JP2004307152A - 起倒可能な非接触搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板の搬送ラインにおいて、基板の搬送姿を縦から横に、横から縦に変えることができる起倒可能な非接触搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】搬送台1と、この搬送台1に取付けら、且つ、基板FPとの間に流体膜としての気体膜GMを形成させ基板FPを浮上させるベース2と、このベース2を起倒させる起倒手段3としてのエアシリンダからなっている。
よって、例えば、液晶製造工程の基板洗浄処理において、処理装置の前後に前記非接触搬送装置を配置することで、横の搬送姿で搬送されてきた基板FPを前記ベース2で受けて、その起倒手段3を駆動させて基板FPを縦に変換させ、処理装置にかけた後、再び、前記非接触搬送装置を介して、基板FPを横に変換させて、次工程に搬送できる。
【選択図】 図1
【解決手段】搬送台1と、この搬送台1に取付けら、且つ、基板FPとの間に流体膜としての気体膜GMを形成させ基板FPを浮上させるベース2と、このベース2を起倒させる起倒手段3としてのエアシリンダからなっている。
よって、例えば、液晶製造工程の基板洗浄処理において、処理装置の前後に前記非接触搬送装置を配置することで、横の搬送姿で搬送されてきた基板FPを前記ベース2で受けて、その起倒手段3を駆動させて基板FPを縦に変換させ、処理装置にかけた後、再び、前記非接触搬送装置を介して、基板FPを横に変換させて、次工程に搬送できる。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、LCD,PDP等のフラットパネルを非接触で浮上させ、且つ、フラットパネルの搬送姿を縦から横に、横から縦に変更できる非接触搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
フラットパネルディスプレイの代表例である液晶ディスプレイ(LCD)は、その製造工程において、成膜工程(TFTアレイ工程)、配向膜形成工程、液晶セル工程、組立工程等を経て製造されている。
これら各工程内のフラットパネル(以下、基板ともいう)の搬送方法として、従来から搬送ローラによるコロ搬送等が行われている。
【0003】
一方、基板の大型化に伴い、搬送ローラの搬送痕の問題、基板の撓みの問題を解消するため、基板を非接触で搬送する装置が出願人によって開発されている(例えば、特許文献1参照)
これらの搬送装置は、前記処理装置が水平状態の基板に対し、成膜処理等を施すことを前提とするため、基板を水平状態(横)で搬送するようになっている。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−62950号公報(図1)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、処理工程によっては、基板をその水平状態で処理するよりも、縦状態で処理した方が適切な場合がある。例えば、上記各処理工程での洗浄処理、検査処理等である。
横の基板を縦に変更するには、ロボットによることも、人手によることも可能であるが、前者では、搬送ラインに特別な移載装置となるため、コスト高になる。後者では、基板の大型化に伴い、作業の危険性が高まり、また作業効率が落ちる。
【0006】
そこで、本発明は、基板の搬送ラインにおいて、基板の搬送姿を縦から横に、横から縦に変えることができる起倒可能な非接触搬送装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本願発明は、ベースに配置された複数の多孔質体と、これら多孔質体の裏面を囲うように取付けられ、且つ、気体又は液体を前記複数の多孔質体に配給するチャンバーを備えた非接触浮上ユニット及びこの非接触浮上ユニットを起倒させる起倒手段を備えたことを特徴とする起倒可能な非接触搬送装置とした(請求項1に記載の発明)。
【0008】
この非接触搬送装置によれば、多孔質体の表面とその上方の基板間で気体又は液体(以下、単に流体ともいう)の流体膜が形成され、基板を非接触で浮上させることができる。そして、その基板に搬送方向の力を与えることで、非接触にて基板を搬送できると共に、前記起倒手段を駆動させることで、基板を非接触で縦から横に、横から縦にその搬送姿を変えさせることができる。
【0009】
上記課題を解決するため、本願発明は、複数の孔が形成されたベースと、前記ベースの各孔に対しその表面が前記ベースの表面と略同一平面を形成するように取付けられた多孔質体と、前記多孔質体毎にその裏面を囲うように取付けられ、且つ、供給手段から供給される気体又は液体の圧力を前記裏面に対し略均一化させる圧力調整筒部を備えた非接触浮上ユニット、及びこの非接触浮上ユニットを起倒させる起倒手段を備えたことを特徴とする起倒可能な非接触搬送装置とした(請求項2に記載の発明)。
【0010】
この非接触搬送装置によれば、前記ベ−スとその上方の基板間に流体が滞留し、広範囲な流体膜が形成され、基板がベース上で浮上される。そして、その基板に搬送方向の力を与えることで、非接触にて基板を搬送できると共に前記起倒手段を駆動させることで、基板を非接触で縦から横に、横から縦にその搬送姿を変えさせることができる。
