CN108701635B - 基板浮起输送装置 - Google Patents

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Abstract

提供基板浮起输送装置，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。具体而言，基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用基板保持单元对基板进行了保持的状态下使基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，保持框架部借助升降部而设置于输送驱动部，并形成为：通过使升降部进行动作，从而保持框架部进行升降动作而使所有的吸附部相对于基板进行接近离开动作。

Description

基板浮起输送装置
技术领域
本发明涉及一边使基板浮起一边进行输送的基板浮起输送装置，特别是涉及能够抑制由于输送时的振动导致基板上的涂布膜形成涂布不匀的基板浮起输送装置。
背景技术
在液晶显示器或等离子显示器等平板显示器中，使用在基板上涂布有抗蚀液的基板(称为涂布基板)。该涂布基板通过如下方式来生产：一边利用基板输送装置输送基板，一边利用涂布装置在基板上均匀地涂布抗蚀液从而形成涂布膜。之后，再通过基板输送装置进行输送，并通过干燥装置等对涂布膜进行干燥。
在最近的基板输送装置中，为了避免涂布基板W的背面(与涂布面相反的一侧)的损伤，使用了一边以空气浮起或超声波浮起等方式使基板W浮起一边对基板W进行输送的基板浮起输送装置。如图10所示，该基板浮起输送装置具有：浮起载台部100，其使基板W浮起；基板保持单元102，其对浮起状态的基板W进行吸附并进行保持；以及输送驱动部103，其使基板保持单元102在基板W的输送方向上移动，该基板输送装置使输送驱动部103驱动而使基板保持单元102移动，从而在基板W浮起于浮起载台部100上的状态下沿输送方向进行输送。
关于所输送的基板W，需要避免与浮起载台部100接触并利用设置在输送途中的基板处理部(例如涂布处理部)106进行精度良好的处理。因此，在基板保持单元102中，形成为能够一边使基板W保持为水平的姿势，一边恒定地保持数十μm～数百μm的浮起量。具体而言，如图11所示，基板保持单元102中，沿着输送方向排列有多个吸附部104，这些多个吸附部104借助升降机构105设置于输送驱动部103。即，吸附部104沿输送方向按照规定的间隔进行配置，对各个吸附部104设置有升降机构105。并且，对各个升降机构105进行控制，从而对浮起的基板W进行吸附，在所设定的浮起高度位置对基板W进行吸附保持(图11的(b))。在该状态下使输送驱动部103在输送方向上移动，从而能够对浮起于浮起载台部100上的基板W以维持微少的浮起量的状态在输送方向上精度良好地进行输送。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：2011-213435号公报
发明内容
发明所要解决的课题
但是，在上述基板浮起输送装置中，存在下述问题：难以将浮起的基板W在输送方向的范围内调节为恒定的高度。即，在上述基板浮起输送装置中，对所有的吸附部104分别设置有升降机构105，因此需要单独对各个升降机构105进行控制而调节基板W的高度。因此，要想将基板W的浮起量在输送方向范围内调节为恒定，存在下述问题：需要对所有的升降机构105的吸附部104的位置进行精度良好地控制，基板保持单元102的结构会复杂化。
另外，当为了对所有的吸附部104的高度位置进行精度良好地调整而采用高性能的升降机构105时，存在下述问题：需要对所有的吸附部104的升降机构105采用高性能的升降机构105，装置整体的成本会增加。
