JP2005132626A - 搬送装置、塗布システム、及び検査システム - Google Patents

Abstract

【課題】搬送に必要な推力の低減を図り、且つ被搬送物のたわみを抑制することが可能な搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムを提供する。
【解決手段】搬送装置１２は、被搬送物の搬送方向Ｘに延びる主面１６ａを有するベース１６と、搬送方向Ｘに延びるガイド部材１８と、ガイド部材１８にガイドされて搬送方向Ｘに移動可能な移動部材２０と、移動部材２０に固定され主面１６ａから間隙を於いて被搬送物２８を保持する保持部材２４と、ベース１６上の搬送方向Ｘにおける一部領域において、搬送方向Ｘに搬送される被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うための気体吐出吸引機構２６と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、ガラス基板などの被搬送物を搬送する搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムに関する。

ガラス基板上にフォトレジストなどの塗布液を塗布するための塗布システムとして、例えば特許文献１に開示されているものがある。この塗布システムは、塗布液を塗布するための塗布装置と、塗布装置に対してガラス基板を移動させるための搬送装置と、を備えている。搬送装置は、ガラス基板を全面で吸着して保持するベースを有し、ガラス基板を吸着した状態でベースごと移動させることで、塗布装置に対してガラス基板を移動させる。

なお、ガラス基板はベース上に固定したままで、ガラス基板に対して塗布装置を移動させるようにした塗布システムも開発されている（例えば、特許文献２参照）。
特開平８−２４３４７６号公報 特開２００２−２００４５０号公報

しかしながら、近年、液晶用のガラス基板のサイズが大型化しているため、上記した特許文献１に開示の搬送装置では、ベースの重量が重くなり過ぎ、搬送に必要な推力が増大して、ガラス基板の搬送が困難になるという問題があった。また、ガラス基板に対して塗布装置を移動させるタイプの特許文献２に開示の塗布システムでは、またガラス基板の大型化によりガントリが大きくなって重量の増大を招くため、十分な移動精度が取れなくなるという問題があった。

そこで、ガラス基板の一部を保持してガラス基板自体を搬送することを考えたが、この場合、均一な塗布を図るためには、ガラス基板のたわみを抑制する必要がある。

本発明は、上記した事情に鑑みて為されたものであり、搬送に必要な推力の低減を図り、且つ被搬送物のたわみを抑制することが可能な搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムを提供することを目的とする。

本発明に係る搬送装置は、（１）被搬送物の搬送方向に延びる主面を有するベースと、（２）搬送方向に延びるガイド部材と、（３）ガイド部材にガイドされて搬送方向に移動可能な移動部材と、（４）移動部材に固定され主面から間隙を於いて被搬送物を保持する保持部材と、（５）ベース上の搬送方向における一部領域において、搬送方向に搬送される被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うための気体吐出吸引機構と、を備えることを特徴とする。

この装置によれば、保持部材により被搬送物を保持し、ガイド部材により移動部材を搬送方向にガイドして移動させることで、被搬送物が搬送方向に搬送される。このとき、ベース上の搬送方向における一部領域において、気体吐出吸引機構により被搬送物に対して気体の吐出及び吸引を行うことができる。このように、この搬送装置では、被搬送物を移動させるときにベースごと移動させる必要がないため、搬送に必要な推力の低減を図ることができる。また、搬送経路上の一部領域において被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うことができるため、当該一部領域において被搬送物のたわみを抑制することができる。

本発明に係る搬送装置では、保持部材は、被搬送物を吸着して保持可能であることを特徴としてもよい。このようにすれば、被搬送物を確実に保持することができる。

本発明に係る搬送装置では、ガイド部材は一軸で構成されていることを特徴としてもよい。このようにすれば、被搬送物は一方の側縁の側から保持される。

本発明に係る搬送装置では、保持部材は、ベースの主面の法線方向についてバネ性を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、ベースの主面の法線方向について被搬送物の高さ位置を微調整することができ、被搬送物が気体吐出吸引機構に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。

本発明に係る搬送装置では、保持部材は、ベースの主面の法線方向及び搬送方向の双方に直交する方向についてバネ性を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、ガイド部材を二軸で構成するような場合において、ガイド部材の歪みにより両ガイド部材の間隔が変動しても、保持部材に保持されている被搬送物が破損したり、保持部材からの保持が外れたり、ズレたりするおそれを低減することができる。

