JP2008218781A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008218781A JP2008218781A JP2007055304A JP2007055304A JP2008218781A JP 2008218781 A JP2008218781 A JP 2008218781A JP 2007055304 A JP2007055304 A JP 2007055304A JP 2007055304 A JP2007055304 A JP 2007055304A JP 2008218781 A JP2008218781 A JP 2008218781A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- stage
- small stage
- small
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基板搬送方向に沿って順に配置された第1の小ステージ41と第2の小ステージ42と第3の小ステージ43とにより構成され、基板Gの下方に所定のガス流を形成して該基板を浮上させるステージ35と、ステージ35上に浮上した基板Gを保持し、該基板Gを一方向に搬送する基板搬送手段36と、第2の小ステージ42の上方に設けられ、浮上搬送される基板Gに対し所定の動作を実施する処理具37とを備え、第2の小ステージ42は、第1の小ステージ41と第3の小ステージ43との間を搬送路に沿って移動可能に設けられ、処理具37による基板Gに対する動作開始後または動作終了前の所定期間において、第2の小ステージ42は、第1の小ステージ41から第3の小ステージ43に向けて、基板Gの搬送速度に同期して移動する。
【選択図】図3
Description
即ち、基板G上にレジスト液を塗布する際には、図7(a)に示すように、ステージ201の上方に浮上した状態で搬送される。そして、ノズル203から吐出されるレジスト液の基板Gへの塗布は、図7(b)に示すように、基板先端G1がノズル203直下に到達したときから開始される。
また、このような現象は、基板後端部においても同様に生じていた。
したがって、基板先端部或いは後端部が振動することなく、処理部による処理が進行し、高精度の処理を実施することができる。
このように構成することにより、第2の小ステージを前記第1のステージと第3のステージとの間で移動させることができる。また、各小ステージ間の高さ位置を等しくすることにより、基板に対するガス流の形成制御を容易にし、安定した基板搬送を行うことができる。
このように構成することにより、ステージ上に所定のガス流を形成することができ、基板を浮上させることができる。
このように構成することにより、前記処理具による前記基板に対する動作終了前の所定期間において、前記第2の小ステージを、前記第1の小ステージから前記第3の小ステージに向けて、前記基板の搬送速度に同期して移動させることができる。
このように前記処理具がレジストノズルであれば、被処理基板に対し塗布むらの発生することの無い塗布処理を行うことができ、前記処理具がカメラであれば、被処理基板に対し高精度の検査を行うことができる。
最初に、この塗布現像処理システム1について、図1の平面図を用い、図2のフローに沿って簡単に説明する。尚、塗布現像処理システム1は、クリーンルーム内に設置され、たとえばLCD用のガラス基板を被処理基板(以下、LCD基板G又は単に基板Gと呼ぶ)とし、LCD製造プロセスにおいてフォトリソグラフィ工程を行うものとする。
こうして、LCD基板Gは、平流し搬送路6上を仰向けの姿勢でプロセスラインAの下流側へ向けて搬送される。初段の洗浄プロセス部7において、基板Gは、エキシマUV照射ユニット(e−UV)8およびスクラバ洗浄ユニット(SCR)9により紫外線洗浄処理およびスクラビング洗浄処理を順次施される(ステップS2、S3)。
アドヒージョンユニット11において脱水ベーク処理がなされた基板Gは、蒸気状のHMDSを用いるアドヒージョン処理を施され、被処理面を疎水化される(ステップS4)。このアドヒージョン処理の終了後に、基板Gは冷却ユニット(COL)12で所定の基板温度まで冷却される(ステップS5)。この後、LCD基板Gは平流し搬送路6上を搬送され、塗布プロセス部13に渡される。
尚、レジスト塗布ユニット(CT)14において、本発明の基板処理装置を好適に用いることができるため、その構成及び作用効果については詳細に後述する。
露光装置23では基板G上のレジストに所定の回路パターンが露光される。そして、パターン露光を終えた基板Gは、露光装置23からインタフェースステーション(I/F)19に戻されると、先ず周辺装置22のタイトラー(TITLER)に搬入され、そこで基板上の所定の部位に所定の情報が記される(ステップS10)。
こうして、LCD基板Gは、今度は平流し搬送路25上を仰向けの姿勢でプロセスラインBの下流側に向けて搬送される。
プロセスラインBでは、最初の現像ユニット(DEV)26において、基板Gは、平流しで搬送される間に現像、リンス、乾燥の一連の現像処理を施される(ステップS11)。
次に、LCD基板Gは、冷却ユニット(COL)31で所定の基板温度に冷却される(ステップS14)。検査ユニット(AP)29では、基板G上のレジストパターンについて非接触の線幅検査や膜質・膜厚検査等が行われる(ステップS15)。
尚、前記のように処理が行われる塗布現像処理システム1においては、両プロセスラインA,Bの間に補助搬送空間32が設けられており、必要に応じて各処理ユニットに対し基板Gを直接、搬入出できるよう、基板Gを1枚単位で水平に載置可能なシャトル33が図示しない駆動機構によってプロセスライン方向(X方向)で双方向に移動できるようになっている。
以下、図3に基づき、レジスト塗布ユニット(CT)14の構成及び動作について説明する。図3は、レジスト塗布ユニット(CT)14を有する塗布プロセス部13の概略構成を示す平面図である。
レジスト塗布ユニット(CT)14は、LCD基板Gを浮上搬送するためのステージ35と、ステージ35上方で浮上した基板Gを保持してX方向に搬送する基板搬送機構36(基板搬送手段)とを備え、このユニットでは、これらにより平流し搬送部6が構成される。
尚、前段の処理部である第1の熱的処理部10において平流し搬送路6を搬送されてきた基板Gは、第1基板搬送アーム39aによってレジスト塗布ユニット(CT)14へ引渡されるようになされている。
導入ステージ部40aは、第1の熱的処理部10から塗布ステージ部40bへ基板Gを搬送するためのエリアである。塗布ステージ部40bには、レジストノズル37が配置されており、ここで基板Gにレジスト液が供給されて塗布膜が形成される。搬出ステージ40cは、塗布膜が形成された基板Gを減圧乾燥ユニット(VD)15へ搬出するためのエリアである。
