JP6339341B2 - 処理システム及び処理方法 - Google Patents

Description

本発明はパネルに液膜体を塗布する処理システムに関する。

テレビ、パソコン、携帯端末等のディスプレイとして、液晶表示パネル等の画像表示パネルと、カバーパネルと、を接着して貼り合せたものが知られている（例えば特許文献１）。これらのパネルを貼り合せる接着剤としては、光硬化樹脂（ＯＣＲ）を用いることが知られている。光硬化樹脂がカバーパネル表面に塗布された後、カバーパネルと画像表示パネルとが貼り合わされる。その後、カバーパネルを透過させて光硬化樹脂に紫外線を照射し、光硬化樹脂が硬化される。

この接着方式を採用する場合、カバーパネルに光硬化樹脂を塗布する装置が必要となる。この種の装置としては、例えば、テーブル上に配置されたパネル上を移動する塗布装置により液体を塗布するものが知られている。

特開２００９−２５８３３号公報

しかし、パネル上を移動する塗布装置では、塗布動作中、テーブルが一つのパネルに占有されてしまい、複数のパネルを連続的に処理することが困難である。このため、作業効率が低下する。特に、光硬化樹脂は粘度が高く、塗布に時間がかかることから、作業効率が低下する。

本発明の目的は、塗布作業の作業効率を向上させ、多サイズのパネルに対応可能とすることにある。

本発明によれば、
パネルの表面に液体を塗布する開口部を備えた塗布装置と、
前記パネルの搬送方向における前記塗布装置よりも上流側のパネル搬入領域から前記塗布装置よりも下流側のパネル搬出領域に渡って延設され、前記パネルを非接触で支持する複数の浮上ユニットと、
前記パネルを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置の前記開口部に臨ませて搬送する搬送装置と、
前記搬送装置及び前記塗布装置を制御する制御装置と、を備え、
前記塗布装置は、前記パネルの搬送方向に対して固定して設けられ、
前記搬送装置は、
前記パネルの下面を吸着する第１及び第２吸着ユニットと、
前記第１吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第１駆動ユニットと、
前記第２吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第２駆動ユニットと、を備え、
前記複数の浮上ユニットは、前記搬送方向と直交する方向に離間して設けられ、
前記第１及び第２吸着ユニットは、前記複数の浮上ユニット間であって、前記パネルの幅方向の中央部を吸着する位置に、前記搬送方向と直交する方向に並べて配置され、
前記制御装置は、
先行パネルを前記パネル搬入領域に搬入した後、前記第１吸着ユニットにて前記先行パネルを吸着し、前記第１駆動ユニットにより前記第１吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記先行パネルを搬送し、
前記先行パネルが前記パネル搬入領域を完全に通過した後、該パネル搬入領域に後続パネルを搬入し、その後、前記第２吸着ユニットにて前記後続パネルを吸着し、前記第２駆動ユニットにより前記第２吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記後続パネルを搬送し、
前記先行パネルを前記パネル搬出領域に搬送した前記第１吸着ユニットを、前記第２吸着ユニットによる前記後続パネルの搬送中に前記パネル搬出領域から前記パネル搬入領域へと戻し、
前記パネル搬入領域に搬入した別のパネルを、前記パネル搬入領域に戻された前記第１吸着ユニットにて吸着する、
ことを特徴とする処理システムが提供される。

また、本発明によれば、
搬送装置によりパネルをパネル搬入領域からパネル搬出領域へ搬送する搬送工程と、
前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間の塗布領域にて、塗布装置により前記パネルの表面に液体を塗布する塗布工程と、
を含む処理方法であって、
前記搬送工程では、前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域に渡って延設された複数の浮上ユニットによって非接触で支持された前記パネルを搬送し、
前記搬送装置は、
前記パネルの下面を吸着する第１及び第２吸着ユニットと、
前記第１吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第１駆動ユニットと、
前記第２吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第２駆動ユニットと、を備え、
前記複数の浮上ユニットは、前記パネルの搬送方向と直交する方向に離間して設けられ、
前記第１及び第２吸着ユニットは、前記複数の浮上ユニット間であって、前記パネルの幅方向の中央部を吸着する位置に、前記パネルの搬送方向と直交する方向に並べて配置され、
前記搬送工程では、
先行パネルを前記パネル搬入領域に搬入した後、前記第１吸着ユニットにて前記先行パネルを吸着し、前記第１駆動ユニットにより前記第１吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記先行パネルを搬送し、
前記先行パネルが前記パネル搬入領域を完全に通過した後、該パネル搬入領域に後続パネルを搬入し、その後、前記第２吸着ユニットにて前記後続パネルを吸着し、前記第２駆動ユニットにより前記第２吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記後続パネルを搬送し、
前記先行パネルを前記パネル搬出領域に搬送した前記第１吸着ユニットを、前記第２吸着ユニットによる前記後続パネルの搬送中に前記パネル搬出領域から前記パネル搬入領域へと戻し、
前記パネル搬入領域に搬入した別のパネルを、前記パネル搬入領域に戻された前記第１吸着ユニットにて吸着する、
ことを特徴とする処理方法が提供される。

本発明によれば、塗布作業の作業効率を向上することができる。また、多サイズのパネルに対応することができる。

本発明の一実施形態に係る処理システムの平面図。 図１の処理システムの矢印II方向矢視図。 図２のIII−III線に沿う断面図。 制御装置のブロック図。 図１の処理システムの動作説明図。 図１の処理システムの動作説明図。 図１の処理システムの動作説明図。 図１の処理システムの動作説明図。 図１の処理システムの動作説明図。 図１の処理システムの動作説明図。 図１の処理システムの動作説明図。 （Ａ）及び（Ｂ）は別例の説明図。 別例の説明図。