本発明に係る搬送装置は、ベースの主面と平行な面内における、被搬送物の回転を是正する回転是正手段を備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、所定作業時に被搬送物の回転を嫌う系において、作業を好適に行うことが可能となる。

本発明に係る搬送装置は、ベース上の一部領域以外の領域において、ベース側から被搬送物に向けて気体を吐出する第１の気体吐出機構を備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、保持部材にかかる重量負荷が軽減され、被搬送物の搬送が容易になる。

本発明に係る搬送装置では、被搬送物はガラス基板であることを特徴としてもよい。

本発明に係る塗布システムは、上記した搬送装置と、被搬送物に対して塗布液を塗布するための塗布装置と、を備え、吐出吸引機構は、一部領域において、対向する一対の主面を有する被搬送物の一方の主面側に気体を吐出及び吸引し、塗布装置は、一部領域において、被搬送物の他方の主面側に塗布液を塗布する、ことを特徴とする。

この塗布システムでは、ベース上の一部領域において被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うことで、当該一部領域において被搬送物のたわみを抑制し、平面度を上げた状態で塗布液を塗布することができるため、塗布液を均一に塗布することが可能となる。

本発明に係る塗布システムは、一部領域において、塗布装置よりも前段で、他方の主面側に被搬送物に対して気体を吐出する第２の気体吐出機構を備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、一部領域における被搬送物の平面度をより高めることができ、塗布液をより均一に塗布することが可能となる。

本発明に係る塗布方法は、対向する一対の主面を有する被搬送物を搬送しながら塗布液を塗布する方法である。この方法は、被搬送物に対して一方の主面側に気体を吐出及び吸引しながら、他方の主面側に塗布液を塗布することを特徴とする。

この塗布方法では、被搬送物のたわみを抑制し、平面度を上げた状態で状態で塗布液を塗布することができるため、塗布液を均一に塗布することが可能となる。

本発明に係る検査システムは、上記した搬送装置と、被搬送物の検査を行うための検査装置と、を備え、気体吐出吸引機構は、一部領域において、対向する一対の主面を有する被搬送物の一方の主面側に気体を吐出及び吸引し、検査装置は、一部領域において、被搬送物の他方の主面側から被搬送物を検査することを特徴とする。

この検査システムでは、ベース上の一部領域において被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うことで、当該一部領域において被搬送物のたわみを抑制し、平面度を上げた状態で検査することができるため、検査精度の向上を図ることが可能となる。

本発明に係る搬送装置において、保持部材は、搬送方向に沿って延びる基体部と、基体部からベースの主面の法線方向及び搬送方向の双方に直交する方向に延設された複数の支持梁部と、複数の支持梁部の先端にそれぞれ設けられており、被搬送物を吸着して保持するための吸着部と、を含む保持機構を有し、複数の支持梁部の各々は、少なくともベースの主面の法線方向についてバネ性を有すると共に、自身の軸周りにねじれ性を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、ベース上の一部領域において気体の吐出及び吸引を行うことにより、被搬送物の高さが搬送方向に異なったものになる場合であっても、被搬送物を毀損することなく、確実に保持することができる。

本発明に係る搬送装置は、移動部材及び保持部材をそれぞれ二個備え、移動部材の各々は、独立に速度制御可能に設けられており、保持部材の各々による被搬送物の保持位置が、ベースの主面の法線方向及び搬送方向の双方に直交する方向についてずれていることを特徴としてもよい。このようにすれば、二個の移動部材の移動速度を制御することで、ベースの主面と平行な面内における被搬送物の回転が是正され、所定作業時に被搬送物の回転を嫌う系において、作業を好適に行うことが可能となる。

本発明に係る保持機構は、板状体を保持する保持機構であって、所定方向に沿って延びる基体部と、基体部から所定方向と交差する方向に延設された複数の支持梁部と、複数の支持梁部の先端にそれぞれ設けられており、板状体を吸着して保持するための吸着部と、を備え、複数の支持梁部の各々は、少なくとも所定方向及び支持梁部の延設方向の双方に直交する方向についてバネ性を有すると共に、自身の軸周りにねじれ性を有することを特徴とする。この保持機構によれば、板状体の高さが上記所定方向に異なったものになる場合であっても、板状体を毀損することなく、確実に保持することができる。

本発明によれば、搬送に必要な推力の低減を図り、且つ被搬送物のたわみを抑制することが可能な搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムを提供することが可能となる。

