KR101874306B1 - 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템 - Google Patents

포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템 Download PDF

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peripheral light
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배일수
김명진
전상철
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주식회사 인피테크
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Abstract

본 발명은 반도체 포토공정에 사용되는 트랙장비에 용이하게 장착하여 다양한 크기와 모양의 웨이퍼에 대하여 주변노광이 가능하도록 통합제어가 가능한 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템에 관한 것으로서, 웨이퍼가 삽입 및 장착되며, UV LED광원장치가 장착되는 상부; 상기 웨이퍼의 X, Y, θ축 수평조정과 이동 및 회전을 위한 다수의 구동축과, X, Y, θ축을 구동하는 모터와 드라이버 및 상기 웨이퍼의 주변노광을 위해 챔버 내부를 진공으로 만드는 진공유닛이 장착되는 중앙부; 및 상기 광원장치를 비롯한 각종 구동유닛을 제어하는 컨트롤러가 장착되는 하부;로 구성되는 통합 스테이지 모듈로 구현함으로써, 웨이퍼 주변노광시스템이 최적화된 크기로 구현이 가능하므로 모듈의 장착을 위해 필요한 스페이스를 감소시키고, 이에 따라 포토공정 트랙장비에 용이하게 장착이 가능하며, UV LED광원장치뿐만 아니라, 웨이퍼가 스테이지 내부로 로딩된 후 웨이퍼의 주변노광에 필요한 위치 조정 및 회전에 필요한 모터와 드라이버를 모두 장착하고 있으므로, 트랙장비에서 특히 노후가 빠르고 단종된 모터들도 새로운 구동장치로 대체할 수 있는 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 제공한다.

Description

포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템{Wafer edge exposure system for track equipment of photo lithography process}
본 발명은 웨이퍼 주변노광(Wafer Edge Exposure, WEE)시스템에 관한 것으로서, 특히 반도체 포토공정에 사용되는 트랙장비에 용이하게 장착하여 다양한 크기와 모양의 웨이퍼에 대하여 주변노광이 가능하도록 통합제어가 가능한 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템에 관한 것이다.
한국은 세계 3위의 반도체 생산 대국으로써 많은 반도체 설비의 국산화가 이루어지고 있고, 외국 선진 설비에 견주어 기술 격차도 상당 부분 해소되고 있다.
그러나 노광 설비 및 장치 분야에서는 아직도 일본, 미국 등 해외에 의존하고 있는 실정으로서, 현재 대부분 수입에 의존함으로써 연간 1조원 이상의 외화가 해외로 빠져나가고 있는 것으로 집계되고 있으며, 특히 포토공정(Photo lithography process)에 사용되고 있는 트랙장비(Track equipment)의 경우 일본 업체들이 독점 공급하고 있다.
웨이퍼의 주변부는 패턴 형성 영역으로 이용되지 않기 때문에, 현상(Development) 후에도 주변부에 PR(Photo Resistor)이 잔류하게 된다. 이에 따라 잔류 PR에 의해 파티클이 발생하게 되고, 이러한 잔류 파티클은 생산성 저하를 가져오기 때문에, 웨이퍼 주변부를 노광하는 작업이 수행된다.
현재, 반도체 노광공정 중 I-Line(365nm 파장)을 사용하는 트랙장비를 비롯하여 대부분의 트랙장비에서는 웨이퍼의 주변노광을 위한 광원으로 수은램프(Lamp)를 사용하고 있다. 그러나 기존의 광원인 수은램프는 사용시간이 짧고, 예열시간이 길며, 후처리 비용이 발생하는 등 여러 가지 단점을 안고 있다.
최근 웨이퍼의 크기가 200mm에서 300mm 세대로 넘어가는 과정에 있기 때문에, 미국, 대만, 일본의 반도체 제조업체들이 300mm 웨이퍼 공정라인에 대한 투자를 늘리고 있으며, 이에 따른 장비의 개발 및 상용화 제품을 잇따라 내놓고 있다.
