CN106684014A - 基板浮起输送装置 - Google Patents
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Abstract
提供基板浮起输送装置,即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。该基板浮起输送装置具有:浮起载台部,其在输送方向上延伸,使基板浮起于基板浮起面上;以及基板保持部,其对浮起于基板浮起面上的基板进行保持,基板保持部在对浮起于基板浮起面上的状态的基板进行保持的状态下沿着输送方向进行移动,由此基板在浮起于基板浮起面上的状态下被输送,在浮起载台部与基板保持部之间具有辅助浮起支承部,在对宽度方向尺寸比基准大小的基板大的宽幅基板进行输送的情况下,辅助浮起支承部使从基板浮起面在宽度方向上伸出的宽幅基板的伸出区域浮起,宽度方向与输送方向垂直。
Description
技术领域
本发明涉及一边使基板浮起一边进行输送的基板浮起输送装置,尤其涉及即使对于宽度方向尺寸比基准尺寸的基板大的基板也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送的基板浮起输送装置。
背景技术
在液晶显示器、等离子显示器等平板显示器中,使用在基板上涂布有抗蚀液的基板(称之为涂布基板)。该涂布基板通过如下方式来生产:一边输送基板一边利用涂布装置在基板上均匀地涂布抗蚀液从而形成涂布膜。之后,再通过基板输送装置进行输送并通过干燥装置等对涂布膜进行干燥。
在最近的基板输送装置中,为了避免涂布基板的背面(涂布面的相反侧)的损伤,使用了一边以空气浮起或超声波浮起等方式使基板浮起一边对基板进行输送的基板浮起输送装置。如图7所示,该基板浮起输送装置具有使基板W浮起的浮起载台部100和对浮起状态的基板W进行保持的基板保持部102,通过使基板保持部102在输送方向上移动,而在基板W浮起于浮起载台部100上的状态下进行输送。
例如,在进行空气浮起输送的情况下,如图8的(a)所示,在浮起载台部100的使基板W浮起的基板浮起面101上,以一定的比例配置有使空气喷出的喷出口和吸引空气的吸引口,对空气的喷出力和空气的吸引力进行调整以使基板W从基板浮起面101浮起至规定的高度位置(图8的箭头示出了空气的流向)。并且,对基板W的与输送方向垂直的方向(以下,称为宽度方向)的两端部借助基板保持部102的吸附部102a进行吸附而保持,在该状态下基板保持部102在输送方向上行驶从而在输送方向上输送基板W。即,浮起载台部100相对于基板W在宽度方向上较小地形成,并形成为:在将基板W载置于浮起载台部100的基板浮起面101上的状态下,在宽度方向两端部具有能够对基板W进行吸附的程度的吸附余量(伸出区域T)的程度。并且,使基板保持部102接近浮起载台部100而设置,从而尽量减少空气浮起无法作用的区域,由此,能够在宽度方向两端的范围内使基板W均匀地浮起,能够在高精度地维持基板W的平面姿势(以下,称为平面度)的状态下进行输送。由此,在与基板浮起输送装置组合的涂布装置103和干燥装置中能够抑制由基板W的姿势导致的涂布不匀和干燥不匀。
专利文献1:日本特开第2013-115125号公报
近年来,随着基板W的多种多样化,有时会需求尺寸不同的涂布基板W。即,由于最终成品的基板尺寸的多样化,有时会需求与通常相比在宽度方向上尺寸大的基板W(以下,称为宽幅基板W)。但是,当想要通过上述的基板浮起输送装置来输送宽幅基板W时,如图8的(b)所示,应进行涂布的基板有效区域α超过浮起载台部100而横跨在基板保持部102上,因而存在不能维持基板W的平面度的问题。即,当基板有效区域α横跨在基板保持部102上时,由于基板有效区域α内浮起状态因浮起载台部100和基板保持部102而不同,所以存在如下的问题:在与基板浮起输送装置组合的涂布装置103和干燥装置中,会产生由基板W的姿势变化而导致的涂布不匀和干燥不匀。
在这样的情况下,存在如下的问题:宽度方向上尺寸哪怕稍大一点点的宽幅基板W就不能利用上述基板浮起输送装置进行输送,为了输送宽幅基板W而需要另外准备新的基板浮起输送装置。
