CN116088283B - 掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质，应用于掩模版预校准系统，掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，掩模版预校准方法包括：通过机械手臂装置将曝光支撑装置移动至掩模版载具预校准装置，在掩模版载具预校准装置上校准并固定曝光支撑装置；在固定已校准的曝光支撑装置后，通过机械手臂装置将掩模版置于曝光支撑装置上，校准掩模版，并将掩模版固定在已校准的曝光支撑装置上；通过机械手臂装置，将曝光支撑装置和掩模版共同移动至掩模台上版装置。本申请旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率，以提高光刻机的连续生产效率。

Description

掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质

技术领域

本申请属于光刻机技术领域，涉及一种掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质。

背景技术

掩模版是一种由表面记载着图形、文字等信息的金属层薄膜或光阻层薄膜和材质为高纯度融石英或其它材质的玻璃载板组合而成的广泛用于IC（Integrated CircuitChip，集成芯片）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、MEMS（Micro-Electro-Mechanical System，微机电系统）以及光学器件等行业的模具。目前在现有技术中，光刻机校准掩模版的方法一般是通过光刻机的镜头扫描掩模版的边界，对掩模版位置的进行探边定位，从而实现对掩模版的校准。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种掩模版上版预校准方法，旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率，以提高光刻机的连续生产效率。

为实现上述目的，本申请提供一种掩模版预校准方法，其特征在于，应用于掩模版预校准系统，所述掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，所述掩模版预校准方法包括：

通过所述机械手臂装置将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置；

在固定已校准的所述曝光支撑装置后，通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，校准所述掩模版，并将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上；

将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上之后，通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版。

可选地，基于所述掩模版载具预校准装置的第一定位光源发出的第一光源，判断所述掩模版载具预校准装置的第一信号接收装置是否接收所述曝光支撑装置的第一校准标记；

若判定所述第一信号接收装置未接收到所述第一校准标记，则调整所述曝光支撑装置直至所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记；

若判定所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记，则生成第一锁定信号；

基于所述第一锁定信号，固定所述曝光支撑装置。

可选地，通过所述机械手臂装置将所述掩模版移动至已校准的所述曝光支撑装置上，基于所述掩模版载具预校准装置的第一定位光源发出的第一光源，判断所述掩模版载具预校准装置的第一信号接收装置是否接收到所述掩模版的第二校准标记；

若判定所述第一信号接收装置未接收到所述第二校准标记，则调整所述掩模版直至所述第一信号接收装置接收到所述第二校准标记；

若判定所述第一信号接收装置接收到所述第二校准标记，则生成第二固定信号；

基于所述第二固定信号，将所述掩模版固定在所述已校准的曝光支撑装置上。

可选地，基于所述掩模台上版装置的第二定位光源发出的第二光源，判断所述掩模台上版装置的第二信号接收装置是否接收到所述曝光支撑装置的第一校准标记；

若检测到所述第二信号接收装置未接收到所述曝光支撑装置第一校准标记，则基于所述掩模台上版装置负压固定装置调整所述曝光支撑装置，直至所述第一校准标记被所述第二信号接收装置接收；

若检测到所述第二信号接收装置接收到所述第一校准标记，则固定所述掩模台上版装置的掩模台定位固定槽，并生成第二锁定信号。

为实现上述目的，本申请还提供一种掩模版预校准系统，所述掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置；

所述掩模版载具预校准装置与所述掩模台上版装置相互独立，所述掩模版与所述曝光支撑装置相互独立，并通过所述机械手臂装置进行移动；

所述机械手臂装置用于将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，所述掩模版载具预校准装置用于校准所述曝光支撑装置，所述机械手臂装置还用于将所述掩模版移动至已校准的所述曝光支撑装置上，所述掩模版载具预校准装置还用于校准所述掩模版，所述机械手臂装置还用于将所述曝光支撑装置和所述掩模版从所述掩模版载具预校准装置移动至所述掩模台上版装置；

所述掩模台上版装置还用于曝光所述掩模版。

可选地，所述掩模版载具预校准装置包括：掩模版载具、第一定位光源、第一信号接收装置、第一固定装置以及第二固定装置；

所述第一固定装置、所述第二固定装置、所述第一定位光源和所述第一信号接收装置都固定在所述掩模版载具上；

所述第一定位光源用于向所述第一信号接收装置发送第一光源，所述曝光支撑装置表面设有第一校准标记，所述第一信号接收装置根据所述第一光源接收所述第一校准标记以检测所述曝光支撑装置是否校准；所述掩模版表面设有第二校准标记，所述第一信号接收装置根据所述第一光源接收所述第二校准标记以检测所述掩模版是否校准；

所述第一信号接收装置还用于生成第一反馈信号，所述第一固定装置和所述第二固定装置都用于根据所述第一反馈信号锁定所述曝光支撑装置和/或者所述掩模版。

可选地，所述掩模台上版装置包括：第二定位光源、第二信号接收装置以及掩模台固定装置；

所述第二定位光源所在平面、所述第二信号接收装置所在平面和所述掩模台固定装置所在平面之间相互平行；

所述掩模台固定装置用于承接所述曝光支撑装置和所述掩模版，所述第二定位光源用于向所述第二信号接收装置发送第二光源，所述第二光源依次经过所述掩模台固定装置固定的所述掩模版和所述曝光支撑装置到达所述第二信号接收装置，所述第二信号接收装置还用于生成第二反馈信号。

可选地，所述第一固定装置包括：第一定位固定槽和第一负压通道，所述第二固定装置包括：第二定位固定槽和第二负压通道；

所述第一负压通道设于所述第一定位固定槽上，所述第一定位固定槽用于固定所述曝光支撑装置，所述第一负压通道用于将所述掩模版固定在第一定位固定槽固定的所述曝光支撑装置上；

所述第二负压通道设于所述第二定位固定槽上，所述第二定位固定槽用于固定所述曝光支撑装置，所述第二负压通道用于将所述掩模版固定在第二定位固定槽固定的所述曝光支撑装置上；

