CN102205297A - 输送装置及涂布系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供输送装置及涂布系统，能够将浮起的基板牢固地保持，并且将被保持的基板通过简单的结构使其整体变为平坦。其中，输送基板(W)的输送装置(40)包括：浮起载物台(1)，将基板浮起；吸附机构(3)，吸附被浮起的基板侧部底面(9)；输送驱动装置，通过移动吸附机构，将吸附机构所吸附的基板以浮起至规定高度(h)的状态输送。吸附机构包括：阻挡器(10)，具有接触面(11)，通过使基板侧部底面接触，使所述基板侧部定位在所述规定高度上；吸附垫(20)，能够吸附基板侧部底面，在吸附之前突出至接触面之上规定尺寸(S)，吸附之后向下收缩规定尺寸(S)。

Description

输送装置及涂布系统
技术领域
本发明涉及一种将基板浮起输送的输送装置以及对被浮起输送的基板涂布涂布液的涂布系统。
背景技术
为了制造液晶显示器或等离子显示器等平板显示器或者是太阳能电池板，使用涂布液(如抗蚀剂)涂布于玻璃基板上的涂布基板。作为将涂布液涂布于这样的玻璃基板上的装置，例如，使用专利文献1中记载的涂布系统。
该涂布系统包括：输送装置，将玻璃基板浮起输送；涂布装置，具有对于被浮起输送的玻璃基板的上面排出涂布液的管口。输送装置包括：浮起载物台，通过从上面喷射气体，使玻璃基板浮起来；吸附机构，吸附被浮起的玻璃基板的侧部；输送驱动装置，通过使该吸附机构朝向基板输送方向移动，由此输送被吸附机构吸附的玻璃基板。
根据该涂布系统，通过浮起载物台将玻璃基板浮起至规定高度，并且通过输送驱动装置移动吸附玻璃基板侧面的吸附机构，由此将玻璃基板以被浮起的状态输送，并将涂布液涂布于玻璃基板上。
专利文献1：特开2005-244155号公报(参照图2)
发明内容
玻璃基板的厚度相比于其面积非常薄，因此在浮起载物台上将玻璃基板浮起至规定高度时，例如，其侧部(仅为侧端部)以高于(虽然大概小于1mm)规定高度的方式呈弯曲形状。这是因为玻璃基板的侧面为自由端，所以通过从浮起载物台左右边缘喷射出来的气体使该侧部浮起得更高。
另外，在涂布系统中，为了防止因涂布液的膜厚度不均匀而产生的涂布不均匀，在涂布涂布液时，最好使被浮起至规定高度的玻璃基板在整体上保持水平状态。为此，在所述吸附机构中，将吸附玻璃基板侧部底面的吸附面(顶面)的高度设定为与所述规定高度同样的高度。
因此，如果玻璃基板弯曲成其侧部高于所述规定高度的形状，则存在下述担心：在该侧部底面和吸附机构的吸附面之间形成间隙，因此吸附机构成为空的吸附，导致无法将玻璃基板牢固地吸附并保持。
因此，为了吸附机构牢固地吸附玻璃基板，可以考虑以下方案。即，将吸附机构(吸附面)事先配置在稍微高的位置上，或者通过执行装置将吸附机构移动到稍微高的位置上，以便吸附机构沿呈弯曲形状的玻璃基板的侧部。
但是，在这种情况下，玻璃基板会以弯曲的形状被输送，玻璃基板和涂布装置的管头之间的间隙在不同的位置上不同，因此会发生涂布不均匀。
因此，可以考虑下述构成：将使吸附面配置在稍微高的位置的吸附机构在吸附之后使其下降。但是，即使想在吸附之后下降吸附机构以消除玻璃基板的弯曲，因为其下降量非常微小(小于1mm)，所以要实现这样微小的位置控制，也需要具有非常精密的结构和控制，这将导致装置的费用增加。
另外，被浮起输送的玻璃基板中位置变高的部位不仅限于侧部，例如，在中心部位也可能发生。另外，根据输送装置的形式，各种部位可能变高。
因此，本发明的目的在于，提供一种输送装置和涂布系统，所述输送装置能够将浮起的基板牢固地保持，并且能够通过简单的结构使整个基板形成为平坦，所述涂布系统能够将涂布液涂布于如上被保持而被浮起输送的基板上。