发明内容
本发明是鉴于上述的问题点而完成的,其目的在于提供一种基板浮起输送装置,即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板,也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。
为了解决上述课题,本发明的基板浮起输送装置具有:浮起载台部,其在输送方向上延伸,使基板浮起于基板浮起面上;以及基板保持部,其对浮起于所述基板浮起面上的基板进行保持,所述基板保持部在对浮起于所述基板浮起面上的状态的基板进行保持的状态下沿着所述输送方向进行移动,由此基板在浮起于基板浮起面上的状态下被输送,该基板浮起输送装置的特征在于,在所述浮起载台部与所述基板保持部之间具有辅助浮起支承部,在对宽度方向尺寸比基准大小的基板大的宽幅基板进行输送的情况下,该辅助浮起支承部使从所述基板浮起面在宽度方向上伸出的所述宽幅基板的伸出区域浮起,其中,所述宽度方向与输送方向垂直。
根据上述基板浮起输送装置,由于在浮起载台部与基板保持部之间具有辅助浮起支承部,所以即使是宽度方向上尺寸大的宽幅基板也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。即,对于宽幅基板中的、比浮起载台部在宽度方向上伸出的区域而言,借助辅助浮起支承部的浮起机构将其设定为与位于浮起载台部上的基板相同的浮起状态,由此,能够在宽度方向范围内均匀地维持浮起状态。因此,与以往的基板浮起输送装置相比,能够高精度地维持宽幅基板的平面度而抑制在基板有效区域内产生涂布不匀的问题,能够抑制针对宽幅基板而另外准备新的基板浮起输送装置的设备成本。
并且,优选如下的结构:所述辅助浮起支承部具有与所述浮起载台部相同的浮起机构。
根据该结构,由于辅助浮起支承部具有与浮起载台部相同的浮起机构(例如空气浮起、超声波浮起等),所以能够使辅助浮起支承部处的浮起状态与浮起载台部处的浮起状态成为相同的状态,能够在宽度方向范围内均匀地维持宽幅基板的浮起状态。
例如,也可以采用如下的结构:所述辅助浮起支承部相对于所述浮起载台部以能够自由拆装的方式设置,在对所述宽幅基板进行输送的情况下,所述辅助浮起支承部安装于所述浮起载台部,所述宽幅基板借助所述浮起载台部和所述辅助浮起支承部的浮起机构而浮起。
根据该结构,由于仅在对宽幅基板进行输送的情况下将辅助浮起支承部安装于浮起载台部即可,所以能够以简单的结构设置辅助浮起支承部。
并且,也可以采用如下的结构:所述基板保持部形成为能够相对于所述浮起载台部在宽度方向上进行位置调节,在拆下所述辅助浮起支承部的情况下,所述基板保持部配置在与所述浮起载台部接近的位置,在所述辅助浮起支承部安装于所述浮起载台部的情况下,所述基板保持部配置在远离所述浮起载台部的位置。
根据该结构,无论有无辅助浮起支承部,由于能够使由基板保持部和浮起载台部(在安装有辅助浮起支承部的情况下为辅助浮起支承部)形成的间隙成为所需的最小限度,所以能够极力抑制该间隙对基板的平面度造成影响。
并且,也可以采用如下的结构:所述辅助浮起支承部设置于所述基板保持部,借助设置于所述辅助浮起支承部的吸附部对基准尺寸的基板进行吸附而保持,借助所述基板保持部的吸附部对宽幅基板进行吸附而保持。
根据该结构,无论在对基准尺寸的基板和宽幅基板中的任意一种进行输送的情况下,也不用对装置结构进行改组,能够使准备作业简略化。
并且,也可以采用如下的结构:所述基板保持部的吸附部被设定成其高度位置比所述辅助浮起支承部的吸附部高,在借助所述基板保持部的吸附部对宽幅基板进行保持的状态下,通过所述辅助浮起支承部的浮起机构来维持成与所述浮起载台部处的浮起状态相同的浮起状态。
根据该结构,在对宽幅基板进行保持的情况下,对于浮起载台部和辅助浮起支承部的任意一个而言浮起状态都维持为相同的状态,因此能够在宽度方向范围内高精度地维持宽幅基板的平面度。