특히, 300mm 웨이퍼는 기존의 200mm 웨이퍼에 비해 칩 생산량을 2.5배 이상 늘릴 수 있고, 생산원가도 획기적으로 낮출 수 있으며 광출력을 높일 수 있는 장점이 있기 때문에, 300mm 웨이퍼 공정은 반도체 장비 업체들의 투자 의욕을 앞당기는 요인 중 하나이다.
그러나 새롭게 개발된 차세대 300mm용 웨이퍼 공정설비의 경우에도 광원으로는 여전히 수은램프를 적용하고 있기 때문에 UV LED를 이용하여 공정라인에 기 설치된 트랙장비에 적용할 수 있는 WEE시스템의 개발이 절실한 실정이다.
KR 10-1344037 B1 (2013.12.16.) KR 10-1401238 B1 (2014.05.22.) KR 10-1532352 B1 (2015.06.23.)
따라서 상술한 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은 반도체 포토공정 중 DNS80A·80B, Mark7 및 K-spin12 등과 같은 트랙장비에 사용되고 있는 수은램프를 광원으로 하는 웨이퍼 주변노광(Wafer Edge Exposure, WEE)장치를 대체할 수 있도록 LED를 광원으로 하는 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 제공하는데 있다.
이에 따른 본 발명의 다른 목적은 UV LED광원 및 이를 제어하는 컨트롤러를 통합한 모듈형 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 200mm 및 300mm의 웨이퍼에 대하여 모두 적용 가능한 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 포토공정 트랙장비에 포함된 WEE 관련 구성부를 모두 하나의 스테이지 모듈로 통합함으로써 노후화된 장비에도 적용이 가능한 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 제공하는데 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은, 웨이퍼가 삽입 및 장착되며, UV LED광원장치가 장착되는 상부; 상기 웨이퍼의 X, Y, θ축 수평조정과 이동 및 회전을 위한 다수의 구동축과, X, Y, θ축을 구동하는 모터와 드라이버 및 상기 웨이퍼의 주변노광을 위해 챔버 내부를 진공으로 만드는 진공유닛이 장착되는 중앙부; 및 상기 광원장치를 비롯한 각종 구동유닛을 제어하는 컨트롤러가 장착되는 하부;로 구성되는 것을 특징으로 한다.
이때, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템에 있어서, 상기 컨트롤러는, 상기 웨이퍼의 크기에 따라 상기 웨이퍼가 장착된 축을 이동시켜 200mm 및 300mm 웨이퍼를 모두 노광할 수 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템에 있어서, 상기 컨트롤러는, 관리자가 X, Y, θ축 모터의 이동 및 모터의 최대속도를 설정하도록 GUI프로그램을 표시부를 통해 제공하는 것을 특징으로 한다.
전술한 바와 같이 본 발명은 반도체 포토공정 중 DNS80A·80B, Mark7 및 K-spin12 등과 같은 트랙장비에 사용되고 있는 수은램프를 광원으로 하는 웨이퍼 주변노광(Wafer Edge Exposure, WEE)장치를 대체할 수 있도록 함으로써 국산화에 기여할 뿐만 아니라 국내 관련 산업의 신 성장동력을 제공할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 200mm 및 300mm의 웨이퍼 모두에 대하여 적용이 가능하고, 플랫존 타입의 웨이퍼에 대해서도 처리가 가능하여, 광원의 교체가 필요치 않으므로 공정에 소요되는 시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 구현한 스테이지 모듈의 일 예시도,
도 2는 도 1의 스테이지 모듈의 분해도,
도 3은 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 블록구성도,
도 4는 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 GUI프로그램의 일 예시도,
도 5는 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 제어흐름도.
이하에서는 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템에 대한 실시 예를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하에서 설명되는 실시 예는 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것으로, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되지 않고 다양한 형태로 구현될 수 있다.