各小ステージ41、42、43は、所定のガス(例えば、空気や窒素ガス)を上方(Z方向)に向かって噴射するための多数のガス噴射口45aと、吸気を行うための多数の吸気口45bとが夫々、X方向とY方向に一定間隔で直線上に並ぶように交互に設けられた構造を有している。そして、ガス噴射口45aから噴射されるガス噴射量と吸気口45bからの吸気量とをバランスさせる(つまり、圧力負荷を一定とする)ことによって所定のガス流を形成し、基板Gを小ステージ41、42、43の表面から一定の高さに浮上させる。こうして浮上した基板GのY方向端を基板搬送機構36で保持してX方向へ移動させることにより基板Gを搬送させるようになされている。
また、搬出ステージ部40cに設けられた小ステージ43には、搬出ステージ部40cへ搬送されてきたLCD基板Gを持ち上げて、第2基板搬送アーム39bに受け渡すためのリフトピン46bが設けられている。
尚、この小ステージ42の移動に係る動作制御については後述する。
先ず、スライダ48を導入ステージ部40aの所定位置に待機させ、ステージ35では各部において所定の高さにLCD基板Gを浮上させることができる状態となされる。
次いで、前段の処理部である第1の熱的処理部10からLCD基板Gを第1基板搬送アーム39aに保持させて、導入ステージ部40aに搬入する。そして、リフトピン46aを上昇させてLCD基板Gを第1基板搬送アーム39aからリフトピン46aに受け渡した後、リフトピン46aを降下させ、スライダ48に受け渡す。
これにより、LCD基板Gは小ステージ41上において略水平姿勢で浮上保持される。
図4、図5は、レジスト液の塗布時における基板Gと小ステージ42との位置関係を示す側面図である。尚、図示するように、ガイドレール57上に、このレール57をスライド移動するスライド部材58が設けられ、スライド部材58上に小ステージ42が設置されている。
そして、搬送されてきた基板Gの先端G1が小ステージ41から小ステージ42上に移動し、図4(b)に示すように先端G1がレジストノズル37の直下に到達すると、レジストノズル37からレジスト液の吐出が開始される。
尚、レジストノズル37からのレジスト液の吐出開始/吐出終了のタイミングは、LCD基板Gの位置を検出するセンサ(図示せず)が設けられ、このセンサからの信号に基づいて制御されている。
これにより、図4(b)に示す基板Gの先端G1と小ステージ42との位置関係は、図4(c)に示すそれらの位置関係と同じとなり、基板Gの先端G1に対するガス噴射口45aからのガス噴射、或いは吸気口45bからの吸気の位置は変化しない。したがって、基板先端G1が振動することなく、レジストノズル37による塗布処理が進行する。
これにより、図5(a)に示す基板Gの後端G2と小ステージ42との位置関係は、図5(b)に示すそれらの位置関係と同じとなり、基板Gの後端G2に対するガス噴射口45aからのガス噴射、或いは吸気口45bからの吸気の位置は変化しない。したがって、基板後端G2が振動することなく、レジストノズル37による塗布処理が行われる。
そして、第2基板搬送アーム39bによりLCD基板Gが減圧乾燥ユニット(VD)15の載置台60に載置されると、減圧乾燥ユニット(VD)15においてチャンバ61内が密閉され、その内部が減圧されて塗布膜が減圧乾燥される。
これにより、基板Gの先端部G1及び後端部G2が塗布処理される前記所定期間においては、基板Gの先端G1或いは後端G2と、小ステージ42との位置関係は変化せず、ガス噴射口45aからのガス噴射位置、或いは吸気口45bの吸気位置が変化することがない。
したがって、基板先端G1或いは後端G2が振動することなく、レジストノズル37による塗布処理が進行し、塗布むらの無い塗布処理を実施することができる。
また、本発明に係る基板処理装置の適用は、前記した実施の形態のようにレジスト塗布ユニット(CT)14への適用に限定されるものではない。例えば、実施の形態における図3乃至図5に示したレジストノズル37に替えて検査用CCDカメラ等を処理具として設けた基板検査装置に適用してもよい。この場合、搬送される被処理基板の先端及び後端が振動することがないため、高精度の検査を実施することができる。
13 塗布プロセス部
14 レジスト塗布ユニット(基板処理装置)
15 減圧乾燥ユニット
35 ステージ
36 基板搬送機構(基板搬送手段)
37 レジストノズル(処理部)
38 ノズル洗浄ユニット
40a 導入ステージ部
40b 塗布ステージ部
40c 搬出ステージ部
41 小ステージ(第1の小ステージ)
42 小ステージ(第2の小ステージ)
43 小ステージ(第3の小ステージ)
45a ガス噴射口
45b 吸気口
G LCD基板(被処理基板)
Claims (6)
- 被処理基板を搬送しながら該基板に所定の処理を施す基板処理装置において、
基板搬送方向に沿って順に配置された第1の小ステージと第2の小ステージと第3の小ステージとにより構成され、前記基板の下方に所定のガス流を形成して該基板を浮上させるステージと、前記ステージ上に浮上した前記基板を保持し、該基板を一方向に搬送する基板搬送手段と、前記第2の小ステージの上方に設けられ、浮上搬送される前記基板に対し所定の動作を実施する処理具とを備え、
前記第2の小ステージは、前記第1の小ステージと前記第3の小ステージとの間を搬送路に沿って移動可能に設けられ、前記処理具による前記基板に対する動作開始後または動作終了前の所定期間において、前記第2の小ステージは、前記第1の小ステージから前記第3の小ステージに向けて、前記基板の搬送速度に同期して移動することを特徴とする基板処理装置。 - 前記ステージを構成する各小ステージ間の高さ位置は等しくなされ、
前記第1の小ステージと前記第3の小ステージとの間に形成され、前記第2の小ステージが配置される領域は、その基板搬送方向の長さ寸法が、前記第2の小ステージの基板搬送方向の長さ寸法よりも長く形成されていることを特徴とする請求項1に記載された基板処理装置。 - 前記ステージを構成する各小ステージの表面には、複数のガス噴射口と、前記ガス噴射口から噴射されたガスを吸気するための複数の吸気口とが形成され、
前記ガス噴射口と前記吸気口により前記基板の下方に所定のガス流が形成され、前記基板が浮上することを特徴とする請求項1または請求項2に記載された基板処理装置。 - 前記処理具の動作開始後の所定期間に、前記第2の小ステージが前記第1の小ステージから前記第3の小ステージに向けて移動した後、
前記第2の小ステージは、前記第1の小ステージ側に移動して戻ることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載された基板処理装置。 - 前記処理具は、前記被処理基板の被処理面にレジスト液を吐出するレジストノズルであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載された基板処理装置。