所述掩模台固定装置包括：掩模台定位固定槽和负压固定装置；

所述掩模台定位固定槽与所述负压固定装置相互独立；

所述负压固定装置用于调整已校准的固定有所述掩模版的曝光支撑装置，所述掩模台定位固定槽用于固定所述负压固定装置校准的固定有所述掩模版的曝光支撑装置；

所述负压固定装置用于调整已校准的固定有所述掩模版的曝光支撑装置，所述掩模台定位固定槽用于固定已校准的固定有所述掩模版的曝光支撑装置；

所述第一反馈信号包括第一锁定信号和第二固定信号，所述第二反馈信号包括第二锁定信号；

所述第一定位固定槽和所述第二定位固定槽还用于接收所述第一锁定信号，以锁定所述曝光支撑装置，所述机械手臂装置还用于接收所述第二固定信号，以将所述掩模版固定在所述曝光支撑装置上；

所述掩模台定位固定槽还用于接收所述第二锁定信号，以锁定所述曝光支撑装置。

本申请还提供一种电子设备，所述电子设备包括：存储器、处理器以及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的所述掩模版预校准方法的程序，所述掩模版预校准方法的程序被处理器执行时可实现如上述的掩模版预校准方法的步骤。

本申请还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有实现掩模版预校准方法的程序，所述掩模版预校准方法的程序被处理器执行时实现如上述的掩模版预校准方法的步骤。

本申请还提供一种计算机程序产品，包括计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述的掩模版预校准方法的步骤。

本申请提供了一种所述掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质，应用于掩模版预校准系统，所述掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，所述掩模版预校准方法包括：通过所述机械手臂装置将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置；在固定已校准的所述曝光支撑装置后，通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，校准所述掩模版，并将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上；将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上之后，通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版。

在本申请中通过设置掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置以及曝光支撑装置，实现了在光刻机曝光前，基于第一校准标记和第二校准标记对曝光支撑装置和掩模版进行校准，提高了掩模版的校准精度，进而将校准固定后的曝光支撑装置和掩模版移动到所述掩模台上版装置上，从而对掩模版进行曝光，无需再校准掩模版，提高了掩模版的校准效率和光刻机的连续生产效率，解决了在光刻机中因定位偏差导致的掩模版报废率高，且光刻机的连续生产效率低的技术问题。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，表示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请掩模版预校准方法中第一实施例的流程示意图；

图2为本申请掩模版预校准系统的结构示意图；

图3为本申请掩模版预校准系统中掩模板载具预校准装置的正视示意图；

图4为本申请掩模版预校准方法系统中曝光支撑装置和掩模版的正视示意图；

图5为本申请掩模版预校准系统中曝光支撑装置和掩模版置于掩模版载具预校准装置的正视示意图；

图6为本申请掩模版预校准系统中掩模台上版装置的正视示意图；

图7为本申请掩模版与校准系统中曝光支撑装置和掩模版置于掩模台上版装置的正视示意图；

图8为本申请掩模版预校准系统中掩模台上版装置的俯视示意图；

图9为本申请掩模版预校准系统中掩模台上版装置上载有曝光支撑装置和掩模版的俯视示意图；

图10为本申请掩模版预校准系统中一实施例的信号接收装置接收第一校准标记示意图；

图11为本申请实施例中掩模版预校准方法涉及的硬件运行环境的设备结构示意图。

附图标号说明

本申请目的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本申请保护的范围。

实施例一

进一步地，参照图1，本申请实施例提供一种掩模版预校准方法，应用于掩模版预校准系统，所述掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，所述掩模版预校准方法包括：

步骤S10，通过所述机械手臂装置将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置；

步骤S20，在固定已校准的所述曝光支撑装置后，通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，校准所述掩模版，并将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上；

步骤S30，将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上之后，通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版。

在本申请实施例中，需要说明的是，本申请应用于光刻机，校准所述曝光支撑装置和所述掩模版都是在所述掩模版载具预校准装置中完成，在校准过程中可以通过机械手臂调节所述曝光支撑装置以及所述掩模版以调整位置，在校准所述曝光支撑装置和所述掩模版时，所述曝光支撑装置和所述掩模版都未上版（未在所述掩模台上版装置），可以在所述掩模台上版装置曝光时在所述掩模版载具装置中校准所述曝光支撑装置以及所述掩模版，当所述掩模台上版装置曝光完后，就可以将已校准的所述曝光支撑装置和所述掩模版转移至所述掩模台上版装置上，进而所述掩模台上版装置继续曝光所述掩模版，在掩模台上版装置上无需再校准掩模版，提高了掩模版曝光的效率，也提高了所述光刻机的连续生产效率。所述第二锁定信号用于确定所述掩模台定位固定槽的位置，以将所述曝光支撑装置移动至所述掩模台定位固定槽。

另外，还需要说明的是，在基于所述掩模版载具预校准装置的第二锁定信号，将固定有所述掩模版的所述曝光支撑装置移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版的步骤之后，还会将固定有所述掩模版的所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，并执行步骤：在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置。也即将所述曝光支撑装置和已曝光的掩模版移动到所述掩模版载具预校准装置上，所述掩模版载具预校准装置再对所述曝光支撑装置进行校准，所述掩模版载具预校准装置上已校准的掩模版和曝光支撑装置又可以移动到所述掩模台上版装置上，实现了生产（曝光）掩模版与预校准掩模版的同时进行，从而实现了光刻机的连续生产，提高了掩模版的曝光效率。

作为一种示例，步骤S10至步骤S30包括：通过所述机械手臂装置将所述曝光支撑装置将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置上；调整所述曝光支撑装置位置，直至校准所述曝光支撑装置；在校准所述曝光支撑装置后，固定所述曝光支撑装置，通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，调整所述掩模版位置，直至校准所述掩模版；将校准的掩模版固定在所述曝光支撑装置上；将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上之后，通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版。

在本实施例中，通过在所述掩模版载具上校准并所述曝光支撑装置和所述掩模版，实现了对掩模版的预校准，进而将曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置上，从而可以无需再校准掩模版，就能对掩模版进行曝光，提高了掩模版的曝光效率以及校准效率，进而提高了所述光刻机的连续生产效率。