【0011】
上記発明において、前記多孔質体は、セラミック、ガラス、合成樹脂又は金属であることを特徴とする(請求項3に記載の発明)。
多孔質体は、所定の気孔率を具備するものであれば、その材質は問われないが、典型的には、セラミック、ガラス、合成樹脂又は金属からなる。
【0012】
【発明の実施の形態】
上記各発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
図1は第1実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、図2は同装置を構成するベースの斜視図、図3は同装置の作用説明図である。
図4は第2実施形態に係る非接触搬送装置の側面図である。
図5は第3実施形態に係る非接触搬送装置の側面図である。
図6は第4実施形態に係る非接触搬送装置を構成するベースの斜視図、図7は同ベースの平面図、図8は同ベースの側面図及びその要部断面図、図9は同ベースの要部分解斜視図、図10は同装置の作用説明図である。
これらの各図及び後述の各図において、同一の構成については、同一の符号を付して、重複した説明を省略する。
また、以下の説明では、液晶ディスプレイ(LCD),プラズマディスプレイ(PDP),フィールドエミッションディスプレイ(FED),電界発光ディスプレイ(EL)等の基板を想定している。なお、これら基板にはガラス基板、プラスチック等の合成樹脂基板が含まれる。
【0013】
[第1実施形態に係る非接触搬送装置]
第1実施形態に係る非接触搬送装置は、図1に示したように、搬送台1と、この搬送台1に取付けら、且つ、基板FPとの間に流体膜としての気体膜を形成させ基板FPを浮上させるベース2とで非接触浮上ユニットを構成し、前記ベース2を起倒させる起倒手段3としてのエアシリンダを備えている。
よって、例えば、液晶製造工程の基板洗浄処理において、処理装置の前後に前記非接触搬送装置を配置することで、横の搬送姿で搬送されてきた基板FPを前記ベース2で受けて、その起倒手段3を駆動させて基板FPを縦に変換させ、処理装置にかけることができる。その後、再び非接触搬送装置を介して、基板FPを横に変換させて、次工程に搬送できる。
【0014】
前記搬送台1は、例えばアルミ等の構造材を適宜組み合せて組立てればよいが、前記ベース2を安定的に取付けることができれば、どのような構造でもよい。
【0015】
前記ベース2は、図2のように、板状材20が枠体に取付けられ、その板状材20に多孔質体4が複数配置され、また図3のように、それらの多孔質体4の裏面41を囲うような長尺状のチャンバー5が取付けられて構成されている。そして、このチャンバー5にエア等の圧縮流体が供給され、前記多孔質体4の表面40と基板FP間に気体膜GMが形成される。
【0016】
前記多孔質体4として、通気性セラミックスを用いるが、所定の気孔率、例えば略30%程度の気孔率で成形されるものであれば、多孔質ガラス、プラスチック等の合成樹脂の多孔性樹脂等、金属等でもよい。また気孔率も上記略30%に限定されるものでもなく、20〜60%でもよい。
このような多孔質体4を略四角形状に成形し、前記チャンバー5に気密性を保持させつつ取付け、板状材20に配置する。
この場合、多孔質体4の表面40が板状部20の表面200より、上方に突出するように取付けても良い。
また、多孔質体4の表面40と板状材20の表面200とで略同一平面を形成するように取付けても良い。この場合には、後述の第4実施形態に係る非接触搬送装置と略同一の作用効果を奏する。
また、この実施形態では、複数の多孔質体4を搬送方向Xに2列にして取付けているが、1列でもよいし、基板FPの大きさに対応させて3列等でもよい。
なお、図1中の「6」には、基板FPに搬送方向の力を与えるローラ手段及びモータが取付けられる。
また、搬送姿が横向きの基板FPでも、縦向きの基板FPでも、搬送方向Xに搬送されるように、図2中の「6」に示す位置のベース2の端部に、基板FPの端部に搬送方向の力を与えるローラ手段、例えば段付きローラ及びモータ、例えば前記段付きローラを駆動するステッピングモータを取付けるようにしてもよい。
【0017】
前記エアシリンダ3は、そのシリンダ30の基部が首振り自在に前記搬送台1に取付けられ、そのピストン棒31の先端が前記ベース2の裏面側に回動自在に取付けられている。
【0018】
以上のように構成された非接触搬送装置によれば、基板FPに搬送痕・キズ等を作ることなく、また基板FPの自重による撓みを抑制して、その撓みによる基板FPの破損を防ぎつつ、基板FPの搬送姿を変換させることができる。
また、同様な作用効果を奏しつつ、前記ベース2を水平に寝かせた状態で、基板FPを水平方向に搬送することができる。
さらに、同様な作用効果を奏しつつ、前記ベース2を起立させた状態で、基板FPを縦状態で搬送することができる。
【0019】
[第2実施形態に係る非接触搬送装置]
図4に示した第2実施形態に係る非接触搬送装置が第1実施形態と異なる点は、前記エアシリンダ3の取付け位置であり、この第2実施形態ではシリンダ30の上部が首振り自在に前記搬送台1に取付けられている。