- 前記処理具は、前記被処理基板の被処理面を撮像するカメラであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載された基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007055304A JP4743716B2 (ja) | 2007-03-06 | 2007-03-06 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007055304A JP4743716B2 (ja) | 2007-03-06 | 2007-03-06 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008218781A true JP2008218781A (ja) | 2008-09-18 |
JP4743716B2 JP4743716B2 (ja) | 2011-08-10 |
Family
ID=39838453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007055304A Expired - Fee Related JP4743716B2 (ja) | 2007-03-06 | 2007-03-06 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4743716B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010155694A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Ihi Corp | 浮上搬送装置 |
JP2010159164A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-07-22 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置、真空処理システムおよび処理方法 |
JP2011003865A (ja) * | 2009-06-22 | 2011-01-06 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
KR101051767B1 (ko) * | 2009-09-01 | 2011-07-25 | 주식회사 케이씨텍 | 부상식 기판 코터 장치 |
JP2011146705A (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-28 | Semes Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2011155032A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-11 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
KR101097236B1 (ko) * | 2009-08-21 | 2011-12-21 | 주식회사 케이씨텍 | 부상식 기판 코터 장치 |
KR101097234B1 (ko) * | 2009-08-21 | 2011-12-21 | 주식회사 케이씨텍 | 부상식 기판 코터 장치 |
JP2013502600A (ja) * | 2009-08-20 | 2013-01-24 | 株式会社ニコン | 物体処理装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2017142523A (ja) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | 移動体装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び搬送方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003086917A1 (fr) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Olympus Corporation | Dispositif de transport de substrat |
JP2005022844A (ja) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Olympus Corp | 基板搬送装置 |
JP2005223119A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成装置および塗布膜形成方法 |
JP2005263336A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送機構および塗布膜形成装置 |
JP2006237097A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Tokyo Electron Ltd | ステージ装置および塗布処理装置 |
JP2007027495A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Tokyo Electron Ltd | 浮上式基板搬送処理装置 |
-
2007
- 2007-03-06 JP JP2007055304A patent/JP4743716B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003086917A1 (fr) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Olympus Corporation | Dispositif de transport de substrat |
JP2005022844A (ja) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Olympus Corp | 基板搬送装置 |
JP2005223119A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成装置および塗布膜形成方法 |
JP2005263336A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送機構および塗布膜形成装置 |
JP2006237097A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Tokyo Electron Ltd | ステージ装置および塗布処理装置 |
JP2007027495A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Tokyo Electron Ltd | 浮上式基板搬送処理装置 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010159164A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-07-22 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置、真空処理システムおよび処理方法 |