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
（第１実施形態）
図１は、本実施形態に係る塗布システムの構成を示す斜視図である。また図２は、本実施形態に係る塗布システムの構成を示す平面図である。なお、図２においては、塗布装置１４及びガントリ４０は一点鎖線で示している。

図１及び図２に示すように、塗布システム１０は、搬送装置１２と、塗布装置１４と、を備えている。搬送装置１２は、ベース１６と、１対のガイドレール（ガイド部材）１８と、４つのスライダ（移動部材）２０と、駆動機構２２と、４つの保持部材２４と、空気吐出吸引機構（気体吐出吸引機構）２６と、を備えている。

ベース１６は、外形が直方体状をなし、床面などの水平面上に載置される。このベース１６の上面（主面）１６ａは、所定方向に延びている。このベース１６の上面１６ａの延びる方向が、ガラス基板（被搬送物）２８の搬送方向となる。ベース１６の幅は、ガラス基板２８の幅よりも大きめに設けられている。なお、以下の説明においては、図１に示すように、ベース１６の上面１６ａの延びる方向を搬送方向Ｘ、ベース１６の上面１６ａの法線方向を鉛直方向Ｚ、搬送方向Ｘ及び鉛直方向Ｚの双方に直交する方向を幅方向Ｙという。

１対のガイドレール１８は、搬送方向Ｘに延びるように、ベース１６の上面１６ａに設置されている。これら１対のガイドレール１８は、ガラス基板２８の幅よりも若干大きめの間隔を開けて、互いに平行に配置されている。

スライダ２０は、１対のガイドレール１８それぞれに２個ずつ設けられている。各スライダ２０は、ガイドレール１８にガイドされて、搬送方向Ｘに移動可能に設けられている。

駆動機構２２は、図３に示すように、固定子３０と可動子３２とを含むリニアモータ機構から構成されている。固定子３０は、一対のガイドレール１８それぞれの外側において、ガイドレール１８に沿うようにベース１６上に設けられている。可動子３２は、図１から図３に示すように、固定子３０と作用して駆動される駆動体３３と、駆動体３３の両端から搬送方向Ｘに延設され駆動体３３とスライダ２０とを連結する連結部材３７と、を含んでいる。連結部材３７は、スライダ２０の外側面にそれぞれに固定されている。これにより、各ガイドレール１８に設けられた２つのスライダ２０は、一定距離を保ったまま同期して移動する。

保持部材２４は、４つのスライダ２０の内側面にそれぞれ固定されている。保持部材２４は、図３に示すように、吸着部３４とバネ板部３６とを含んでいる。この保持部材２４は、吸着部３４でのエア引きにより、ガラス基板２８の側縁部を吸着して確実に保持する。これら保持部材２４により、ガラス基板２８はベース１６の上面１６ａから離間した状態で保持される。バネ板部３６は、鉛直方向Ｚに沿って延びる基部３６ａと、幅方向Ｙに沿って延びる屈曲部３６ｂとを含んでいる。吸着部３４は、屈曲部３６ｂ上に固定されている。

ここで、バネ板部３６の屈曲部３６ｂは、図３に示すように、鉛直方向Ｚにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、保持部材２４は鉛直方向Ｚにバネ性を有することとなり、鉛直方向Ｚについてガラス基板２８の高さ位置を微調整することができる。これにより、ガラス基板２８が気体吐出吸引機構２６に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。

また、一方のガイドレール１８上に設けられた２つのスライダ２０に固定された保持部材２４について、バネ板部３６の基部３６ａは、図３に示すように、幅方向Ｙにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、保持部材２４は幅方向Ｙにバネ性を有することとなる。その結果、ガイドレール１８が歪んでいるとき、他方のガイドレール１８側を基準として、ガラス基板２８の幅方向Ｙのズレやベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を是正することが可能となる（回転是正手段）。

空気吐出吸引機構２６は、ベース１６上であって後述する塗布装置１４の下方の塗布領域（一部領域）に設けられている。この空気吐出吸引機構２６は、図３に示すように、ガラス基板２８の下面（一方の主面）２８ａ側に空気（気体）を吐出及び吸引する。空気吐出吸引機構２６は、空気を通す複数の孔２６ａを有しており、これら複数の孔２６ａは、搬送方向Ｘ及び幅方向Ｙに規則的に配列されている。空気吐出吸引機構２６の幅方向Ｙの長さは、ガラス基板２８の幅と略同一に設けられている。空気吐出吸引機構２６の搬送方向Ｘの長さは、塗布装置１４の前後に十分な長さを採ると好ましい。一例として、搬送方向Ｘの長さが２３００ｍｍ、幅方向Ｙの長さが２０００ｍｍ、厚みが０．６ｍｍのガラス基板２８を２５０ｍｍ／ｓｅｃで搬送するとき、空気吐出吸引機構２６の搬送方向Ｘの長さは、少なくとも４００ｍｍ〜５００ｍｍ程度採ると好ましい。

