KR20060102599A - 노광설비의 컴퓨터 - Google Patents

노광설비의 컴퓨터 Download PDF

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KR20060102599A
KR20060102599A KR1020050024371A KR20050024371A KR20060102599A KR 20060102599 A KR20060102599 A KR 20060102599A KR 1020050024371 A KR1020050024371 A KR 1020050024371A KR 20050024371 A KR20050024371 A KR 20050024371A KR 20060102599 A KR20060102599 A KR 20060102599A
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Abstract

본 발명은 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 노광설비의 컴퓨터에 대하여 개시한다. 그의 컴퓨터는, 소정 크기의 전원전압을 생성하여 설비컴퓨터의 각 요부에 공급하는 전원전압 공급부; 상기 전원전압 공급부에서 인가되는 전원전압을 인가 받아 상기 웨이퍼 및 상기 웨이퍼에 대응되는 레티클을 지지하는 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 위치이동을 제어하는 구동 제어부; 상기 구동 제어부의 제어에 의해 이동된 상기 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 위치를 계측하고 이후 이동될 위치를 연산 처리하여 상기 구동 제어부에 피드백시키고, 상기 노광설비의 광학장치의 상태를 검사하여 설정된 기준에 따라 상기 광학장치를 제어하는 제어신호를 출력하고 계측 시스템 제어부; 및 상기 계측시스템 제어부에서 출력된 제어신호를 이용하여 상기 광학장치를 설정된 온도로 냉각시키는 냉각장치를 제어하며, 상기 계측 시스템 제어부의 상기 전원공급 차단에 의한 동작불능여부와 무관하게 상기 전원전압 공급부를 통해 상기 전원전압을 인가 받아 동작되는 냉각시스템 제어부를 포함하여 이루어진다.
랙(rack), 냉각시스템(cooling system), 계측시스템(measurement system)

Description

노광설비의 컴퓨터{System for managing exposure equipment}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 노광설비의 컴퓨터를 개략적으로 나타내는 블록도.
도 2는 도 1의 컴퓨터의 보드가 삽입되는 랙을 나타내는 평면도.
도 3은 도 1의 계측시스템 제어부와 냉각시스템 제어부에 인가되는 전원전압을 각각 스위칭하도록 전원전압 공급부에 형성된 복수개의 스위치를 나타내는 도면.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
110 : 전원전압 공급부 120 : 구동 제어부
130 : 구동부 140 : 계측시스템 제어부
150 : 광학장치 160 : 냉각시스템 제어부
110a : 전원전압 공급부 랙
120a, 120s : 구동 제어부 랙 및 스위치
140a, 140s : 계측시스템 제어부 랙 및 스위치
160a, 160s : 냉각시스템 제어부 보드 및 스위치
170a, 170s : 레티클 전원전압 공급부 랙 및 웨이퍼 전원전압 공급부 랙과, 스위치
180a, 180s : 롱 스트록 전원전압 공급부 랙 및 스위치
190a, 190s : 정밀 정렬 전원전압 공급부 랙 및 스위치
200a : 완충 제어부 랙
본 발명은 반도체 제조설비의 관리시스템에 관한 것으로, 상세하게는 반도체 기판 상에 도포된 포토레지스트를 소정의 광에 노광시키는 노광설비를 제어하는 노광설비의 컴퓨터에 관한 것이다.
최근 정보 통신 분야의 급속한 발달과, 컴퓨터와 같은 정보 매체의 대중화에 따라 반도체 설비도 비약적으로 발전하고 있다. 또한, 그 기능적인 면에 있어서 상기 반도체 설비는 고속으로 동작하는 동시에 대용량의 저장 능력을 가질 것이 요구되고 있다. 이에 따라, 상기 반도체 설비의 제조 기술은 집적도, 신뢰도 및, 응답 속도 등을 극대화하는 방향으로 연구 개발되고 있다.
