수 있으며, 특히, 공정챔버(100)의 바닥면에 설치될 수 있다.
공정챔버(100) 내부에는 증착공정을 수행하기 위해 상부전극과 하부전극이 배치되어 있고, 이러한 전극들의 접지를 위해 서셉터(200) 주변에는 복수의 스트랩이 설치되어 있다.
여기서, 연결지지부재(320)는 서셉터(200) 주변에 설치된 스트랩과 간섭되지 않도록 설치될 필요가 있으므로, 공정챔버(100)의 바닥면에 홈을 형성 후, 상기 홈에 연결지지부재(320)가 삽입되도록 설치될 수 있다.
이를 통해, 연결지지부재(320)가 마스크안착부재(310)를 지지하게 되며, 마스크안착부재(310)에 발생될 수 있는 진동 또는 소음을 방지할 수 있는 효과가 있다.
한편, 연결지지부재(320)는 다양한 공정챔버(100)에 사용될 수 있으며, 기판(500)의 크기가 소정 범위보다 큰 경우에 사용될 수 있다.
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 가스유동균일플레이트가 설치된 모습의 개략적인 측단면도이다.
이하, 본 발명의 제3실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 가스유동균일플레이트(700)에 의해 클리닝 가스의 배기(排氣)가 균일하게 진행되는 작용 및 효과에 대해 설명하되, 본 발명의 제1실시예 및 제2실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 설명한 내용과 공통되는 부분은 전술한 설명으로 대체한다.
제3실시예는 제1실시예와 대비시, 가스의 측면 배기시 가스의 유동을 균일하게 할 수 있는 가스유동균일플레이트(700)가 된다는 점에서 제1실시예와 차이가 있다.
도 7을 참조하면, 가스유동균일플레이트(700)는 증착공정에 사용된 클리닝 가스의 배기(排氣)시 클리닝 가스의 유동을 균일하게 하기 위해, 서셉터(200)에 결합될 수 있다.
즉, 증착공정의 완료 후, 공정챔버(100) 내부에 클리닝 가스를 분사하여 공정챔버(100)를 클리닝하게 되는데, 여기서, 가스의 배기부(140)가 공정챔버(100)의 측면에 형성될 수 있다.
이 경우, 공정챔버(100)의 측면에서 클리닝 가스를 흡입하게 되면, 클리닝 가스가 공정챔버(100) 전체를 통과하지 못하고 일부에만 접촉 후 배기부(140)를 통해 공정챔버(100) 외부로 배출된다.
이렇게 되면, 공정챔버(100)의 일부분은 클리닝 가스에 의해 클리닝되지만, 공정챔버(100)의 다른 부분은 클리닝되지 못하게 되므로, 이를 방지하기 위해, 서셉터(200)의 상측에 결합되는 가스유동균일플레이트(700)가 마련될 수 있다.
여기서, 가스유동균일플레이트(700)는 서셉터(200)에 대응되는 형상으로 형성되어 공정챔버(100)로부터 이격 배치되는데, 가스유동균일플레이트(700)와 공정챔버(100) 사이의 간격이 좁아지면 제1간격(710)을 통해 클리닝 가스가 한꺼번에 배출되기 못하므로 제1간격(710) 부근에 클리닝 가스가 누적되며, 결국, 제2간격(720)을 통해 클리닝 가스가 배출되게 된다.
즉, 가스유동균일플레이트(700)가 없는 경우 클리닝 가스가 제1간격(710)을 통해서만 배출되지만, 가스유동균일플레이트(700)가 서셉터(200)에 결합되면 클리닝 가스는 제1간격(710) 및 제2간격(720) 모두를 통해 유출되므로, 클리닝 가스가 공정챔버(100) 전체를 클리닝 후 배출될 수 있게 된다.
이를 통해, 증착공정에 사용된 클리닝 가스의 배기시 클리닝 가스의 유동을 균일하게 하며, 공정챔버(100) 내부 전체를 클리닝할 수 있는 효과가 있다.
한편, 가스유동균일플레이트(700)는 모든 공정챔버(100)에서 사용가능하지만, 특히, 측면 배기방식의 공정챔버(100)에서 사용될 수 있다.
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 뷰포트에 조명유닛이 결합된 모습의 개략적인 측단면도이다.
이하, 본 발명의 제4실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 뷰포트(120)에 결합된 조명유닛(130)에 의해 원하는 광량을 지속적으로 제공할 수 있는 작용 및 효과에 대해 설명하되, 본 발명의 제1실시예 내지 제3실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 설명한 내용과 공통되는 부분은 전술한 설명으로 대체한다.
제1실시예에서 전술한 바와 같이, 얼라인카메라유닛(400)이 기판얼라인마크(510)와 마스크얼라인마크(610)를 촬영하며, 이를 위해, 기판(500)과 마스크(600) 측으로 빛을 조사하도록 마련될 수 있다.
여기서, 얼라인카메라유닛(400)의 렌즈(Lens)와 마스크(600) 사이의 거리가 멀수록 조도는 거리 제곱에 반비례하여 약해지게 된다.