JP2010155694A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Ihi Corp | 浮上搬送装置 |
JP2011003865A (ja) * | 2009-06-22 | 2011-01-06 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
KR101862001B1 (ko) * | 2009-08-20 | 2018-05-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 물체 처리 장치, 노광 장치 및 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
KR101862234B1 (ko) * | 2009-08-20 | 2018-05-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
JP2020043369A (ja) * | 2009-08-20 | 2020-03-19 | 株式会社ニコン | 移動体装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び搬送方法 |
KR102022841B1 (ko) * | 2009-08-20 | 2019-09-19 | 가부시키가이샤 니콘 | 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
KR20180059948A (ko) * | 2009-08-20 | 2018-06-05 | 가부시키가이샤 니콘 | 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
JP2013502600A (ja) * | 2009-08-20 | 2013-01-24 | 株式会社ニコン | 物体処理装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2017142522A (ja) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 |
JP2017142523A (ja) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | 移動体装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び搬送方法 |
KR101097234B1 (ko) * | 2009-08-21 | 2011-12-21 | 주식회사 케이씨텍 | 부상식 기판 코터 장치 |
KR101097236B1 (ko) * | 2009-08-21 | 2011-12-21 | 주식회사 케이씨텍 | 부상식 기판 코터 장치 |
KR101051767B1 (ko) * | 2009-09-01 | 2011-07-25 | 주식회사 케이씨텍 | 부상식 기판 코터 장치 |
JP2014112725A (ja) * | 2010-01-12 | 2014-06-19 | Semes Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2011146705A (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-28 | Semes Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2011155032A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-11 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4743716B2 (ja) | 2011-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4743716B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4049751B2 (ja) | 塗布膜形成装置 | |
JP4554397B2 (ja) | ステージ装置および塗布処理装置 | |
JP4413789B2 (ja) | ステージ装置および塗布処理装置 | |
JP4272230B2 (ja) | 減圧乾燥装置 | |
JP4040025B2 (ja) | 塗布膜形成装置 | |
JP4407970B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP4341978B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007158005A (ja) | 基板搬送装置及び基板処理装置 | |
KR101169839B1 (ko) | 도포막형성 장치 | |
KR20090031271A (ko) | 상압 건조 장치 및 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP2007173368A (ja) | 塗布処理装置及び塗布処理方法 | |
JP4372984B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP4721289B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5371605B2 (ja) | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 | |
JP4450825B2 (ja) | 基板処理方法及びレジスト表面処理装置及び基板処理装置 | |
KR101568050B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2009117462A (ja) | 塗布膜形成装置、基板搬送方法及び記憶媒体 | |
KR101432825B1 (ko) | 기판처리장치 | |
JP2002324740A (ja) | 処理装置 | |
JP2002313699A (ja) | 処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110502 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110502 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |