TWI675788B - 基板懸浮搬送裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於提供一種即便是橫斷方向尺寸較大之寬幅基板亦可在高精度地維持平面度下進行搬送之基板懸浮搬送裝置。

本發明之基板懸浮搬送裝置設為以下構成：其包含：懸浮平台部，其於搬送方向延伸，且使基板於基板懸浮面上懸浮；及基板保持部，其保持於基板懸浮面上懸浮之基板；且在藉由以保持於上述基板懸浮面上懸浮之狀態之基板之狀態使基板保持部沿著搬送方向移動，將基板以於基板懸浮面上懸浮之狀態進行搬送的基板懸浮搬送裝置中，於懸浮平台部與基板保持部之間包含：輔助懸浮支持部，其係於搬送較基準尺寸之基板於與搬送方向正交之橫斷方向尺寸更大之寬幅基板之情形時，使自基板懸浮面於橫斷方向超出之寬幅基板之超出區域懸浮。

Description

基板懸浮搬送裝置

本發明係關於一面使基板懸浮一面進行搬送之基板懸浮搬送裝置者，尤其是關於即便為相對於基準尺寸之基板於橫斷方向尺寸較大之基板亦可高精度地維持平面度並進行搬送的基板懸浮搬送裝置者。

於液晶顯示器或電漿顯示器等平面顯示器，使用將抗蝕劑液塗佈於基板上者(稱為塗佈基板)。該塗佈基板藉由一面搬送基板一面由塗佈裝置將抗蝕劑液均一地塗佈於基板上形成塗佈膜。其後，進而由基板搬送裝置搬送，由乾燥裝置等乾燥塗佈膜而進行生產。

於最近之基板搬送裝置中，為了避免塗佈基板背面(與塗佈面相反側)之損傷，使用空氣懸浮或超音波懸浮等一面使基板懸浮一面搬送基板之基板懸浮搬送裝置。該基板懸浮搬送裝置如圖7所示，具有：使基板W懸浮之懸浮平台部100、及保持懸浮狀態之基板W之基板保持部102，藉由使基板保持部102於搬送方向移動以基板W在懸浮平台部100上懸浮之狀態進行搬送。

例如，於空氣懸浮搬送之情形時，如圖8(a)所示，於懸浮平台部100中使基板W懸浮之基板懸浮面101，以一定之比例配置使空氣噴出之噴出口與吸引空氣之吸引口，以可使基板W於距基板懸浮面101特定高度之位置懸浮之方式調整空氣之噴出力與空氣之吸引力(圖8之箭頭表示空氣之流動)。且，於基板W之與搬送方向正交之方向(以下，稱為橫斷方向)之兩端部藉由以基板保持部102之吸附部102a吸附而保 持，並於該狀態使基板保持部102於搬送方向行進，藉此於搬送方向搬送基板W。即，懸浮平台部100於對於基板W於橫斷方向形成為較小，且形成為於將基板W載置於懸浮平台部100之基板懸浮面101之狀態中，於橫斷方向兩端部具有可吸附基板W程度之吸附部分(超出區域T)的程度。且，藉由使基板保持部102靠近懸浮平台部100設置而極力減少空氣懸浮未作用之區域，藉此可使基板W遍及橫斷方向兩端均一地懸浮，可於高精度地維持基板W之平面姿勢(以下，稱為平面度)之狀態進行搬送。藉此，可抑制與基板懸浮搬送裝置組合之塗佈裝置103或乾燥裝置中，因基板W之姿勢之影響引起之塗佈不均或乾燥不均。

[先前專利文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本專利特開2013-115125號公報

近年來，隨著基板W之多種多樣化，有要求尺寸不同之塗佈基板W之情形。即，因最終產品之基板尺寸之多樣化，而有要求橫斷方向尺寸較通常更大之基板W(以下，稱為寬幅基板W)之情形。然而，欲於上述基板懸浮搬送裝置搬送寬幅基板W時，如圖8(b)所示，因應塗佈之基板有效區域α超過懸浮平台部100跨及基板保持部102，而有無法維持基板W之平面度之問題。即，當基板有效區域α跨及基板保持部102時，由於基板有效區域α內在懸浮平台部100與基板保持部102中懸浮狀態不同，故在與基板懸浮搬送裝置組合之塗佈裝置103或乾燥裝置中，有因基板W之姿勢變化產生塗佈不均或乾燥不均之問題。

