JP2007027495A - 浮上式基板搬送処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 表面から気体を噴射及び吸引して被処理基板Gを浮上する浮上ステージ22と、浮上ステージの上方に配置され、基板の表面に処理液を供給するレジスト液供給ノズル23と、基板の両側端をそれぞれ着脱可能及び被処理基板の浮上高さに追従可能に保持すると共に、基板を浮上ステージ上で移動する移動手段と、を具備する浮上式基板搬送処理装置において、浮上ステージを多孔質部材50にて形成すると共に、該多孔質部材に気密に区画される複数の吸引孔52を設け、多孔質部材の多孔質部51に気体供給手段であるコンプレッサ55を接続し、吸引孔に迂回流路56を介して吸引手段である真空ポンプ57を接続する。
【選択図】 図3
Description
図2は、上記レジスト塗布処理装置20の第1実施形態の要部を示す概略斜視図、図3は、レジスト塗布処理装置20における気体の供給及び吸引状態を示す概略構成図、図4及び図5は、気体の供給及び吸引状態を示す要部断面図である。
図8は、この発明に係る浮上式基板搬送処理装置の第2実施形態の要部を示す概略断面図、図9は、第2実施形態における気体(空気)の供給及び吸引部を示す要部分解斜視図(a)、(a)のII部を示す拡大斜視図(b)及びII部を示す別の拡大斜視図(c)である。
図11は、この発明に係る浮上式基板搬送処理装置の第3実施形態の要部を示す概略断面図、図12は、第3実施形態における気体(空気)の供給及び吸引部を示す要部分解斜視図である。
なお、上記実施形態では、この発明に係る浮上式基板搬送処理装置をレジスト塗布処理装置に適用した場合について説明したが、レジスト塗布処理装置以外の装置、例えば現像処理装置にも適用できることは勿論である。
22,22A,22B 浮上ステージ
23 レジスト供給ノズル(処理液供給手段)
24 基板保持部材
28 リニアモータ(移動手段)
50 多孔質部材
51 多孔質部(気体供給孔)
52 吸引孔
55 コンプレッサ(気体供給手段)
56 迂回流路
57 真空ポンプ(吸引手段)
70 多孔板
71 小孔
72 気体供給流路溝
72a 直状主溝
72b 枝溝
73 気体吸引流路溝
73a 直状主溝
73b 枝溝
80 表面板
81 大径孔
82 中間板
83 小径孔
84 下部板
85 ステージ本体
86 多孔体
86a 大径頭部
86b 脚部
88 Oリング(シール部材)
91 第1の空間
92 第2の空間
Claims (7)
- 表面から気体を噴射及び吸引して被処理基板を浮上する浮上ステージと、
上記浮上ステージの上方に配置され、上記被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記被処理基板の両側端をそれぞれ着脱可能及び被処理基板の浮上高さに追従可能に保持すると共に、被処理基板を上記浮上ステージ上で移動する移動手段と、を具備する浮上式基板搬送処理装置において、
上記浮上ステージを多孔質部材にて形成すると共に、該多孔質部材に気密に区画される複数の吸引孔を設け、
上記多孔質部材の多孔質部に気体供給手段を接続し、
上記吸引孔に迂回流路を介して吸引手段を接続してなる、ことを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。 - 請求項1記載の浮上式基板搬送処理装置において、
上記複数の吸引孔を被処理基板の搬送方向及び該搬送方向と直交する方向に対して傾斜状に配列する、ことを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。 - 表面から気体を噴射及び吸引して被処理基板を浮上する浮上ステージと、
上記浮上ステージの上方に配置され、上記被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記被処理基板の両側端をそれぞれ着脱可能及び被処理基板の浮上高さに追従可能に保持すると共に、被処理基板を上記浮上ステージ上で移動する移動手段と、を具備する浮上式基板搬送処理装置において、
上記浮上ステージは、整列された多数の小孔を有する多孔板と、該多孔板の下面に配設され、気体供給流路溝と気体吸引流路溝を交互に配列してなる流路プレートを具備し、
上記気体供給流路溝に気体供給手段を接続し、
上記気体吸引流路溝に吸引手段を接続してなる、ことを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。 - 請求項3記載の浮上式基板搬送処理装置において、
上記気体供給流路溝及び気体吸引流路溝を、被処理基板の搬送方向及び該搬送方向と直交する方向に対して傾斜状に配列してなる、ことを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。 - 請求項3記載の浮上式基板搬送処理装置において、
上記気体供給流路溝及び気体吸引流路溝を、被処理基板の搬送方向と直交する方向に沿う波形状に形成してなる、ことを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。 - 請求項3記載の浮上式基板搬送処理装置において、
上記気体供給流路溝及び気体吸引流路溝を、それぞれ被処理基板の搬送方向と直交する方向に延在する直状主溝と、該直状主溝に連なって上記被処理基板の搬送方向に延在する複数の枝溝とで構成すると共に、隣接する上記気体供給流路溝と気体吸引流路溝の枝溝同士をジグザグ状に配列してなる、ことを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。 - 表面から気体を噴射及び吸引して被処理基板を浮上する浮上ステージと、
上記浮上ステージの上方に配置され、上記被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記被処理基板の両側端をそれぞれ着脱可能及び被処理基板の浮上高さに追従可能に保持すると共に、被処理基板を上記浮上ステージ上で移動する移動手段と、を具備する浮上式基板搬送処理装置において、
上記浮上ステージは、複数の大径孔を設けた表面板と、該表面板の下面との間に第1の空間をおいて配設されると共に、上記大径孔の直下に位置する小径孔を設けた中間板と、該中間板の下面との間に第2の空間をおいて配設される下部板とからなるステージ本体と、
整列された多数の小孔を有し、上記大径孔に嵌合する大径頭部の下部に上記小径孔に気密に嵌合する脚部を有する多孔体と、具備し、
上記第1又は第2の空間のいずれか一方に気体供給手段を接続すると共に、他方の空間に吸引手段を接続してなる、ことを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。
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