其中，所述在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置步骤包括：

步骤A10，基于所述掩模版载具预校准装置的第一定位光源发出的第一光源、判断所述掩模版载具预校准装置的第一信号接收装置是否接收所述曝光支撑装置的第一校准标记；

步骤A20，若判定所述第一信号接收装置未接收到所述第一校准标记，则调整所述曝光支撑装置，直至所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记；

步骤A30，若判定所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记，则生成第一锁定信号；

步骤A40，基于所述第一锁定信号，固定所述曝光支撑装置。

在本实施例中，需要说明的是，在校准所述曝光支撑装置时，所述第一定位光源的第一光源经过所述曝光支撑装置到达所述第一信号接收装置，在校准所述曝光支撑装置后，校准掩模版时，所述第一定位光源的第一光源，依次经过所述掩模版和所述曝光支撑装置到达所述第一信号接收装置。所述第一校准标记用于判断所述曝光支撑装置是否已校准，当所述第一信号接收装置到所述第一校准标记时，则说明所述曝光支撑装置已校准，当所述第一信号接收装置未接收到第一校准标记，则说明所述曝光支撑装置未校准。所述第一锁定信号用于指示所述掩模版载具预校准装置的第一固定槽和/或第二固定槽固定所述已校准的曝光支撑装置。

作为一种示例，步骤A10至步骤A40包括：基于所述第一定位光源发出的信号源，判断所述掩模版载具预校准装置的第一信号接收装置是否接收所述曝光支撑装置的第一校准标记；若检测到所述第一信号接收装置未接收到所述第一校准标记，则基于所述机械手臂调整所述曝光支撑装置的位置，直至所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记；若检测到所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记，则所述第一信号接收装置生成所述第一锁定信号；基于所述第一锁定信号，所述掩模版载具预校准装置第一定位固定槽和/或第二定位固定槽固定所述曝光支撑装置，以防所述曝光支撑装置移动。其中，若检测到所述第一固定装置和第二固定装置上都载有曝光支撑装置，则第一定位固定槽和第二定位固定槽都锁定所述曝光支撑装置，若检测到所述第一固定装置上载有曝光支撑装置，第二固定装置无曝光支撑装置，则第一锁定信号产生时第一定位固定槽锁定所述曝光支撑装置，若检测到所述第二固定装置上载有曝光支撑装置，第一固定装置无曝光支撑装置，则第一锁定信号产生时第二定位固定槽锁定所述曝光支撑装置。

在本实施例中通过第一定位光源和第一信号接收装置，实现了通过检测第一信号接收装置是否接收到第一校准标记和/或第二校准标记，进而判断所述曝光支撑装置和/或所述掩模版是否校准，无需通过摄像头对掩模版边界进行校准，通过第一定位光源、第一信号接收装置、第一校准标记、曝光支撑装置以及第二校准标记，实现对掩模版的预校准，提高了掩模版校准的精度以及效率。

其中，所述通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，校准所述掩模版，并将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上的步骤，包括：

步骤B10，通过所述机械手臂装置将所述掩模版移动至已校准的所述曝光支撑装置上，基于所述掩模版载具预校准装置的第一定位光源发出的第一光源，判断所述掩模版载具预校准装置的第一信号接收装置是否接收到所述掩模版的第二校准标记；

步骤B20，若判定所述第一信号接收装置未接收到所述第二校准标记，则调整所述掩模版，直至所述第一信号接收装置接收到所述第二校准标记；

步骤B30，若判定所述第一信号接收装置接收到所述第二校准标记，则生成第二固定信号；

步骤B40，基于所述第二固定信号，将所述掩模版固定在所述已校准的曝光支撑装置上。

在本实施例中，需要说明的是，在掩模版校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置后，由机械手臂将所述掩模版移动至已校准的所述曝光支撑装置上，所述第一定位光源发出第一光源，所述信号源经过所述掩模版和所述曝光支撑装置到达所述第一信号接收装置。当所述第一信号接收装置接收到所述第二校准标记时，则所述掩模版已校准。所述第二固定信号用于指示所述掩模版校准装置的第一负压通道，将所述掩模版固定在所述曝光支撑装置上。

作为一种示例，步骤B10至步骤B40包括：将所述掩模版移动至已校准的所述曝光支撑装置上，基于所述掩模版载具预校准装置的第一定位光源发出的第一光源，判断所述掩模台载具的第一信号接收装置是否接收到所述掩模版的第二校准标记；若所述第一信号接收装置未接收到所述掩模版的第二校准标记，则调整所述掩模版的位置，直至所述第一信号接收装置接收到所述掩模版的第二校准标记；若所述第一信号接收装置接收到所述掩模版的第二校准标记，则所述第一信号接收装置生成第二固定信号；所述掩模版载具预校准装置的第一负压通道基于所述第二固定信号，将所述掩模版固定在所述已校准的曝光支撑装置上。其中，当所述第一信号接收装置未接收到所述掩模版的第二校准标记时，可以通过机械手臂调整所述掩模版的位置。

在本实施例中，通过设置第二定位光源和第二信号接收装置，确定掩模台定位固定槽的位置，从而保证在所述曝光支撑装置在移动到所述掩模台上版装置上时，直接移动到已校准好的掩模台定位固定槽上，从而可以直接曝光所述掩模版，提高了掩模版的曝光效率。

其中，在所述通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版的步骤之前，所述掩模版预校准方法包括：

步骤C10，基于所述掩模台上版装置的第二定位光源发出的第二光源，判断所述掩模台上版装置的第二信号接收装置是否接收到所述曝光支撑装置的第一校准标记；

步骤C20，若检测到所述第二信号接收装置未接收到所述曝光支撑装置第一校准标记，则基于所述掩模台上版装置负压固定装置调整所述曝光支撑装置，直至所述第一校准标记被所述第二信号接收装置接收；