於此種情形時，即便是於橫斷方向尺寸略微大之寬幅基板W於上述基板懸浮搬送裝置中亦無法搬送，故有為了搬送寬幅基板W而需要 另外準備新的基板懸浮搬送裝置之問題。

本發明係鑑於上述問題點而完成者，目的在於提供一種即便是橫斷方向尺寸較大之寬幅基板亦可高精度地維持平面度並進行搬送之基板懸浮搬送裝置。

為了解決上述課題，本發明之基板懸浮搬送裝置包含：懸浮平台部，其於搬送方向延伸，並使基板於基板懸浮面上懸浮；及基板保持部，其保持於上述基板懸浮面上懸浮之基板；且在藉由於保持於上述基板懸浮面上懸浮狀態之基板之狀態使上述基板保持部沿著上述搬送方向移動，而將基板以於基板懸浮面上懸浮之狀態進行搬送者，其特徵為於上述懸浮平台部與上述基板保持部之間包含：輔助懸浮支持部，其於搬送較基準尺寸之基板於與搬送方向正交之橫斷方向尺寸更大之寬幅基板之情形時，使自上述基板懸浮面於橫斷方向超出之上述寬幅基板之超出區域懸浮；上述輔助懸浮支持部係設置於上述基板保持部；且於上述輔助懸浮支持部，將吸附並保持上述基準尺寸之基板之吸附面設置於較上述基板保持部之吸附面更為橫斷方向內側；且於搬送上述基準尺寸之基板時，以上述輔助懸浮支持部之吸附面吸附並保持上述基準尺寸之基板；且於搬送上述寬幅基板時，以上述基板保持部之吸附面吸附並保持上述寬幅基板。

根據上述基板懸浮搬送裝置，由於於懸浮平台部與基板保持部之間包含輔助懸浮支持部，故即便是橫斷方向尺寸較大之寬幅基板亦可高精度地維持平面度並進行搬送。即，於寬幅基板中，較懸浮平台部於橫斷方向超出之區域藉由輔助懸浮支持部之懸浮機構，設定為與位於懸浮平台部上之基板相同之懸浮狀態，藉此可遍及橫斷方向使懸浮狀態均一化。因此，與先前之基板懸浮搬送裝置相比，可高精度地維持寬幅基板之平面度而抑制於基板有效區域產生塗佈不均之問題， 可抑制由於寬幅基板而需另外準備新的基板懸浮搬送裝置之設備成本。

又，上述輔助懸浮支持部較佳為具有其懸浮機構係與上述懸浮平台部相同之懸浮機構之構成。

根據該構成，由於輔助懸浮支持部具有與懸浮平台部相同之懸浮機構(例如，空氣懸浮、超音波懸浮等)，故可將輔助懸浮支持部之懸浮狀態設為與懸浮平台部之懸浮狀態相同之狀態，可使寬幅基板之懸浮狀態遍及橫斷方向均一化。

且，於搬送基準尺寸之基板、寬幅基板任一者之情形，均無需重組裝置構成，可使準備作業簡單化。

又，上述基板保持部之吸附面亦可構成為：較上述輔助懸浮支持部之吸附面更高地設定高度位置，於藉由上述基板保持部之吸附面保持寬幅基板之狀態下，藉由上述輔助懸浮支持部之懸浮機構，維持於與上述懸浮平台部之懸浮狀態相同之懸浮狀態。