根据本发明的输送装置，其特征在于，包括：浮起载物台，将基板浮起；吸附机构，吸附通过所述浮起载物台浮起的所述基板底面；输送驱动装置，通过使所述吸附机构朝向基板输送方向移动，由此将所述吸附机构所吸附的所述基板在浮起至规定高度的状态朝向基板输送方向输送，所述吸附机构包括：定位部，具有接触面，通过使所述基板的所述底面接触，将基板定位在所述规定高度上；吸附部，能够吸附所述基板的所述底面，在吸附之前突出至所述接触面之上规定尺寸，在吸附之后向下收缩规定尺寸。
根据本发明，由于吸附机构的吸附部在吸附基板底面之前，突出至高于定位部的接触面规定尺寸。例如，即使浮起至规定高度的基板发生弯曲而所述基板的一部分(吸附部的吸附部分)高于规定高度，吸附部也能够将该部分的底面吸附，因此能够牢固地保持基板。
而且，如果吸附部将基板底面吸附，则由于吸附作用在吸附部内部产生负压，因此所述吸附部向下收缩所述规定尺寸，由此使所吸附的底面与定位部的接触面接触，将基板(吸附的部分)定位在所述规定高度。另外，通过由所述定位部和所述吸附部构成的简单的结构，不仅能够将基板牢固地保持，而且使该基板在整体上变为平坦。
另外，在所述定位部中最好设置吸引部，以吸引与所述接触面接触的所述基板底面。
此时，吸引部能更有力地吸引由吸附部吸附的与定位部的接触面接触的基板底面，因此能够更加强有力地保持基板。特别是，当输送开始和停止时产生的加速度大时，可能会发生基板与吸附部一起在基板的面方向上略微振动的现象，而且，在基板和吸附部之间在输送方向上可能会稍微错位，但是通过吸引部能够抑制。
另外，在所述吸附部中至少一部分具有上下方向自由伸缩的蛇腹结构的情况下，如果吸附部吸附基板下面，则由于吸引作用在吸附部内部产生负压，由此吸附部容易收缩。另外，如果解除吸附，吸附部可以恢复至突出在接触面之上的状态。
另外，在一部分上设置蛇腹结构时，虽然蛇腹结构可以设置在吸附部的下部或者中心部，但将蛇腹结构设置在与基板接触的上端部时，由于上端部具有柔软性，所以能够提高与基板的紧贴性，能够提高吸附性能。
另外，所述吸附机构沿着所述基板以规定间隔设置有多个，所述吸附机构的各所述接触面，最好设置在同一平面上。
此时，由于设置有多个吸附机构，因此能够将基板更加强有力地保持。另外，为了强化基板的保持力，可以沿着基板连续地设置单一的长的吸附机构(接触面)，但是，在这种情况下，有必要将该吸附机构的接触面在整个长度方向的同一平面上制造和调整。但是，在吸附机构以规定间隔设置有多个的情况下，由于接触面的高度可以各自调整，因此容易将全部接触面调整至同一平面上。
另外，本发明的涂布系统，其特征在于，包括：所述输送装置；涂布装置，具有排出口，在通过所述输送装置的所述浮起载物台将所述基板浮起至规定高度的状态下将涂布液排出在被所述输送驱动装置输送的所述基板的顶面。
根据所述输送装置，如上所述，可以将基板牢固地保持，而且将基板可以定位在所述规定高度上。因此，针对基板顶面从涂布装置的排出口排出涂布液时，虽然将基板以规定高度浮起并输送，但由于针对所述基板的、由吸附机构吸附的部分也可定位在规定高度上，因此可以将整个基板变为平坦。因此，可以将被浮起输送的基板和涂布装置的排出口之间保持规定的间隔，能够防止涂布不均匀的发生。
另外，所述浮起载物台最好包括：主单元，具有所述涂布装置将涂布液涂布于所述基板的涂布作业位置；副单元，在所述主单元的所述基板输送方向上设置在该主单元的上游侧和下游侧中的至少一侧。