반도체 장치의 제조 기술은 크게 반도체 기판 상에 가공막을 형성하는 증착(deposition)공정과, 상기 증착공정으로 형성된 가공막 상에 피가공막을 형성하여 패터닝 하는 포토리소그래피(photo-lithography) 공정과, 상기 포토리소그래피 공정에 의해 형성된 상기 피가공막을 마스크로 사용하여 상기 가공막을 식각하는 식 각 공정과, 상기 피가공막을 이온주입마스크로 사용하여 불순물이온을 주입하는 이온주입공정과, 각종 열처리 공정을 포함하여 이루어진다. 이때, 이와 같은 다수의 공정은 일련의 정해진 흐름을 따라 정확한 관리 감독이 요구되고, 인체에 유해한 각종 가스로부터 작업자를 보호하기 위해 무인 로봇과 같은 자동설비를 관리하는 자동 시스템이 요구되고 있는 실정이다.
예컨대, 상기 포토리소그래피 공정은 상기 반도체 기판 상에 상기 식각 공정 또는 이온주입공정에 마스크로 사용되는 포토레지스트와 같은 피가공막을 구현하고자 하는 모양으로 형성하는 공정으로, 포토레지스트의 도포공정, 소프트 베이크 공정, 에지 노광공정, 사이드 린스 공정, 하드 베이크 공정, 노광 공정 및 현상 공정 등을 포함하여 이루어진다.
또한, 포토리소그래피 공정은 스피너와 노광설비라 일컬어지는 반도체 제조 설비에서 수행되는 되는데, 반도체 제조 공정에서 반도체 장치의 임계치수를 결정하는 필수적으로 요구되는 중요한 공정이다. 이때, 상기 노광설비는, 상기 포토레지스트를 감광시키기 위한 자외선광 및 X-선(X-ray)광과 같은 광을 생성하는 광원과, 상기 광원으로부터 공급된 광을 상기 반도체 기판 표면에 선택적으로 노광시키기 위해 소정의 패턴이 형성되어 있는 레티클과 상기 레티클을 통해 투영된 광을 확대 또는 축소시키기 위한 광학계와, 상기 레티클 및 광학계에 대응하여 상기 반도체 기판을 정확한 위치에 정렬시키는 상기 반도체 기판 정렬부를 포함하여 이루어진다.
예컨대, 상기 노광설비는 스텝퍼(stepper) 또는 스캐너(scanner)가 주로 사 용되며, 상기 노광설비는 설비 컴퓨터의 제어에 의해 노광공정이 수행된다.
상기 노광설비의 컴퓨터는 외부에서 인가되는 전원전압에 의해 상기 웨이퍼를 지지하는 웨이퍼 스테이지와, 상기 웨이퍼에 대응되는 레티클을 지지하는 레티클 스테이지와 같은 각종 구동부 제어하기 위한 각종 제어신호를 출력하는 다수개의 보드(board)로 이루어진다. 이때, 상기 다수개의 보드는 다양한 종류로 이루어지며 승압 또는 감압 시 발열이 많이 일어나고, 상기 발열에 의해 손상되기 쉽기 때문에 캐비넷 또는 랙(rack)에 실장되어 적어도 하나이상의 팬과 같은 냉각설비에 의해 냉각된다.