その他の構成は、上記実施形態と同様であり、同一の作用効果を奏する。
【0020】
[第3実施形態に係る非接触搬送装置]
図5に示した第3実施形態に係る非接触搬送装置が上記各実施形態と異なる点は、前記起倒手段3の構成であり、前記ベース2の下部に固定された固定片21が回転軸22に軸着され、その回転軸22にモータの回転力が伝達され、ベース2が起倒される。
その他の構成は、上記実施形態と同様であり、同一の作用効果を奏する。
【0021】
[第4実施形態に係る非接触搬送装置]
図6〜10に示した第4実施形態に係る非接触搬送装置が上記実施形態と異なる点は、ベース2の構成である。
即ち、板状材20に複数の孔23,23,23・・・が形成されてベース2が構成されており、これらの各孔23に、その表面40が前記ベース2の表面200と略同一の高さとなる多孔質体4,4,4・・・が取付けられ、これら多孔質体4の裏面41側に筒状の圧力調整筒部8が取付けられている。
そして、流体として例えば圧縮エアが前記圧力調整筒部8に供給されると、前記多孔質体4の表面40からエアが噴出され、基板FPと前記ベース2間にエアが滞留し、広範囲に気体膜GM(図10参照)が形成される。
【0022】
前記ベース2は、基板FPとの間で前記気体膜GMを形成すると共に、基板FPの搬送路を構成するもので、ベース表面200の平面度は、精度のよいものが望ましい。
基板FPの浮上高さは、ベース表面200から略0.1〜0.2mm程度にすると、前記ベース2の平面度に問題があれば、基板FPがベース2に接触するおそれがあるからである。
なお、前記ベース2の具体的な寸法は、搬送対象となる基板FPのサイズに対応させればよい。
【0023】
前記板状材20に形成されている孔23の形状は略円形とし、これに取付ける前記多孔質体4も略円形に成形している。
これは前記多孔質体4を略円形(円盤状)に成形することで、割れ難く強固に成形できること、製造コストが安いことによる。
なお、前記多孔質体4は、円形に限定されるものではなく、三角形、四角形、長方形、多角形、楕円形、その他どのような形状でもよい。
【0024】
前記孔23の大きさ(孔の径)、孔23の配置等は、基板FPのサイズに対し前記浮上高さを得ることができるように決定すれば良い。
この実施形態では、搬送方向Xに平行させて、第1〜第4列とし、第1と第3列に6個の孔23を、それぞれ同一のパターンで形成し、第2と第4列に6個の孔23を、それぞれ同一のパターンで形成している。
即ち、第1列L1と第3列L3は、同一ピッチP1で5個の孔23を、ピッチP2で1個の孔23を配置し、第2列L2と第4列L4の孔23は、前記配置パターンを逆転させている。
なお、各孔23の径は、略40〜50mm程度である。
【0025】
前記圧力調整筒部8は、エアホース7等の供給手段から供給されるエアの圧力を前記多孔質体4の裏面41全面に対し略均一化させるもので、前記各多孔質体4に対応させて、有低の略円筒状に形成されている。
即ち、図9のように、前記多孔質体4の裏面41を臨ませるための開口80、円筒部81及び底部82からなり、縦断面が略U字状に成形されている。その底部82には、前記エアホース7を取付ける継手用のネジ孔83が設けられている。
このように構成された圧力調整筒部8は、例えば塩化ビニル等の合成樹脂で安価に製造できる。
【0026】
次に、前記ベース2に対する前記多孔質体4と前記圧力調整筒部8の取付構造を説明する。
前記多孔質体4の表面40は、前記ベース表面(板状材表面)200に対し略同一平面を形成するように配置する。
より好ましくは、前記ベース表面200に対し若干低くするように配置する。例えば前記ベース表面200に対し、多孔質体4の表面40を略0.1〜0.2mm程度低くする。
これは、多孔質体表面40が、前記基板FPを擦ることがないようにするためであり、また、多孔質体表面40が前記ベース表面200より上方に突出すると、前記基板FPを浮上させるための前記気体膜GMの容量が膨らむこととなり、エア消費量を浪費させることになるからである。
即ち、前記気体膜GMの体積は、基板FPの裏面の面積と、浮上高さと、基板FPの裏面の面積に対応する前記ベース2の表面200の面積との積の値であればよい。
しかし、前記多孔質体表面40が前記ベース表面200より上方に突出すると、前記ベース表面200からの前記多孔質体4の上方突出高さ分の体積の気体膜が浪費されることになる。
【0027】
前記多孔質体4の裏面41の外縁は、前記圧力調整筒部8の開口を形成する円形頂面84に載せられるように配置されている。
そして、前記圧力調整筒部8の円形頂面84は、ベース2の孔23の段差230に固着される。
なお、前記多孔質体4の表面40の縁部と、前記ベース2の孔23の縁部は、例えば空気中の水分を吸収することで硬化するシーリング材(コーキング材)を用いる。
その結果、多孔質体4の表面40の縁部や前記ベース2の孔23の縁部間からの塵等の発生を防ぐことができる。
【0028】
前記供給手段としてのエアホース7によって、清浄度が高いエア(クリーン度クラス10程度)が、前記圧力調整筒部8毎に個別に供給されることから、各多孔質体8へのエア供給量、供給タイミングも各多孔質体8毎に制御できる。また、各多孔質体8へのエア供給の時間的な立上げも迅速にできる。