因此，本发明的目的在于提供基板浮起输送装置，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定的高度。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本发明的基板浮起输送装置的特征在于，该基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助所述浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用所述基板保持单元对基板进行了保持的状态下使所述基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，所述基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，所述保持框架部借助升降部而设置于所述输送驱动部，并形成为：通过使所述升降部进行动作，从而所述保持框架部进行升降动作而使所有的所述吸附部相对于基板进行接近离开动作。
根据本发明，基板保持单元具有对所有的吸附部进行安装的保持框架部，因此能够容易地进行基板的高度位置的控制。即，在保持框架部上安装有所有的吸附部，因此通过使该保持框架部进行升降动作，能够一起调节所有的吸附部的高度位置。并且，使保持框架部升降的升降机构无需像以往那样分别设置于所有的吸附部，仅为使保持框架部升降的最小限度的升降机构即可。因此，与以往相比，能够减少升降机构的数量，因此能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。
另外，可以采用下述结构：所述输送驱动部具有沿着所述浮起载台移动的基座部，该基座部与所述保持框架部借助所述升降部而连结，与该升降部分开地设置有对所述基座部与所述保持框架部的连结进行强化的强化支承部。
根据该结构，与连结部分开地设置有强化支承部，因此能够加强基座部与保持框架部的一体性。即，在保持框架部上安装有所有的吸附部，因此当输送驱动部的基座部移动时，在保持框架部容易产生组装精度等所致的微少的振动。该振动例如在进行涂布处理的情况下，成为在形成于基板上的涂布膜产生涂布不匀的主要原因，但通过与升降部分开地设置强化支承部，能够增加基座部与保持框架部的刚性，抑制输送时所产生的振动，在进行涂布处理等基板处理的情况下，能够抑制振动所致的影响。
另外，也可以采用下述结构：所述强化支承部具有仅允许特定的一个方向上的变位的引导部件，通过该引导部件将所述基座部与所述保持框架部连结。
根据该结构，通过强化支承部来抑制基座部与保持框架部在特定的方向以外的方向上的相对变位，因此能够抑制在保持框架部产生振动。
另外，也可以采用下述结构：所述强化支承部在输送方向上配置于设置有所述吸附部的位置。
根据该结构，将强化支承部设置于容易成为振动源的吸附部，因此能够有效地抑制在保持框架部产生振动。
另外，也可以采用下述结构：所述强化支承部配置于所有设置有所述吸附部的位置。
根据该结构，将强化支承部设置于所有容易成为振动源的吸附部，因此能够更可靠地抑制在保持框架部产生振动。
另外，也可以采用下述结构：在所述强化支承部中设置有根据所述保持框架部的升降动作而进行伸缩动作的弹簧部，通过所述弹簧部的复原力对所述基座部与所述保持框架部的连结进行强化。
根据该结构，通过弹簧部的复原力对基座部与保持框架部的连结进行强化，从而能够抑制在保持框架部产生的振动。
另外，优选采用下述结构：在所述强化支承部中设置有对所述保持框架部的升降方向上的变位进行限制的变位限制机构。
根据该结构，在强化支承部中设置有变位限制机构，因此至少在基板处理时通过变位限制机构对保持框架部的升降方向的变位进行限制，从而能够抑制保持框架部的振动，能够抑制振动对于基板处理的影响。
另外，也可以采用下述结构：所述变位限制机构是通过对所述引导部件上的所述保持框架部的升降方向上的变位进行约束而形成的。
根据该结构，所述引导部件所允许的特定方向的变位受到约束，因此基座部与保持框架部一体化，从而能够有效地抑制振动的产生。
发明效果