이와 같은 종래 기술에 따른 노광설비의 컴퓨터는, 크게 소정 크기의 전원전압을 생성하여 상기 설비컴퓨터의 각 요부에 공급하는 전원전압 공급부와, 상기 구동부를 제어하는 제어신호를 출력하는 구동 제어부와, 상기 구동부의 위치를 계측하는 계측신호를 입력받아 이후 이동될 구동부의 위치를 연산처리하여 상기 구동 제어부에 피드백(feedback)시키고, 상기 노광설비의 광학장치를 제어하는 제어신호를 출력하고 계측시스템 제어부와, 상기 계측시스템 제어부에서 출력된 제어신호를 이용하여 상기 광학장치를 설정된 온도로 냉각시키는 냉각장치를 제어하는 냉각시스템 제어부를 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 계측시스템 제어부는 상기 구동부의 위치뿐만 아니라, 상기 광학장치의 대물렌즈와 같은 다수개의 렌즈 초점거리와 상기 렌즈의 온도를 검사한다. 예컨대, 상기 렌즈의 온도가 설정된 수준 이상으로 상승될 경우 상기 렌즈의 초점거리가 기준에 비해 달라질 수 있기 때문에 상기 렌즈의 온도를 상시 검사하고 상기 렌즈를 일정 온도로 유지시키기 위한 제어신호를 출력한다.
또한, 상기 냉각시스템 제어부는 상기 계측시스템 제어부에서 출력되는 제어신호를 입력받아 상기 냉각장치로 하여금 상기 렌즈를 일정한 온도로 유지시킬 수 있도록 상기 냉각장치에 제어신호를 출력한다. 이때, 상기 전원전압 공급부는 상기 계측시스템 제어부에 전원전압을 공급하고, 상기 계측시스템 제어부는 상기 냉각시스템 제어부에 직렬로 전원전압을 전달하고 있다.
하지만, 종래 기술에 따른 노광설비의 컴퓨터는 다음과 같은 문제점이 있었다.
종래 기술에 따른 노광설비의 컴퓨터는 노광설비의 각종 부품 교환과 같은 개조 또는 개선 작업이 있을 경우, 상기 전원전압 공급부에서 인가되는 전원전압을 단속시켜 상기 계측시스템 제어부가 일시 정지되고 상기 계측시스템 제어부의 동작정지 시 상기 냉각시스템 제어부도 함께 동작이 정지되고, 상기 냉각시스템 제어부의 동작정지에 의해 상기 광학장치의 렌즈가 가열되어 후속 노광공정을 곧바로 수행되지 못하도록 하기 때문에 생산성이 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 목적은, 계측시스템 제어부의 전원전압 인가차단에 따른 동작정지와 무관하게 냉각시스템 제어부에 전원전압을 인가하고 냉각시스템 제어부의 동작정지로부터 광학장치의 렌즈가 가열되는 것을 막아 후속의 노광공정을 연속되게 수행토록 하여 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 노광설비의 컴퓨터를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 양태는, 노광설비의 컴퓨터는, 웨이퍼 표면에 형성된 포토레지스트를 선택적으로 노광시키기 위해 노광설비를 제어하는 설비컴퓨터에 있어서; 소정 크기의 전원전압을 생성하여 상기 설비컴퓨터의 각 요부에 공급하는 전원전압 공급부; 상기 전원전압 공급부에서 인가되는 전원전압을 인가 받아 상기 웨이퍼 및 상기 웨이퍼에 대응되는 레티클을 지지하는 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 위치이동을 제어하는 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 구동 제어부; 상기 구동 제어부의 제어에 의해 이동된 상기 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 위치를 계측하고 이후 이동될 위치를 연산처리하여 상기 구동 제어부에 피드백시키고, 상기 노광설비의 광학장치의 상태를 검사하여 설정된 기준에 따라 상기 광학장치를 제어하는 제어신호를 출력하고 계측 시스템 제어부; 및 상기 계측시스템 제어부에서 출력된 제어신호를 이용하여 상기 광학장치를 설정된 온도로 냉각시키는 냉각장치를 제어하며, 상기 계측 시스템 제어부의 상기 전원공급 차단에 의한 동작불능여부와 무관하게 상기 전원전압 공급부를 통해 상기 전원전압을 인가 받아 동작되는 냉각시스템 제어부를 포함함을 특징으로 한다.
여기서, 상기 전원전압 공급부는 상기 냉각시스템 제어부에 인가되는 상기 전원전압을 상기 계측시스템 제어부와 독립적으로 인가하고, 상기 냉각시스템 제어부에 인가되는 상기 전원전압을 스위칭하는 스위치를 포함함이 바람직하다.