도면들 중 동일한 구성들은 가능한 한 어느 곳에서든지 동일한 부호들을 나타낸다. 하기의 설명에서 구체적인 특정 사항들이 나타나고 있는데, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해 제공된 것일 뿐, 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 그리고 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
여기서, 첨부된 도면들은 기술의 구성 및 작용에 대한 설명과 이해의 편의 및 명확성을 위해 일부분을 과장하거나 간략화하여 도시한 것으로, 각 구성요소가 실제의 크기와 정확하게 일치하는 것은 아님을 밝힌다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 한다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
아울러 어떤 부분이 어떤 구성요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미하며, "부"의 용어에 대한 의미는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위 또는 모듈 형태를 의미하며, 이는 하드웨어나 소프트웨어 혹은 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수도 있다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 것으로서, 이는 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 개념과 당해 기술분야에서 통용 또는 통상적으로 인식되는 의미로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
첨부된 블록도의 각 블록과 흐름도의 각 단계의 조합들은 컴퓨터 프로그램 인스트럭션들에 의해 수행될 수도 있다. 이들 컴퓨터 프로그램 인스트럭션들은 범용 컴퓨터, 특수용 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비의 프로세서에 탑재될 수 있으므로, 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비의 프로세서를 통해 수행되는 그 인스트럭션들이 블록도의 각 블록 또는 흐름도의 각 단계에서 설명된 기능들을 수행하는 수단을 생성하게 된다.
컴퓨터 프로그램 인스트럭션들은 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비 상에 탑재되는 것도 가능하므로, 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비 상에서 일련의 동작 단계들이 수행되어 컴퓨터로 실행되는 프로세스를 생성해서 컴퓨터 또는 기타 프로그램 가능한 데이터 프로세싱 장비를 수행하는 인스트럭션들은 블록도의 각 블록 및 흐름도의 각 단계에서 설명된 기능들을 실행하기 위한 단계들을 제공하는 것도 가능하다.
도 1은 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 구현한 스테이지 모듈의 일 예시도이고, 도 2는 도 1의 스테이지 모듈의 분해도이며, 도 3은 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 블록구성도이다.
먼저, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템(100)의 스테이지 모듈은 웨이퍼가 삽입 및 장착되며, UV LED광원장치가 장착되는 상부(110)와, 상기 웨이퍼의 X, Y, θ축 수평조정과 이동 및 회전을 위한 다수의 구동축(121, 122), 그리고 X, Y, θ축을 구동하는 모터와 드라이버(123) 및 상기 웨이퍼의 주변노광을 위해 챔버 내부를 진공으로 만드는 진공유닛(124)이 장착되는 중앙부(120) 및 상기 광원장치를 비롯한 각종 구동유닛을 제어하는 컨트롤러(150)가 장착되는 하부(130) 및 저부(140)로 구성된다.
본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 조립과 분해가 원활하도록 상부(110)와 중앙부(120), 하부(130) 및 저부(140)로 구분하여 설계되었다. 한편, 상기 중앙부(120)와 상기 하부(130) 사이에 라인커버(160)를 더 구비하여 스테이지 모듈을 좀 더 안정적으로 지탱할 수 있도록 구성할 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 웨이퍼의 주변노광을 위한 구성부들이 하나의 스테이지 모듈로 통합 구성됨으로써, WEE시스템이 최적화된 크기로 구현이 가능하므로 모듈의 장착을 위해 필요한 스페이스를 감소시키고, 이에 따라 포토공정 트랙장비에 용이하게 장착이 가능하다.
또한, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 UV LED광원장치뿐만 아니라, 웨이퍼가 스테이지 내부로 로딩된 후 웨이퍼의 주변노광에 필요한 위치 조정 및 회전에 필요한 모터와 드라이버를 모두 장착하고 있으므로, 트랙장비에서 특히 노후가 빠르고 단종된 모터들도 새로운 구동장치로 대체할 수 있다.