【0029】
その他の構成は上記実施形態と同一であり、この第4実施形態においても同一の作用効果を奏するが、さらに次のような作用効果を奏することができる。
【0030】
前記ベース2と前記基板FP間でエアが逃げずに所定時間滞留し、気体膜GMが形成されるため、エアの浪費を抑えることでエア消費量を抑え、ランニングコストの低減化につなげることができる。
また、一台のチャンバ−に複数の多孔質体4を取付ける場合には、各多孔質体4に与えられる圧縮エアの圧力がバラける場合があるが、本実施形態のように、前記多孔質体4にエアを供給する圧力調整筒部8が、多孔質体4毎にエアを供給することで、各多孔質体4へのエア圧力を略同一にすることも可能である。
また、多孔質体4毎にエアが供給されるので、多孔質体4毎にエア供給量を調整することができる。
また、一台のチャンバ−に複数の多孔質体4を取付ける場合には、各多孔質体4のエア噴出タイミングの調整が難しい場合がある。
本実施形態のように、各多孔質体4毎にエアを供給することで、各多孔質体4のエア噴出タイミングを取り、エアの立上げを迅速に行うことができる。
さらに、多孔質体4を小型化することで、多孔質体4のコストを低減化させることができ、また前記圧力調整筒部8も安価に、且つ、軽量化できる。
【0031】
なお、本実施形態では、前記気体膜GMは基板FPの中央に集まる傾向が観察され、前記搬送方向X及びその直交する方向から見ると、前記基板FPが恰もなだらかな山状になっていることが観測されている。
そこで、前記ベース2上の基板FPに対し、搬送方向Xの中央部分の孔数及び多孔質体4を、それ以外の部分の孔数及び多孔質体4よりも少なくするようにしてもよい。例えば搬送方向に3列の場合には、中央の1列の孔数及び多孔質体4を少なくする。
また実施形態の場合には、搬送方向に略平行な中央のライン(L2,L3)に位置する孔数を、その他の部分(L1.L4)の孔数よりも少なくしもよい。
また、前記ベース2上の基板FPに対し、前記中央部分の直下に位置(L2,L3)する多孔質体に供給されるエアの供給量を、その他の部分(L1.L4)の多孔質体に供給されるエアの供給量よりも少なくしてもよい。
このような構成によって、搬送されるフラットパネルFPの浮上高さを均一化させることができる。
【0032】
上記各実施形態では、流体としてクリーン度の高い空気を用いているが、純水等の液体でもよい。また、処理工程に応じて、前記空気に代えて不活性ガスでもよい。また、起倒手段としては、油圧シリンダ等でもよく、前記エアシリンダ、モータ等に限定されるものではない。
【0033】
次に上記非接触搬送装置を導入した液晶工場での搬送レイアウト図を図11に例示する。
この液晶工場では、基板FPに施すマスク枚数に応じて設けられた複数のフローF1〜Fnからなるインライン・フロー方式において、基板FPを水平方向、非接触、且つ、枚葉毎に搬送可能な搬送ラインL1〜Lnを各処理装置P1〜Pn間に配置し、成膜・パターン形成の生産ラインを設置している。
前記搬送ラインL1には、基板洗浄装置W1,W3が配置され、それらの前後に前記非接触搬送装置が配置され、基板FPの搬送姿を横、縦に自在に変換させることができる。
従って、縦姿の基板FPを洗浄することで洗浄液の滞留を大幅に減らすことができ、2次汚染を抑制することができる前記基板洗浄装置W1,W3への搬送ラインを形成することができる。
また、基板FPの検査工程において、前記非接触搬送装置により検査し易い縦姿の基板FPに変換させることができる。
【0034】
上記実施形態では、搬送対象物として基板等のフラットパネルを用いたが、その他、アクリル板等の各種薄板、ウエハー、各種フィルム基板、フレキシブルディスク、回路基板でもよい。
【0035】
【発明の効果】
本願発明の非接触搬送装置によれば、ベースとその上方の基板間で気体又は液体の流体膜が形成され、基板を非接触で浮上させて搬送できると共に、基板を非接触で縦姿から横姿に、横姿から縦姿に変えることができる。
よって、搬送ラインに特別な移載装置を導入することなく、また人手による作業の危険性や作業効率の低下を避けることができ、基板の各処理工程において、適切な搬送姿を実現させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、
【図2】同装置の要部斜視図、
【図3】同装置の作用説明図、
【図4】第2実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、
【図5】第3実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、
【図6】第4実施形態に係る非接触搬送装置の要部斜視図、
【図7】同平面図、
【図8】同側面図、
【図9】同要部分解斜視図、
【図10】同作用説明図、
【図11】搬送ラインのレイアウト図である。
【符号の説明】
FP 基板
1 搬送台
2 ベース 20 板状材
21 固定片
22 回転軸 23 孔
200 表面
230 段差
3 起倒手段
4 多孔質体 40 表面