根據該構成，於保持寬幅基板之情形時，由於在懸浮平台部及輔助懸浮支持部任一者中懸浮狀態均維持於相同狀態，故可遍及橫斷方向高精度地維持寬幅基板之平面度。

根據本發明之基板懸浮搬送裝置，即便是橫斷方向尺寸較大之寬幅基板亦可高精度地維持平面度並進行搬送。

1‧‧‧基板懸浮搬送裝置

2‧‧‧塗佈裝置

3‧‧‧基板搬送單元

4‧‧‧輔助懸浮支持部

10‧‧‧懸浮平台部

11‧‧‧基台

12‧‧‧平板部

12a‧‧‧基板懸浮面

21‧‧‧塗佈單元

22‧‧‧框架部

22a‧‧‧支柱

23‧‧‧噴口部

23a‧‧‧狹縫噴嘴

30‧‧‧基板保持部

31‧‧‧搬送驅動部

31a‧‧‧搬送導軌部

31b‧‧‧搬送本體部

32‧‧‧空氣墊

33‧‧‧吸附面

33a‧‧‧吸附面

33b‧‧‧吸附面

34‧‧‧開口部

35‧‧‧吸附墊

36‧‧‧線性導引部

37‧‧‧吸附塊

40‧‧‧輔助塊

100‧‧‧懸浮平台部

101‧‧‧基板懸浮面

102‧‧‧基板保持部

102a‧‧‧吸附部

103‧‧‧塗佈裝置

T‧‧‧超出區域

W‧‧‧基板

X‧‧‧方向

Y‧‧‧方向

Z‧‧‧方向

α‧‧‧基板有效區域

圖1係顯示與本發明一實施形態之基板懸浮搬送裝置組合之塗佈裝置之立體圖。

圖2係顯示與上述一實施形態之基板懸浮搬送裝置組合之塗佈裝置之前視圖。

圖3係顯示上述一實施形態之基板懸浮搬送裝置中保持基板之狀 態之放大圖，(a)係顯示保持標準基板之狀態之圖，(b)係顯示為了保持寬幅基板而將輔助懸浮支持部安裝於懸浮平台部之狀態之圖。

圖4係顯示上述一實施形態之基板懸浮搬送裝置之基板保持部之圖，(a)係顯示保持標準基板之狀態之圖，(b)係顯示安裝輔助懸浮支持部時保持寬幅基板之狀態之圖。

圖5係顯示上述一實施形態之基板懸浮搬送裝置之基板保持部之吸附墊之圖，(a)係顯示吸附前之狀態之圖，(b)係顯示吸附狀態之圖。

圖6係顯示其他實施形態之基板懸浮搬送裝置之基板保持部之圖，(a)係顯示保持標準基板之狀態之圖，(b)係顯示保持寬幅基板之狀態之圖。

圖7係顯示與先前之基板懸浮搬送裝置組合之塗佈裝置之立體圖。

圖8係顯示先前之基板懸浮搬送裝置中基板之保持狀態之圖，(a)係顯示保持標準基板之狀態之圖，(b)係顯示保持寬幅基板之狀態之圖。

對本發明之基板懸浮搬送裝置之實施形態使用圖式進行說明。

圖1係概略性顯示與本發明之基板懸浮搬送裝置1組合之塗佈裝置2之立體圖，圖2係與圖1之基板懸浮搬送裝置1組合之塗佈裝置2之前視圖。

於圖1、圖2中，搬送基板W之基板懸浮搬送裝置1與於搬送之基板W上形成塗佈膜之塗佈裝置2之塗佈單元21組合，形成一連串之基板處理裝置。該基板懸浮搬送裝置1具有於一方向延伸之懸浮平台部10，並沿著該懸浮平台部10之延伸方向搬送基板W。於圖1之例中，懸浮平台部10於X軸方向延伸而形成，基板W於X軸方向自上游側(前 步驟側)被搬送至下游側(後步驟側)。且，藉由自塗佈單元21噴出塗佈液，於基板W上形成塗佈膜。具體而言，藉由使基板W於懸浮平台部10懸浮之狀態於X軸方向進行搬送、且自塗佈單元21噴出塗佈液，而於基板W上形成均一厚度之塗佈膜。另，於以下之說明中，將搬送基板W之方向設為X軸方向，X軸方向相當於搬送方向。又，將與X軸方向(搬送方向)在水平面上正交之方向設為Y軸方向，尤其亦將Y軸方向稱為橫斷方向。且，將正交於X軸方向及Y軸方向兩者之方向作為Z軸方向進行說明。