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。各図において、矢印Ｘ及びＹは互いに直交する水平方向を示し、矢印Ｚは上下方向を示す。

＜第１実施形態＞
＜システムの概要＞
図１は本発明の一実施形態に係る処理システムＡの平面図、図２は処理システムＡの矢印II方向矢視図、図３は図２のIII−III線に沿う断面図である。

処理システムＡは、パネル（基板）をＹ方向にエア浮上搬送しながらパネル表面に塗膜を形成するシステムである。システムのレイアウト上、処理システムＡは、パネル搬入領域Ｒ１と、処理領域Ｒ２、すなわち塗布領域Ｒ２１と、パネル搬出領域Ｒ３とを備える。なお、処理システムＡは、必要に応じて、形成された塗膜を半硬化させる半硬化装置８を備えていてもよい。この場合、塗布領域Ｒ２１の下流側に半硬化領域Ｒ２２が設けられ、塗布領域Ｒ２１と半硬化領域Ｒ２２とで処理領域Ｒ２が構成される。

パネル搬入領域Ｒ１には、処理対象となるパネルが供給される。ここでは供給元の装置とパネルの受け渡しを行ってパネルを搬入する。塗布領域Ｒ２１ではパネル表面に液体を塗布して液膜を形成する。パネル搬出領域Ｒ３では、液膜形成済みのパネルを供給先の装置に受け渡し、パネルを処理システムＡから搬出する。

処理システムＡは、複数の浮上ユニット１Ａ及び１Ｂ（総称するときは浮上ユニット１という）と、搬送装置２と、昇降ユニット３と、調整ユニット４及び５と、塗布装置６と、昇降装置７と、を備える。塗布装置６は塗布領域Ｒ２１に設けられており、パネルの搬送方向（Ｙ方向）で見ると、パネル搬入領域Ｒ１は塗布装置６よりも上流側に位置し、パネル搬出領域Ｒ３は下流側に位置している。

＜浮上ユニット＞
浮上ユニット１はパネルを非接触で支持する。本実施形態の場合、浮上ユニット１はエアテーブルであり、水平な上面１０を備える。上面１０には空気孔１２が多数形成されている。空気孔１２は、浮上ユニット１内部の通路を介して不図示のエア装置に連通している。エア装置は、ポンプに代表される空気供給装置又は空気吸引装置である。

空気孔１２から空気を噴出することで、パネルを浮遊状態で支持することができる。また、一部の空気孔１２から空気を噴出し、他の一部の空気孔から空気を吸引することでもパネルを浮遊状態で支持することができる。これらの方式は領域によって使い分けることも可能である。例えば、パネル搬入領域Ｒ１及びパネル搬出領域Ｒ３では、空気孔１２から空気を噴出することのみでパネルを支持しており、通常のエア浮上ステージとされる。一方、塗布領域Ｒ２１では、一部の空気孔１２から空気を噴出すると共に、他の一部の空気孔から空気を吸引するという、例えばベルヌーイチャック方式によりパネルを支持しており、精密エア浮上ステージとされる。ここで言う精密エア浮上ステージとは、±５〜３０μｍの精度でパネルの浮上高さを制御可能なものとされる。なお、半硬化領域Ｒ２２を設ける場合、この領域は通常のエア浮上ステージでよい。

パネル搬入領域Ｒ１及びパネル搬出領域Ｒ３における空気を噴出する空気孔１２の孔径は例えば直径１．０〜５．０ｍｍ程度とされる。一方、塗布領域Ｒ２１における空気を吸引する空気孔１２の孔径は例えば直径１.０〜５．０ｍｍ程度とされる。また、塗布領域Ｒ２１における空気を噴出する空気孔１２は、例えばポーラスな多孔質体で構成された浮上ユニットの内部に形成された無数の孔とされる（平均直径は１．０〜５．０μｍ）。

浮上ユニット１は、パネルの搬送方向であるＹ方向に延設されている。より詳しくは、パネル搬入領域Ｒ１からパネル搬出領域Ｒ３に渡って延設されている。したがって、処理システムＡの全領域においてパネルは非接触で支持可能である。

浮上ユニット１Ａと浮上ユニット１Ｂとは、互いに平行に延設され、かつ、Ｘ方向に離間して配置されている。浮上ユニット１Ａと浮上ユニット１ＢとのＸ方向の隙間は、後述する吸着ユニット２０Ａ、２０Ｂが移動するための移動空間Ｓを形成する。なお、本実施形態の場合、浮上ユニット１の数は２つであるが３以上でもよい。

浮上ユニット１の上面１０には、溝１１が形成されている。本実施形態の場合、１つの浮上ユニット１について溝１１は２つ形成されている。溝１１は後述する昇降ユニット３のピン３０や調整ユニット５の当接部５０の退避空間となっている。

＜搬送装置＞
搬送装置２は、浮上ユニット１上で浮遊状態で支持されているパネルを、パネル搬入領域Ｒ１からパネル搬出領域Ｒ３に渡って搬送する。搬送装置２は、複数の吸着ユニット２０Ａ及び２０Ｂ（総称するときは吸着ユニット２０という）を備える。また、搬送装置２は、複数の駆動ユニット２１Ａ及び２１Ｂ（総称するときは駆動ユニット２１という）を備える。

本実施形態の場合、吸着ユニット２０及び駆動ユニット２１はそれぞれ２つであるが３以上であってもよい。駆動ユニット２１は吸着ユニット２０に対応して設けられる。本実施形態の場合、駆動ユニット２１Ａが吸着ユニット２０Ａに対応し、駆動ユニット２１Ｂが吸着ユニット２０Ｂに対応している。