41 多孔質体の裏面
5 チャンバー
6 モータ等
7 エアホース
8 圧力調整筒部 80 開口
81 円筒部 82 底部
83 ネジ孔 84 円形頂面
GM 気体膜
【発明の属する技術分野】
本発明は、LCD,PDP等のフラットパネルを非接触で浮上させ、且つ、フラットパネルの搬送姿を縦から横に、横から縦に変更できる非接触搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
フラットパネルディスプレイの代表例である液晶ディスプレイ(LCD)は、その製造工程において、成膜工程(TFTアレイ工程)、配向膜形成工程、液晶セル工程、組立工程等を経て製造されている。
これら各工程内のフラットパネル(以下、基板ともいう)の搬送方法として、従来から搬送ローラによるコロ搬送等が行われている。
【0003】
一方、基板の大型化に伴い、搬送ローラの搬送痕の問題、基板の撓みの問題を解消するため、基板を非接触で搬送する装置が出願人によって開発されている(例えば、特許文献1参照)
これらの搬送装置は、前記処理装置が水平状態の基板に対し、成膜処理等を施すことを前提とするため、基板を水平状態(横)で搬送するようになっている。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−62950号公報(図1)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、処理工程によっては、基板をその水平状態で処理するよりも、縦状態で処理した方が適切な場合がある。例えば、上記各処理工程での洗浄処理、検査処理等である。
横の基板を縦に変更するには、ロボットによることも、人手によることも可能であるが、前者では、搬送ラインに特別な移載装置となるため、コスト高になる。後者では、基板の大型化に伴い、作業の危険性が高まり、また作業効率が落ちる。
【0006】
そこで、本発明は、基板の搬送ラインにおいて、基板の搬送姿を縦から横に、横から縦に変えることができる起倒可能な非接触搬送装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本願発明は、ベースに配置された複数の多孔質体と、これら多孔質体の裏面を囲うように取付けられ、且つ、気体又は液体を前記複数の多孔質体に配給するチャンバーを備えた非接触浮上ユニット及びこの非接触浮上ユニットを起倒させる起倒手段を備えたことを特徴とする起倒可能な非接触搬送装置とした(請求項1に記載の発明)。
【0008】
この非接触搬送装置によれば、多孔質体の表面とその上方の基板間で気体又は液体(以下、単に流体ともいう)の流体膜が形成され、基板を非接触で浮上させることができる。そして、その基板に搬送方向の力を与えることで、非接触にて基板を搬送できると共に、前記起倒手段を駆動させることで、基板を非接触で縦から横に、横から縦にその搬送姿を変えさせることができる。
【0009】
上記課題を解決するため、本願発明は、複数の孔が形成されたベースと、前記ベースの各孔に対しその表面が前記ベースの表面と略同一平面を形成するように取付けられた多孔質体と、前記多孔質体毎にその裏面を囲うように取付けられ、且つ、供給手段から供給される気体又は液体の圧力を前記裏面に対し略均一化させる圧力調整筒部を備えた非接触浮上ユニット、及びこの非接触浮上ユニットを起倒させる起倒手段を備えたことを特徴とする起倒可能な非接触搬送装置とした(請求項2に記載の発明)。
【0010】
この非接触搬送装置によれば、前記ベ−スとその上方の基板間に流体が滞留し、広範囲な流体膜が形成され、基板がベース上で浮上される。そして、その基板に搬送方向の力を与えることで、非接触にて基板を搬送できると共に前記起倒手段を駆動させることで、基板を非接触で縦から横に、横から縦にその搬送姿を変えさせることができる。
【0011】
上記発明において、前記多孔質体は、セラミック、ガラス、合成樹脂又は金属であることを特徴とする(請求項3に記載の発明)。
多孔質体は、所定の気孔率を具備するものであれば、その材質は問われないが、典型的には、セラミック、ガラス、合成樹脂又は金属からなる。
【0012】
【発明の実施の形態】
上記各発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
図1は第1実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、図2は同装置を構成するベースの斜視図、図3は同装置の作用説明図である。
図4は第2実施形態に係る非接触搬送装置の側面図である。
図5は第3実施形態に係る非接触搬送装置の側面図である。
図6は第4実施形態に係る非接触搬送装置を構成するベースの斜視図、図7は同ベースの平面図、図8は同ベースの側面図及びその要部断面図、図9は同ベースの要部分解斜視図、図10は同装置の作用説明図である。
これらの各図及び後述の各図において、同一の構成については、同一の符号を付して、重複した説明を省略する。
また、以下の説明では、液晶ディスプレイ(LCD),プラズマディスプレイ(PDP),フィールドエミッションディスプレイ(FED),電界発光ディスプレイ(EL)等の基板を想定している。なお、これら基板にはガラス基板、プラスチック等の合成樹脂基板が含まれる。