根据本发明的基板浮起输送装置,即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板,也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。
附图说明
图1是示出与本发明的一实施方式的基板浮起输送装置进行组合的涂布装置的立体图。
图2是与上述一实施方式的基板浮起输送装置进行组合的涂布装置的主视图。
图3的(a)和(b)是示出在上述一实施方式的基板浮起输送装置中对基板进行保持的状态的放大图,其中(a)是示出对标准基板进行保持的状态的图,(b)是示出为了对宽幅基板进行保持而对浮起载台部安装了辅助浮起支承部的状态的图。
图4的(a)和(b)是示出上述一实施方式的基板浮起输送装置的基板保持部的图,其中(a)是示出对标准基板进行保持的状态的图,(b)是示出在安装了辅助浮起支承部的情况下对宽幅基板进行保持的状态的图。
图5的(a)和(b)是示出上述一实施方式的基板浮起输送装置的基板保持部的吸附垫的图,其中(a)是示出进行吸附之前的状态的图,(b)是示出进行了吸附之后的状态的图。
图6的(a)和(b)是示出其他实施方式的基板浮起输送装置的基板保持部的图,其中(a)是示出对标准基板进行保持的状态的图,(b)是示出对宽幅基板进行保持的状态的图。
图7是示出与以往的基板浮起输送装置进行组合的涂布装置的立体图。
图8的(a)和(b)是示出以往的基板浮起输送装置中的基板的保持状态的图,其中(a)是示出对标准基板进行保持的状态的图,(b)是示出对宽幅基板进行保持的状态的图。
标号说明
1:基板浮起输送装置;2:涂布装置;3:基板输送单元;4:辅助浮起支承部;10:浮起载台部;12:平板部;12a:基板浮起面;30:基板保持部;33:吸附面;37:吸附块;40:辅助块。
具体实施方式
使用附图对本发明的基板浮起输送装置的实施方式进行说明。
图1是概略地示出与本发明的基板浮起输送装置1进行组合的涂布装置2的立体图,图2是与图1中的基板浮起输送装置1进行组合的涂布装置2的主视图。
在图1、图2中,输送基板W的基板浮起输送装置1与在所输送的基板W上形成涂布膜的涂布装置2的涂布单元21进行组合而形成一系列的基板处理装置。该基板浮起输送装置1具有在一个方向上延伸的浮起载台部10,基板W沿着该浮起载台部10的延伸的方向被输送。在图1的例子中,浮起载台部10形成为在X轴方向上延伸,基板W在X轴方向上从上游侧(前工序侧)输送至下游侧(后工序侧)。并且,从涂布单元21喷出涂布液,由此在基板W上形成涂布膜。具体地说,一边在基板W浮起于浮起载台部10的状态下在X轴方向上对其进行输送,一边从涂布单元21喷出涂布液,由此在基板W上形成厚度均匀的涂布膜。另外,在以下的说明中,将对基板W进行输送的方向设为X轴方向,X轴方向相当于输送方向。并且,将在水平面上与X轴方向(输送方向)垂直的方向设为Y轴方向,特别地还将Y轴方向称为宽度方向。并且,将与X轴方向和Y轴方向这两者垂直的方向设为Z轴方向而进行说明。
涂布单元21在基板W上涂布涂布液,具有框架部22和管口部23。框架部22具有分别配置在浮起载台部10的Y轴方向两侧的支柱22a,在该支柱22a上设置有管口部23。具体地说,支柱22a被设置成固定在Y轴方向(宽度方向)两侧,以不妨碍后述的基板保持部30的行驶的方式配设在比基板保持部30的行驶路径靠外侧的位置。并且,管口部23被设置成架设在这些支柱22a上,以横跨浮起载台部10的状态安装管口部23。并且,在支柱22a上设置有升降机构,能够通过使升降机构动作而使管口部23在Z方向上移动。即,管口部23能够借助升降机构而相对于浮起载台部10进行接近离开动作。
管口部23喷出涂布液,其形成为在一个方向上延伸。在该管口部23上形成有在一个方向上延伸的缝喷嘴23a(参照图2),能够从缝喷嘴23a将贮存在管口部23内的涂布液喷出。具体地说,缝喷嘴23a形成在与浮起载台部10相对的面上,管口部23以缝喷嘴23a沿着宽度方向延伸的状态设置。并且,在使管口部23相对于所输送的基板W升降而使基板W与缝喷嘴23a之间的距离与规定的距离相符的状态下,从缝喷嘴23a喷出涂布液,从而使宽度方向上均匀的涂布膜连续地形成在输送方向上。