＜吸着ユニット＞
吸着ユニット２０は浮上ユニット１間の移動空間Ｓに配置されている。本実施形態の場合、吸着ユニット２０Ａ及び２０ＢはＸ方向に並べて配置されている。吸着ユニット２０は、略直方体形状の本体部２０１と、当接部２０２と、を備える。本体部２０１はパネルの下面に吸着可能な吸着部２０１ａを備える。

吸着部２０１ａは水平面をなし、その中央部に吸引孔ｖｈが形成されている。吸引孔ｖｈの数は図１中では１つだけ図示しているが複数個設けてもよい。吸引孔ｖｈは、本体部２０１内部の通路を介して不図示の空気装置に連通している。空気装置は、ポンプに代表される空気吸引装置である。吸引孔ｖｈから空気を吸引することでパネルを吸着保持することが可能となる。

当接部２０２は、パネルの端縁に当接可能である。本実施形態の場合、当接部２０２は本体部２０１の上部に支持軸を介して回転自在に設けられたローラである。当接部２０２は主として、パネル搬入時にパネルの姿勢を調整する際に、パネル端縁（上流側の端縁）に当接する。吸着部２０１ａのＺ方向の位置は、当接部２０２のＺ方向下端から上端までの範囲内に設定されている。このため、吸着部２０１ａは、当接部２０２の支持軸が立設している部位よりも一段高い位置に位置している。

＜駆動ユニット＞
駆動ユニット２１は、吸着ユニット２０に接続して設けられ、Ｙ方向に往復移動させる。既に述べたとおり、各駆動ユニット２１は各吸着ユニット２０に対応して設けられるため、各吸着ユニット２０は独立して移動可能である。

駆動ユニット２１は、スライダ２１１と、レール２１２と、ベルト伝動機構２１３と、昇降機構２１４と、を備える。

レール２１２は移動空間Ｓの下方においてＹ方向に直線的に延設されている。レール２１２は吸着ユニット２０の移動軌跡を規定する。スライダ２１１はレール２１２と係合し、レール２１２に案内されてＹ方向に移動可能である。

昇降機構２１４は、スライダ２１１上に搭載されている。昇降機構２１４は例えばエアシリンダ、電動シリンダ、電磁ソレノイド等のアクチュエータをその駆動源として含む。吸着ユニット２０の本体部２０１は昇降機構２１４に搭載されており、昇降機構２１４により昇降される。昇降機構２１４は、各駆動ユニット２０に設けられており、吸着ユニット２０Ａ、２０Ｂはそれぞれ独立して昇降可能である。

吸着ユニット２０は、吸着部２０１ａが浮上ユニット１の上面１０よりも上方に位置する吸着位置と、吸着ユニット２０全体が上面１０よりも下方に位置する退避位置との間で昇降される。吸着位置は吸着部２０１ａをパネルに吸着保持させる位置であり、吸着部２０１ａは上面１０よりも僅かに上方に位置する。図２及び図３は吸着ユニット２０が退避位置にある場合を示している。吸着ユニット２０の最上部には当接部２０２が位置しているが、退避位置にある場合、当接部２０２は上面１０よりも下方に位置する。

ベルト伝動機構２１３は、モータ２１３０と、駆動プーリ２１３１と、従動プーリ２１３２と、無端ベルト２１３３と、接続部材２１３４と、を備える。

モータ２１３０はベルト伝動機構２１３の駆動源であり、駆動プーリ２１３１を回転駆動する。駆動プーリ２１３１はモータ２１３の出力軸に取り付けられており、Ｘ方向を回転軸方向として回転される。従動プーリ２１３２はＸ方向を回転軸方向として回転自在に支持されている。駆動プーリ２１３１と従動プーリ２１３２とはＹ方向に離間して配置されており、駆動プーリ２１３１と従動プーリ２１３２との間に領域Ｒ１〜Ｒ３が位置している。無端ベルト２１３３は駆動プーリ２１３１と従動プーリ２１３２とに巻き回されている。駆動プーリ２１２１の回転により無端ベルト２１３３が循環的に走行する。無端ベルト２１３３の直線部分はＹ方向に延びている。

接続部材２１３４は、無端ベルト２１３３とスライダ２１１とを接続する。無端ベルト２１３３を走行することで、接続部材２１３４を介してスライダ２１１に移動力が作用される。これにより、吸着ユニット２０をＹ方向に移動することができる。そして、モータ２１３の出力軸の回転方向を切り替えると無端ベルト２１３３の走行方向が切り替わる。したがって、吸着ユニット２０をＹ方向に往復移動することができる。

本実施形態では、吸着ユニット２０を移動させる機構として、ベルト伝動機構を採用したが、これに限られない。例えば、ボールねじ機構等、他の機構も採用可能である。

＜昇降ユニット＞
昇降ユニット３は、外部の装置と処理システムＡとの間でパネルの受け渡しを行うユニットである。本実施形態の場合、昇降ユニット３は合計４台設けられている。そのうちの２台はパネル搬入領域Ｒ１において、移動空間Ｓを挟んでＸ方向に並べて配置されており、互いに同期的に制御される。残りの２台はパネル搬出領域Ｒ３において、移動空間Ｓを挟んでＸ方向に並べて配置されており、互いに同期的に制御される。

各昇降ユニット３は、複数のピン３０と、支持部材３１と、昇降機構３２と、を備える。複数のピン３０は支持部材３１に支持されて上方向に延びている。各ピン３０は、浮上ユニット１の溝１１に設けられた上下方向の貫通孔に挿入されている。複数のピン３０は等長であり、それらの先端（上端）は同一平面上に位置している。

支持部材３１は浮上ユニット１の下方に位置し、ピン３０の下端が固定されている。昇降機構３２は、例えばエアシリンダ、電動シリンダ、電磁ソレノイド等のアクチュエータをその駆動源として含み、支持部材３１を昇降する。支持部材３１の昇降によりピン３０も昇降する。ピン３０は、その先端が浮上ユニット１の上面１０よりも上方に突出した上昇位置と、ピン３０の先端が浮上ユニット１の上面１０よりも下方に位置する降下位置と、の間で昇降される。図２及び図３はピン３０が降下位置にある場合を示しており、ピン３０の先端は溝１１内に位置している。

＜調整ユニット＞
調整ユニット４及び５は、パネル搬入領域Ｒ１においてパネルの姿勢を調整してその位置決めを行う。調整ユニット４はＸ方向におけるパネルの姿勢を調整し、調整ユニット５はＹ方向におけるパネルの姿勢を調整する。

調整ユニット４はパネル搬入領域Ｒ１に２台設けられており、浮上ユニット１Ａ、１Ｂに隣接して、かつ、挟み込むように、それぞれ配置されている。調整ユニット４は、ベース部４１と、アーム部４２及び４３と、当接部４４とを備えた水平多関節ロボットであり、ベース部４１が支持部材４５に支持されている。

アーム部４２の一端はベース部４１に回動自在に支持されている。アーム部４２の他端とアーム部４３の一端とは互いに回動自在に接続されている。アーム部４３の他端には支持軸を介して当接部４４が回転自在に設けられている。当接部４４は、パネルの端縁に当接可能であり、本実施形態の場合、Ｚ方向を回転軸方向とする軸体の先端に回転自在に設けられたローラである。２台の調整ユニット４の各当接部４４は、Ｘ方向に延びる同一直線上に位置している。

ベース部４１とアーム部４２及び４３の内部には、アーム部４２及び４３をＸ方向に伸縮させる駆動機構が設けられている。当接部４４の下端は、浮上ユニット１の上面１０よりも僅かに高い位置に設定されており、アーム部４２及び４３の伸退により、当接部４４、４４は、浮上ユニット１Ａ、１ＢからＸ方向外側（図２中では左右両側）にそれぞれ離れた退避位置から、浮上ユニット１Ａ、１Ｂの上方の位置決め位置へＸ方向に直線的に往復移動可能である。２台の調整ユニット４の各当接部４４がパネルの対向する両端縁（パネル搬送方向と直交する方向における両端縁）に当接することにより、パネルのＸ方向の姿勢調整及び位置決めを行うことができる。アーム部４２及び４３の進退量は可変であり、異なるサイズのパネルの姿勢調整及び位置決めが可能である。位置決め位置はパネルのサイズに応じて設定される。図１及び図２は当接部４４が退避位置に位置している場合を示している。

調整ユニット５はパネル搬入領域Ｒ１に２台設けられており、その一方は浮上ユニット１Ａに、他方は浮上ユニット１Ｂに、それぞれ配置されている。調整ユニット５は、当接部５０とロッド５１と昇降機構５２とを備える。

当接部５０は、パネルの端縁（下流側端縁）に当接可能であり、本実施形態の場合、Ｚ方向を回転軸方向とするロッド５１の先端に回転自在に設けられたローラである。２台の調整ユニット５の各当接部５０は、Ｘ方向に延びる同一直線上に位置している。

ロッド５１はその上端において当接部５０を回転自在に支持する。ロッド５１はその下端を昇降機構５２に支持されて上方向に延びている。当接部５０及びロッド５１は浮上ユニット１の溝１１に設けられた上下方向の貫通孔に挿入されている。

昇降機構５２は、浮上ユニット１の下方に配置されており、ロッド５１を昇降する。昇降機構５２は、例えばエアシリンダ、電動シリンダ、電磁ソレノイド等のアクチュエータをその駆動源として含み、当接部５０及びロッド５１を昇降する。当接部５０は、浮上ユニット１の上面１０よりも上方に位置する位置決め位置と、当接部５０が溝１１内に退避した退避位置との間で昇降される。２台の調整ユニット５の各当接部５０及び吸着ユニット２０の各当接部２０２がパネルの対向する両端縁（パネル搬送方向における両端縁）に当接することにより、パネルのＹ方向の姿勢調整及び位置決めを行うことができる。図３は当接部５０及びロッド５１が退避位置にある場合を示している。当接部５０は溝１１内に位置している。

＜塗布装置＞
塗布装置６は塗布領域Ｒ２１の上方に設けられており、パネルの上方からパネル表面に液体を吐出して塗布し、液膜を形成する。塗布装置６は、ノズル（スリットノズル）６０の底部に形成された開口部から液体をパネル表面に吐出する。本実施形態の場合、開口部は、Ｘ方向に延びる矩形開口であり、幕状に液体を連続的に吐出することができる。パネルを搬送しながら液体を吐出することでパネル表面に液膜を形成することができる。本実施の形態において、吐出する液体は、光硬化樹脂（ＯＣＲ）を想定しているが、その他にも、液膜がパネル上にとどまっていられる程度の粘度を有する液体、例えば接着剤や機能性膜体の原料樹脂等が挙げられる。

＜昇降装置＞
昇降装置７は２台設けられており、塗布装置６の各端部を支持して、ノズル６０がパネル表面から上方に離間した上昇位置と、ノズル６０がパネル表面に近接した降下位置との間で塗布装置６を昇降する。