根据本发明，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。
附图说明
图1是概略地示出与本发明的基板浮起输送装置进行组合的涂布装置的立体图。
图2是在输送方向上观察到的与上述实施方式的基板浮起输送装置进行组合的涂布装置的图。
图3是示出在上述实施方式中保持着已浮起的基板的状态的图。
图4是在Y轴方向上观察上述实施方式的基板保持单元的图。
图5是示出上述实施方式中的基板浮起输送装置的基板保持部的吸附垫的图，其中(a)是示出吸附前的状态的图，(b)是示出进行了吸附的状态的图。
图6是示出上述实施方式中的基板浮起输送装置的升降部的图，其中(a)是示出下降至未保持基板的高度位置的状态的图，(b)是示出上升至保持基板的高度位置的状态的图。
图7是示出上述实施方式中的基板浮起输送装置的强化支承部的图，其中(a)是在输送方向上观察到的强化支承部的图，(b)是从浮起载台部侧观察到的强化支承部的图。
图8是示出其他实施方式中的基板浮起输送装置的强化支承部的图，其中(a)是示出连杆夹具锁定前的状态的图，(b)是示出连杆夹具锁定后的状态的图。
图9是示出另一个其他实施方式中的基板浮起输送装置的强化支承部的图，其中(a)是示出下降至未保持基板的高度位置的状态的图，(b)是示出上升至保持基板的高度位置的状态的图。
图10是示出现有的基板浮起输送装置的一个实施方式的概略立体图。
图11是在Y轴方向上观察到的现有的基板保持单元的图，其中(a)是示出下降至未保持基板的高度位置的状态的图，(b)是示出上升至保持基板的高度位置的状态的图。
具体实施方式
以下，使用附图对本发明的基板浮起输送装置的实施方式进行说明。
图1是概略性示出与本发明的基板浮起输送装置1进行组合的涂布装置2的立体图，图2是与图1中的基板浮起输送装置1进行组合的涂布装置2的主视图。
在图1、图2中，对基板W进行输送的基板浮起输送装置1与在所输送的基板W上形成涂布膜的涂布装置2的涂布单元21进行组合而形成一系列的基板处理装置。该基板浮起输送装置1具有在一个方向上延伸的浮起载台部10，沿着该浮起载台部10延伸的方向对基板W进行输送。在图1的例子中，浮起载台部10形成为在X轴方向上延伸，将基板W在X轴方向上从上游侧(前工序侧)向下游侧(后工序侧)输送。并且，从涂布单元21喷出涂布液，从而在基板W上形成涂布膜。
具体而言，一边在基板W浮起于浮起载台部10上的状态下沿X轴方向进行输送，一边从涂布单元21喷出涂布液从而在基板W上形成均匀厚度的涂布膜。
在以下的说明中，将输送基板W的方向设为X轴方向，X轴方向相当于输送方向。另外，将在水平面上与X轴方向垂直的方向设为Y轴方向，特别地还将Y轴方向称为宽度方向。并且，将与X轴方向和Y轴方向这二者垂直的方向设为Z轴方向进行说明。
涂布单元21对基板W涂布涂布液，该涂布单元21具有框架部22和管口部23。框架部22具有分别配置在浮起载台部10的Y轴方向两侧的支柱22a，在该支柱22a上设置有管口部23。具体而言，所设置的支柱22a固定于Y轴方向(宽度方向)两侧，按照不妨碍后述的基板保持部30的移动的方式配置于比基板保持部30的移动路径靠外侧的位置。并且，在这些支柱22a上架设有管口部23，按照横跨浮起载台部10的状态安装有管口部23。另外，在支柱22a设置有升降机构，通过使升降机构进行动作，管口部23能够在Z方向上移动。即，通过升降机构能够使管口部23相对于浮起载台部10进行接近离开动作。
管口部23喷出涂布液，该管口部23形成为在一个方向上延伸。在该管口部23上形成有在一个方向上延伸的缝喷嘴23a(参照图2)，能够从缝喷嘴23a喷出贮存在管口部23内的涂布液。具体而言，缝喷嘴23a形成在与浮起载台部10对置的面上，管口部23按照缝喷嘴23a在宽度方向上延伸的状态进行设置。并且，在使管口部23相对于所输送的基板W升降而使基板W与缝喷嘴23a的距离与规定的距离相符的状态下从缝喷嘴23a喷出涂布液，从而使宽度方向上均匀的涂布膜连续地形成在输送方向上。并且，一边从缝喷嘴23a喷出涂布液一边使基板W移动，从而在基板W上形成均匀厚度的涂布膜。