또한, 상기 냉각시스템 제어부는 상기 전원공급 차단에 의한 상기 계측시스템 제어부의 동작불능이 발생될 경우, 상기 계측시스템 제어부의 동작불능이전 상 태에서 상기 냉각장치를 정상적으로 제어함이 바람직하다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 노광설비의 컴퓨터를 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시 예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 노광설비의 컴퓨터를 개략적으로 나타내는 블록도이고, 도 2는 도 1의 컴퓨터의 보드가 삽입되는 랙(rack)을 나타내는 평면도이고, 도 3은 도 1의 계측시스템 제어부와 냉각시스템 제어부에 인가되는 전원전압을 각각 스위칭하도록 전원전압 공급부에 형성된 복수개의 스위치를 나타내는 도면이다.
도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 노광설비의 컴퓨터는, 소정 크기의 전원전압을 생성하여 상기 설비컴퓨터의 각 요부에 공급하는 전원전압 공급부(110)와, 상기 전원전압 공급부(110)에서 인가되는 전원전압을 인가 받아 상기 웨이퍼 및 상기 웨이퍼에 대응되는 레티클을 지지하는 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지와 같은 구동부(130)의 위치이동을 제어하는 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 구동 제어부(120)와, 상기 구동 제어부(120)의 제어에 의해 이동된 구동부(130)의 위치를 계측하고 이후 이동될 위치를 연산 처리하여 상기 구동 제어부(120)에 피드백시키고, 상기 노광설비의 광학장치(150)의 상태를 검사하여 설정된 기준에 따라 상기 광학장치(150)를 제어하는 제어신호를 출력하고 계측시스템 제어부(140)와, 상기 계측시스템 제어부(140)에서 출력된 제어신호를 이용하여 상기 광학장치(150)의 대물렌즈와 같은 렌즈를 설정된 온도로 냉각시키는 냉각장치(도시하지 않음)를 제어하며, 상기 계측시스템 제어부(140)의 상기 전원공급 차단에 의한 동작불능여부와 관계없이 상기 전원전압 공급부(110)를 통해 상기 전원전압을 인가 받아 동작되는 냉각시스템 제어부(160)를 포함하여 구성된다.
도시하지는 않았지만, 상기 전원전압 공급부(110), 구동 제어부(120), 계측시스템 제어부(140) 및 냉각시스템 제어부(160)에 형성된 소켓(socket)들에 연결되어 상기 전원전압 및 제어신호를 상호간에 전달하기 위한 적어도 하나 이상의 연결 케이블(connect cable)을 더 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 전원전압 공급부(110)는 외부에서 제공되는 전원전압을 받아 변환시켜 상기 노광설비의 컴퓨터 각종 요부에서 요구되는 다양한 전원전압을 생성하고, 상기 노광설비의 컴퓨터 각종 요부에 공급되는 전원전압을 선택적으로 스위칭하는 복수개의 스위치를 구비한다.
예컨대, 상기 전원전압 공급부(110)는 외부에서 인가되는 약 220V정도의 전원전압을 인가받아 상기 노광설비의 컴퓨터 각종 요부에서 요구되는 전압의 크기에 따라 약 24V 내지 약 5V정도의 직류 전원전압을 생성하여 공급한다.
이때, 상기 전원전압 공급부(110)는 상기 계측시스템 제어부(140)와 상기 냉 각시스템 제어부(160)에 공급되는 상기 전원전압의 크기가 동일 또는 유사하더라도 상기 계측시스템 제어부(140) 및 냉각시스템 제어부(160)에 독립적으로 상기 전원전압을 공급한다.