各昇降装置７は、支柱部７１と、駆動源７２と、レール７３と、スライダ７４と、連結部材７５とを備える。支柱部７１は、上下方向に延びる中空の四角柱であり、その内部に連結部材７５を昇降する機構（例えばボールねじ機構）を備える。駆動源７２は支柱部７１の上面に固定されており例えばモータである。駆動源７２は支柱部７１内の機構を駆動して連結部材７５を昇降する。

レール７３は支柱部７１の一側面に固定されており、上下方向に延びている。スライダ７４はレール７３と係合し、レール７３の案内により上下方向に移動可能である。塗布装置６のＹ方向の一側面はスライダ７４、７４に固定されており、スライダ７４、７４を介してレール７３の案内により上下方向に移動自在である。

連結部材７５は塗布装置６と支柱部７１内の機構とを連結する。駆動源７２により支柱部７１内の機構を駆動することで塗布装置６が昇降することになる。このように塗布装置６は昇降可能であるが、Ｙ方向及びＸ方向には移動不能に固定されている。

＜半硬化装置＞
液膜に対して半硬化を行う場合、塗布領域Ｒ２１に半硬化装置８を設けてもよい。半硬化装置８は、塗布装置６よりもＹ方向の下流側に配置され、パネル表面に塗布された液体の膜を半硬化液膜に形成する。本実施形態の場合、半硬化装置８は光源８０を備える光照射装置である。光源８０は例えば液膜に紫外線を照射し、パネル表面の光硬化樹脂の液膜を半硬化させてフィルム状にする。ここでは光の照射により液膜を半硬化させるべく、光源８０を用いる場合を例挙げて説明を行ったが、これに限定するものではない。液膜に半硬化を生じせしめる条件に応じて、例えば、冷風、熱風、水蒸気等の気体や、電磁波、超音波等の発生器を用いてもよい。

半硬化装置８はＸ方向に延設されており、その各端部は支柱８１により支持されている。半硬化装置８はＸ、Ｙ、Ｚのいずれの方向にも移動不能としているが例えば昇降してもよい。

＜制御装置＞
処理システムＡは、上述した各装置、各ユニットを制御する制御装置９を備える。図４はそのブロック図である。

制御装置９は、ＣＰＵ等の処理部９０と、ＲＡＭ、ＲＯＭ等の記憶部９１と、外部デバイスと処理部９０とをインターフェースするインターフェース部９２と、を含む。インターフェース部９２には、ホストコンピュータとの通信を行う通信インターフェースも含まれる。ホストコンピュータは、例えば、処理システムＡが配置された製造設備全体を制御するコンピュータである。

処理部９０は記憶部９１に記憶されたプログラムを実行し、各種のセンサ９４の検出結果や上位のコンピュータ等の指示に基づいて、各種のアクチュエータ９３を制御する。各種のセンサ９４には、例えば、吸着ユニット２０の位置を検出するセンサ等、各種のセンサが含まれる。各種アクチュエータ９３には、例えば、浮上ユニット１用の空気装置、吸着ユニット２０用の空気装置、モータ２１３０、駆動源７２、昇降機構３２、５２、２１４、調整ユニット４、塗布装置６、半硬化装置８等が含まれる。

＜制御例＞
処理部９０の制御例について図５〜図１１を参照して説明する。ここでは処理システムＡへのパネルの搬入、パネルの搬送、光硬化樹脂の塗布、光硬化樹脂の半硬化、及び、パネルの搬出という一連の動作について説明する。

図５の状態ＳＴ１は外部の装置によりパネル搬入領域Ｒ１に方形のパネルＰが搬入される直前の状態を示している。パネル搬入領域Ｒ１に設けられた２台の昇降ユニット３は、各ピン３０が上昇位置に位置している。吸着ユニット２０はパネル搬入領域Ｒ１の上流端の位置（初期位置という）において退避位置に位置している。調整ユニット４の当接部４４及び調整ユニット５の当接部５０は退避位置に位置している。浮上ユニット１の空気孔１２から空気が噴出される。

図５の状態ＳＴ２は外部の装置によりパネル搬入領域Ｒ１にパネルＰが搬入された状態を示している。パネルＰは水平姿勢で複数のピン３０上に載置される。その後、図５の状態ＳＴ３に示すようにパネル搬入領域Ｒ１に設けられた２台の昇降ユニット３は、各ピン３０を降下位置に降下する。これによりパネルＰが複数のピン３０から浮上ユニット１に移載される。このとき、パネルＰは浮上ユニット１の上面１０に密着するのではなく、上面１０から若干浮き上がった浮遊状態で支持される。

次に、パネルＰの姿勢調整及び位置決めを行う。パネルＰの搬送には吸着ユニット２０Ａ、２０Ｂのいずれか一方（ここでは吸着ユニット２０Ａ）を用い、吸着ユニット２０Ｂは用いない。図６の状態ＳＴ１１に示すように、吸着ユニット２０Ａが吸着位置に上昇される。吸着孔ｖｈからの空気の吸引はこの段階では行わず、したがって、パネルＰは吸着ユニット２０Ａには吸着されていない。吸着ユニット２０Ｂは退避位置のままである。２台の調整ユニット５の各当接部５０が位置決め位置に上昇される。

次に、図７のＳＴ１２に示すように２台の調整ユニット４が駆動される。２台の調整ユニット４の各アーム部４２及び４３が伸長し、当接部４４が位置決め位置に移動する。位置決め位置における当接部４４間のＸ方向の離間距離は、パネルＰのＸ方向の幅に略等しい。このため、パネルＰの姿勢が乱れていた場合は、パネルＰの側縁に当接部４４に当接し、姿勢及び位置が調整される。