另外，基板浮起输送装置1一边使基板W浮起一边在一个方向(在本实施方式中为X轴方向)上对基板W进行输送。基板浮起输送装置1具有：浮起载台部10，其使基板W浮起；以及基板输送单元3，其对浮起于浮起载台部10上的基板W进行保持并进行输送。
浮起载台部10使基板W浮起，在本实施方式中该浮起载台部10具有空气浮起机构。浮起载台部10形成为在基台11上设置有平板部12，所形成的多张平板部12沿着X轴方向排列。即，平板部12具有平滑的基板浮起面12a(参照图3)，各个基板浮起面12a被排列成均匀的高度。并且，在基板浮起面12a与所输送的基板W之间形成有空气层，从而能够使基板W浮起至规定的高度位置。具体而言，在平板部12中形成有在基板浮起面12a开口的微小的喷出口(未图示)和吸引口(未图示)，喷出口通过配管与压缩机连接，吸引口通过配管与真空泵连接。并且，通过使从喷出口喷出的空气与在吸引口产生的吸引力达到平衡，能够使基板W以水平的姿势浮起至距基板浮起面12a规定的高度。由此，能够在高精度地维持基板W的平面姿势(称为平面度)的状态下进行输送。
另外，对于浮起载台部10的平板部12，其Y轴方向尺寸形成得比所输送的基板W的Y轴方向尺寸小，当在基板浮起面12a上载置基板W时，成为基板W的Y轴方向端部从基板浮起面12a探出的状态。利用后述的基板输送单元3对该探出的部分(探出区域T)进行保持，从而能够对基板W进行输送。该平板部12的Y轴方向尺寸设定为能够利用基板保持部30对探出区域T进行保持所需的最小限度的尺寸。即，探出区域T的探出量设定成如下的程度：当利用基板保持部30对基板W的探出区域T进行保持的情况下，在基板保持部30与平板部12之间形成有相互不接触的略微间隙的程度。
另外，基板输送单元3对浮起状态的基板W进行输送，基板输送单元3具有：基板保持单元30，其对基板W进行保持；以及输送驱动部31，其使基板保持单元30移动。
输送驱动部31构成为使基板保持单元30在输送方向上移动，由沿着浮起载台部10在输送方向上延伸的输送轨道部31a以及在该输送轨道部31a上移动的基座部31b形成。具体而言，按照在输送方向上延伸的方式设置的基台31c(参照图2)被配置于浮起载台部10的宽度方向两侧，在各个基台31c上设置有输送轨道部31a。即，输送轨道部31a沿着浮起载台部10不中断地连续设置。另外，基座部31b是形成为凹形状的板状部件，例如如图2、图6所示，基座部31b按照覆盖输送轨道部31a的上表面的方式设置。具体而言，基座部31b设置成隔着空气垫32覆盖输送轨道部31a上，通过驱动线性电动机(未图示)而使基座部31b在输送轨道部31a上移动。即，通过对线性电动机进行驱动控制，能够使基座部31b在输送轨道部31a上以不接触的方式移动并在规定的位置停止。
另外，基板保持单元30对基板W进行保持，该基板保持单元30安装于基座部31b。具体而言，如图4所示，基板保持单元30具有：保持框架部40，其在输送方向上延伸；以及吸附部41，其安装于该保持框架部40，该保持框架部40与基座部31b借助升降部42而连结。并且，通过驱动升降部42而使保持框架部40进行升降动作，从而能够使吸附部41相对于基板W的背面接近离开。
保持框架部40用于安装吸附部41，具有长条的平板形状。该保持框架部40配置在各个基座部31b上，借助升降部42而配置在基座部31b上。该保持框架部40按照在宽度方向上夹着浮起载台部10的方式配置，按照其长度方向沿着输送方向的方式配置。并且，当使输送驱动部31驱动时，两个保持框架部40按照同一步调沿着浮起载台部10移动。
另外，保持框架部40的长度方向的长度根据所输送的基板W的输送方向长度来形成，在保持框架部40的上端部分配置有多个吸附部41。即，当使升降部42驱动而使保持框架部40上升时，所有的吸附部41一起上升，当保持框架部40下降时，所有的吸附部41一起下降。由此，与按照每个吸附部41而具有升降部42的以往结构相比，结构变得容易，能够避免控制复杂化。