그런데, 종래 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치의 경우, 상하로 이동가능하게 마련되는 카메라 장치에 조명을 설치하여 조명이 상하로 이동하게 되며, 이에 의해, 기판과 마스크 측으로 조사되는 광량이 수시로 변하게 되어 촬영 결과의 정밀도가 감소되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명의 제4실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치는 조명유닛(130)을 뷰포트(120)에 고정되도록 결합하여 조명유닛(130)으로부터 기판(500)과 마스크(600) 측으로 일정한 광량을 조사할 수 있게 마련된다.
여기서, 공정챔버(100)에는 얼라인카메라유닛(400)의 촬영을 위한 촬영홀(110)이 형성될 수 있는데, 촬영홀(110)은 얼라인카메라유닛(400)의 대응되는 위치에 마련된다.
그리고, 촬영홀(110)에는 빛이 통과하도록 마련되는 뷰포트(Viewport,120)가 결합된다.
여기서, 뷰포트(120)는 통과창(121)과 결합부재(122)를 포함하여 구성될 수 있는데, 통과창(121)은 얼라인카메라유닛(400)의 촬영을 위한 빛이 통과하도록 마련되고, 결합부재(122)는 통과창(121)이 촬영홀(110)에 결합되도록 마련될 수 있다.
그리고, 통과창(121)은 일반 유리보다 투과율이 높고 강도도 상대적으로 강한 석영유리(Quartz)를 사용할 수 있다.
여기서, 조명유닛(130)은 얼라인카메라유닛(400)의 촬영을 위해 통과창(121)의 하부에 결합되며, 하나 이상으로 마련될 수 있다. 그리고, 조명유닛(130)은 상대적으로 조도가 높은 LED 조명을 사용할 수 있다.
이에 의해, 조명유닛(130)은 뷰포트(120)에 고정 결합되어 기판(500)과 마스크(600) 측으로 일정한 광량을 조사할 수 있으며, 촬영 결과의 정밀도가 향상되는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 제5실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착방법에서, 인식률에 따라 인식가능한 마스크얼라인마크(610)를 선택하여 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인을 진행하는 방법에 대해 설명한다.
다만, 본 발명의 제1실시예 내지 제4실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치에서 설명한 내용과 공통되는 부분은 전술한 설명으로 대체한다.
우선, 공정챔버(100) 내부에서 마스크얼라인마크(610)가 형성된 마스크(600)에 기판얼라인마크(510)가 형성된 기판(500)이 결합된다. 즉, 공정챔버(100)의 측면게이트(G)를 통해 마스크(600)가 마스크지지유닛(300) 상부에 안착되면, 서셉터(200)에 로딩되어 있는 기판(500)이 마스크(600)의 하부에 결합된다.
다음, 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인여부를 인식하기 위해 얼라인카메라유닛(400)을 통해 기판얼라인마크(510)와 마스크얼라인마크(610)를 촬영하게 된다.
여기서, 얼라인카메라유닛(400)은 공정챔버(100) 하부에 배치되는 스테이지(800)에 결합되며, 조명유닛(130)이 뷰포트(120)에 결합될 수 있다.
다음, 얼라인카메라유닛(400)에 의해 촬영된 결과로부터, 제어유닛(미도시)이 마스크얼라인마크(610)의 인식률을 파악하여 기판(500)과 마스크(600)가 얼라인되도록 제어하게 된다.
여기서, 얼라인카메라유닛(400)에 의해 촬영된 마스크얼라인마크(610)의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 높다고 판단되는 경우 제어유닛(미도시)에서 필요마스크얼라인마크(611)로 지정한다.
그리고, 얼라인카메라유닛(400)에 의해 촬영된 마스크얼라인마크(610)의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 낮다고 판단되는 경우 제어유닛(미도시)에서 폐기마스크얼라인마크(612)로 지정하며, 제어유닛(미도시)은 필요마스크얼라인마크(611)를 사용하여 얼라인을 진행하게 된다.
여기서, 도 4(a)를 참조하면, 제어유닛(미도시)이 얼라인을 진행하기 위해서는 마스크(600)에서 대각선 상에 상호 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(610)가 필요마스크얼라인마크(611)인 경우를 포함(X1,Y1,X2,X3)해야 하며, 도 4(b)에서처럼 대각선이 아닌 라인 상에 배치되는 한 쌍의 마스크얼라인마크(X4)가 필요마스크(600)얼라인 경우에는 얼라인을 진행하지 않게 된다.