为了防止涂布不均匀，基板和涂布装置的排出口之间应保持固定的间隔，具有涂布作业位置的主单元优选基板浮起高度精度高的。另外，浮起高度的精度是指基板浮起量的偏差程度。例如，在浮起载物台使用从其上面喷射气体浮起基板的方式的情况下，根据气体喷射量的偏差产生的基板浮起量的偏差程度。即，所谓浮起高度精度高是指气体喷射量的偏差小，基板浮起量在整个过程为均匀。
另外，主单元的上游侧和下游侧中至少一侧设置的副单元即使基板的浮起高度的精度稍微低，但对涂布不均匀不产生影响。因此，副单元可以采用精度低于主单元的，这对于浮起载物台来说，能够确保必要的长度情况下，可以降低其装置的成本。
根据本发明的输送装置，通过吸附机构的定位部和吸附部，以简单的结构能够将基板牢固地保持，并且使整个基板平坦地保持。另外，根据本发明的涂布系统，将涂布液涂布于如上被保持的基板上，由此能够防止涂布不均匀的发生，并能够得到高品质的涂布基板。
附图说明
图1为表示本发明涂布系统的概略构成的立体图；
图2为从左右方向看到的、将涂布液涂布于基板的涂布作业位置的说明图；
图3为吸附机构的立体图；
图4为将吸附机构的一部分放大表示的截面图；
图5(a)为本发明可解决的其它课题的说明图；图5(b)为现有例的问题点的说明图；
图6为吸附垫的其它方式的说明图；
图7为根据涂布系统的处理顺序的说明图；
图8为表示包括本发明输送装置的检测系统的概略构成的说明图；
图9为吸附机构的其它方式的说明图。
附图标号说明
1：浮起载物台
2：顶面
3：吸附机构
4：输送驱动装置
5：涂布装置
6：管口(排出口)
8：侧部
9：侧部底面
10：阻挡器(定位部)
11：接触面
12：吸引部
20：吸附垫(吸附部)
20a：上端部
31：主单元
32：上游侧副单元
33：下游侧副单元
40、60：输送装置
H：规定高度
P：涂布作业位置
S：规定尺寸
W：基板
X：基板输送方向
具体实施方式
下面，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
图1为表示本发明的涂布系统的概略构成的立体图。涂布系统用来将药液或者抗蚀剂等的涂布液涂布于浮起输送的薄板状基板(玻璃基板)W上。
该涂布系统包括将基板W浮起输送的输送装置40。该输送装置40包括：浮起载物台1，从上面2喷射气体以将基板W浮起；吸附机构3，吸附通过该浮起载物台1浮起的基板W侧部8底面(以下称之为侧部底面)；输送驱动装置4，通过使该吸附机构3向基板输送方向X移动，由此将该吸附机构3所吸附的基板W沿着相同方向X输送。在本实施方式中，基板输送方向X称之为前方向，与之相反的方向称之为后方向，与前后方向在水平面上垂直的方向称之为左右方向，与前后方向和左右方向均垂直的方向称之为上下方向(高度方向)。
该涂布系统还包括具有针对浮起输送的基板W顶面排出涂布液的管口(排出口)6的涂布装置5。在该涂布装置5中，涂布液被供给到管口6，通过从管口6排出涂布液，由此能够将涂布液涂布于基板W上。管口6通过在左右方向呈较长的水平状的狭缝形成，将涂布液涂布于基板W左右方向的几乎整个长度(整个宽度)上。
图2为从左右方向看到的、对将涂布液涂布于基板W的涂布作业位置P的说明图。基板W通过浮起载物台1呈从输送装置40的基准面浮起规定高度h的状态，在这种状态下，基板W的侧部底面9被所述吸附机构3吸附。另外，所述“基准面”只要是相对高度方向位置成为基准的水平面就可以，在本实施方式中，浮起载物台1的上面2是基准面。
另外，该基板W通过所述输送驱动装置4(参照图1)输送的过程中，针对其顶面从管口6涂布涂布液。