塗佈單元21為向基板W塗佈塗佈液者，具有框架部22與噴口部23。框架部22具有分別配置於懸浮平台部10之Y軸方向兩側之支柱22a，於該支柱22a設置噴口部23。具體而言，支柱22a固定於Y軸方向(橫斷方向)兩側而設置，並以不妨礙後述之基板保持部30行進之方式，配置於較基板保持部30之行進路徑更外側。且，於該等支柱22a架設有噴口部23，將噴口部23以橫切懸浮平台部10之狀態安裝。又，於支柱22a設置有升降機構，藉由使升降機構動作可使噴口部23於Z方向移動。即，藉由升降機構可使噴口部23相對於懸浮平台部10進行相接或離開動作。

噴口部23係噴出塗佈液者，於一方向延伸而形成。該噴口部23形成有於一方向延伸之狹縫噴嘴23a(參照圖2)，可使儲存於噴口部23內之塗佈液自狹縫噴嘴23a噴出。具體而言，狹縫噴嘴23a形成於與懸浮平台部10對向之面，噴口部23以狹縫噴嘴23a於橫斷方向延伸之狀態設置。且，於使噴口部23相對於搬送之基板W升降使基板W與狹縫噴嘴23a之距離符合特定距離之狀態，自狹縫噴嘴23a噴出塗佈液，藉此於搬送方向連續地形成於橫斷方向一樣之塗佈膜。

又，基板懸浮搬送裝置1係使基板W懸浮並於特定搬送進行搬送者。基板懸浮搬送裝置1包含：懸浮平台部10，其使基板W懸浮；及 基板搬送單元3，其保持並搬送於懸浮平台部10懸浮之基板W。

懸浮平台部10係使基板W懸浮者，於本實施形態中具有空氣懸浮機構。懸浮平台部10係於基台11上設置平板部12而形成，且將複數片平板部12沿著X軸方向排列而形成。即，平板部12具有平滑之基板懸浮面12a(參照圖3)，且以各個基板懸浮面12a成為均一高度之方式排列。且，於基板懸浮面12a，藉由與搬送之基板W之間形成空氣層可使基板W懸浮在特定高度位置。具體而言，於平板部12，形成於基板懸浮面12a開口之微小噴出口(未圖示)與吸引口(未圖示)，將噴出口與壓縮機以配管連接，將吸引口與真空泵以配管連接。且，藉由使自噴出口噴出之空氣與吸引口產生之吸引力平衡，可使基板W於距基板懸浮面12a特定高度以水平之姿勢懸浮。藉此，可以高精度地維持基板W之平面姿勢(稱為平面度)之狀態進行搬送。

又，懸浮平台部10之平板部12係形成為其Y軸方向尺寸小於基準尺寸之基板W(標準基板W)之Y軸方向尺寸，當於基板懸浮面12a上載置基板W時，成為基板W之Y軸方向端部自基板懸浮面12a超出之狀態。藉由將該超出之部分(超出區域T)以後述之基板搬送單元3保持，可搬送基板W。該平板部12之Y軸方向尺寸係設定為超出區域T可藉基板保持部30保持之必要最小限之尺寸。即，超出部分T之超出量係設定為於以基板保持部30保持基板W之超出區域T之情形時，於基板保持部30與平板部12之間形成互不接觸之微小間隙的程度。另，基準尺寸之基板W係指於設計基板懸浮搬送裝置1時成為基準之大小之基板W，相對於後述之橫斷方向尺寸較大之寬幅基板W稱為標準基板W。