塗布装置１４は、ガラス基板２８の上面（他方の主面）２８ｂ側にフォトレジスト液などの塗布液を塗布する。塗布装置１４のノズルの先端部３８は、幅方向Ｙに延びている。この塗布装置１４は、ベース１６上に設置されたガントリ４０によって、ベース１６上に所定高さで支持されている。

次に、上記した塗布システム１０を用いた塗布液の塗布方法について説明する。

まず、ベース１６上における塗布装置１４よりも前段で、４つの保持部材２４により、ガラス基板２８を幅方向Ｙの側縁部にて吸着して保持する。このとき、ガラス基板２８はベース１６の上面１６ａから離間した状態で保持されている。より詳細には、ガラス基板２８は、塗布領域において空気吐出吸引機構２６の上面から１０μｍ程度離間し、塗布装置１４のノズルの先端部３８から１００μｍ〜２００μｍ程度離間するように保持されている。

次に、駆動機構２２によりスライダ２０を移動させることで、ガラス基板２８を搬送方向Ｘに所定速度で搬送する。そして、ガラス基板２８が塗布領域に来たとき、空気吐出吸引機構２６によりガラス基板２８の下面２８ａに空気の吐出及び吸引を行う。これにより、ガラス基板２８は空気吐出吸引機構２６上で浮いた状態で、塗布領域においてたわみが矯正されて、ガラス基板２８の平面度が向上される。なお、本実施形態では、ガラス基板２８のたわみの矯正は、最大位置で１０μｍ〜１００μｍ程度のものを考えている。このとき、空気吐出吸引機構２６に設けられた複数の孔２６ａについて、図４に示すように、吸引用の孔（白丸で示す）と吐出用の孔（黒丸で示す）とが隣り合うようにして、ガラス基板２８に対して空気の吸引と吐出とを均一に行うようにすると好ましい。このようにすれば、ガラス基板２８の平面度がより一層向上される。

そして、上記の通り、塗布領域においてガラス基板２８の下面２８ａに空気の吐出及び吸引を行うと同時に、塗布装置１４によりガラス基板２８の上面２８ｂに塗布液を塗布する。ここで、ガラス基板２８の平面度は高められているため、ガラス基板２８の上面２８ｂに塗布液を均一に塗布することができる。このとき、図５に示すように、空気吐出吸引機構２６の上方であって塗布装置１４の前段に隣接するように空気吐出機構（第２の気体吐出機構）４２を設け、塗布領域における塗布の前段でガラス基板２８の上面２８ｂに空気を吐出すると好ましい。このようにすれば、ガラス基板２８の平面度がより一層高められ、より一層均一な塗布を行うことが可能となる。

次に、塗布領域を通過してベース１６の後段に搬送された塗布済みのガラス基板２８に対し、保持部材２４による吸着を解除する。そして、ガラス基板２８を系外に搬出すると共に、次のガラス基板２８に対する塗布のために、保持部材２４をベース１６の前段に戻す。

以上詳述したように、本実施形態では、ガラス基板２８を移動させるときにベースごと移動させる必要がないため、搬送に必要な推力の低減を図ることができる。またベースごと移動させるときと比べて、振動やガラス基板２８に伝わる熱を低減することができる。また、空気吐出吸引機構２６によりガラス基板２８に対し空気の吐出及び吸引を行うことができるため、塗布領域においてガラス基板２８のたわみを抑制することができる。その結果、塗布領域においてガラス基板２８の平面度を上げた状態で塗布液を塗布することが可能となり、塗布液の均一な塗布が可能となる。

また本実施形態では、保持部材２４はガラス基板２８を吸着して保持可能であるため、ガラス基板２８を確実に保持することができる。またガラス基板２８を下面２８ａから保持するものであるため、ガラス基板２８を挟持する場合のようにガラスの割れや傷を生じるおそれが低く、またガラス基板２８の上面２８ａの全体に塗布液の塗布を行うことができる。