이에 의해, 인식률에 따라 인식가능한 마스크얼라인마크(610)를 선택하여 기판(500)과 마스크(600)의 얼라인을 진행하며, 이를 통해, 마스크(600)의 부분적 부식에서도 기판(500)과 마스크(600)의 정렬이 가능한 효과가 있다.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
100 : 공정챔버 110 : 촬영홀
120 : 뷰포트 121 : 통과창
122 : 결합부재 130 : 조명유닛
140 : 배기부 200 : 서셉터
300 : 마스크지지유닛 310 : 마스크안착부재
320 : 연결지지부재 400 : 얼라인카메라유닛
500 : 기판 510 : 기판얼라인마크
600 : 마스크 610 : 마스크얼라인마크
610 : 원형홀 611 : 필요마스크얼라인마크
612 : 폐기마스크얼라인마크 620 : 부식지점
700 : 가스유동균일플레이트 800 : 스테이지

Claims (14)

  1. 기판얼라인마크가 형성된 기판의 증착공정이 진행되는 공정챔버;
    상기 공정챔버 내부에서 상하로 이동가능하게 설치되며, 상기 기판이 로딩(Loading)되는 서셉터;
    상기 공정챔버 내부에서 배치되어 마스크얼라인마크가 형성된 마스크를 지지하는 마스크지지유닛;
    상기 기판과 상기 마스크의 얼라인여부를 인식하기 위해, 상기 기판얼라인마크와 상기 마스크얼라인마크를 촬영하는 얼라인카메라유닛; 및
    상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 결과로부터 상기 마스크얼라인마크의 인식률을 파악하여 상기 기판과 상기 마스크가 얼라인되도록 제어하는 제어유닛을 포함하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 마스크얼라인마크는 복수로 마련되며,
    상기 제어유닛은,
    상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 상기 마스크얼라인마크의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 높다고 판단되는 경우 필요마스크얼라인마크로 지정하며, 복수의 상기 마스크얼라인마크 중 상기 필요마스크얼라인마크를 사용하여 얼라인을 진행하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제어유닛은,
    상기 마스크에서 대각선 상에 상호 배치되는 한 쌍의 상기 마스크얼라인마크가 상기 필요마스크얼라인마크인 경우를 포함하게 되면 얼라인을 진행하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 마스크얼라인마크는 복수로 마련되고, 상기 얼라인카메라유닛에 의한 촬영 결과를 표시하는 디스플레이유닛을 더 포함하며,
    상기 제어유닛은,
    상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 상기 마스크얼라인마크의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 낮다고 판단되는 경우 폐기마스크얼라인마크로 지정하고, 상기 디스플레이유닛을 통해 상기 폐기마스크얼라인마크를 표시하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 마스크지지유닛은,
    한 쌍으로 마련되어 상기 마스크가 안착되는 마스크안착부재; 및
    상기 한 쌍의 마스크안착부재를 상호 연결하여 지지하는 적어도 하나의 연결지지부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 연결지지부재는 상기 공정챔버의 바닥면에 설치되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 증착공정에 사용된 클리닝 가스의 배기(排氣)시 상기 클리닝 가스의 유동을 균일하게 하기 위해, 상기 서셉터에 결합되는 가스유동균일플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  8. 제9항에 있어서,
    상기 가스유동균일플레이트는,
    상기 서셉터에 대응되는 형상으로 형성되며, 상기 공정챔버로부터 미리 결정된 간격으로 이격되도록 상기 서셉터의 상측에 결합되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 공정챔버는,
    상기 얼라인카메라유닛의 촬영을 위해 상기 얼라인카메라유닛의 대응되는 위치에 형성되는 촬영홀; 및
    상기 촬영홀에 결합되되 빛이 통과하도록 마련되는 뷰포트(Viewport)를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 얼라인카메라유닛의 촬영을 위해 상기 뷰포트에 결합되는 조명유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 뷰포트는,
    상기 얼라인카메라유닛의 촬영을 위한 빛이 통과하는 통과창; 및
    상기 통과창이 상기 촬영홀에 결합되도록 마련되는 결합부재를 포함하며,
    상기 조명유닛은 적어도 하나로 마련되어 상기 통과창의 하부에 결합되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치.

  12. 마스크얼라인마크가 형성된 마스크에 기판얼라인마크가 형성된 기판이 결합되는 단계;
    상기 기판과 상기 마스크의 얼라인여부를 인식하기 위해 얼라인카메라유닛을 통해 상기 기판얼라인마크와 상기 마스크얼라인마크를 촬영하는 단계;
    상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 결과로부터, 제어유닛이 상기 마스크얼라인마크의 인식률을 파악하여 상기 기판과 상기 마스크가 얼라인되도록 제어하는 단계를 포함하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 기판과 상기 마스크가 얼라인되도록 제어하는 단계는,
    상기 얼라인카메라유닛에 의해 촬영된 상기 마스크얼라인마크의 인식률이 미리 설정된 범위의 인식률보다 높다고 판단되는 경우 상기 제어유닛에서 필요마스크얼라인마크로 지정하며, 복수의 상기 마스크얼라인마크 중 상기 필요마스크얼라인마크를 사용하여 얼라인을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 필요마스크얼라인마크를 사용하여 얼라인을 진행하는 단계는,
    상기 마스크에서 대각선 상에 상호 배치되는 한 쌍의 상기 마스크얼라인마크가 상기 필요마스크얼라인마크인 경우를 포함하게 되면, 얼라인을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착 방법.
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