又，平板部12可安裝輔助懸浮支持部4。該輔助懸浮支持部4係於搬送相對於標準基板W橫斷方向尺寸較大之寬幅基板W之情形時，將寬幅基板W之姿勢遍及橫斷方向維持於水平者。

本實施形態之輔助懸浮支持部4為輔助塊40，於搬送寬幅基板W之情形時，安裝並固定於平板部12之Y軸方向(橫斷方向)側面。具體而言，輔助塊40具有長方體形狀，且形成為搬送方向尺寸與平板部12相同之尺寸，橫斷方向尺寸係形成為於將寬幅基板W載置於基板懸浮面12a之情形時，成為寬幅基板W之Y軸方向端部於橫斷方向超出之狀態。即，超出量為於與標準基板W相同，以基板保持部30保持基板W之情形時，基板保持部30不與輔助塊40接觸地行進之必要最低限的尺寸，即，設定為於基板保持部30與輔助塊40之間形成互不接觸之微小間隙之尺寸。又，於安裝輔助塊40之狀態中，以輔助塊40之上表面成為與平板部12之基板懸浮面12a相同高度之方式設定。藉此，藉由平板部12與輔助塊40可形成稍大之平坦且一樣之基板懸浮面12a。

又，輔助塊40(輔助懸浮支持部4)具有與懸浮平台部10相同之懸浮機構(於本實施形態中係空氣懸浮機構)。具體而言，於輔助塊40之形成基板懸浮面12a之面，與平板部12相同地形成噴出口(未圖示)與吸引口(未圖示)，且以與平板部12之噴出口及吸引口相同之態樣形成。即，形成為具有與平板部12之噴出口及吸引口相同之比例、相同之位置關係，可將平板部12之基板W之懸浮狀態、與輔助塊40之基板W之懸浮狀態成為相同狀態。因此，於安裝輔助塊40之狀態中，即便為寬幅基板W，亦可使其遍及橫斷方向均一地懸浮，可以高精度地維持基板W平面度之狀態懸浮。

又，基板搬送單元3係搬送懸浮狀態之基板W者，具有：保持基板W之基板保持部30、及使基板保持部30行進之搬送驅動部31。

搬送驅動部31構成為使基板保持部30於搬送方向移動，且由沿著懸浮平台部10於搬送方向延伸之搬送導軌部31a、及於該搬送導軌部31a上行進之搬送本體部31b形成。具體而言，將於搬送方向延伸之方式設置之基台11配置於懸浮平台部10之橫斷方向兩側，並於各基台 11上設置搬送導軌部31a。即，將搬送導軌部31a沿著懸浮平台部10不間斷地連續設置。又，搬送本體部31b係形成為凹形狀之板狀構件，如圖4(a)所示，以覆蓋搬送導軌部31a上表面之方式設置。具體而言，搬送本體部31b以隔著空氣墊32覆蓋搬送導軌部31a之方式設置，藉由驅動未圖示之線性馬達，使搬送本體部31b於搬送導軌部31a上行進。即，藉由驅動控制線性馬達，使搬送本體部31b不與搬送導軌部31a接觸地行進，且可於適當位置停止。

又，基板保持部30係保持基板W者，且安裝於搬送本體部31b。具體而言，如圖4(a)所示，基板保持部30形成為大致長方體之方塊狀，且隔著不與懸浮平台部10之平板部12接觸之程度之間隙安裝。又，基板保持部30係設定為其上表面(吸附面33)與懸浮之基板W下表面之高度位置成為面位置。且，如圖5所示，於吸附面33形成開口部34，於該開口部34內埋設可彈性變形之波紋管形狀之吸附墊35。該吸附墊35係產生吸引力且吸附保持基板W者，且係設定為於通常狀態(無基板W之狀態)時，其前端自開口部34以稍微突出之狀態待機(參照圖5(a))。且，於將基板W載置於基板懸浮面12a時自基板懸浮面12a於橫斷方向超出之部分抵接於吸附墊35。於該狀態使吸附墊35產生吸引力時，以吸附墊35吸引基板W之下表面，且保持該吸引狀態不變，吸附墊35自身收縮至開口部34內使基板W之下表面抵接於吸附面33從而保持基板W(參照圖5(b))。藉此，於懸浮平台部10懸浮之基板W以遍及橫斷方向維持相同懸浮高度位置之狀態被保持。