另外，在本实施方式中，在保持框架部40上等间隔地配置有各个吸附部41，从输送方向一方侧端部至另一方侧端部的尺寸设定为基板W的输送方向长度以下。即，在基板W浮起于浮起载台上的状态下，当使保持框架部40上升时，所有的吸附部41与基板W的背面抵接，当使保持框架部40下降时，所有的吸附部41从基板W离开。
另外，吸附部41对基板W进行吸附保持，形成为大致长方体的块状。基板保持单元30设定成其上表面(吸附面33)与浮起的基板W的下表面的高度位置在同一面内。并且，如图5所示，在吸附面33上形成有开口部34，在该开口部34内埋设有能够弹性变形的折皱形状的吸附垫35。该吸附垫35产生吸引力而对基板W进行吸附保持，该吸附垫35被设定成在通常状态(无基板W的状态)下在其前端从开口部34略微突出的状态下待机(参照图5的(a))。并且，当在基板浮起面12a上载置有基板W时，从基板浮起面12a沿宽度方向探出的部分与吸附垫35抵接。当在该状态下在吸附垫35产生吸引力时，一边利用吸附垫35对基板W的下表面进行吸引，一边保持该吸引状态不变地，吸附垫35自身向开口部34内收缩，基板W的下表面与吸附面33抵接而对基板W进行保持(参照图5的(b))。由此，以在宽度方向范围内维持相同的浮起高度位置的状态对利用浮起载台部10浮起的基板W进行保持。
另外，升降部42用于一边将保持框架部40支承在基座部31b上一边进行升降动作，在本实施方式中，如图4所示，在输送方向两端部附近各设置有1台升降部42，共设置有2台升降部42。这里，图6是在输送方向上观察到的升降部42的图。如图6所示，升降部42是将楔形的块43组合而形成的，在三棱柱形状的块43的斜面彼此抵接的状态下固定于基座部31b。这些块43中的一个块43a借助撑条44与保持框架部40连结，另一个块43b与基座部31b连结。并且，在一个块43a设置有致动器45，通过对该致动器45进行驱动控制，能够使一个块43a相对于另一个块43b沿着斜面变位。即，当一个块43a向Y轴方向(例如正侧)被按压时，块43a沿着斜面移动，结果是在Z方向(铅垂向上)变位而能够使保持框架部40上升(图6的(a)→图6的(b))。另外，当一个块向反方向(例如Y轴方向负侧)被按压时，块43a沿着斜面移动，结果在Z方向(铅垂向下)变位而能够使保持框架部40下降(图6的(b)→图6的(a))。通过使用将该楔形的块43组合而成的升降部42，能够提高相对于输入的保持框架部40的升降方向的动作精度，从而精度良好地进行吸附部41相对于基板W的位置控制。
另外，在保持框架部40设置有对保持框架部40与基座部31b的连结进行强化的强化支承部50。根据该强化支承部50，至少在基板处理时，相比于保持框架部40与基座部31b仅利用升降部42连结的情况，可提高保持框架部40与基座部31b的连结强度，抑制由于刚性不足而出现的振动的产生。
如图4所示，强化支承部50设置成将保持框架部40与基座部31b连结，在本实施方式中，如图4所示，强化支承部50在输送方向上设置于安装有吸附部41的位置。即，在配置吸附部41的部分，容易由于吸附部41的自重的影响等而成为振动源，因此在该吸附部41正下方配置强化支承部50，从而能够对保持框架部40与基座部31b的连结进行强化，并且能够有效地抑制振动的产生。在本实施方式中，强化支承部50配置在所有的吸附部41正下方。
如图7所示，强化支承部50具有固定在基座部31b上的支承主体部51和线性引导件52(引导部件)，通过将该线性引导件52与保持框架部40连结而形成强化支承部50。这里，图7的(a)是在输送方向上观察到的强化支承部50的图，图7的(b)是在Y轴方向上观察到的作为强化支承部50的线性引导件52的图。