また本実施形態では、保持部材２４は鉛直方向Ｚにバネ性を有するため、鉛直方向Ｚについてガラス基板２８の高さ位置を微調整することができる。これにより、ガラス基板２８が気体吐出吸引機構２６に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。

また本実施形態では、一方のガイドレール１８上に設けられた２つのスライダ２０に固定された保持部材２４は幅方向Ｙにバネ性を有するため、ガイドレール１８が歪んでいるとき、他方のガイドレール１８側を基準として、ガラス基板２８の幅方向Ｙのズレやベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を是正することが可能となる。

また本実施形態では、塗布装置１４よりも前段で、ガラス基板２８の上面２８ｂ側に空気を吐出する空気吐出機構４２を備えることで、塗布領域におけるガラス基板２８の平面度をより高めることができ、塗布液をより均一に塗布することが可能となる。
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。なお、上記した第１実施形態と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。

図６は、第２実施形態に係る塗布システム６０の構成を示す平面図である。なお、図６においては、塗布装置１４及びガントリ４０は一点鎖線で示している。本実施形態に係る塗布システム６０の構成は、搬送装置６２の構成が異なる以外は、第１実施形態に係る塗布システム１０と同様である。

本実施形態において搬送装置６２は、ガイドレール１８が搬送方向Ｘに沿って１本のみ設けられ、一軸で構成されている。これにより、ガイドレール１８を２本並設して二軸で構成する場合と比べて、駆動機構２２としてのリニアモータ機構が片側だけで済み、コストの低減が図られる。

この場合、ガラス基板２８は保持部材２４により一方の側縁部にて保持されるが、片持ち支持であるため保持部材２４にかかる重量負荷が増大し、たわみによりベース１６に接触して傷が付いたり、ガラス基板２８が割れたりするおそれがある。そこで、ベース１６上の塗布領域以外の領域において、ベース１６側からガラス基板２８の下面２８ａに向けて空気（気体）を吐出する気体吐出機構（第１の気体吐出機構）６６が設けられている。気体吐出機構６６は、複数の静圧軸受６６ａを含み、これら複数の静圧軸受６６ａが搬送方向Ｘ及び幅方向Ｙに規則的に配列されている。これら静圧軸受６６ａは、石、セラミック、あるいは金属の多孔質体からなる。

なお、本実施形態において保持部材２４は、鉛直方向Ｚにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、鉛直方向Ｚについてガラス基板２８の高さ位置を微調整することができる。これにより、ガラス基板２８が気体吐出吸引機構２６に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。

また本実施形態において搬送装置６２は、ベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を強制的に是正する回転是正手段を備えていると好ましい。すなわち、ガイドレール１８は必ずしも真直であるとは限らず、幅方向Ｙに歪んでいることもある。ガイドレール１８が歪んでいると、図７において実線で示すように、ベース１６の上面１６ａと平行な面内でガラス基板２８が回転してしまう。ガラス基板２８の回転は、塗布液を均一に塗布する上で好ましくない。

そこで保持部材２４は、図８に示すように、鉛直方向Ｚに沿う軸を中心として回転可能なヒンジ機構６８を有し、更に一方の保持部材２４には幅方向Ｙに数十μｍ程度の微小変位が可能なピエゾ素子７０が取り付けられている。これにより、図８において一点鎖線で示すように、そのままではガラス基板２８が回転してしまうのを、ピエゾ素子７０により実線で示す位置に是正することができる。なお、ピエゾ素子７０の代わりにボイスコイルや超音波モータ、リニアモータ、エアアクチュエータなどを使用してもよい。

次に、上記した塗布システム６０を用いた塗布液の塗布方法について説明する。

まず、塗布装置１４による塗布を行うことなく、ガラス基板２８を搬送方向Ｘに搬送して、ガイドレール１８の歪みにより、ベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転の有無を検出する。そして、ガラス基板２８の回転が認められるときは、回転を是正する方向にピエゾ素子７０を駆動するように、予め制御プログラムを設定しておく。これにより、以降の塗布作業におけるガラス基板２８の回転が防止される。