又，基板保持部30具有位置調節機構。即，基板保持部30經由線性導引部36設置於搬送本體部31b，且可於橫斷方向移動。具體而言，於搬送本體部31b，安裝可於橫斷方向移動之線性導引部36，於該線形導引部36安裝基板保持部30。且，藉由驅動控制線形導引部36使基板保持部30於橫斷方向移動，並可於適當之位置停止。

於本實施形態中，於搬送標準基板W之情形時，使基板保持部30移動至靠近懸浮平台部10之位置並固定(參照圖4(a))。即，以於基板保持部30與懸浮平台部10之間，具有即便基板保持部30於搬送方向行進亦不與懸浮平台部10之平板部12接觸之程度的間隙之方式，將基板保持部30固定於極力靠近懸浮平台部10之位置。藉此，可極力減少基板W上懸浮機構未作用之區域，從而可使基板W之懸浮狀態遍及橫斷方向均一化。

又，於搬送寬幅基板W之情形時，於橫斷方向外側移動僅輔助塊40存在之量，並將基板保持部30固定於靠近輔助塊40之位置(參照圖4(b))。於該情形時，亦以於基板保持部30與輔助塊40之間，具有即便基板保持部30於搬送方向行進亦不與輔助塊40接觸之程度的間隙之方式固定，極力減少基板W上懸浮機構未作用之區域，從而可使基板W之懸浮狀態遍及橫斷方向均一化。

如此，於本實施形態之基板懸浮搬送裝置1中，由於於懸浮平台部10與基板保持部30之間包含輔助懸浮支持部4(輔助塊40)，故即便是橫斷方向尺寸較大之寬幅基板W亦可高精度地維持平面度並進行搬送。即，寬幅基板W中較懸浮平台部10於橫斷方向超出之區域藉由輔助懸浮支持部4之懸浮機構，設定為與位於懸浮平台部10上之基板W相同之懸浮狀態，藉此可遍及橫斷方向使懸浮狀態均一化。因此，與先前之基板懸浮搬送裝置1相比，可高精度地維持寬幅基板W之平面度且抑制基板W有效區域產生塗佈不均之問題，可抑制由於寬幅基板W而另外準備新的基板懸浮搬送裝置1之設備成本。

又，由於於輔助塊40使用與懸浮平台部10相同之空氣懸浮機構，故可將輔助塊40之懸浮狀態設為與懸浮平台部10之懸浮狀態相同之狀態，因此可使寬幅基板W之懸浮狀態遍及橫斷方向均一化。

又，於上述實施形態中，對輔助懸浮支持部4係安裝於懸浮平台 部10之輔助塊40之情形進行說明，但亦可為將輔助懸浮支持部4設置於基板保持部30者。於圖6所示之例中，以基板保持部30之吸附面33a成為輔助懸浮支持部4之一部分之方式構成。即，於基板保持部30，設置吸附塊37，且於橫斷方向內側形成輔助懸浮支持部4，於橫斷方向外側形成基板保持部30，並將該等一體構成。具體而言，基板保持部30之吸附面33a位於橫斷方向外側，形成於較輔助懸浮支持部4之吸附面33b更高之位置。且，於各吸附面33(吸附面33a及吸附面33b)，形成開口部34，於該開口部34埋設上述吸附墊35，可吸附並保持基板W。即，吸附塊37之輔助懸浮支持部4配置於靠近懸浮平台部10之平板部12之位置，於將標準基板W載置於懸浮平台部10時，可以吸附墊35吸附自基板懸浮面12a超出之超出區域T(圖6(a))。即，吸附塊37之輔助懸浮支持部4與上述實施形態相同，以具有即便基板保持部30於搬送方向行進亦不與懸浮平台部10之平板部12接觸之程度的間隙之方式配置，從而可使其遍及橫斷方向均一地懸浮，可以高精度地維持基板W之平面度之狀態懸浮。