在图1中，本实施方式的浮起载物台1在前后方向上被分割，并从上游侧起具有上游侧副单元32、主单元31以及下游侧副单元33。单元32、31、33分别具有喷射用于浮起基板W的压缩空气的构成，并包括由具有细孔的多孔质材料构成的载物台主体，从该细孔向上喷射压缩空气。浮起载物台1的左右方向尺寸小于基板W的左右方向尺寸，基板W的左右侧部8处于从浮起载物台1露出的状态。另外，单元32、31、33分别在其上面具有吸引空气的吸引孔。喷射的压缩空气和吸引空气的平衡通过未图示的控制装置控制，由此将基板W以水平状态的姿势浮起。
各单元32、31、33的不同之处在于前后方向的长度和基板W的浮起高度的精度。“浮起高度的精度”例如指，通过压缩空气的喷射量的偏差产生的基板W浮起量的变化程度。即，如果浮起高度的精度高，就意味着压缩空气的喷射量偏差小，基板W浮起量在整个过程中都保持均匀。如果浮起高度的精度低，就意味着压缩空气的喷射量偏差大，基板W的浮起量在整个过程中不均匀。
另外，该浮起高度的精度在主单元31和副单元32、33不同，主单元31的浮起高度的精度高于副单元32、33。
所述吸附机构3吸附被输送至上游侧副单元32且被浮起的基板W的侧部8底面，在保持其吸附状态的情况下，通过所述输送驱动装置4输送至下游侧副单元33。图1表示基板W到达下游侧副单元33的状态。
吸附机构3分别设置在浮起载物台1的左右两侧，在本实施方式中，沿着基板W一侧的侧部8前后方向保持规定间隔地设有三台，在左右两侧共设有六台。一侧的三台吸附机构3搭载于公用的活动部件34上，并成一体移动。关于吸附机构3的详细构成，在下面进行详细说明。
所述输送驱动装置4包括：轨道35，35较长地设置在基板输送方向X且设置在浮起载物台1的左右两侧上；前后方向驱动部36，使所述活动部件34通过轨道35沿着基板输送方向X移动。前后方向驱动部36例如由线性马达组成。输送驱动装置4使搭载吸附机构3的左右活动部件34朝向相同方向同步移动，由此使该吸附机构3所吸附的基板W直线输送。
图3是吸附机构3的立体图。该吸附机构3包括：固定部件13，固定在所述活动部件34(参照图1)上；升降部件14，相对于该固定部件13上下方向上被引导而升降；上下方向驱动部17，使该升降部件14上下移动。上下方向驱动部17例如具有气缸，通过空气的供给能够使升降部件14上升。
另外，吸附机构3包括：阻挡器(定位部)10，将基板W侧部8在上下方向(高度方向)上定位；吸附垫(吸附部)20，吸附并保持该基板W侧部8底面。阻挡器10和吸附垫20设置在升降部件14上。吸附机构3包括调整(微调整)升降部件14的高度、即阻挡器10高度的调整器15。
阻挡器10是沿着基板W侧部8形成的细长的直方体块。沿着该阻挡器10的长度方向设置有多个吸附垫20。阻挡器10例如由树脂或金属制成，吸附垫20为由橡胶等弹性材料制成的筒状部件，可弹性变形。
在图2中，阻挡器10上面是用来使基板W侧部底面9面接触的接触面11，接触面11为水平而且平坦。另外，该接触面11离所述基准面的高度设定为与所述规定高度h同样的高度。因此，通过接触面11与基板W侧部底面9接触，由此能够将该基板W侧部定位在规定高度h的位置。
另外，在该定位状态下，多个吸附垫20吸附基板W侧部底面9，基板W被吸附机构3固定住。
在图3中，各吸附垫20借助吸附用电磁阀29a以及配管25与吸引泵24相连接。各吸附垫20为通过吸引泵24吸引空气的筒状的喷嘴，能够吸附基板W侧部8底面。在本实施方式中，七个吸附垫20按规定间隔设置，并埋设在阻挡器10中。
图4是将吸附机构3的一部分放大表示的截面图，其中，(a)是吸附基板W之前的图，(b)是吸附基板W之后的图。如上所述，阻挡器10的接触面11位于离基准面高规定高度h处。另外，由于基板W的厚度相比于其面积非常薄，因此从所述浮起载物台1上将基板浮起至离基准面高规定高度h的位置时，基板W按照其侧部(仅在侧端部)与该规定高度h相比高出一部分(高出的部分大概小于1mm)的方式发生弯曲。