步骤C30，若检测到所述第二信号接收装置接收到所述第一校准标记，则固定所述掩模台上版装置的掩模台定位固定槽，并生成第二锁定信号。

在本实施例中，需要说明的是，所述掩模版和所述曝光支撑装置在所述掩模版载具预校准装置上校准，且将所述掩模版固定在所述曝光支撑装置上后，可以将所述曝光支撑装置移动到所述掩模台上版装置中，并进行曝光，但首次在曝光前（也即无第二锁定信号时），需要对所述掩模台上版装置中的掩模台定位固定槽进行校准，以保证所述掩模台上版装置的第二信号接收装置能接收到所述曝光支撑装置的第一校准标记，从而保证所述掩模版在曝光时不发生偏差，在校准掩模台定位固定槽后，所述掩模台上版装置的第二信号接收装置会生成第二锁定信号，以标记所述掩模台定位固定槽的位置，所述第二锁定信号用于指示所述曝光支撑装置移动至已校准的掩模台定位固定槽中，当掩模台定位固定槽的位置确定后，后续将所述曝光支撑装置移动至掩模台上版装置时，无需对所述掩模台定位固定槽再进行校准了。进一步的，在本申请中，可以周期性的对掩模台定位固定槽进行校准，避免所述掩模台定位固定槽位置发生偏差，导致所述掩模版的位置发生偏差。

作为一种示例，步骤C10至步骤C30包括：基于所述掩模台上版装置的第二定位光源发出的第二光源，判断所述掩模台上版装置的第二信号接收装置是否接收到所述第一校准标记；若检测到所述第二信号接收装置未接收到第一校准标记，则基于所述掩模台上版装置的负压固定装置调整所述曝光支撑装置，直至所述第二信号接收装置接收到所述第一校准标记；若检测到所述第二信号接收装置接收到所述第一校准标记，则固定所述掩模台上版装置的掩模台定位固定槽，并生成第二锁定信号。其中，所述第二定位光源发出的第二光源依次经过掩模版和所述曝光支撑装置到达所述第二信号接收装置。

在本实施例中，通过对掩模台上版装置的掩模台定位固定槽进行校准，保证了所述曝光支撑装置在所述掩模台上版装置上也是校准的，进而保证了所述掩模版在曝光时，所述掩模版的位置是准确的，进一步的通过周期性对掩模台定位固定槽进行校准，可以提高所述掩模台定位固定槽的准确性，进一步提高了所述掩模版校准的准确性以及效率，且在掩模版上版时，无需再对掩模版进行校准就能曝光，进而提高了所述光刻机曝光掩模版的效率。

实施例二

参照图2、图3、图4以及图5，本申请实施例提供一种掩模版预校准系统，在本申请掩模版预校准系统的第一实施例中，所述掩模版预校准系统1000包括：掩模版载具预校准装置100、掩模台上版装置400、曝光支撑装置300、掩模版200以及机械手臂装置500；

所述掩模版载具预校准装置100与所述掩模台上版装置400相互独立，所述掩模版200与所述曝光支撑装置300相互独立，并通过所述机械手臂装置500进行移动；

所述机械手臂装置500用于将所述曝光支撑装置300移动至所述掩模版载具预校准装置100，所述掩模版载具预校准装置100用于校准所述曝光支撑装置300，所述机械手臂装置500还用于将所述掩模版200移动至已校准的所述曝光支撑装置300上，所述掩模版载具预校准装置100还用于校准所述掩模版200，所述机械手臂装置500还用于将所述曝光支撑装置300和所述掩模版200从所述掩模版载具预校准装置100移动至所述掩模台上版装置400；

所述掩模台上版装置400还用于曝光所述掩模版200。

在本实施例中，需要说明的是，所述掩模版预校准系统应用于光刻机，所述掩模版载具预校准装置100是在光刻机曝光前，对所述曝光支撑装置300和所述掩模版200进行校准，当所述曝光支撑装置300和所述掩模版200在所述掩模版载具预校准装置100上校准完成后，所述机械手臂装置500会将所述曝光支撑装置300和所述掩模版200共同移动到掩模台上版装置400上，从而曝光掩模版200。所述曝光支撑装置300表面设有第一校准标记，所述掩模版200表面设有第二校准标记，所述第一校准标记和所述第二校准标记形状一致，所述第一校准标记用于判断所述曝光支撑装置300是否已校准，第二校准标记形状用于判断所述掩模版200是否已校准。所述机械手臂定位区域301用于连接所述机械手臂装置500。

另外，还需要说明的是所述机械手臂装置500还包括机械手臂和机械手臂连接区域，所述机械手臂用于移动所述曝光支撑装置300，或调整所述掩模版200，所述机械手臂连接区域在机械手臂的一端，在所述机械手臂连接区域连接所述曝光支撑装置300时，所述机械手臂连接区域连接所述曝光支撑装置300的机械手臂定位区域301，以调整移动所述曝光支撑装置300。

进一步的，参照图2以及图3，所述掩模版载具预校准装置100包括：掩模版载具110、第一定位光源120、第一信号接收装置130、第一固定装置140以及第二固定装置150；

所述第一固定装置140、所述第二固定装置150、所述第一定位光源120和所述第一信号接收装置130都固定在所述掩模版载具110上；

所述第一定位光源120用于向所述第一信号接收装置130发送第一光源，所述曝光支撑装置300表面设有第一校准标记，所述第一信号接收装置130根据第一光源接收所述第一校准标记以检测所述曝光支撑装置300是否校准；所述掩模版200表面设有第二校准标记，所述第一信号接收装置130根据第一光源接收所述第二校准标记以检测所述掩模版200是否校准；

所述第一信号接收装置130还用于生成第一反馈信号，所述第一固定装置140和所述第二固定装置150都用于根据所述第一反馈信号锁定所述曝光支撑装置300和/或者所述掩模版200。

在本实施例中，需要说明的是，所述第一定位光源120设于所述第二固定装置150的上方，所述第一固定装置140设于所述第二固定装置150的下方，所述第一信号接收装置130设于所述第一固定装置140的下方。所述第一定位光源120用于发送第一光源，所述第二固定装置150和第一固定装置140都可以承接所述曝光支撑装置300。在所述掩模版载具110装置上校准所述曝光支撑装置300时，可以将所述曝光支撑装置300置于所述第二固定装置150或第一固定装置140上，所述第一光源会经过曝光支撑装置300，到达所述第一信号接收装置130。

另外，还需要说明的是，在本申请中所述曝光支撑装置300可以有多个，可以包括第一曝光支撑装置300和第二曝光支撑装置300，也即当固定有掩模版200的第一曝光支撑装置300在所述掩模台上版装置400上进行曝光时，第二曝光支撑装置300可以在所述掩模版载具预校准装置100上进行校准，也即可以实现曝光和校准的同时进行，进一步的，当第一曝光支撑装置300上的掩模版200曝光完成后，机械手臂可以将所述第一曝光支撑装置300移动到掩模版载具预校准装置100上的第一固定装置140或第二固定装置150（若第一固定装置140上无第二曝光支撑装置300，则将第一曝光支撑装置300移动到第一固定装置140上，若第二固定装置150上无第二曝光支撑装置300，则将第一曝光支撑装置300移动到第二固定装置150上），机械手臂再将已校准的固定有掩模版200的第二曝光支撑装置300移动到掩模台上版装置400上，以曝光所述第二曝光支撑装置300上的掩模版200，例如，参照图4，图4为所述第一固定装置140和所述第二固定装置150都载有曝光支撑装置300的正视示意图。

本申请通过设置第一定位光源120和第一信号接收装置130，由第一信号接收装置130检测是否接收到第一校准标记和第二校准标记，从而判断所述曝光支撑装着和掩模版200是否校准，无需对掩模版200边界进行检测，提高了掩模版200的校准效率以及校准精度，进一步的，通过在掩模版载具110上设置第一固定装置140和第二固定装置150，实现了能同时进行掩模版200的预校准和曝光，且在掩模版载具预校准装置100上就校准曝光支撑装置300和所述掩模版200，实现了对掩模版200的预校准，以使得掩模版200上版后无需再次校准，就可以执行曝光的操作，提高了掩模版200的校效率，也提高了光刻机的连续生产效率。

进一步的，参照图6、图7、图8以及图9，所述掩模台上版装置400包括：第二定位光源410、第二信号接收装置420以及掩模台固定装置430；

所述第二定位光源410所在平面、所述第二信号接收装置420所在平面和所述掩模台固定装置430所在平面之间相互平行；

所述掩模台固定装置430用于承接所述曝光支撑装置300和所述掩模版200，所述第二定位光源410用于向所述第二信号接收装置420发送第二光源，所述第二光源依次经过所述掩模台固定装置430固定的所述掩模版200和所述曝光支撑装置300到达所述第二信号接收装置420，所述第二信号接收装置420还用于生成第二反馈信号。

在本实施例中，需要说明的是，所述第二定位光源410设于所述掩模台固定装置430的上方，所述第二信号接收装置420设于所述掩模台固定装置430的下方，所述第二定位光源410用于发送第二光源，所述第二信号接收装置420接收所述第二光源，所述掩模台固定装置430用于承载曝光支撑装置300，参照图7，图7为所述掩模台上版装置400上载有所述掩模版200和所述曝光支撑装置300的正视示意图。所述掩模台上版装置400用于曝光掩模版200，参照图8和图9，图8为所述掩模台上版装置400的俯视示意图，图9为所述曝光支撑装置300移动至所述掩模台上版装置400的俯视示意图。在本申请中通过在所述掩模台上版装置400上设置第二定位光源410、第二信号接收装置420以及掩模台固定装置430，保证了已校准的掩模版200和曝光支撑装置300在移动到掩模台上版装置400时掩模版200和曝光支撑装置300的位置是准确的，提高了所述掩模版200的校准效率，进而提高了所述光刻机的曝光效率。

进一步的，所述第一固定装置140包括：第一定位固定槽142和第一负压通道141，所述第二固定装置150包括：第二定位固定槽152和第二负压通道151；

所述第一负压通道141设于所述第一定位固定槽142上，第一定位固定槽142用于固定所述曝光支撑装置300，所述第一负压通道141用于将所述掩模版200固定在第一定位固定槽142固定的所述曝光支撑装置300上；

所述第二负压通道151设于所述第二定位固定槽152上，所述第二定位固定槽152用于固定所述曝光支撑装置300，所述第二负压通道151用于将所述掩模版200固定在第二定位固定槽152固定的所述曝光支撑装置300上；

所述掩模台固定装置430包括：掩模台定位固定槽431和负压固定装置432；

所述掩模台定位固定槽431与所述负压固定装置432相互独立；

所述负压固定装置432用于调整已校准的固定有所述掩模版200的曝光支撑装置300，所述掩模台定位固定槽431用于固定所述负压固定装置432校准的固定有所述掩模版200的曝光支撑装置300。

进一步的，所述第一反馈信号包括第一锁定信号和第二固定信号，所述第二反馈信号包括第二锁定信号；

所述第一定位固定槽142和所述第二定位固定槽152还用于接收所述第一锁定信号，以锁定所述曝光支撑装置300，所述机械手臂装置500还用于接收所述第二固定信号，以将所述掩模版200固定在所述曝光支撑装置300上；

所述掩模台定位固定槽431还用于接收所述第二锁定信号，以锁定所述曝光支撑装置300。

在本实施例中，需要说明的是，所述第一定位固定槽142设于所述掩模版载具预校准装置100的两侧，也即，所述第一定位固定槽包括第一左定位槽孔1和第一右定位槽孔2，用于承接和/或固定所述曝光支撑装置300，所述第一负压通道141设于所述第一定位固定槽142的上方，用于调整或固定所述掩模版200，所述第一负压通道141可以吸住掩模版200的两侧，以将掩模版200固定在所述曝光支撑装置300上，也即所述第一负压通道包括第一左负压通道9和第一右负压通道10，用于吸住掩模版200两侧，以固定在所述曝光支撑装置300上。所述第二定位固定槽152设于所述掩模版载具预校准装置100的两侧，也即，所述第二定位固定槽包括第二左定位槽孔3和第二右定位槽孔4，用于承接和/或固定所述曝光支撑装置300，所述第二负压通道151设于所述第二定位固定槽152的上方，用于调整或固定所述掩模版200，所述第二负压通道151可以吸住掩模版200，以将掩模版200固定在所述曝光支撑装置300上，也即所述第二负压通道包括第二左负压通道7和第二右负压通道8，用于吸住掩模版200两侧，以固定在所述曝光支撑装置300上。掩模台定位固定槽431包括掩模台第一固定槽5和掩模台第二固定槽6，用于承接和/或固定所述已校准的固定有所述掩模版200的曝光支撑装置300。所述第一定位固定槽142、所述第二定位固定槽152和所述掩模版200定位固定槽可以水平移动，以调节所述曝光支撑装置300的位置。