又，基板保持部30之吸附墊35配置於可吸附載置於懸浮平台部10之寬幅基板W之超出區域T之位置。又，於輔助懸浮支持部4之吸附面33b，形成噴出口(未圖示)與吸引口(未圖示)，且以與平板部12之噴出口及吸引口相同之狀態形成。即，於將寬幅基板W載置於懸浮平台部10時，自懸浮平台部10超出之部分藉由設置於吸附塊37之輔助懸浮支持部4之懸浮機構懸浮。又，吸附面33b與基板懸浮面12a之高度位置設定為共通之高度。藉此，可使寬幅基板W之超出區域T以與設置於懸浮平台部10之懸浮機構相同構成之懸浮機構懸浮，因此即便將基板保持部30配置於自懸浮平台部10朝橫斷方向外側遠離之位置，亦可使基板W之懸浮狀態遍及橫斷方向均一化。且，於本實施形態中，如上述實施形態般，於搬送標準基板W與寬幅基板W時，無需更換輔助 塊40，因此與上述實施形態相比，可使準備作業簡單化。

又，於上述實施形態中，對使用空氣懸浮機構作為懸浮平台部10之懸浮機構之例進行說明，但亦可為使用超音波懸浮等其他懸浮機構者。

又，於上述實施形態中，對於輔助懸浮支持部4中，使用與懸浮平台部10相同之懸浮機構之例進行說明，但亦可為使用不同之懸浮機構者。例如，可於懸浮平台部10使用超音波懸浮機構，於輔助懸浮支持部4使用空氣懸浮機構。不論使用任一者之懸浮機構，只要可使懸浮平台部10及輔助懸浮支持部4之懸浮高度共通且遍及橫斷方向形成均一之懸浮狀態即可。

又，於上述實施形態中，對將基板懸浮搬送裝置1組合於塗佈裝置2之例進行說明，但亦可將基板懸浮搬送裝置1組合於乾燥裝置組合，組成各種各樣之基板處理裝置使用。

Claims (3)

1. 一種基板懸浮搬送裝置，其包含：懸浮平台部，其於搬送方向延伸，且使基板於基板懸浮面上懸浮；及基板保持部，其保持於上述基板懸浮面上懸浮之基板；且藉由以保持於上述基板懸浮面上懸浮之狀態之基板之狀態使上述基板保持部沿著上述搬送方向移動，而將基板以於基板懸浮面上懸浮之狀態搬送者，其特徵為：於上述懸浮平台部與上述基板保持部之間包含：輔助懸浮支持部，其係於搬送較基準尺寸之基板於與搬送方向正交之橫斷方向尺寸更大之寬幅基板之情形時，使自上述基板懸浮面於橫斷方向超出之上述寬幅基板之超出區域懸浮；上述輔助懸浮支持部係一體地設置於上述基板保持部；且於上述輔助懸浮支持部，將吸附並保持上述基準尺寸之基板之吸附面設置於較上述基板保持部之吸附面更為橫斷方向內側；且於搬送上述基準尺寸之基板時，以上述輔助懸浮支持部之吸附面吸附並保持上述基準尺寸之基板；且於搬送上述寬幅基板時，以上述基板保持部之吸附面吸附並保持上述寬幅基板。
2. 如請求項1之基板懸浮搬送裝置，其中上述基板保持部之吸附面較上述輔助懸浮支持部之吸附面更高地設定高度位置，於藉由上述基板保持部之吸附面保持寬幅基板之狀態下，藉由上述輔助懸浮支持部之懸浮機構，維持於與上述懸浮平台部之懸浮狀態相同之懸浮狀態。
3. 如請求項1或2之基板懸浮搬送裝置，其中上述輔助懸浮支持部具有其懸浮機構與上述懸浮平台部相同之懸浮機構。