또한, 상기 계측시스템 제어부(140)와 상기 냉각시스템 제어부(160)에 각각의 전원전압을 독립적으로 차단하는 복수개의 스위치는 개별적인 스위칭이 가능하도록 도 3에서와 같이 계측시스템 제어부 랙(MSR : Measurement System Rack, 스위치(140s)와 냉각시스템 제어부 보드 스위치(160s)가 전원전압 공급부 랙(CSU : Cabinet Supply Unit rack, 110a)에 병렬로 나란하게 형성될 수 있다. 이때, 상기 계측시스템 제어부 랙 스위치의 좌측에 형성된 정밀 정렬(advanced alignment) 전원전압 공급부 랙(AAR : Advanced Alignment Rack) 스위치(190s)이고, 상기 냉각시스템 제어부 보드 스위치(160s)의 우측에 형성된 스위치는 각각 레티클 전원전압 공급부 및 웨이퍼 전원전압 공급부 랙(RPR : Reticle-stage Power Rack, WPR : Wafer-stage Power Rack) 스위치(170s)와 롱 스트록 전원전압 공급부 랙(LPR :Long stroke Power Rack) 스위치(180s)이다. 도 1에서의 미설명 부호'120a'는 구동 제어부 랙(WRR : Wafer-stage Reticle-stage Rack) 스위치이다.
상기 구동부(130)는 상기 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지 내에서 전기적인 신호에 의해 동작되는 각종 모터(motor) 또는 솔레노이드(solenoid)와 같은 구동소자를 포함하여 이루어진다. 이때, 상기 구동소자는 외부에서 인가되는 구동전압에 의해서 동작가능하며 상기 구동 제어부(120)에서 출력되는 제어 신호에 의해 상기 구동전압이 단속됨으로써 선택적으로 동작될 수 있다.
또한, 상기 계측시스템 제어부(140)는 상기 구동부(130)의 이동 또는 상태를 감지하는 감지기(sensor)를 통해 입력받아 상기 구동부(130)의 이동 또는 상태의 기준(standard)을 따라 상기 구동부(130)가 동작되도록 제어하는 제어신호를 상기 구동 제어부(120)에 출력한다. 마찬가지로, 상기 계측시스템 제어부(140)는 상기 광학장치(150)의 동작 또는 상태를 감지하여 상기 냉각장치로 하여금 상기 광학장치(150)를 냉각시키도록 상기 냉각시스템 제어부(160)에 제어신호를 출력한다.
따라서, 상기 냉각시스템 제어부(160)와, 상기 구동 제어부(120)는 상기 계측시스템 제어부(140)에 인접하여 위치됨으로써 상기 계측시스템 제어부(140)에서 출력되는 제어신호를 신속하게 인가 받아 처리토록 할 수 있다.
예컨대, 상기 냉각시스템 제어부 보드(160a)는 상기 계측시스템 제어부(140)의 복수개 보드들이 삽입되는 계측시스템 제어부 랙(MSR : Measurement System Rack, 140a)에 삽입되어 있고, 상기 구동 제어부(120)의 복수개 보드들은 상기 냉각시스템 제어부(160)의 보드에 비해 다량의 보드로 이루어지기 때문에 상기 계측시스템 제어부 랙(140a)에 인접하는 별도의 구동 제어부 랙(WRR : Wafer-stage Reticle-stage Rack, 120a)에 삽입되어 있다.
또한, 상기 냉각시스템 제어부(160)는 상기 전원공급 차단에 의한 상기 계측시스템 제어부(140)의 동작불능이 발생될 경우, 상기 계측시스템 제어부(140)의 동작불능이전 상태에서 상기 냉각장치를 정상적으로 제어해야만 한다.
예컨대, 상기 냉각시스템 제어부(160)의 전원공급이 차단되어 상기 노광설비의 대물렌즈와 같은 광학장치(150)가 가열될 경우, 상기 냉각시스템 제어부(160)에 서 상기 광학장치(150)를 냉각시키기 위해 노광공정을 수행치 못하고 약 몇 시간에서 하루정도의 시간이 소요된다.