因此，如图4(a)所示，基板W侧面底面9和接触面11之间形成微小的间隙。
在阻挡器10上设置有贯通上下方向的贯通孔16，在该贯通孔16中设置有吸附垫20。吸附垫20在吸附基板W侧部底面9之前处于自由状态，与阻挡器10接触面11相比突出规定尺寸S。即，吸附垫20与接触面11相比朝上具有规定尺寸S的突出部分。
该规定尺寸S设定成基板W侧部底面9和接触面11之间形成的所述间隙值以上。
根据该吸附垫20，在吸附基板W侧部底面9之前，即使浮起至规定高度h的基板W呈弯曲状态，由此基板W侧部微微高于该规定高度h，也由于吸附垫20的上端部20a突出于阻挡器10的接触面11之上，因此吸附垫20与基板W侧部底面9接触，能够吸附该侧部底面9，能够将基板W牢固地保持。
另外，如果吸附垫20吸附基板W侧部底面9，则通过由所述吸引泵24的吸引而产生的负压，如图4(b)所示，在吸附的情况下发生弹性变形而向下收缩，并使吸附的基板W侧部底面9与接触面11接触。另外，通过吸引泵24的吸引将持续，吸附垫20将保持吸附与接触面11接触的侧部底面9的状态。如此，吸附垫20向下收缩突出的所述规定尺寸S(参照图4(a))。另外，如果解除通过吸引泵24的吸附而基板W被搬出，则吸附垫20根据弹性复元力拉伸，自动恢复至原来状态，即，突出至高出接触面11规定尺寸S的位置。
如此，如果吸附垫20吸附基板W侧部底面9，则由于该吸附垫20向下收缩，所以能够使所吸附的侧部底面9与阻挡器10的接触面11接触，并能够将基板W侧部定位在所述规定的高度h上。
因此，在针对基板W顶面从所述涂布装置5(参照图示)的管口6排出涂布液时，虽然通过浮起载物台1将基板W浮起至规定高度h，但是由于对于该基板W侧部也能够定位在规定高度h上，因此可以使整个基板W变为平坦。其结果，可以将被浮起输送的基板W和管口6之间保持规定的间隔，涂布液的膜厚变得均匀，能防止涂布不均匀的发生。
另外，由于基板W被吸附并保持在块状的阻挡器10上，因此保持力高，能够防止输送开始时或者停止时由于惯性力而产生的基板W的振动。
另外，在本实施方式(图1)的涂布系统(输送装置40)中，如上所述，浮起载物台1包括具有将涂布液涂布于基板W的涂布作业位置P的主单元31和设置在该主单元31的上游侧和下游侧的副单元32、33。为了防止主单元31上进行涂布作业时涂布不均匀，基板W和管口6之间应保持固定的间隔，至少将进行实质涂布作业的主单元31的浮起高度的精度要高的。
由于副单元32、33在其上面不进行涂布作业而不影响涂布不均匀，因此其浮起高度的精度可以低一点。因此，副单元32、33采用浮起高度的精度低于主单元31的，达到装置的成本下降。
但是，如此分割浮起载物台1的情况下，特别是，当主单元31和副单元32、33之间浮起高度的精度不同时，如图5(a)所示，如果基板W跨过副单元32和主单元31搬入，则在两者之间基板W的浮起量产生偏差，因此基板W在前后方向上产生高度差δ。
另外，由于涂布作业在主单元31上进行，因此主单元31的基板W的浮起高度被设定为所述规定高度h。另外，将所有吸附机构3的阻挡器10的接触面11被设定为同样的高度h。即，阻挡器10的接触面11被设定为主单元31中的基板W浮起高度(基板W底面的浮起高度)。
因此，如上所述，当基板W在前后方向上产生高度差δ时，虽然位于主单元31侧方的第一吸附机构3a中能够吸引搬入的基板W侧部底面9，但位于上游侧副单元32侧方的第二吸附机构3b中，由于与基板W侧部底面9之间产生间隙g，在第二吸附机构3b中成为空吸引，无法将基板W牢固地吸附。