이하에서, 이러한 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템을 구성하는 UV LED광원장치를 비롯한 구동장치들을 트랙장비와 연동하여 제어하기 위한 구성부들을 도 3을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3을 참조하면, 컨트롤러(150)는 입력AC전원을 DC전원으로 변환하고 적정한 내부전원(5V)으로 변압하는 전원부(151)를 통해 공급받아 구동된다. 전원부(151)는 UV LED광원장치(101)에 공급되는 정전류를 정밀하게 제어할 수 있도록 개발된 SMPS(Switching Mode Power Supply) 및 내부전원을 공급하는 레귤레이터(Regulator)를 포함한다. 이때, 상기 전원부(151)의 SMPS는 다수의 광원장치(101)를 동시에 제어할 수 있도록 다수의 출력을 갖는 것이 바람직하다. 특히, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 200mm 및 300mm의 웨이퍼에 대한 주변노광이 하나의 스테이지 모듈에서 모두 가능하므로, 200mm용 광원장치와 300mm용 광원장치를 제어하기 위한 서로 다른 출력을 갖는 것이 바람직하다.
컨트롤러(150)는 LED에 균일한 전류를 공급할 수 있도록 DTA(152) alc 출력부(153)를 제어하여 LED의 제어전류의 상한값을 지정하고 PWM제어 방식으로 광원장치(101)를 제어한다. 또한, 컨트롤러(150)는 장비의 불필요한 전력 소모를 줄일 수 있도록 필요 시에만 LED를 켤 수 있도록 제어회로를 구비하는 것이 바람직하며, 장비의 특성상 성능저하를 방지할 수 있도록 과전류 보호회로를 내장하여 효율성을 최대활 수 있도록 한다.
또한, 컨트롤러(150)는 전류센서 및 온도센서(154)에서 감지된 광원장치(101)의 상태에 따라 열전소자(157)를 제어하여 광원장치(101)의 과열을 방지할 수 있도록 한다.
또한, 컨트롤러(150)는 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 상태표시 및 제어명령 입력을 통해 웨이퍼 주변노광을 위한 시스템의 상태 확인과 조정이 가능한 GUI프로그램을 구동하여 표시부(156)에 표시한다.
도 4는 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 GUI프로그램의 일 예시도로서, 표시부(156)에 시각적으로 표시될 수 있다.
컨트롤러(150)는 도 3의 통신부(155)에 구비되는 RS232 통신을 통해 PC에 설정된 포트와 통신 속도 설정이 가능하며, RS232통신 이외에도 USB, 이더넷(Ethernet), 근거리 무선통신에 의한 원격제어 및 트랙장비의 통신 프로토콜에 대응하는 포트를 통해 통신 시 데이터 송수신 데이터 상태를 확인하고 이를 관리자 화면에 표시한다. 또한, X, Y, θ축 모터(123)와 진공유닛(124)의 VAC모터 제어가 가능하고 웨이퍼의 위치 및 상태를 체크할 수 있도록 화면에 표시한다.
또한, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 도 4의 GUI프로그램을 통해 관리자가 X, Y, θ축 모터(123)의 이동을 버튼(UP/DOWN)으로 제어할 수 있으며, 모터의 최대속도도 설정 가능하다.
본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 상부(110)에 장착된 웨이퍼를 체크하여 진공유닛(124) 및 X, Y, θ축 모터(123)를 구동시킨다. 이를 위하여 웨이퍼감지 CCD센서를 비롯하여 전류센서 및 온도센서(154)를 제어하여 장비의 상태를 체크하고 광원장치(101)와 모터(123)의 재정비를 하도록 관리자에게 표시한다.
도 5는 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 제어흐름도로서, 이하, 도 5를 참조하여 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 웨이퍼 주변노광 동작을 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템의 컨트롤러(150)는 웨이퍼감지 CCD센서를 통해 로딩될 웨이퍼의 크기 및 플랫존 타입의 웨이퍼 정보를 수신한다(501). 이어, 로봇 암에 의해 웨이퍼가 상부(110)에 로딩되면(503, 505), 컨트롤러(150)는 진공유닛(124)이 구동하고 있는지를 판단하여(507) 진공유닛(124)이 구동되지 않으면 에러경보를 발생시키고(533), 진공유닛(124)이 구동되도록 반복제어한다. 진공유닛(124)이 정상적으로 구동됨에 따라 웨이퍼가 안정적으로 고정된 상태가 된다.