따라서, 본 발명에 따른 노광설비의 컴퓨터는, 계측시스템 제어부(140)와, 냉각시스템 제어부(160)는 각각 전원전압 공급부(110)에서 독립적으로 전원전압을 공급받아 계측시스템 제어부(140)의 전원전압 인가차단에 따른 동작정지와 무관하게 냉각시스템 제어부(160)에 전원전압을 인가하고 냉각시스템 제어부(160)의 동작정지로부터 광학장치(150)의 렌즈가 가열되는 것을 막아 후속의 노광공정을 연속되게 수행토록 할 수 있기 때문에 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있다.
도시되지는 않았지만, 상기 구동 제어부(120)는 상기 웨이퍼 스테이지의 구동을 제어하는 웨이퍼 스테이지 구동 제어부(도시하지 않음)와 상기 레티클 스테이지의 구동을 제어하는 레티클 스테이지 구동 제어부(도시하지 않음)로 나누어진다. 이때, 웨이퍼와 레티클은 서로 대응되도록 정확하게 위치되어야만 노광공정이 수행될 수 있기 때문에 상기 웨이퍼 스테이지 구동 제어부와 레티클 스테이지 구동 제어부가 서로 연관되어 동작되도록 구성된다.
또한, 상기 웨이퍼 스테이지 구동 제어부와, 상기 레티클 스테이지 구동 제어부는 상기 전원전압 공급부(110)로부터 다양한 종류의 전원전압을 직접 공급받는 것이 아니라, 상기 전원전압 공급부(110) 보드 및 스위치가 실장되는 전원전압 공급부 랙(CSU, 110a)에 인접한 레티클 전원전압 공급부 및 웨이퍼 전원전압 공급부 랙(RPR : Reticle-stage Power Rack, WPR : Wafer-stage Power Rack, 170a)에 실장된 레티클 전원전압 공급부 및 웨이퍼 전원전압 공급부에서 각각의 전원전압을 공 급받는다.
이때, 상기 웨이퍼 전원전압 공급부와 상기 레티클 전원전압 공급부는 상기 전원전압부에서 소정의 전원전압을 인가받아 좀더 다양한 종류의 전원전압을 생성하여 상기 구동 제어부(120)에 공급한다.
그리고, 상기 웨이퍼 스테이지 구동 제어부는 상기 웨이퍼 전원전압 공급부(110)외에 웨이퍼 스테이지에 전원전압을 공급하여 웨이퍼를 정렬하는 롱 스트록 전원전압 공급부(도시하지 않음)와, 상기 롱 스트록 전원전압 공급부에서 공급되는 전원전압을 이용한 웨이퍼의 정렬에 비해 섬세한 웨이퍼의 정렬을 위한 정밀 정렬 전원전압 공급부(110)에서 인가되는 전원전압을 제어한다.
예컨대, 상기 롱 스트록 전원전압 공급부(110)는 상기 레티클 전원전압 공급부 및 웨이퍼 전원전압 공급부 랙(170a) 하부의 롱스트록 전원전압 공급부 랙(LPR : Long-stroke Power Rack, 180a)에 형성되어 상기 웨이퍼 스테이지에 형성된 스텝핑 모터(stepping motor)와 같은 구동부(130)에 상기 전원전압을 공급하고, 상기 정밀 정렬 전원전압 공급부는 롱 스트록 전원전압 공급부 랙(180a)에 인접하는 정밀정렬 전원전압 공급부 랙(AAR : Advanced Alignment Rack, 190a)에 형성되어 상기 웨이퍼 스테이지의 정밀 정렬을 위한 레이저 빔(laser beam)과 같은 정밀 정렬수단에 상기 전원전압을 공급한다.
한편, 상기 노광설비 전체는 지진(earthquake) 또는 충격과 같은 주위의 어떠한 진동에 간섭을 받지 않도록 하기 위해 지면으로부터 소정 높이 이상으로 부유시킬 수 있는 에어백(air bag) 또는 스프링(spring)과 같은 완충(suspension)장치 에 의해 되어 있다.