并且,基板浮起输送装置1一边使基板W浮起一边在特定方向上对其进行输送。基板浮起输送装置1具有:浮起载台部10,其使基板W浮起;以及基板输送单元3,其对浮起于浮起载台部10的基板W进行保持并输送。
浮起载台部10使基板W浮起,在本实施方式中该浮起载台部10具有空气浮起机构。浮起载台部10形成为在基台11上设置有平板部12,多个平板部12形成为沿着X轴方向排列。即,平板部12具有平滑的基板浮起面12a(参照图3),各个基板浮起面12a被排列成高度均等。并且,在基板浮起面12a与所输送的基板W之间形成有空气层,由此能够使基板W浮起至规定的高度位置。具体地说,在平板部12中,形成有在基板浮起面12a开口的微小的喷出口(未图示)和吸引口(未图示),喷出口与压缩机通过配管连接,吸引口与真空泵通过配管连接。并且,使从喷出口喷出的空气和产生于吸引口的吸引力达到平衡,由此,基板W能够以水平的姿势浮起至距基板浮起面12a规定的高度。由此,能够在高精度地维持着基板W的平面姿势(称为平面度)的状态下进行输送。
并且,浮起载台部10的平板部12形成为:其Y轴方向尺寸比基准尺寸的基板W(标准基板W)的Y轴方向尺寸小,当将基板W载置到基板浮起面12a上时,成为基板W的Y轴方向端部从基板浮起面12a伸出的状态。利用后述的基板输送单元3对该伸出的部分(伸出区域T)进行保持,从而能够对基板W进行输送。该平板部12的Y轴方向尺寸被设定为伸出区域T能够借助基板保持部30进行保持所需的最小限度的尺寸。即,按照当利用基板保持部30对基板W的伸出区域T进行保持的情况下,在基板保持部30与平板部12之间形成有互相不接触的微小的间隙的程度设定伸出区域T的伸出量。另外,所谓基准尺寸的基板W是指在对基板浮起输送装置1进行设计时作为基准的大小的基板W,与后述的宽度方向尺寸大的宽幅基板W相比,将该基板W称为标准基板W。
并且,平板部12能够安装辅助浮起支承部4。在对宽度方向尺寸比标准基板W大的宽幅基板W进行输送的情况下,该辅助浮起支承部4将宽幅基板W的姿势维持为在宽度方向范围内水平。
本实施方式的辅助浮起支承部4为辅助块40,在对宽幅基板W进行输送的情况下,安装固定在平板部12的Y轴方向(宽度方向)侧面上。具体地说,辅助块40具有长方体形状,输送方向尺寸形成为与平板部12相同的尺寸,宽度方向尺寸形成为如下的尺寸:在将宽幅基板W载置于基板浮起面12a的情况下,成为宽幅基板W的Y轴方向端部在宽度方向上伸出的状态。即,伸出量与标准基板W同样地被设定为在利用基板保持部30对基板W进行保持的情况下,基板保持部30不与辅助块40接触而进行行驶所需的最低限度的尺寸,即,被设定为在基板保持部30与辅助块40之间形成有互相不接触的微小的间隙的尺寸。并且,在安装有辅助块40的状态下,将辅助块40的上表面设定为与平板部12的基板浮起面12a为相同高度。由此,通过平板部12和辅助块40形成了大一圈的平坦且均匀的基板浮起面12a。
并且,辅助块40(辅助浮起支承部4)具有与浮起载台部10相同的浮起机构(在本实施方式中为空气浮起机构)。具体地说,在辅助块40的形成基板浮起面12a的面上,与平板部12同样地形成有喷出口(未图示)和吸引口(未图示),以与平板部12的喷出口和吸引口相同的方式形成。即,以具有与平板部12的喷出口和吸引口相同的比例、相同的位置关系的方式形成,能够使平板部12中的基板W的浮起状态和辅助块40中的基板W的浮起状态为相同的状态。因此,在安装有辅助块40的状态下,即使是宽幅基板W也能够在宽度方向范围内均匀地浮起,能够在高精度地维持基板W的平面度的状态下使其浮起。
并且,基板输送单元3对浮起状态的基板W进行输送,其具有对基板W进行保持的基板保持部30和使基板保持部30行驶的输送驱动部31。