한편, 507단계에서 진공유닛(124)이 정상적으로 구동하면 웨이퍼가 플랫존 타입인지 판단하고(509), 웨이퍼가 플랫존 타입이면 이를 확인하고(511) 웨이퍼 크기에 따라 주변노광을 실시할 수 있도록 축을 이동시킨다(513). 이어, 웨이퍼의 코드를 읽어들인 후(515), 스핀모터를 구동하고(517), LED광원장치(101)를 켠 후(519) 노광 시간을 체크한다(521).
이어, 컨트롤러(150)는 노광 시간을 지속적으로 체크하여(535), 기 설정된 공정시간이 종료하면(523), LED광원장치(101)를 OFF한다(525).
이후, 컨트롤러(150)는 모터(123)를 제어하여 노광된 웨이퍼를 대기위치로 이동시킨 후, 진공유닛(124)의 구동을 정지시킨다(529). 마지막으로 로봇 암이 노광된 웨이퍼를 가져가면(531) 작업이 완료된다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 반도체 포토공정 중 DNS80A·80B, Mark7 및 K-spin12 등과 같은 트랙장비에 사용되고 있는 수은램프를 광원으로 하는 웨이퍼 주변노광(Wafer Edge Exposure, WEE)장치를 효율적으로 대체할 수 있는 LED광원장치를 비롯한 통합 모듈을 제공한다.
본 발명에 따른 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템은 포토공정 트랙장비에 포함된 WEE 관련 구성부를 모두 하나의 스테이지 모듈로 통합함으로써 노후화된 장비에도 유연하게 적용이 가능하며, 200mm 및 300mm의 웨이퍼 모두에 대하여 적용이 가능하고, 플랫존 타입의 웨이퍼에 대해서도 처리가 가능하여, 광원의 교체가 필요치 않으므로 공정에 소요되는 시간을 단축할 수 있다.
한편, 본 발명의 상세한 설명에서는 첨부된 도면에 의해 참조되는 바람직한 실시 예를 중심으로 구체적으로 기술되었으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구의 범위뿐 아니라 이 특허청구의 범위와 균등한 것들에 의해서 정해져야 한다.

Claims (3)

  1. 포토공정에 사용되는 트랙장비에서 웨이퍼의 주변을 노광하기 위한 시스템에 있어서,
    웨이퍼가 삽입 및 장착되며, UV LED광원장치가 장착되는 상부와, 상기 웨이퍼의 X, Y, θ축 수평조정과 이동 및 회전을 위한 다수의 구동축과, 상기 구동축을 구동하는 구동모터 및 스핀모터와, 드라이버 및 상기 웨이퍼의 주변노광을 위해 챔버 내부를 진공으로 만드는 진공유닛이 장착되는 중앙부와, 상기 광원장치를 비롯한 각종 구동유닛을 제어하는 컨트롤러가 장착되는 하부 및 상기 중앙부와 하부 사이에 구비되어, 상기 하부에 상기 중앙부가 안정적으로 결합되도록 지지하는 라인커버로 구성되는 단일 모듈형 스테이지를 형성하고,
    상기 컨트롤러가 웨이퍼 감지 CCD센서로부터 수신되는 웨이퍼의 크기 및 플랫존 타입 웨이퍼의 정보를 수신하고, 상기 상부에 웨이퍼가 삽입 및 장착되면, 상기 진공유닛을 구동하여 상기 웨이퍼를 고정한 후 웨이퍼의 크기 및 플랫존 타입에 따라 상기 웨이퍼가 장착된 축을 이동시키고, 상기 스핀모터를 구동한 후 상기 웨이퍼의 크기 및 플랫존 타입에 대응하는 UV LED광원장치를 구동하면서 노광시간을 체크하여, 기 설정된 시간이 경과하면 UV LED광원장치를 정지시키며,
    트랙장비의 통신 프로토콜에 대응하는 포트를 통해 통신 시 데이터 송수신 데이터 상태를 확인하여 관리자에게 시각적으로 표시하고, 상기 구동모터의 이동을 제어하도록 상기 관리자에게 상기 구동모터 이동버튼 및 상기 스핀모터의 최대속도 설정수단을 제공하는 GUI프로그램이 표시되는 표시부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 포토공정 트랙장비용 웨이퍼 주변노광 시스템.
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