JP6392356B2 - レチクル形状修正装置及びこれを用いたフォトリソグラフィー・ツール - Google Patents
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Description
吸盤はレチクルの上で台形の露光視野をブロックしない。これにより、レチクルの上に光線を完全に(100%)入射させることができる。よって、改善された露光効率を得ることができる。
吸盤により提供される吸引力は、効果的にレチクルの重量負荷を減らすことができ、これにより、その重力変形を防ぐことができる。
装置は、フォトリソグラフィー・ツールに配置される、抗原、照明系、レチクルステージ、対物系、及び、ウエハステージの何れにも連結されていなく、独立している。これにより、更なる外的振動をツールに与えない。
列1:101、102、103;
列2:201、202、203、204、205、206、207、208、209、210、211、212、213、214;
列3:301、302、303。
表1に、番号が付けられた吸盤100の定められたリフト力をまとめる。
1.吸盤100はレチクル600の台形の露光FOV610を妨げず、これにより、レチクルの上への光線の完全な(100%)入射を可能にし、改善された露光効率を得ることができる。
2.複数の吸盤100は、それぞれの空気制御システムによって互いに独立して制御され、レチクルの反りの修正を助ける。
3.レチクル形状修正装置は、当該レチクル形状修正装置が用いられるフォトリソグラフィー・ツールとは別に、搭載され、レチクルへの重量負荷を低減できる。
4.レチクル形状周世装置は、フォトリソグラフィー・ツールに配置されている何れの構成要素とも接触しておらず、更なる外部振動をフォトリソグラフィー・ツールにもたらさない。
5.吸盤100によって発生されるガスの流れは、水銀灯の光の照射のためにレチクル面で発生する熱を放散させ、レチクルの熱変形を低減し、これにより、イメージング品質の改善を達成できる。
6.ガスの流れはレチクルから可能性がある小片又は他の障害物を除去し、それによって露光精度を向上する。
Claims (14)
- 視野ステッチング(field of view stitching)フォトリソグラフィー・ツールとして採用される装置であって、
複数の吸盤、吸盤取付フレーム、及び、空気制御システムを備え、
前記吸盤取付フレームはレチクルの上に配置され、
複数の前記吸盤は、互いに離間して、吸盤取付フレームの底に取り付けられており、
前記空気制御システムは、吸引によって前記レチクルを保持するか、前記レチクルを離すように複数の前記吸盤を制御し、
前記レチクルの上の複数の前記吸盤の垂直投影は、前記レチクルの露光視野の外側であり、
前記空気制御システムは、
対応する複数の前記吸盤の1つにそれぞれ連結された複数の空気チャンネルと、
切換弁及び圧力センサーであり、複数の前記空気チャンネルのそれぞれに配列された圧力安全弁と、
を備える、
レチクル形状修正装置。 - 複数の前記吸盤は、調整ねじボルト又は着脱可能ファスナーにより前記吸盤取付フレームの底に取り付けられる、請求項1に記載のレチクル形状修正装置。
- 複数の前記吸盤は、非接触の態様で吸引によって前記レチクルを保持する、請求項1に記載のレチクル形状修正装置。
- 複数の前記吸盤のそれぞれは、対応する前記圧力センサーでリアルタイムにモニターでき、対応する前記圧力安全弁と対応する前記切換弁により制御可能及び調節可能である吸引力を提供する、請求項1に記載のレチクル形状修正装置。
- 複数の前記吸盤の底面から前記レチクルまでの距離を調整するための取付プレートを更に備える、請求項1に記載のレチクル形状修正装置。
- 前記レチクルは、920mm×800mm以上のサイズを有する、請求項1に記載のレチクル形状修正装置。
- 光源、照明系、レチクルステージ、対物系アセンブリ(objective assembly)、及び、ウエハステージを備える視野ステッチング(field of view stitching)フォトリソグラフィー・ツールであって、
前記レチクルステージは、レチクルを移動させ、及び支持するように構成され、
前記照明系は、前記レチクルの面における1以上の照射視野を定めるように構成され、
前記フォトリソグラフィー・ツールは、レチクル形状修正装置を更に備え、
前記レチクル形状修正装置は、
前記レチクルステージの上に配置された吸盤取付フレームと、
前記吸盤取付フレームの底に配列された複数の吸盤と、
吸引によって前記レチクルを保持するか、前記レチクルを離すように複数の前記吸盤を制御する空気制御システムと、
を備え、
前記レチクルの面の上の複数の吸盤の垂直投影は、1以上の照射視野と重複せず、
複数の前記吸盤は、非接触の態様で吸引によって前記レチクルを保持し、
前記空気制御システムは、
複数の前記吸盤が吸引によって前記レチクルを保持するように前記レチクルの上の複数の前記吸盤を制御するように、及び、
前記レチクルが前記レチクルの重力と実質的にバランスをとる吸引力の影響を受けるように、レチクルを保持する複数の吸盤のそれぞれにより提供される吸引力を制御するように、
構成され、
前記空気制御システムは、
対応する複数の前記吸盤の1つにそれぞれ連結された複数の空気チャンネルと、
切換弁及び圧力センサーであり、複数の前記空気チャンネルのそれぞれに配列された圧力安全弁と、
を備える、
フォトリソグラフィー・ツール。 - 複数の前記吸盤は複数の列に配列され、前記複数の列の中央の列はレチクルのストロークの長さより長く、前記中央の列の両側に配列される前記複数の列の残りの列は、前記レチクルのストロークの長さより短い、請求項7に記載のフォトリソグラフィー・ツール。
- 前記複数の列のそれぞれは、前記複数の列の隣接した1つの列から離間している、請求項8に記載のフォトリソグラフィー・ツール。
- 前記レチクルを保持する複数の前記吸盤のそれぞれにより提供される吸引力は、対応する前記圧力センサーでモニターでき、対応する前記圧力安全弁で調節可能である、請求項7に記載のフォトリソグラフィー・ツール。
- 前記吸盤取付フレームは、前記光源、前記照明系、前記レチクルステージ、前記対物系、及び、前記ウエハステージの何れにも連結されていない、請求項7に記載のフォトリソグラフィー・ツール。
- 前記レチクルは、920mm×800mm以上のサイズを有する、請求項7に記載のフォトリソグラフィー・ツール。
- 複数の前記吸盤は、調整ねじボルト又は着脱可能ファスナーにより前記吸盤取付フレームの底に取り付けられる、請求項7に記載のフォトリソグラフィー・ツール。
- 複数の前記吸盤の底面から前記レチクルまでの距離を調整するための取付プレートを更に備える、請求項7に記載のフォトリソグラフィー・ツール。
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