次に、駆動ユニット２１Ａを駆動して、図６及び図７の状態ＳＴ１３に示すように、吸着ユニット２０ＡをパネルＰのサイズに応じて設定された距離だけＹ方向に移動して停止する。このとき、吸着ユニット２０Ａの当接部２０２がパネルＰの搬送方向上流側端縁（搬送方向後端縁）に当接し、パネルＰがＹ方向に移動する。吸着ユニット２０Ａの停止時における当接部２０２と当接部５０とのＹ方向の離間距離は、パネルＰのＹ方向の幅に略等しい。このため、パネルＰの姿勢（水平方向におけるパネルＰの傾き）が乱れていた場合は、パネルＰの搬送方向下流側端縁（搬送方向先端縁）が当接部５０に当接し、姿勢及び位置が調整される。

以上により、パネルＰの姿勢調整及び位置決めが完了する。この段階で、図８の状態ＳＴ２１に示すように吸着ユニット２０Ａの吸着孔ｖｈからの空気の吸引を行い、吸着部２０１ａにパネルＰを吸着保持させる。２台の調整ユニット４の各アーム部４２及び４３を退行させ、当接部４４を退避位置に戻す。

調整ユニット５については、当接部５０をそのまま降下するとパネルＰの端縁を傷つける可能性がある。そこで、図８の状態ＳＴ２２に示すように、吸着ユニット２０Ａを後退させ、パネルＰを当接部５０から離間させる。その後、当接部５０を退避位置に降下させる。

次に、パネルＰに光硬化樹脂を塗布する工程に移る。図９の状態ＳＴ３１に示すように塗布装置６を降下位置に降下させる。続いて吸着ユニット２０Ａをパネル搬送方向下流側に向かって走行させ、パネルＰを塗布装置６へ搬送する。図９の状態ＳＴ３２に示すように、パネルＰを塗布装置６の開口部６０に臨ませて搬送し、開口部６０から光硬化樹脂を吐出する。パネルＰの搬送速度と、光硬化樹脂の吐出量及び粘度等によって、パネルＰの表面の液膜の厚さが調節される。パネルＰの塗布領域後端が開口部６０を完全に通過する直前に塗布装置６からの光硬化樹脂の吐出を停止し、吸着ユニット２０Ａの走行速度を徐々に遅くすると共に塗布装置６を上昇位置に向けて徐々に上昇する。

次に、パネルＰの表面に塗布された光硬化樹脂の液膜を半硬化する工程に移る。図１０の状態ＳＴ４１に示すように、塗布層装置６の塗布領域Ｒ２１を通過後のパネルＰに対して、吸着ユニット２０Ａをパネル搬送方向下流側に向かって更に走行させ、光硬化樹脂の液膜が形成されたパネルＰを半硬化装置８へ搬送する。半硬化装置８の光源８０を駆動して紫外線の照射を開始する。図１０の状態ＳＴ４２に示すように吸着ユニット２０ＡをＹ方向に移動して、パネルＰを半硬化装置８の下方で搬送することで光硬化樹脂の液膜に紫外線が照射される。光硬化樹脂の硬化の程度はパネルＰの搬送速度と光源８０による紫外線の光量及び距離によって調節される。

この段階では、パネル搬入領域Ｒ１が空きになっている。したがって、図１０の状態ＳＴ４２に示すように次のパネルＰが外部の装置からパネル搬入領域Ｒ１に搬入される。搬入時の動作は図５を参照して説明したとおりである。パネル搬入領域Ｒ１へのパネルＰの搬入のタイミングは、パネルＰがパネル搬入領域Ｒ１（当接部５０）を完全に通過した後であればいつでもよく、タクトタイムに応じて設定される。

パネルＰが半硬化装置８を通過すると光源８０の駆動を停止する。パネルＰは図１１の状態ＳＴ５１に示すようにパネル搬出領域Ｒ３へ搬送され、このタイミングで吸着ユニット２０Ａの移動と吸着孔ｖｈからの吸引を停止する。パネル搬出領域Ｒ３に配置された２台の昇降ユニット３を駆動してそのピン３を上昇位置に上昇する。これにより、浮上ユニット１にてエア浮上されるパネルＰが、ピン３に移載される。また、吸着ユニット２０Ａは退避位置に降下された後、図１１の状態ＳＴ５２に示すように初期位置に戻るように移動される。ピン３に移載されたパネルＰは外部の装置（パネル移載装置）により搬出されることになる。

塗布終了からパネル搬出までの一連の動作に並行して、図１１の状態ＳＴ５１に示すように、パネル搬入領域Ｒ１に搬入された次のパネルＰに対して、吸着ユニット２０Ｂを用いて、図６及び図７を参照して説明したパネルＰの姿勢調整と位置決めが並行して行われる。

その後、吸着ユニット２０Ｂに吸着保持されたパネルＰに対しては光硬化樹脂を塗布する工程が実行される。

以降、同様の手順で、吸着ユニット２０Ａと吸着ユニット２０Ｂとを交互にパネルＰの搬送に用いて複数のパネルＰを連続的に処理することになる。

このように本実施形態の処理システムＡでは、複数のパネルＰを連続的に処理することができる。しかも、吸着ユニット２０Ａと吸着ユニット２０Ｂとを交互にパネルＰの搬送に用いることで、先行するパネルＰの搬出前に、後続のパネルＰの搬入を行うことができ、塗布作業の作業効率を向上することができる。パネルＰの搬送は、浮上ユニット１によって非接触で支持しながら行うので、パネルＰに傷がつくことも防止できる。

吸着ユニット２０は、パネル搬入領域Ｒ１〜パネル搬出領域Ｒ３に亘って移動可能であるので、パネルの搬入からパネルの処理及びパネルの搬出までを１つの搬送ラインで行える。パネルの搬入から搬出までの間、吸着ユニット２０を停止することなく移動し、パネルＰを停止することなく搬送することも可能である。