所述第一反馈信号包括第一锁定信号和第二固定信号，所述第一信号接收装置130在所述曝光支撑装置300校准的状态下，生成所述第一锁定信号，在所述曝光支撑装置300和所述掩模版200都校准的状态下，生成第二固定信号，所述第一锁定信号用于指示所述第一定位固定槽142和/或第二定位固定槽152锁定所述曝光支撑装置300，所述第二固定信号用于指示所述机械手臂装置500将所述掩模版200与所述曝光支撑装置300移动至所述掩模台上版装置400。所述第二反馈信号还包括第二锁定信号，所述第二锁定信号用于指示所述机械手臂装置500将所述曝光支撑装置300置于已校准的掩模台定位固定槽431上。

另外，还需要说明的是，在本申请中，所述掩模版载具预校准装置100用于依次校准所述曝光支撑装置300和所述掩模版200，所述第一定位光源120发送信号源，所述机械手臂将所述曝光支撑装置300置于所述第一定位固定槽142中，所述机械手臂调整所述曝光支撑装置300，直至所述第一信号接收装置130接收到所述曝光支撑装置300的第一校准标记。在所述第一信号接收装置130接收到所述曝光支撑装置300的第一校准标记时，生成第一锁定信号，所述第一定位固定槽142锁定曝光支撑装置300，此时所述曝光支撑装置300已校准完毕。在所述曝光支撑装置300校准完毕后，所述机械手臂将所述掩模版200置于所述曝光支撑装置300上，所述第一定位光源120的第一光源经过所述掩模版200、所述曝光支撑装置300到达所述第一信号接收装置130，所述第一负压通道141调整所述掩模版200，直至所述第一信号接收装置130接收到所述掩模版200的第二校准标记，所述第一信号接收装置130生成第二固定信号，所述第一负压通道141将所述掩模版200固定在所述曝光支撑装置300上，所述机械手臂将固定好的掩模版200和所述曝光支撑装置300移动至所述掩模台上版装置400上。检测所述第二信号接收装置420是否接收到所述曝光支撑装置300的第一校准标记，若所述第二信号接收装置420接收到所述第一校准标记，则生成第二锁定信号。第二锁定信号用于固定所述掩模台定位固定槽431的位置以在掩模台上版装置400上校准所述曝光支撑装置300。其中，参照图9，所述第二信号接收装置420接收到第一校准标记是，是完整的第一校准标记，在所述曝光支撑装置300未校准时，所述第二信号接收装置420接收到的不完整的第一校准标记可能有多种。

在本实施例中通过对第一锁定信号固定所述曝光支撑装置300，通过第二固定信号以将所述校准的掩模版200固定在所述曝光支撑装置300上，实现了对所述掩模版200的预校准，从而在将所述校准的曝光支撑装置300和所述掩模版200共同移动到所述掩模台上版装置400上时，无需调整掩模版200，只要检测所述第二信号接收装置420接收到所述曝光支撑装置300的第一校准标记，即可对所述掩模版200进行曝光，进而提高了光刻机的连续生产效率。

实施例三

本申请实施例提供一种电子设备，所述电子设备可以为播放设备，电子设备包括：至少一个处理器；以及，与至少一个处理器通信连接的存储器；其中，存储器存储有可被至少一个处理器执行的指令，指令被至少一个处理器执行，以使至少一个处理器能够执行上述实施例中的掩模版预校准方法。

下面参考图11，其示出了适于用来实现本公开实施例的电子设备的结构示意图。本公开实施例中的电子设备可以包括但不限于诸如移动电话、笔记本电脑、数字广播接收器、PDA（personal digital assistant，个人数字助理）、PAD（portable Android device，平板电脑）、PMP（Portable Media Player，便携式多媒体播放器）、车载终端（例如车载导航终端）等等的移动终端以及诸如数字TV、台式计算机等等的固定终端。图6示出的电子设备仅仅是一个示例，不应对本公开实施例的功能和使用范围带来任何限制。

如图11所示，电子设备可以包括处理装置1001（例如中央处理器、图形处理器等），其可以根据存储在ROM（Read-Only Memory，只读存储器）1002中的程序或者从存储装置1003加载到RAM（Random Access Memory，随机访问存储器）1004中的程序而执行各种适当的动作和处理。在RAM1004中，还存储有电子设备操作所需的各种程序和数据。处理装置1001、ROM1002以及RAM1004通过总线1005彼此相连。输入/输出（I/O）接口1006也连接至总线。

通常，以下系统可以连接至I/O接口1006：包括例如触摸屏、触摸板、键盘、鼠标、图像传感器、麦克风、加转速计、陀螺仪等的输入装置1007；包括例如LCD（Liquid CrystalDisplay，液晶显示器）、扬声器、振动器等的输出装置1008；包括例如磁带、硬盘等的存储装置1003；以及通信装置1009。通信装置可以允许电子设备与其他设备进行无线或有线通信以交换数据。虽然图中示出了具有各种系统的电子设备，但是应理解的是，并不要求实施或具备所有示出的系统。可以替代地实施或具备更多或更少的系统。

特别地，根据本公开的实施例，上文参考流程图描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如，本公开的实施例包括一种计算机程序产品，其包括承载在计算机可读介质上的计算机程序，该计算机程序包含用于执行流程图所示的方法的程序代码。在这样的实施例中，该计算机程序可以通过通信系统从网络上被下载和安装，或者从存储系统被安装，或者从ROM被安装。在该计算机程序被处理系统执行时，执行本公开实施例的方法中限定的上述功能。

本申请提供的电子设备，采用上述实施例一中的掩模版预校准方法解决园区选址效率低的技术问题。与现有技术相比，本申请实施例提供的消息评价的有益效果与上述实施例提供的掩模版预校准方法的有益效果相同，且该园区选址装置中的其他技术特征与上述实施例方法公开的特征相同，在此不做赘述。

应当理解，本公开的各部分可以用硬件、软件、固件或它们的组合来实现。在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

实施例四

本实施例提供一种可读存储介质，具有存储在其上的计算机可读程序指令，计算机可读程序指令用于执行上述实施例一中的掩模版预校准方法的方法。

本申请实施例提供的计算机可读存储介质例如可以是U盘，但不限于电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的设备、设备或器件，或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子可以包括但不限于：具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机访问存储器（RAM）、只读存储器（ROM）、可擦式可编程EPROM（Electrical ProgrammableRead Only Memory，只读存储器）或闪存、光纤、便携式紧凑磁盘CD-ROM（compact discread-only memory，只读存储器）、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。在本实施例中，计算机可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质，该程序可以被指令执行设备、设备或者器件使用或者与其结合使用。计算机可读存储介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输，包括但不限于：电线、光缆、RF(RadioFrequency，射频）等等，或者上述的任意合适的组合。

上述计算机可读存储介质可以是电子设备中所包含的；也可以是单独存在，而未装配入电子设备中。

上述计算机可读存储介质承载有一个或者多个程序，当上述一个或者多个程序被电子设备执行时，使得电子设备：应用于掩模版预校准系统，所述掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，所述掩模版预校准方法包括：通过所述机械手臂装置将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置；在固定已校准的所述曝光支撑装置后，通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，校准所述掩模版，并将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上；将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上之后，通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版。

可以以一种或多种程序设计语言或其组合来编写用于执行本公开的操作的计算机程序代码，上述程序设计语言包括面向对象的程序设计语言—诸如Java、Smalltalk、C++，还包括常规的过程式程序设计语言—诸如“C”语言或类似的程序设计语言。程序代码可以完全地在用户计算机上执行、部分地在用户计算机上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算机上部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务器上执行。在涉及远程计算机的情形中，远程计算机可以通过任意种类的网络——包括LAN(localarea network，局域网)或WAN(Wide Area Network，广域网)—连接到用户计算机，或者，可以连接到外部计算机（例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接）。

附图中的流程图和框图，图示了按照本申请各种实施例的设备、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现中，方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这依所涉及的功能而定。也要注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的设备来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。

描述于本公开实施例中所涉及到的模块可以通过软件的方式实现，也可以通过硬件的方式来实现。其中，模块的名称在某种情况下并不构成对该单元本身的限定。

本申请提供的计算机可读存储介质，存储有用于执行上述掩模版预校准方法的计算机可读程序指令，旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率，以提高光刻机的连续生产效率。与现有技术相比，本申请实施例提供的计算机可读存储介质的有益效果与上述实施例提供的掩模版预校准方法的有益效果相同，在此不做赘述。

实施例五

本申请还提供一种计算机程序产品，包括计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述的掩模版预校准方法的步骤。

本申请提供的计算机程序产品旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率，以提高光刻机的连续生产效率。与现有技术相比，本申请实施例提供的计算机程序产品的有益效果与上述实施例提供的掩模版预校准方法的有益效果相同，在此不做赘述。

以上仅为本申请的优选实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利处理范围内。

Claims (9)

1.一种掩模版预校准方法，其特征在于，应用于掩模版预校准系统，所述掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，所述掩模版预校准方法包括：

通过所述机械手臂装置将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置；

在固定已校准的所述曝光支撑装置后，通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，校准所述掩模版，并将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上；

将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上之后，通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版，其中，在所述掩模台上版装置上曝光所述掩模版与在所述掩模版载具预校准装置上校准所述掩模版同时进行；

其中，所述掩模台上版装置包括第二定位光源、第二信号接收装置以及掩模台定位固定槽，在所述通过所述机械手臂装置，将所述曝光支撑装置和所述掩模版共同移动至掩模台上版装置，以曝光所述掩模版的步骤之前，所述掩模版预校准方法包括：

基于所述掩模台上版装置的第二定位光源发出的第二光源，判断所述掩模台上版装置的第二信号接收装置是否接收到所述曝光支撑装置的第一校准标记；

若检测到所述第二信号接收装置未接收到所述曝光支撑装置的第一校准标记，则基于所述掩模台上版装置的负压固定装置调整所述曝光支撑装置，直至所述第一校准标记被所述第二信号接收装置接收；

若检测到所述第二信号接收装置接收到所述第一校准标记，则固定所述掩模台上版装置的掩模台定位固定槽，并生成第二锁定信号，其中，所述第二锁定信号用于标记所述掩模台定位固定槽的位置，所述第二锁定信号还用于指示所述曝光支撑装置移动至已校准的掩模台定位固定槽中以在所述掩模台定位固定槽校准后，再将所述曝光支撑装置移动至掩模台上版装置时，无需对所述曝光支撑装置和掩模版进行校准。

2.如权利要求1所述的掩模版预校准方法，其特征在于，所述在所述掩模版载具预校准装置上校准并固定所述曝光支撑装置步骤包括：

基于所述掩模版载具预校准装置的第一定位光源发出的第一光源，判断所述掩模版载具预校准装置的第一信号接收装置是否接收所述曝光支撑装置的第一校准标记；

若判定所述第一信号接收装置未接收到所述第一校准标记，则调整所述曝光支撑装置直至所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记；

若判定所述第一信号接收装置接收到所述第一校准标记，则生成第一锁定信号；

基于所述第一锁定信号，固定所述曝光支撑装置。

3.如权利要求1所述的掩模版预校准方法，其特征在于，所述通过所述机械手臂装置将所述掩模版置于所述曝光支撑装置上，校准所述掩模版，并将所述掩模版固定在已校准的所述曝光支撑装置上的步骤，包括：