支承主体部51是剖面L字型的平板部件，按照安装面53与保持框架部40侧对置的姿势利用螺栓54固定在基座部31b上。在安装面53上设置有线性引导件52，线性引导件52的轨道55按照在Z方向(保持框架部40的升降方向)上延伸的方向安装。并且，线性引导件52的块56与保持框架部40连结。由此，对于保持框架部40，仅允许Z方向上的变位，限制Z方向以外的方向上的变位。即，保持框架部40在使升降部42驱动的情况下沿着线性引导件52顺畅地移动，但限制其在Z方向以外的方向上的变位，从而Z方向以外的方向上的变位(振动等)受到限制。
另外，在该强化支承部50中设置有变位限制机构60。该变位限制机构60限制保持框架部40在升降方向上进行变位。具体而言，在保持框架部40上设置有线性夹具62，该线性夹具62夹持线性引导件52的轨道，从而约束保持框架部40在升降方向(Z方向)上的变位。
即，如图7的(b)所示，线性夹具62具有：夹具主体62a；楔形的活塞部62b，其相对于夹具主体62a进退；以及接触部62c，其配置在活塞部62b与轨道之间，线性夹具62构成为根据保持框架部40的升降动作而在线性引导件52上变位。并且，通过对活塞部62b进行驱动控制，例如当活塞部62b在夹具主体62a内变位时，接触部62c向轨道55侧被按压，从而利用接触部62c彼此夹持轨道55而进行固定。即，当在轨道55上的规定的位置使线性夹具62进行动作时，保持框架部40的升降方向的变位受到限制，在该位置保持框架部40被刚性地固定。由此，能够进一步提高保持框架部40与基座部31b的刚性，与仅有强化支承部50的情况相比，能够更有效地抑制振动的产生。
在本实施方式中，变位限制机构60在基板保持中进行动作。即，在基板W的搬入、搬出动作中，变位限制机构60配置于保持框架部40下降的位置，变位限制机构60不进行动作。并且，当在浮起载台部10载置基板W时，保持框架部40上升而使吸附部41与基板W的背面抵接，从而对基板W进行吸附。并且，当成为该基板W的保持姿势稳定的状态时，变位限制机构60进行动作，保持框架部40的位置被刚性地固定。
根据上述实施方式的基板浮起输送装置，与升降部42分开设置有强化支承部50，因此能够加强基座部31b与保持框架部40的一体性。即，在保持框架部40上安装有所有的吸附部41，因此当输送驱动部31的基座部31b移动时，在保持框架部40容易产生因组装精度、自重等所致的微少的振动。该振动例如在进行涂布处理的情况下成为在形成于基板W上的涂布膜产生涂布不匀的主要原因，但通过与升降部42分开设置强化支承部50，能够增加基座部31b与保持框架部40的刚性，抑制在输送时所产生的振动，在进行涂布处理等基板处理的情况下，能够抑制振动所致的影响。
另外，在上述实施方式中，对变位限制机构60为线性夹具62的情况进行了说明，但也可以如图8所示那样使用连杆夹具63。具体而言，由固定地配置在吸附部41正下方的基座部31b上的支柱部64和设置在该支柱部64的连杆夹具63形成变位限制机构，通过对连杆夹具63进行空压控制，杠杆部63a转动，从而能够将保持框架部40锁定。即，连杆夹具63的杠杆部63a形成为能够根据活塞63b的动作而相对于保持框架部40接近离开，杠杆部63a的前端对保持框架部40的下端进行支承，从而保持框架部40的位置被刚性地固定。在本实施方式中，在保持框架部40达到基板保持中的高度位置时，活塞63b按压杠杆部63a，从而杠杆部63a转动，杠杆部63a前端对保持框架部40的下端进行支承。根据这样的变位限制机构60，也能够进一步提高保持框架部40与基座部31b的刚性，与仅依靠强化支承部50的情况相比，能够更有效地抑制振动的产生。
另外，在上述实施方式中，对设置有变位限制机构60的例子进行了说明，但也可以是不设置变位限制机构60而仅有强化支承部50的结构。例如仅使用线性引导件52、滚珠丝杠等直动引导件(引导部件)作为强化支承部50，将保持框架部40与基座部31b连结，从而将保持框架部40与基座部31b的相对变位限定为仅在特定的一个方向上，从而限制特定的方向以外的方向上的变位。由此，相比于保持框架部40与基座部31b的连结仅有升降部42的情况，能够抑制产生振动。