【0013】
[第1実施形態に係る非接触搬送装置]
第1実施形態に係る非接触搬送装置は、図1に示したように、搬送台1と、この搬送台1に取付けら、且つ、基板FPとの間に流体膜としての気体膜を形成させ基板FPを浮上させるベース2とで非接触浮上ユニットを構成し、前記ベース2を起倒させる起倒手段3としてのエアシリンダを備えている。
よって、例えば、液晶製造工程の基板洗浄処理において、処理装置の前後に前記非接触搬送装置を配置することで、横の搬送姿で搬送されてきた基板FPを前記ベース2で受けて、その起倒手段3を駆動させて基板FPを縦に変換させ、処理装置にかけることができる。その後、再び非接触搬送装置を介して、基板FPを横に変換させて、次工程に搬送できる。
【0014】
前記搬送台1は、例えばアルミ等の構造材を適宜組み合せて組立てればよいが、前記ベース2を安定的に取付けることができれば、どのような構造でもよい。
【0015】
前記ベース2は、図2のように、板状材20が枠体に取付けられ、その板状材20に多孔質体4が複数配置され、また図3のように、それらの多孔質体4の裏面41を囲うような長尺状のチャンバー5が取付けられて構成されている。そして、このチャンバー5にエア等の圧縮流体が供給され、前記多孔質体4の表面40と基板FP間に気体膜GMが形成される。
【0016】
前記多孔質体4として、通気性セラミックスを用いるが、所定の気孔率、例えば略30%程度の気孔率で成形されるものであれば、多孔質ガラス、プラスチック等の合成樹脂の多孔性樹脂等、金属等でもよい。また気孔率も上記略30%に限定されるものでもなく、20〜60%でもよい。
このような多孔質体4を略四角形状に成形し、前記チャンバー5に気密性を保持させつつ取付け、板状材20に配置する。
この場合、多孔質体4の表面40が板状部20の表面200より、上方に突出するように取付けても良い。
また、多孔質体4の表面40と板状材20の表面200とで略同一平面を形成するように取付けても良い。この場合には、後述の第4実施形態に係る非接触搬送装置と略同一の作用効果を奏する。
また、この実施形態では、複数の多孔質体4を搬送方向Xに2列にして取付けているが、1列でもよいし、基板FPの大きさに対応させて3列等でもよい。
なお、図1中の「6」には、基板FPに搬送方向の力を与えるローラ手段及びモータが取付けられる。
また、搬送姿が横向きの基板FPでも、縦向きの基板FPでも、搬送方向Xに搬送されるように、図2中の「6」に示す位置のベース2の端部に、基板FPの端部に搬送方向の力を与えるローラ手段、例えば段付きローラ及びモータ、例えば前記段付きローラを駆動するステッピングモータを取付けるようにしてもよい。
【0017】
前記エアシリンダ3は、そのシリンダ30の基部が首振り自在に前記搬送台1に取付けられ、そのピストン棒31の先端が前記ベース2の裏面側に回動自在に取付けられている。
【0018】
以上のように構成された非接触搬送装置によれば、基板FPに搬送痕・キズ等を作ることなく、また基板FPの自重による撓みを抑制して、その撓みによる基板FPの破損を防ぎつつ、基板FPの搬送姿を変換させることができる。
また、同様な作用効果を奏しつつ、前記ベース2を水平に寝かせた状態で、基板FPを水平方向に搬送することができる。
さらに、同様な作用効果を奏しつつ、前記ベース2を起立させた状態で、基板FPを縦状態で搬送することができる。
【0019】
[第2実施形態に係る非接触搬送装置]
図4に示した第2実施形態に係る非接触搬送装置が第1実施形態と異なる点は、前記エアシリンダ3の取付け位置であり、この第2実施形態ではシリンダ30の上部が首振り自在に前記搬送台1に取付けられている。
その他の構成は、上記実施形態と同様であり、同一の作用効果を奏する。
【0020】
[第3実施形態に係る非接触搬送装置]
図5に示した第3実施形態に係る非接触搬送装置が上記各実施形態と異なる点は、前記起倒手段3の構成であり、前記ベース2の下部に固定された固定片21が回転軸22に軸着され、その回転軸22にモータの回転力が伝達され、ベース2が起倒される。
その他の構成は、上記実施形態と同様であり、同一の作用効果を奏する。
【0021】
[第4実施形態に係る非接触搬送装置]
図6〜10に示した第4実施形態に係る非接触搬送装置が上記実施形態と異なる点は、ベース2の構成である。
即ち、板状材20に複数の孔23,23,23・・・が形成されてベース2が構成されており、これらの各孔23に、その表面40が前記ベース2の表面200と略同一の高さとなる多孔質体4,4,4・・・が取付けられ、これら多孔質体4の裏面41側に筒状の圧力調整筒部8が取付けられている。
そして、流体として例えば圧縮エアが前記圧力調整筒部8に供給されると、前記多孔質体4の表面40からエアが噴出され、基板FPと前記ベース2間にエアが滞留し、広範囲に気体膜GM(図10参照)が形成される。
【0022】
前記ベース2は、基板FPとの間で前記気体膜GMを形成すると共に、基板FPの搬送路を構成するもので、ベース表面200の平面度は、精度のよいものが望ましい。