따라서, 본 발명에 따른 노광설비의 컴퓨터는 상기 완충 장치를 제어하기 위한 완충장치 제어부를 더 포함하여 이루어지며, 상기 전원전압 공급부(110) 보드가 삽입되는 상기 전원전압 공급부 랙(110a) 상단에 형성된 완충 제어(suspension control)부 랙(SCR : Suspension Control Rack, 200a)에 완충장치 제어부가 삽입된다.
상기 계측시스템 제어부 랙(140a), 구동 제어부 랙(120a), 완충 제어부 랙(200a), 정밀 정렬 전원전압 공급부 랙(190a), 레티클 전원전압 공급부 및 웨이퍼 전원전압 공급부 랙(110a)과, 롱 스트록 전원전압 공급부 랙(180a) 각각에 삽입된 보드(board)들을 냉각하는 복수개의 팬을 더 포함하여 구성된다.
또한, 상기한 실시예의 설명은 본 발명의 더욱 철저한 이해를 제공하기 위하여 도면을 참조로 예를 든 것에 불과하므로, 본 발명을 한정하는 의미로 해석되어서는 안될 것이다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기본적 원리를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 물론이다.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 계측시스템 제어부와, 냉각시스템 제어부는 각각 전원전압 공급부에서 독립적으로 전원전압을 공급받아 계측시스템 제어부의 전원전압 인가차단에 따른 동작정지와 무관하게 냉각시스템 제어부에 전원전압을 인가하고 냉각시스템 제어부의 동작정지로부터 광학장치의 렌즈가 가열되는 것을 막아 후속의 노광공정을 연속되게 수행토록 할 수 있기 때문에 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 웨이퍼 표면에 형성된 포토레지스트를 선택적으로 노광시키기 위해 노광설비를 제어하는 설비컴퓨터에 있어서;
    소정 크기의 전원전압을 생성하여 상기 설비컴퓨터의 각 요부에 공급하는 전원전압 공급부;
    상기 전원전압 공급부에서 인가되는 전원전압을 인가 받아 상기 웨이퍼 및 상기 웨이퍼에 대응되는 레티클을 지지하는 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 위치이동을 제어하는 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 구동 제어부;
    상기 구동 제어부의 제어에 의해 이동된 상기 웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지의 위치를 계측하고 이후 이동될 위치를 연산 처리하여 상기 구동 제어부에 피드백시키고, 상기 노광설비의 광학장치의 상태를 검사하여 설정된 기준에 따라 상기 광학장치를 제어하는 제어신호를 출력하고 계측시스템 제어부; 및
    상기 계측시스템 제어부에서 출력된 제어신호를 이용하여 상기 광학장치를 설정된 온도로 냉각시키는 냉각장치를 제어하며, 상기 계측시스템 제어부의 상기 전원공급 차단에 의한 동작불능여부와 무관하게 상기 전원전압 공급부를 통해 상기 전원전압을 인가 받아 동작되는 냉각시스템 제어부를 포함함을 특징으로 하는 노광설비의 컴퓨터.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 전원전압 공급부는 상기 냉각시스템 제어부에 인가되는 상기 전원전압을 상기 계측시스템 제어부와 독립적으로 인가함을 특징으로 하는 노광설비의 컴퓨터.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 전원전압 공급부는 상기 냉각시스템 제어부에 인가되는 상기 전원전압을 스위칭하는 스위치를 포함함을 특징으로 하는 노광설비의 컴퓨터.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 냉각시스템 제어부는 상기 전원공급 차단에 의한 상기 계측시스템 제어부의 동작불능이 발생될 경우, 상기 계측시스템 제어부의 동작불능이전 상태에서 상기 냉각장치를 정상적으로 제어함을 특징으로 하는 노광설비의 컴퓨터.
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