输送驱动部31构成为使基板保持部30在输送方向上移动,由沿着浮起载台部10在输送方向上延伸的输送轨道部31a和在该输送轨道部31a上行驶的输送主体部31b形成。具体地说,以在输送方向上延伸的方式设置的基台11被配置在浮起载台部10的宽度方向两侧,在各个基台11上设置输送轨道部31a。即,输送轨道部31a沿着浮起载台部10不中断地连续设置。并且,输送主体部31b是形成为凹形状的板状部件,如图4的(a)所示,该输送主体部31b以覆盖输送轨道部31a的上表面的方式设置。具体地说,输送主体部31b以隔着空气垫32覆盖输送轨道部31a的方式设置,通过驱动未图示的线性马达来使输送主体部31b在输送轨道部31a上行驶。即,通过对线性马达进行驱动控制,输送主体部31b在输送轨道部31a上以不接触的方式行驶,并能够在适当的位置停止。
并且,基板保持部30对基板W进行保持,该基板保持部30安装在输送主体部31b上。具体地说,如图4的(a)所示,基板保持部30形成为大致长方体的块状,隔着不接触的程度的间隙安装于浮起载台部10的平板部12。并且,基板保持部30被设定为其上表面(吸附面33)与浮起的基板W的下表面的高度位置成为同一平面。并且,如图5所示,在吸附面33上形成有开口部34,在该开口部34内埋设有能够弹性变形的折皱形状的吸附垫35。该吸附垫35产生吸引力而对基板W进行吸附保持,该吸附垫35被设定为在通常状态(没有基板W的状态)下在其前端稍微从开口部34突出的状态下待机(参照图5的(a))。并且,当在基板浮起面12a上载置有基板W时,基板W的从基板浮起面12a朝向宽度方向伸出的部分与吸附垫35抵接。当在该状态下使吸附垫35产生吸引力时,一边利用吸附垫35对基板W的下表面进行吸引,一边保持该吸引状态不变地,吸附垫35自身向开口部34内收缩,基板W的下表面与吸附面33抵接而对基板W进行保持(参照图5的(b))。由此,以在宽度方向范围内维持相同的浮起高度位置的状态对借助浮起载台部10浮起的基板W进行保持。
并且,基板保持部30具有位置调节机构。即,基板保持部30借助线性引导件36而设置在输送主体部31b上,并能够在宽度方向上移动。具体地说,在输送主体部31b上,以能够在宽度方向上移动的方式安装有线性引导件36,在该线性引导件36上安装有基板保持部30。并且,通过对线性引导件36进行驱动控制而使基板保持部30在宽度方向上移动,并能够在适当的位置停止。
在本实施方式中,在对标准基板W进行输送的情况下,基板保持部30移动至与浮起载台部10接近的位置而固定(参照图4的(a))。即,基板保持部30固定在与浮起载台部10极力接近的位置,以便在基板保持部30与浮起载台部10之间具有即使基板保持部30在输送方向上行驶也不会与浮起载台部10的平板部12接触的程度的间隙。由此,能够极力减少浮起机构无法对基板W进行作用的区域,能够使基板W的浮起状态在宽度方向范围内均等。
并且,在对宽幅基板W进行输送的情况下,基板保持部30仅以供辅助块40存在的量向宽度方向外侧移动,并固定在与辅助块40接近的位置(参照图4的(b))。同样在该情况下,以在基板保持部30与辅助块40之间具有即使基板保持部30在输送方向上行驶也不会与辅助块40接触的程度的间隙的方式进行固定,能够极力减少浮起机构无法对基板W进行作用的区域,能够使基板W的浮起状态在宽度方向范围内均等。
这样,在本实施方式的基板浮起输送装置1中,由于在浮起载台部10与基板保持部30之间具有辅助浮起支承部4(辅助块40),所以即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板W,也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。即,借助由辅助浮起支承部4实现的浮起机构,将宽幅基板W中的、与浮起载台部10相比在宽度方向延伸的区域设定为与位于浮起载台部10上的基板W相同的浮起状态,由此,能够在宽度方向范围内均匀地维持浮起状态。因此,与以往的基板浮起输送装置1相比,能够高精度地维持宽幅基板W的平面度而抑制在基板W的有效区域内产生涂布不匀的问题,并能够抑制针对宽幅基板W而另外准备新的基板浮起输送装置1的设备成本。
并且,由于对于辅助块40与浮起载台部10同样地使用空气浮起机构,所以能够使辅助块40处的浮起状态与浮起载台部10处的浮起状态成为相同的状态,因此能够使基板W的浮起状态在宽度方向范围内均等。