基板FPの浮上高さは、ベース表面200から略0.1〜0.2mm程度にすると、前記ベース2の平面度に問題があれば、基板FPがベース2に接触するおそれがあるからである。
なお、前記ベース2の具体的な寸法は、搬送対象となる基板FPのサイズに対応させればよい。
【0023】
前記板状材20に形成されている孔23の形状は略円形とし、これに取付ける前記多孔質体4も略円形に成形している。
これは前記多孔質体4を略円形(円盤状)に成形することで、割れ難く強固に成形できること、製造コストが安いことによる。
なお、前記多孔質体4は、円形に限定されるものではなく、三角形、四角形、長方形、多角形、楕円形、その他どのような形状でもよい。
【0024】
前記孔23の大きさ(孔の径)、孔23の配置等は、基板FPのサイズに対し前記浮上高さを得ることができるように決定すれば良い。
この実施形態では、搬送方向Xに平行させて、第1〜第4列とし、第1と第3列に6個の孔23を、それぞれ同一のパターンで形成し、第2と第4列に6個の孔23を、それぞれ同一のパターンで形成している。
即ち、第1列L1と第3列L3は、同一ピッチP1で5個の孔23を、ピッチP2で1個の孔23を配置し、第2列L2と第4列L4の孔23は、前記配置パターンを逆転させている。
なお、各孔23の径は、略40〜50mm程度である。
【0025】
前記圧力調整筒部8は、エアホース7等の供給手段から供給されるエアの圧力を前記多孔質体4の裏面41全面に対し略均一化させるもので、前記各多孔質体4に対応させて、有低の略円筒状に形成されている。
即ち、図9のように、前記多孔質体4の裏面41を臨ませるための開口80、円筒部81及び底部82からなり、縦断面が略U字状に成形されている。その底部82には、前記エアホース7を取付ける継手用のネジ孔83が設けられている。
このように構成された圧力調整筒部8は、例えば塩化ビニル等の合成樹脂で安価に製造できる。
【0026】
次に、前記ベース2に対する前記多孔質体4と前記圧力調整筒部8の取付構造を説明する。
前記多孔質体4の表面40は、前記ベース表面(板状材表面)200に対し略同一平面を形成するように配置する。
より好ましくは、前記ベース表面200に対し若干低くするように配置する。例えば前記ベース表面200に対し、多孔質体4の表面40を略0.1〜0.2mm程度低くする。
これは、多孔質体表面40が、前記基板FPを擦ることがないようにするためであり、また、多孔質体表面40が前記ベース表面200より上方に突出すると、前記基板FPを浮上させるための前記気体膜GMの容量が膨らむこととなり、エア消費量を浪費させることになるからである。
即ち、前記気体膜GMの体積は、基板FPの裏面の面積と、浮上高さと、基板FPの裏面の面積に対応する前記ベース2の表面200の面積との積の値であればよい。
しかし、前記多孔質体表面40が前記ベース表面200より上方に突出すると、前記ベース表面200からの前記多孔質体4の上方突出高さ分の体積の気体膜が浪費されることになる。
【0027】
前記多孔質体4の裏面41の外縁は、前記圧力調整筒部8の開口を形成する円形頂面84に載せられるように配置されている。
そして、前記圧力調整筒部8の円形頂面84は、ベース2の孔23の段差230に固着される。
なお、前記多孔質体4の表面40の縁部と、前記ベース2の孔23の縁部は、例えば空気中の水分を吸収することで硬化するシーリング材(コーキング材)を用いる。
その結果、多孔質体4の表面40の縁部や前記ベース2の孔23の縁部間からの塵等の発生を防ぐことができる。
【0028】
前記供給手段としてのエアホース7によって、清浄度が高いエア(クリーン度クラス10程度)が、前記圧力調整筒部8毎に個別に供給されることから、各多孔質体8へのエア供給量、供給タイミングも各多孔質体8毎に制御できる。また、各多孔質体8へのエア供給の時間的な立上げも迅速にできる。
【0029】
その他の構成は上記実施形態と同一であり、この第4実施形態においても同一の作用効果を奏するが、さらに次のような作用効果を奏することができる。
【0030】
前記ベース2と前記基板FP間でエアが逃げずに所定時間滞留し、気体膜GMが形成されるため、エアの浪費を抑えることでエア消費量を抑え、ランニングコストの低減化につなげることができる。
また、一台のチャンバ−に複数の多孔質体4を取付ける場合には、各多孔質体4に与えられる圧縮エアの圧力がバラける場合があるが、本実施形態のように、前記多孔質体4にエアを供給する圧力調整筒部8が、多孔質体4毎にエアを供給することで、各多孔質体4へのエア圧力を略同一にすることも可能である。
また、多孔質体4毎にエアが供給されるので、多孔質体4毎にエア供給量を調整することができる。
また、一台のチャンバ−に複数の多孔質体4を取付ける場合には、各多孔質体4のエア噴出タイミングの調整が難しい場合がある。
本実施形態のように、各多孔質体4毎にエアを供給することで、各多孔質体4のエア噴出タイミングを取り、エアの立上げを迅速に行うことができる。
さらに、多孔質体4を小型化することで、多孔質体4のコストを低減化させることができ、また前記圧力調整筒部8も安価に、且つ、軽量化できる。
【0031】