吸着ユニット２０はパネルＰの下面を吸着するので、吸着するパネルＰのサイズを問わず保持でき、多サイズのパネルに対応可能である。特に、本実施形態では、移動空間Ｓが浮上ユニット１Ａと浮上ユニット１Ｂとの間に形成されているため、吸着ユニット２０は浮上ユニット１Ａと浮上ユニット１Ｂの全体のＸ方向の中央部に位置することになる。このため、パネルＰの吸着位置がパネルＰの幅方向（Ｘ方向）の中央部付近となる。パネルＰのサイズに関わらず、パネルＰの中央位置は常に一定であるため、この中央位置をパネルＰの吸着位置とすることで、パネルＰのサイズが変わっても、変わりなく処理することができる。

また、大きなサイズのパネルＰを搬送する場合には吸着ユニット２０Ａと吸着ユニット２０Ｂとの双方を用い、これらを同期的に制御してもよい。吸着保持力が２倍となり、より安定した搬送が可能となる。

＜第２実施形態＞
第１実施形態では、移動空間Ｓを１列としたが２列以上としてもよい。図１２（Ａ）及び（Ｂ）はその一例を示す。

図１２（Ａ）の例では、３台の浮上ユニット１Ａ〜１ＣをＸ方向に離間して配置している。浮上ユニット１Ａと浮上ユニット１Ｂとの間に移動空間Ｓ１が形成され、浮上ユニット１Ｂと浮上ユニット１Ｃとの間に移動空間Ｓ２が形成されている。移動空間Ｓ１には吸着ユニット２０Ａが配置され、移動空間Ｓ２には吸着ユニット２０Ｂが配置されている。

図１２（Ｂ）の例では、４台の浮上ユニット１Ａ〜１ＤをＸ方向に離間して配置している。浮上ユニット１Ａと浮上ユニット１Ｂとの間に移動空間Ｓ１が形成され、浮上ユニット１Ｂと浮上ユニット１Ｃとの間に移動空間Ｓ２が形成されている。浮上ユニット１Ｃと浮上ユニット１Ｄとの間に移動空間Ｓ３が形成されている。

吸着ユニット２０は４台設けられている。吸着ユニット２０Ａは移動空間Ｓ１に配置されている。吸着ユニット２０Ｂと吸着ユニット２０Ｃは移動空間Ｓ２に配置されている。吸着ユニット２０Ｄは移動空間Ｓ３に配置されている。各吸着ユニット２０Ａ〜２０Ｄにはそれぞれ駆動ユニット２１が設けられ、互いに独立して移動可能である。１枚のパネルＰの搬送について、吸着ユニット２０を１つ用いてもよいし、２つ以上用いてもよい。

＜第３実施形態＞
良好な液膜を形成するためには、ノズル６０の開口部に余剰の液が付着しないよう、また、開口部における液の付着状態が均一になるように調整されることが好ましい。また、半硬化装置８の光源８０からの光が塗布装置６の開口部に到達すると、開口部近傍の液が硬化する場合がある。よって、塗布装置６と半硬化装置８との間は遮光されることが好ましい。図１３はこれらを行う補助ユニット１００を設けた例を示す。

補助ユニット１００は塗布装置６と半硬化装置８との間に配置されており、Ｙ方向に延びる一対のレール１１０上を、矢印ｄ１で示すようにＹ方向に自走可能な門型のユニットである。補助ユニット１００はワイピング機構１０１と、シャッタ１０２の昇降機構とを備える。ワイピング機構１０１はパッド１０１ａをＸ方向に往復移動させる。シャッタ１０２は塗布装置６と半硬化装置８との間を遮光するための部材である。シャッタ１０２の降下時にはその下端が浮上ユニット１の上面１０よりも下に下がり塗布装置６と半硬化装置８との間を遮光する。上昇時にはその下端が浮上ユニット１の上面１０から離間してパネルＰの通過を許容する。本実施の形態では、ワイピング機構１０１と、シャッタ１０２の昇降機構とが一体に設けた場合を例に挙げて説明を行ったが、これらは別々に設けても良いことは言うまでもない。

補助ユニット１００の動作について説明する。補助ユニット１００は、塗布装置６が図９の状態ＳＴ３１で示したように降下する前に、開口部における液付着状態の調整を行う。まず、上昇位置にある塗布装置６側に移動してパッド１０１ａを開口部のＸ方向一端に接触させる。続いてパッド１０１ａをＸ方向に移動して開口部のＸ方向他端まで移動させる。これにより、開口部に付着している余剰の液体がパッド１０１ａで拭き取られ、かつ、均一な液付着状態とされる。その後、補助ユニット１００は塗布装置６から離間する方向に移動し、塗布装置６による塗布作業が開始される。

パネルＰに対する液体の塗布が完了するとパネルＰは半硬化装置８へ搬送される。補助ユニット１００はパネルＰがシャッタ１０２の下方を通過するとシャッタ１０２を降下して遮光する。その後、半硬化装置８の光源８０が駆動され紫外線が照射される。シャッタ１０２の存在により塗布装置６は紫外線から遮光される。パネルＰが半硬化装置８を通過して光源８０の駆動が停止されると、シャッタ１０２は上昇される。

Claims (8)