并且,在上述实施方式中,对辅助浮起支承部4是安装于浮起载台部10的辅助块40的情况进行了说明,但也可以是将辅助浮起支承部4设置于基板保持部30的结构。在图6所示的例子中,以基板保持部30的吸附面33a成为辅助浮起支承部4的一部分的方式构成。即,在基板保持部30中设置有吸附块37,在宽度方向内侧形成有辅助浮起支承部4,在宽度方向外侧形成有基板保持部30,这些部件构成为一体。具体地说,基板保持部30的吸附面33a位于宽度方向外侧,形成在比辅助浮起支承部4的吸附面33b高一个台阶的位置。并且,在各个吸附面33(吸附面33a和吸附面33b)上形成有开口部34,在该开口部34内埋设有上述的吸附垫35,能够对基板W进行吸附而保持。即,吸附块37的辅助浮起支承部4被配置在与浮起载台部10的平板部12接近的位置,当在浮起载台部10上载置标准基板W时,能够通过吸附垫35对从基板浮起面12a伸出的伸出区域T进行吸附(图6的(a))。即,与上述实施方式同样,吸附块37的辅助浮起支承部4被配置为具有即使基板保持部30在输送方向上行驶也不会与浮起载台部10的平板部12接触的程度的间隙,由此,能够在宽度方向范围内使基板W均匀地浮起,并能以高精度地维持基板W的平面度的状态使其浮起。
并且,基板保持部30中的吸附垫35被配置在能够对载置于浮起载台部10上的宽幅基板W的伸出区域T进行吸附的位置。并且,在辅助浮起支承部4的吸附面33b上形成有喷出口(未图示)和吸引口(未图示),它们以与平板部12的喷出口和吸引口相同的方式形成。即,当在浮起载台部10上载置有宽幅基板W时,从浮起载台部10伸出的部分借助设置于吸附块37的辅助浮起支承部4的浮起机构而浮起。并且,吸附面33b和基板浮起面12a的高度位置被设定成相同的高度。由此,由于宽幅基板W的伸出区域T能够借助与设置于浮起载台部10的浮起机构为相同的结构的浮起机构而浮起,所以虽然基板保持部30被配置在从浮起载台部10向宽度方向外侧远离的位置,也能够使基板W的浮起状态在宽度方向范围内均等。并且,在本实施方式中,由于不需要如上述实施方式那样、在对标准基板W和宽幅基板W进行输送时换上辅助块40,所以与上述实施方式相比能够使准备作业简略化。
并且,在上述实施方式中,对使用空气浮起机构来作为浮起载台部10的浮起机构的例子进行了说明,但也可以使用超声波浮起等其他方式的浮起机构。
并且,在上述实施方式中,对在辅助浮起支承部4中使用了与浮起载台部10相同的浮起机构的例子进行了说明,但也可以使用不同的浮起机构。例如,可以对浮起载台部10使用超声波浮起机构,而在辅助浮起支承部4中使用空气浮起机构。即使使用任意的浮起机构,只要能够使浮起载台部10和辅助浮起支承部4处的浮起高度相同而能够在宽度方向范围内形成均匀的浮起状态即可。
并且,在上述实施方式中,对将基板浮起输送装置1组合到涂布装置2中的例子进行了说明,也能够将基板浮起输送装置1组合到干燥装置中,或者组合到各种各样的基板处理装置中而进行使用。
Claims (6)
1.一种基板浮起输送装置,其具有:
浮起载台部,其在输送方向上延伸,使基板浮起于基板浮起面上;以及
基板保持部,其对浮起于所述基板浮起面上的基板进行保持,
所述基板保持部在对浮起于所述基板浮起面上的状态的基板进行保持的状态下沿着所述输送方向进行移动,由此基板在浮起于基板浮起面上的状态下被输送,该基板浮起输送装置的特征在于,
在所述浮起载台部与所述基板保持部之间具有辅助浮起支承部,在对宽度方向尺寸比基准大小的基板大的宽幅基板进行输送的情况下,该辅助浮起支承部使从所述基板浮起面在宽度方向上伸出的所述宽幅基板的伸出区域浮起,其中,所述宽度方向与输送方向垂直。
2.根据权利要求1所述的基板浮起输送装置,其特征在于,
所述辅助浮起支承部具有与所述浮起载台部相同的浮起机构。
3.根据权利要求1或2所述的基板浮起输送装置,其特征在于,
所述辅助浮起支承部相对于所述浮起载台部以能够自由拆装的方式设置,在对所述宽幅基板进行输送的情况下,所述辅助浮起支承部安装于所述浮起载台部,所述宽幅基板借助所述浮起载台部和所述辅助浮起支承部的浮起机构而浮起。