为了解决该问题，在现有例中，考虑到所述间隙g，将第二吸附机构3b预先设定为高于第一吸附机构3a。
但是，此时，如图5(b)所示，虽然为相同基板W，但是被第一吸附机构3a吸附的部分A1和被第二吸附机构3b吸附的部分A2高度不一样，浮起输送的基板W和管口6之间的间隔在A1部分和A2部分不一样，导致涂布不均匀的发生。
但是，根据本实施方式的所述吸附机构3，如图5(a)所示，即使在副单元32中基板W浮起的高度高，但在吸附基板W之前的吸附机构3中，由于吸附垫20突出至接触面11之上，因此能够吸附基板W侧部底面9。并且，如前面所述，在被吸附之后，吸附垫20进行收缩，由此能够将基板W保持为所述的规定高度h，因此，能够将通过全部的(三台)吸附机构3各自吸附的基板W各部分的高度整齐为同样的规定高度h。因此，管口6和基板W之间的间隔在整个面上保持一致，可防止涂布不均匀的发生。
如上所述，根据本实施方式的涂布系统(输送装置)，即使在基板W中与规定高度h浮起的中央部相比其左右侧部以高出的方式发生弯曲，而且在前后方向上基板W产生高度差而通过吸附机构3被吸附的基板W的对应部位高于所述规定高度h，也能够牢固地保持基板W侧部，而且能够将使所保持的整个基板W变为水平。
图6是吸附垫20其它方式的说明图。吸附垫20至少其上端部20a与所述方式(图4)一样，由可弹性变形的材料构成，但是，在图6的吸附垫20中，进而在至少上端部20a具有上下方向可自由伸缩的蛇腹结构。此时，如果吸附垫20吸附在基板W侧部底面9，则通过由吸引作用而产生的负压，吸附垫20能容易收缩。另外，如果解除吸附而基板W被排出，则吸附垫20可恢复到突出在接触面11之上的状态。
根据如上所述的具有蛇腹结构部分的吸附垫20，可得到更大的收缩量。因此，即使将接触面11之上的突出量(突出部分)即、所述规定尺寸S设定为大尺寸，但通过由于吸引泵24的吸引而产生的负压，在所述规定尺寸S内能够收缩。因此，即使仅在基板W的侧部以高出所述规定高度h的方式向上发生弯曲，吸附垫20上端部20b也能够接触到该基板W侧部底面9，能够将其吸附。
另外，在浮起载物台1的上游侧副单元32和主单元31之间，即使高度方向的组装误差大、基板W在前后方向产生大的段差的情况下，吸附垫20上端面20b也能够接触到该基板W侧部下面9，并能够将其吸附。即，即使浮起载物台1的单元的组装精度低，也能够将基板W吸附。
另外，如图3所示，在阻挡器10中设置有吸引与接触面11接触的基板W侧部8下面的吸引部12。在本实施方式中，吸引部12为开口于接触面11的吸引孔(吸引槽)。在该吸引孔中，吸附垫20和其它吸引用流路连接在一起。即，吸引孔中，与所述吸引泵(第一吸引泵)24不同的第二吸引泵26借助吸引用电磁阀29b和配管27连接在一起。通过该吸引泵26从吸引孔(吸引部12)吸引空气，并且进一步吸引通过所述吸附垫20吸附的基板W侧部8底面。
根据该吸引部12，由于进一步吸引通过吸附垫20吸附并且与阻挡器10的接触面11接触的基板W侧部8底面，因此能够将基板W更加强有力地保持。由于吸附垫20具有柔软性，因此自身的保持力低，特别是，当基板W输送开始和停止时产生的加速度大的情况下，可能会发生基板W与吸附垫20一起向基板W的面方向略微振动。还有，虽然在基板W和吸附垫之间在基板输送X方向上有时稍微移动，但是通过该吸引部12能够提高基板W的保持力，能够抑制所述振动或者位置移动。
另外，图9是吸附机构3的其它方式的说明图。该吸附机构3与所述实施方式一样，包括定位基板W侧部位置的阻挡器(定位部)10和吸附并保持该基板W侧部底面9的吸附垫(吸附部)20。而且，吸附垫20超出阻挡器10的接触面11规定高度S，吸附垫20通过蛇腹结构部分22能够上下伸缩。
在图9中，吸附垫20的下部具有蛇腹结构部分22。而且，吸附垫20的上部(蛇腹结构部分22上侧)具有与基板W接触的用树脂制成的接触部件23。该接触部件23也可以由与阻挡器10相同材料构成。由于与基板W接触的接触部件23用树脂材料制成，因此可以防止与基板W的接触部分劣化而导致吸附力下降的情况。且，由于吸附垫20下部设有蛇腹结构部分22，因此能够确保吸附垫20的伸缩性(收缩性)。
具有以上结构的涂布系统的处理顺序，根据图7进行说明。如果基板W被搬入到浮起载物台1的上游侧部(步骤S1)，则浮起载物台1将该基板W浮起(步骤S2)。输送驱动装置4使吸附机构3水平移动至所述基板W下方后(步骤S3)，通过上下方向驱动部17(参照图3)将吸附垫20和阻挡器10上升至基板受力高度(步骤S4)。基板受力高度为阻挡器10的接触面11位于所述规定高度h的位置。
另外，随着吸引泵24和吸附用电磁阀29a的运行，通过吸附垫20将基板W吸附并吸附玻璃(步骤S5)。随之，吸附垫20伸缩，基板W侧部8底面与阻挡器10的接触面11接触(步骤S6)。而且，当设有所述吸引部12(参照图3)时，通过第二吸引部26和吸引用电磁阀29b的运行，将基板W吸附，使基板W侧部8底面紧密接触于接触面11(步骤S7)。之后，输送驱动装置4将吸附机构3向基板输送方向X水平移动来输送基板W，在此过程中，将从涂布装置5的管口6排出的涂布液进行涂布(步骤S8)。
根据以上涂布系统，通过吸附机构3所具有的阻挡器10和吸附垫20的简单结构，能够将基板W侧部8牢固地保持，同时，也能够将被保持的整个基板W处于水平状态。另外，能够将以整体呈水平状态浮起的基板W输送，能够使基板W上面和管口6之间的间隔保持一定距离来涂布涂布液。因此，能够防止涂布不均匀的发生，可以得到高品质的涂布基板。
另外，吸附机构3沿着基板W侧部8按照规定间隔设有多个，各吸附机构3的接触面11设定为同一水平面上。如此，由于设有多个吸附机构3，因此能够将基板W更强有力地保持。另外，由于吸附机构3沿着基板W侧部8独立地设置，因此通过所述调整器15(参照图3)，将每个吸附机构3的接触面11的高度可以各自调整，容易地将所有吸附机构3的接触面11调整至同一水平面上。
另外，本发明的涂布系统(输送装置)不仅限于如图所示的方式，在本发明的范围内可以为其它方式。例如，在所述实施方式中，针对浮起载物台1包括主单元31和两个副单元32、33的情况进行了说明，但也可以是主单元31上游侧和下游侧中至少其中之一设有副单元。另外，虽然针对由具有微细孔的多孔质构成的浮起载物台1(各单元)进行了说明，但除此之外，其构成也可以是从水平板状部件上机械地形成的多个孔喷射压缩空气的构成。
还有，吸附机构3的数量可以自由变更。在本实施方式中是三台，但也可以是其它数量。
还有，在所述实施方式中，说明了阻挡器10为沿着基板W侧部8形成的细长直方体块的情况，但例如从制造观点出发，一个阻挡器10可以为由多个分割块组装构成。另外，此时所述分割块上可以设有吸引部(吸引孔)。
另外，在图3中对阻挡器10上形成有吸引部(吸引孔)12的情况进行了说明，但其构成也可以是没有吸引部(吸引孔)12，只是通过吸附垫20将基板W保持的构成。
另外，在所述实施方式(图1)中，针对包括输送装置40和涂布装置5的涂布系统进行了说明，但本发明的输送装置也可以适用于涂布系统以外的其它系统。例如，如图8(a)所示，也可适用于包括将对浮起输送基板W(表面)进行检测的检测装置50的检测系统。在所述实施方式(图1)中，输送装置40所具有的吸附机构3虽然为吸附基板W侧部底面的结构，但是在图8(a)中的输送装置60所具有的吸附机构3为吸附基板W中心部底面的结构。