次に、空気吐出機構６６の複数の静圧軸受６６ａからガラス基板２８の下面２８ａに向けて、空気の吐出を開始する。静圧軸受６６ａは、空気の吐出部とその吐出した空気を吸引する吸引部とを有していてもよい。このときの空気の吸引は、吐出した空気が細かいゴミ等を含んでいる場合があるため、このゴミ等がガラス基板に付着して塗布に悪影響を及ぼすことを防ぐためのものである。次に、ベース１６上における塗布装置１４よりも前段で、２つの保持部材２４により、ガラス基板２８を幅方向Ｙの側縁部にて吸着して片持ち保持する。このとき、ガラス基板２８はベース１６の上面１６ａから離間した状態で保持されている。より詳細には、ガラス基板２８は、塗布領域において空気吐出吸引機構２６の上面から１０μｍ程度離間し、塗布装置１４のノズルの先端部３８から１００μｍ〜２００μｍ程度離間するように保持されている。

次に、駆動機構２２によりスライダ２０を移動させることで、ガラス基板２８を搬送方向Ｘに所定速度で搬送する。そして、ガラス基板２８が塗布領域に来たとき、空気吐出吸引機構２６によりガラス基板２８の下面２８ａに空気の吐出及び吸引を行う。これにより、ガラス基板２８は空気吐出吸引機構２６上で浮いた状態で、塗布領域においてたわみが矯正されて、ガラス基板２８の平面度が向上される。

そして、上記の通り、塗布領域においてガラス基板２８の下面２８ａに空気の吐出及び吸引を行うと同時に、塗布装置１４によりガラス基板２８の上面２８ｂに塗布液を塗布する。ここで、ガラス基板２８の平面度は高められているため、ガラス基板２８の上面２８ｂに塗布液を均一に塗布することができる。このとき、図５で示したように、空気吐出吸引機構２６の上方であって塗布装置１４の前段に隣接するように空気吐出機構（第２の気体吐出機構）４２を設け、塗布領域における塗布の前段でガラス基板２８の上面２８ｂに空気を吐出すると好ましい。このようにすれば、ガラス基板２８の平面度がより一層高められ、より一層均一な塗布を行うことが可能となる。

次に、塗布領域を通過してベース１６の後段に搬送された塗布済みのガラス基板２８に対し、保持部材２４による吸着を解除する。そして、ガラス基板２８を系外に搬出すると共に、次のガラス基板２８に対する塗布のために、保持部材２４をベース１６の前段に戻す。

以上、本実施形態では、第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。特に本実施形態では、ガイドレール１８が一軸で構成されているため、二軸で構成する場合と比べて、駆動機構２２としてのリニアモータ機構が片側だけで済み、コストの低減を図ることができる。このとき、ベース１６上の塗布領域以外の領域において、ベース１６側からガラス基板２８の下面２８ａに向けて空気を吐出する空気吐出機構６６を備えているため、吐出される空気によりガラス基板２８を持ち上げることで保持部材２４にかかる重量負荷を軽減することができ、ガラス基板２８の搬送を容易にすることができる。

また、ベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を強制的に是正することができるため、ガラス基板２８の回転が防止され、塗布液のより一層均一な塗布が可能となる。
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。なお、上記した第１及び第２実施形態と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。

図９は、第３実施形態に係る検査システム８０の構成を示す斜視図である。また図１０は、この検査システム８０の構成を示す平面図である。なお、図１０においては、ガントリ４０は一点鎖線で示している。

本実施形態に係る検査システム８０は、図９及び図１０に示すように、搬送装置１２と、検査装置８２と、を備えている。搬送装置１２は、第１実施形態に係る塗布システム１０の搬送装置と同様であるため、説明を省略する。

検査装置８２は、上面２８ｂ側からガラス基板２８を検査する。検査装置８２としては、ＣＣＤカメラなどの撮像装置や、レーザ光を照射してその反射光を受光するレーザ計測装置が挙げられる。撮像装置によれば、例えばガラス基板２８上に形成された回路パターン等の光学像が得られ、これにより不良品等の検査が可能となる。またレーザ計測装置によれば、レーザ光の反射率を調べることで、不良品等の検査が可能となる。なお検査装置８２としては、これらＣＣＤカメラやレーザ計測装置に限定されず、ガラス基板２８の状態を非接触で検査可能な公知の装置が全て含まれる。

この検査装置８２は、ベース１６上に設置されたガントリ４０に、スライド部材８４を介して取り付けられている。スライド部材８４は、ガントリ４０に沿って幅方向Ｙに移動可能である。従って、スライド部材８４に取り付けられた検査装置８２は幅方向Ｙに移動可能となり、ガラス基板２８に対する幅方向Ｙのスキャンが可能となる。また、検査装置８２自身も、スライド部材８４に対して鉛直方向Ｚに移動可能であり、これにより検査装置８２をベース１６上の所定高さ位置で支持することができる。従って、撮像装置においては焦点の合った光学像が得られ、レーザ計測器においてはデータの精度が向上されることになり、検査精度の向上が図られる。