4.根据权利要求3所述的基板浮起输送装置,其特征在于,
所述基板保持部形成为能够相对于所述浮起载台部在宽度方向上进行位置调节,在拆下所述辅助浮起支承部的情况下,所述基板保持部配置在接近所述浮起载台部的位置,在所述辅助浮起支承部安装于所述浮起载台部的情况下,所述基板保持部配置在远离所述浮起载台部的位置。
5.根据权利要求1或2所述的基板浮起输送装置,其特征在于,
所述辅助浮起支承部设置于所述基板保持部,借助设置于所述辅助浮起支承部的吸附部对基准尺寸的基板进行吸附而保持,借助所述基板保持部的吸附部对宽幅基板进行吸附而保持。
6.根据权利要求5所述的基板浮起输送装置,其特征在于,
所述基板保持部的吸附部被设定成其高度位置比所述辅助浮起支承部的吸附部高,在借助所述基板保持部的吸附部对宽幅基板进行保持的状态下,通过所述辅助浮起支承部的浮起机构来维持成与所述浮起载台部处的浮起状态相同的浮起状态。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111063653A (zh) * | 2018-10-16 | 2020-04-24 | 先进装配系统有限责任两合公司 | 用于促进布置在保持膜片上的部件脱离的顶脱器装置和方法 |
CN113399213A (zh) * | 2020-03-17 | 2021-09-17 | 东丽工程株式会社 | 基板浮起输送装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR102223467B1 (ko) * | 2020-06-10 | 2021-03-05 | 세메스 주식회사 | 부상식 기판 이송 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1608961A (zh) * | 2003-10-17 | 2005-04-27 | 奥林巴斯株式会社 | 基板输送装置 |
CN101284602A (zh) * | 2007-04-10 | 2008-10-15 | 株式会社日本设计工业 | 薄板状材料输送装置及方法 |
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Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06163667A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-10 | Ebara Corp | 積載物の搬送用台車装置 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1608961A (zh) * | 2003-10-17 | 2005-04-27 | 奥林巴斯株式会社 | 基板输送装置 |
CN101284602A (zh) * | 2007-04-10 | 2008-10-15 | 株式会社日本设计工业 | 薄板状材料输送装置及方法 |
JP2011114169A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Sekisui Chem Co Ltd | 表面処理装置及び搬送装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111063653A (zh) * | 2018-10-16 | 2020-04-24 | 先进装配系统有限责任两合公司 | 用于促进布置在保持膜片上的部件脱离的顶脱器装置和方法 |
CN113399213A (zh) * | 2020-03-17 | 2021-09-17 | 东丽工程株式会社 | 基板浮起输送装置 |
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