关于图8(a)的检测系统，检测装置50包括针对通过输送装置60浮起输送的基板W上面进行摄像的摄像头50a。输送装置60使基板W浮起输送的同时，使其通过摄像头50a下方。输送装置60包括固定在左右方向的除中心部分之外的两侧部分的固定浮起载物台41和与吸附机构3成为一体移动的活动浮起载物台42。
图8(b)是吸附机构3、活动浮起载物台42以及其周围部分的说明图。活动浮起载物台42设在吸附机构3的前后两侧，吸附机构3和活动浮起载物台42通过与所述实施方式(图1)相同的输送驱动装置4(轨道35和线性马达)能够向基板输送方向X移动。另外，图8(b)的吸附机构3中，吸附垫20在左右方向上两个并排设置，吸附机构3的各部的构成与所述实施方式(图1)相同，具有相同的功能。
在图8的实施方式的情况下，从浮起载物台41、42上面喷出的气体流入到阻挡器10上面和基板W下面之间，由此可能使基板W中吸附机构3要吸附的部分高于将基板W浮起的规定高度h，但通过该吸附机构3的吸附垫20，能够吸附这样的基板W底面，进而，能够将吸附部分定位在所述规定高度h上。
另外，根据包括这样的输送装置60的检测系统，输送装置60同所述实施方式中的情况一样，可以将浮起基板W牢固且整体平坦地保持，并且能够以该状态水平输送，因此能够使被浮起输送的基板W和摄像头50a的距离保持一定距离，能够进行正确的检测。
另外，关于所述各实施方式(图1和图8)的输送装置(浮起载物台)，说明的是通过从其上面喷射气体而将基板W浮起的方式，但是，输送装置也可以是浮起载物台通过超音波将基板浮起的输送装置。即使是这种情况，也有通过浮起载物台基板在高度方向波动(弯曲)，存在通过吸附机构要吸附的基板部分高于规定高度的情况。但是，即使是这种情况，吸附机构3也可以将该部分吸附，并且在吸附之后，可以将该部分定位在规定高度上，并以该状态将基板W输送。

Claims (6)

1.一种输送装置，其特征在于，包括：
浮起载物台，将基板浮起；
吸附机构，吸附通过所述浮起载物台浮起的所述基板的底面；
输送驱动装置，通过使所述吸附机构向基板输送方向移动，由此使所述吸附机构所吸附的所述基板以浮起至规定高度的状态向基板输送方向输送，其中，
所述吸附机构包括：
定位部，包括通过使所述基板的所述底面接触来使所述基板定位在规定高度的接触面；
吸附部，为了能够吸附所述基板底面，在吸附之前向上突出至高于所述接触面规定尺寸，吸附之后向下收缩至规定尺寸。
2.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，在所述定位部中，设有吸引与所述接触面接触的所述基板底面的吸引部。
3.根据权利要求1或2所述的输送装置，其特征在于，所述吸附部中至少一部分具有在上下方向上自由伸缩的蛇腹结构。
4.根据权利要求1至3任一项所述的输送装置，其特征在于，所述吸附机构沿着所述基板以规定间隔设有多个，所述吸附机构的各所述接触面设定在同一平面上。
5.一种涂布系统，其特征在于，包括：
权利要求1至4任一项所述的输送装置；
涂布装置，具有排出口，在通过所述输送装置的所述浮起载物台将所述基板浮起至规定高度的状态下将涂布液排出在被所述输送驱动装置输送的所述基板的顶面。
6.根据权利要求6所述的涂布系统，其特征在于，所述浮起载物台包括：
主单元，具有所述涂布装置将涂布液涂布于所述基板的涂布作业位置；副单元，在所述主单元的所述基板输送方向的上游侧和下游侧中至少设置在其中之一。
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