次に、上記した検査システム８０を用いたガラス基板２８の検査方法について説明する。

まず、ベース１６上における検査装置８２よりも前段で、４つの保持部材２４により、ガラス基板２８を幅方向Ｙの側縁部にて吸着して保持する。このとき、ガラス基板２８はベース１６の上面１６ａから離間した状態で保持されている。より詳細には、ガラス基板２８は、検査領域（一部領域）において空気吐出吸引機構２６の上面から１０μｍ程度離間している。

次に、駆動機構２２によりスライダ２０を移動させることで、ガラス基板２８を搬送方向Ｘに所定速度で搬送する。そして、ガラス基板２８が検査領域に来たとき、空気吐出吸引機構２６によりガラス基板２８の下面２８ａに空気の吐出及び吸引を行う。これにより、ガラス基板２８は空気吐出吸引機構２６上で浮いた状態で、検査領域においてたわみが矯正されて、ガラス基板２８の平面度が向上される。なお、本実施形態では、ガラス基板２８のたわみの矯正は、最大位置で１０μｍ〜１００μｍ程度のものを考えている。このとき、空気吐出吸引機構２６に設けられた複数の孔２６ａについて、図４に示すように、吸引用の孔（白丸で示す）と吐出用の孔（黒丸で示す）とが隣り合うようにして、ガラス基板２８に対して空気の吸引と吐出とを均一に行うようにすると好ましい。このようにすれば、ガラス基板２８の平面度がより一層向上される。

次に、上記の通り、検査領域においてガラス基板２８の下面２８ａに空気の吐出及び吸引を行うと同時に、搬送方向Ｘへのガラス基板２８の搬送を停止する。そして、スライド部材８４を幅方向Ｙにスライドさせて、ガラス基板２８上をスキャンする。このとき、必要に応じて検査装置８２の鉛直方向の位置を微調整すると好ましい。スキャンが終了すると、搬送方向Ｘにガラス基板２８を所定距離だけ移動させ、再び搬送を停止した後、２回目のスキャンを行う。このようにして複数回のスキャンを行うことで、検査装置８２によりガラス基板２８を上面２８ｂから検査する。ここで、ガラス基板２８の平面度は高められているため、ガラス基板２８の検査精度の向上が図られる。このとき、図１１に示すように、空気吐出吸引機構２６の上方であって検査装置８２の前段に空気吐出機構４２を設け、検査領域における検査の前段でガラス基板２８の上面２８ｂに空気を吐出すると好ましい。このようにすれば、ガラス基板２８の平面度がより一層高められ、より一層精度の高い検査を行うことが可能となる。なお、空気吐出機構４２は、空気吐出吸引機構２６の上方であって検査装置８２の後段に設けてもよく、また前後段の双方に設けてもよい。更に、図１２に示すように、撮像装置ではレンズの周りに、レーザ計測装置ではレーザ光の入出射部の周りに、環状の空気吐出機構４２を設けて、検査装置８２と一体化を図ってもよい。

次に、検査領域を通過してベース１６の後段に搬送された検査済みのガラス基板２８に対し、保持部材２４による吸着を解除する。そして、ガラス基板２８を系外に搬出すると共に、次のガラス基板２８に対する検査のために、保持部材２４をベース１６の前段に戻す。

以上詳述したように、本実施形態では、ガラス基板２８を移動させるときにベースごと移動させる必要がないため、搬送に必要な推力の低減を図ることができる。またベースごと移動させるときと比べて、振動やガラス基板２８に伝わる熱を低減することができる。また、空気吐出吸引機構２６によりガラス基板２８に対し空気の吐出及び吸引を行うことができるため、検査領域においてガラス基板２８のたわみを抑制することができる。その結果、検査領域においてガラス基板２８の平面度を上げた状態で検査することが可能となり、検査精度の向上を図ることが可能となる。

その他、本実施形態では、第１実施形態に係る塗布システム１０と同一の構成によって、同様の作用効果を奏し得る。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。例えば、第１実施形態の搬送装置１２は、第２実施形態における搬送装置６２と同様に、塗布領域以外の領域に空気吐出機構６６を備えていてもよい。