なお、本実施形態では、前記気体膜GMは基板FPの中央に集まる傾向が観察され、前記搬送方向X及びその直交する方向から見ると、前記基板FPが恰もなだらかな山状になっていることが観測されている。
そこで、前記ベース2上の基板FPに対し、搬送方向Xの中央部分の孔数及び多孔質体4を、それ以外の部分の孔数及び多孔質体4よりも少なくするようにしてもよい。例えば搬送方向に3列の場合には、中央の1列の孔数及び多孔質体4を少なくする。
また実施形態の場合には、搬送方向に略平行な中央のライン(L2,L3)に位置する孔数を、その他の部分(L1.L4)の孔数よりも少なくしもよい。
また、前記ベース2上の基板FPに対し、前記中央部分の直下に位置(L2,L3)する多孔質体に供給されるエアの供給量を、その他の部分(L1.L4)の多孔質体に供給されるエアの供給量よりも少なくしてもよい。
このような構成によって、搬送されるフラットパネルFPの浮上高さを均一化させることができる。
【0032】
上記各実施形態では、流体としてクリーン度の高い空気を用いているが、純水等の液体でもよい。また、処理工程に応じて、前記空気に代えて不活性ガスでもよい。また、起倒手段としては、油圧シリンダ等でもよく、前記エアシリンダ、モータ等に限定されるものではない。
【0033】
次に上記非接触搬送装置を導入した液晶工場での搬送レイアウト図を図11に例示する。
この液晶工場では、基板FPに施すマスク枚数に応じて設けられた複数のフローF1〜Fnからなるインライン・フロー方式において、基板FPを水平方向、非接触、且つ、枚葉毎に搬送可能な搬送ラインL1〜Lnを各処理装置P1〜Pn間に配置し、成膜・パターン形成の生産ラインを設置している。
前記搬送ラインL1には、基板洗浄装置W1,W3が配置され、それらの前後に前記非接触搬送装置が配置され、基板FPの搬送姿を横、縦に自在に変換させることができる。
従って、縦姿の基板FPを洗浄することで洗浄液の滞留を大幅に減らすことができ、2次汚染を抑制することができる前記基板洗浄装置W1,W3への搬送ラインを形成することができる。
また、基板FPの検査工程において、前記非接触搬送装置により検査し易い縦姿の基板FPに変換させることができる。
【0034】
上記実施形態では、搬送対象物として基板等のフラットパネルを用いたが、その他、アクリル板等の各種薄板、ウエハー、各種フィルム基板、フレキシブルディスク、回路基板でもよい。
【0035】
【発明の効果】
本願発明の非接触搬送装置によれば、ベースとその上方の基板間で気体又は液体の流体膜が形成され、基板を非接触で浮上させて搬送できると共に、基板を非接触で縦姿から横姿に、横姿から縦姿に変えることができる。
よって、搬送ラインに特別な移載装置を導入することなく、また人手による作業の危険性や作業効率の低下を避けることができ、基板の各処理工程において、適切な搬送姿を実現させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、
【図2】同装置の要部斜視図、
【図3】同装置の作用説明図、
【図4】第2実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、
【図5】第3実施形態に係る非接触搬送装置の側面図、
【図6】第4実施形態に係る非接触搬送装置の要部斜視図、
【図7】同平面図、
【図8】同側面図、
【図9】同要部分解斜視図、
【図10】同作用説明図、
【図11】搬送ラインのレイアウト図である。
【符号の説明】
FP 基板
1 搬送台
2 ベース 20 板状材
21 固定片
22 回転軸 23 孔
200 表面
230 段差
3 起倒手段
4 多孔質体 40 表面
41 多孔質体の裏面
5 チャンバー
6 モータ等
7 エアホース
8 圧力調整筒部 80 開口
81 円筒部 82 底部
83 ネジ孔 84 円形頂面
GM 気体膜
Claims (3)
- ベースに配置された複数の多孔質体と、これら多孔質体の裏面を囲うように取付けられ、且つ、気体又は液体を前記複数の多孔質体に配給するチャンバーを備えた非接触浮上ユニットと、
この非接触浮上ユニットを起倒させる起倒手段を備えたことを特徴とする起倒可能な非接触搬送装置。 - 複数の孔が形成されたベースと、前記ベースの各孔に対しその表面が前記ベースの表面と略同一平面を形成するように取付けられた多孔質体と、前記多孔質体毎にその裏面を囲うように取付けられ、且つ、供給手段から供給される気体又は液体の圧力を前記裏面に対し略均一化させる圧力調整筒部を備えた非接触浮上ユニットと、
この非接触浮上ユニットを起倒させる起倒手段を備えたことを特徴とする起倒可能な非接触搬送装置。 - 前記多孔質体は、セラミック、ガラス、合成樹脂又は金属からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の非接触搬送装置。
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- 2003-04-08 JP JP2003103841A patent/JP2004307152A/ja active Pending
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