1. パネルの表面に液体を塗布する開口部を備えた塗布装置と、
   前記パネルの搬送方向における前記塗布装置よりも上流側のパネル搬入領域から前記塗布装置よりも下流側のパネル搬出領域に渡って延設され、前記パネルを非接触で支持する複数の浮上ユニットと、
   前記パネルを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置の前記開口部に臨ませて搬送する搬送装置と、
   前記搬送装置及び前記塗布装置を制御する制御装置と、を備え、
   前記塗布装置は、前記パネルの搬送方向に対して固定して設けられ、
   前記搬送装置は、
   前記パネルの下面を吸着する第１及び第２吸着ユニットと、
   前記第１吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第１駆動ユニットと、
   前記第２吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第２駆動ユニットと、を備え、
   前記複数の浮上ユニットは、前記搬送方向と直交する方向に離間して設けられ、
   前記第１及び第２吸着ユニットは、前記複数の浮上ユニット間であって、前記パネルの幅方向の中央部を吸着する位置に、前記搬送方向と直交する方向に並べて配置され、
   前記制御装置は、
   先行パネルを前記パネル搬入領域に搬入した後、前記第１吸着ユニットにて前記先行パネルを吸着し、前記第１駆動ユニットにより前記第１吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記先行パネルを搬送し、
   前記先行パネルが前記パネル搬入領域を完全に通過した後、該パネル搬入領域に後続パネルを搬入し、その後、前記第２吸着ユニットにて前記後続パネルを吸着し、前記第２駆動ユニットにより前記第２吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記後続パネルを搬送し、
   前記先行パネルを前記パネル搬出領域に搬送した前記第１吸着ユニットを、前記第２吸着ユニットによる前記後続パネルの搬送中に前記パネル搬出領域から前記パネル搬入領域へと戻し、
   前記パネル搬入領域に搬入した別のパネルを、前記パネル搬入領域に戻された前記第１吸着ユニットにて吸着する、
   ことを特徴とする処理システム。
2. 請求項１記載の処理システムであって、
   前記塗布装置を前記パネルに対して昇降させる昇降装置を更に備え、
   前記制御装置は、前記塗布装置、前記搬送装置、前記複数の浮上ユニット、及び前記昇降装置の駆動を制御し、
   前記塗布装置は、前記開口部として前記搬送方向と直交する方向に延びるスリットノズルを備えた塗布装置である、
   ことを特徴とする処理システム。
3. 請求項１記載の処理システムであって、
   前記第１及び第２吸着ユニットは、
   前記パネルに吸着可能な吸着部を備えた本体部と、
   前記本体部の上部に設けられ、前記パネルの搬送方向上流側端縁に当接可能な当接部と、を備える、
   ことを特徴とする処理システム。
4. 請求項１記載の処理システムであって、
   前記パネル搬入領域において前記パネルの前記搬送方向及び前記搬送方向と直交する方向における姿勢を調整する調整ユニットを備える、
   ことを特徴とする処理システム。
5. 請求項１記載の処理システムであって、
   前記パネル搬入領域に設けられ、前記パネルの受け渡しを行う第１昇降ユニットと、
   前記パネル搬出領域に設けられ、前記パネルの受け渡しを行う第２昇降ユニットと、を備え、
   前記第１及び第２昇降ユニットは、それぞれ、
   前記パネルを支持する複数のピンと、
   前記複数のピンの先端が前記浮上ユニットよりも上方に突出した上昇位置と、前記複数のピンの先端が前記浮上ユニットの上面よりも下方に位置する降下位置と、の間で昇降する昇降機構と、を備える、
   ことを特徴とする処理システム。
6. 請求項１記載の処理システムであって、
   前記塗布装置よりも前記搬送方向の下流側に配置され、前記パネルの表面に塗布された液体の膜を半硬化液膜に形成する半硬化装置を、更に備える、
   ことを特徴とする処理システム。
7. 請求項３記載の処理システムであって、
   前記吸着部の上面が前記当接部の上面よりも低い位置に位置している、
   ことを特徴とする処理システム。
8. 搬送装置によりパネルをパネル搬入領域からパネル搬出領域へ搬送する搬送工程と、
   前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間の塗布領域にて、塗布装置により前記パネルの表面に液体を塗布する塗布工程と、
   を含む処理方法であって、
   前記搬送工程では、前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域に渡って延設された複数の浮上ユニットによって非接触で支持された前記パネルを搬送し、
   前記搬送装置は、
   前記パネルの下面を吸着する第１及び第２吸着ユニットと、
   前記第１吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第１駆動ユニットと、
   前記第２吸着ユニットを昇降させると共に前記パネル搬入領域と前記パネル搬出領域との間で往復移動させる第２駆動ユニットと、を備え、
   前記複数の浮上ユニットは、前記パネルの搬送方向と直交する方向に離間して設けられ、
   前記第１及び第２吸着ユニットは、前記複数の浮上ユニット間であって、前記パネルの幅方向の中央部を吸着する位置に、前記パネルの搬送方向と直交する方向に並べて配置され、
   前記搬送工程では、
   先行パネルを前記パネル搬入領域に搬入した後、前記第１吸着ユニットにて前記先行パネルを吸着し、前記第１駆動ユニットにより前記第１吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記先行パネルを搬送し、
   前記先行パネルが前記パネル搬入領域を完全に通過した後、該パネル搬入領域に後続パネルを搬入し、その後、前記第２吸着ユニットにて前記後続パネルを吸着し、前記第２駆動ユニットにより前記第２吸着ユニットを前記パネル搬入領域から前記パネル搬出領域へ、前記塗布装置においても停止させることなく移動させて前記後続パネルを搬送し、
   前記先行パネルを前記パネル搬出領域に搬送した前記第１吸着ユニットを、前記第２吸着ユニットによる前記後続パネルの搬送中に前記パネル搬出領域から前記パネル搬入領域へと戻し、
   前記パネル搬入領域に搬入した別のパネルを、前記パネル搬入領域に戻された前記第１吸着ユニットにて吸着する、
   ことを特徴とする処理方法。

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