通过所述机械手臂装置将所述掩模版移动至已校准的所述曝光支撑装置上，基于所述掩模版载具预校准装置的第一定位光源发出的第一光源，判断所述掩模版载具预校准装置的第一信号接收装置是否接收到所述掩模版的第二校准标记；

若判定所述第一信号接收装置未接收到所述第二校准标记，则调整所述掩模版直至所述第一信号接收装置接收到所述第二校准标记；

若判定所述第一信号接收装置接收到所述第二校准标记，则生成第二固定信号；

基于所述第二固定信号，将所述掩模版固定在所述已校准的曝光支撑装置上。

4.一种掩模版预校准系统，其特征在于，所述掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置；

所述掩模版载具预校准装置与所述掩模台上版装置相互独立，所述掩模版与所述曝光支撑装置相互独立，并通过所述机械手臂装置进行移动；

所述机械手臂装置用于将所述曝光支撑装置移动至所述掩模版载具预校准装置，所述掩模版载具预校准装置用于校准所述曝光支撑装置，所述机械手臂装置还用于将所述掩模版移动至已校准的所述曝光支撑装置上，所述掩模版载具预校准装置还用于校准所述掩模版，所述机械手臂装置还用于将所述曝光支撑装置和所述掩模版从所述掩模版载具预校准装置移动至所述掩模台上版装置；

所述掩模台上版装置还用于曝光所述掩模版，其中，在所述掩模台上版装置上曝光所述掩模版与在所述掩模版载具预校准装置上校准所述掩模版同时进行；

其中，所述掩模台上版装置包括第二定位光源、第二信号接收装置以及掩模台定位固定槽，其中，所述掩模台定位固定槽还用于接收第二锁定信号，以锁定所述曝光支撑装置，所述第二锁定信号还用于标记所述掩模台定位固定槽的位置，以及指示所述曝光支撑装置移动至已校准的掩模台定位固定槽中，以在所述掩模台定位固定槽校准后，再将所述曝光支撑装置移动至掩模台上版装置时，无需对所述曝光支撑装置和掩模版进行校准；

所述第二定位光源用于发出第二光源，以判断所述掩模台上版装置的第二信号接收装置是否接收到所述曝光支撑装置的第一校准标记，在检测到所述第二信号接收装置未接收到所述曝光支撑装置的第一校准标记，则基于所述掩模台上版装置的负压固定装置调整所述曝光支撑装置，直至所述第一校准标记被所述第二信号接收装置接收；在检测到所述第二信号接收装置接收到所述第一校准标记，则固定所述掩模台上版装置的掩模台定位固定槽，并生成第二锁定信号。

5.如权利要求4所述的掩模版预校准系统，其特征在于，所述掩模版载具预校准装置包括：掩模版载具、第一定位光源、第一信号接收装置、第一固定装置以及第二固定装置；

所述第一固定装置、所述第二固定装置、所述第一定位光源和所述第一信号接收装置都固定在所述掩模版载具上；

所述第一定位光源用于向所述第一信号接收装置发送第一光源，所述曝光支撑装置表面设有第一校准标记，所述第一信号接收装置根据所述第一光源接收所述第一校准标记以检测所述曝光支撑装置是否校准；所述掩模版表面设有第二校准标记，所述第一信号接收装置根据所述第一光源接收所述第二校准标记以检测所述掩模版是否校准；

所述第一信号接收装置还用于生成第一反馈信号，所述第一固定装置和所述第二固定装置都用于根据所述第一反馈信号锁定所述曝光支撑装置和/或者所述掩模版。

6.如权利要求5所述的掩模版预校准系统，所述掩模台上版装置包括：第二定位光源、第二信号接收装置以及掩模台固定装置；

所述第二定位光源所在平面、所述第二信号接收装置所在平面和所述掩模台固定装置所在平面之间相互平行；

所述掩模台固定装置用于承接所述曝光支撑装置和所述掩模版，所述第二定位光源用于向所述第二信号接收装置发送第二光源，所述第二光源依次经过所述掩模台固定装置固定的所述掩模版和所述曝光支撑装置到达所述第二信号接收装置，所述第二信号接收装置还用于生成第二反馈信号。

7.如权利要求5至6任一项所述的掩模版预校准系统，其特征在于，所述第一固定装置包括：第一定位固定槽和第一负压通道，所述第二固定装置包括：第二定位固定槽和第二负压通道；

所述第一负压通道设于所述第一定位固定槽上，所述第一定位固定槽用于固定所述曝光支撑装置，所述第一负压通道用于将所述掩模版固定在第一定位固定槽固定的所述曝光支撑装置上；

所述第二负压通道设于所述第二定位固定槽上，所述第二定位固定槽用于固定所述曝光支撑装置，所述第二负压通道用于将所述掩模版固定在第二定位固定槽固定的所述曝光支撑装置上；

掩模台固定装置包括：掩模台定位固定槽和负压固定装置；

所述掩模台定位固定槽与所述负压固定装置相互独立；

所述负压固定装置用于调整已校准的固定有所述掩模版的曝光支撑装置，所述掩模台定位固定槽用于固定所述负压固定装置校准的固定有所述掩模版的曝光支撑装置；

所述第一反馈信号包括第一锁定信号和第二固定信号，第二反馈信号包括第二锁定信号；

所述第一定位固定槽和所述第二定位固定槽还用于接收所述第一锁定信号，以锁定所述曝光支撑装置，所述机械手臂装置还用于接收所述第二固定信号，以将所述掩模版固定在所述曝光支撑装置上；

所述掩模台定位固定槽还用于接收所述第二锁定信号，以锁定所述曝光支撑装置。

8.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：

至少一个处理器；

以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器；

其中，所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行权利要求1至3中任一项所述掩模版预校准方法的步骤。

9.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有实现掩模版预校准方法的程序，所述实现掩模版预校准方法的程序被处理器执行以实现如权利要求1至3中任一项所述掩模版预校准方法的步骤。

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