另外，在上述实施方式中，说明了对强化支承部50使用引导部件的例子，但也可以是强化支承部50具有弹簧部70，通过该弹簧部70的复原力对保持框架部40与基座部31b的连结进行强化。例如如图9所示，由棒状的轴主体71和设置于该轴主体71的弹簧部70形成强化支承部。该弹簧部70设置成在保持框架部40位于基板保持中的高度位置的状态下按照规定的量收缩。由此，在保持框架部40处于基板保持中的情况下，弹簧部70的复原力作用于使保持框架部40与基座部31b的连结牢固的方向，因此与仅有升降部42的情况相比，能够提高保持框架部40与基座部31b的刚性，能够抑制产生振动。
另外，在上述实施方式中，关于设置强化支承部50的位置，对在所有设置有吸附部41的位置(吸附部41正下方的位置)设置强化支承部50的例子进行了说明，但也可以是从设置有吸附部41的位置适当选择而配置强化支承部50的结构。另外，也可以是强化支承部50设置于设置有吸附部41的位置以外的位置的结构，可以适当分散配置于保持框架部40与基座部31b的刚性比较低的部位、即保持框架部40的输送方向中央部、保持框架部40的输送方向端部。
另外，在上述实施方式中，对将基板W浮起输送装置与涂布装置组合的例子进行了说明，但也可以与曝光机、检查装置、标记装置等各种基板处理装置组合。并且，通过抑制基板W输送中的振动的产生，能够极力抑制振动给基板处理带来影响。
标号说明
1：基板浮起输送装置；2：涂布装置；10：浮起载台部；30：基板保持单元；31：输送驱动部；31b：基座部；40：保持框架部；41：吸附部；42：升降部；50：强化支承部；60：变位限制机构。

Claims (6)

1.一种基板浮起输送装置，其特征在于，
该基板浮起输送装置具有：
浮起载台，其使基板浮起；
基板保持单元，其对借助所述浮起载台而浮起的基板进行保持；以及
输送驱动部，其在利用所述基板保持单元对基板进行了保持的状态下使所述基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，
所述基板保持单元具有：
多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及
保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，
所述保持框架部借助升降部而设置于所述输送驱动部，并形成为：通过使所述升降部进行动作，从而所述保持框架部进行升降动作而使所有的所述吸附部相对于基板进行接近或离开动作，
所述输送驱动部具有沿着所述浮起载台移动的基座部，该基座部与所述保持框架部借助所述升降部而连结，与该升降部分开地设置有对所述基座部与所述保持框架部的连结进行强化的强化支承部，
所述强化支承部配置于所有设置有所述吸附部的位置。
2.根据权利要求1所述的基板浮起输送装置，其特征在于，
所述强化支承部具有仅允许特定的一个方向上的变位的引导部件，通过该引导部件将所述基座部与所述保持框架部连结。
3.根据权利要求1或2所述的基板浮起输送装置，其特征在于，
所述强化支承部在输送方向上配置于设置有所述吸附部的位置。
4.根据权利要求1或2所述的基板浮起输送装置，其特征在于，
在所述强化支承部中设置有根据所述保持框架部的升降动作而进行伸缩动作的弹簧部，通过所述弹簧部的复原力对所述基座部与所述保持框架部的连结进行强化。
5.根据权利要求1或2所述的基板浮起输送装置，其特征在于，
在所述强化支承部中设置有对所述保持框架部的升降方向上的变位进行限制的变位限制机构。
6.根据权利要求5所述的基板浮起输送装置，其特征在于，
所述变位限制机构是通过对所述强化支承部的引导部件上的所述保持框架部的升降方向上的变位进行约束而形成的，其中，所述引导部件将所述基座部与所述保持框架部连结，并且仅允许特定的一个方向上的变位。
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