また第１実施形態の搬送装置１２でも、第２実施形態における搬送装置６２と同様に、ベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を強制的に是正するようにしてもよい。

また、駆動機構２２の固定子３０は床面Ｆ上に設置するなどして、ベース１６から切り離して設けると好ましい。このようにすれば、駆動機構２２を駆動させることにより生じる反力を系外に逃がすことが可能となる。

また、搬送方向Ｘに沿う方向のベース１６の角部によりガイド部材を構成し、スライダ２０はこの角部によりガイドされるように構成してもよい。このようにすれば、ガイドレール１８を省略することで部品点数の減少を図ることが可能となる。

また図１３に示すように、第２実施形態に係る塗布システム６０の搬送装置６２において、ベース１６を基台部７０とエア機構部７２とから構成し、エア機構部７２を研削加工等して、空気吐出吸引機構２６と空気吐出機構６６とを一体に構成すると好ましい。このようにすれば、空気吐出吸引機構２６の高さと空気吐出機構６６の高さとを合わせる作業が省略でき、製造の効率化が図られる。

また上記した実施形態では、スライダ２０は一つのガイドレール１８に２個設けられているが、スライダ２０をガラス基板２８の搬送方向Ｘの長さと同程度の長さを有する１個の部材で構成してもよい。このようにすれば、吸着部３４の長さを長くすることができ、吸着力を向上することができる。また、スライダ２０の数を減らして部品点数の減少を図ることができる。

また、第１実施形態に係る塗布システム１０及び第３実施形態に係る検査システム８０が備える２軸の搬送装置１２において、ガラス基板２８の保持を次のように行ってもよい。保持部材２４は、図１４及び図１５に示すような保持機構９０を有している。この保持機構９０は、搬送方向Ｘに沿って延びる基体部９２と、基体部９２から幅方向Ｙに延設された複数の支持梁部９４と、複数の支持梁部９４の先端にそれぞれ設けられており、ガラス基板２８を吸着して保持するための吸着部９６と、を含んでいる。基体部９２の長さは、ガラス基板２８の搬送方向Ｘの長さと同程度である。複数の支持梁部９４の各々は、少なくとも鉛直方向Ｚについてバネ性を有すると共に、自身の軸α周りにねじれ性を有している。なお、複数の支持梁部９４の各々は、搬送方向Ｘ、幅方向Ｙ、及び鉛直方向Ｚのバネ性を有し、且つそれらの軸周りのねじれ性を有していて、６自由度を有していると最適である。支持梁部９４の先端には、吸着部９６を確実に搭載するために幅広の搭載部９８が設けられている。

この保持機構９０が、ガイドレール１８にスライド可能に設けられた２個のスライダ２０の内側面に連結されている。より詳細には、基準となる一方のガイドレール１８の側では、保持機構９０は基板部９２が２個のスライダ２０に直接連結されており、他方のガイドレール１８の側では、弾性部材９９を介して保持機構９０の基板部９２が２個のスライダ２０に連結されている。これにより、他方のガイドレールの側ではＹ方向にバネ性を有することになる。その結果、他方のガイドレール１８が歪んでいるとき、一方のガイドレール１８側を基準として、ガラス基板２８の幅方向Ｙのズレやベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を是正することが可能となる。この弾性部材９９としては、幅方向Ｙにバネ性を有するバネ板片等の弾性体が挙げられる。

このような支持梁部９４は、例えばＳＵＳ等の材料から形成することができる。典型的な寸法としては、長さＴ１が１００ｍｍ程度であり、幅Ｔ２が１０ｍｍ程度であり、厚みＴ３が１．５ｍｍ程度である。これにより、支持梁部９４は軸αの周りに±２度程度のねじれ性を有することができる。

ここで、図１６に示すように、ベース１６上の塗布領域或いは検査領域において、空気吐出吸引機構２６によりガラス基板２８に対して空気の吐出及び吸引を行うことにより、ガラス基板２８の高さが搬送方向Ｘに異なったものになる。この高さの相違ｄは、５０μｍ〜２００μｍ程度になることがある。このとき、ガラス基板２８の変形に追随して上手く保持できなければ、割れやひびが生じる等してガラス基板２８を毀損するおそれがある。これに対し、上記した保持機構９０によりガラス基板２８を保持するようにすれば、複数の支持梁部９４は少なくとも鉛直方向Ｚについてバネ性を有すると共に、自身の軸α周りにねじれ性を有しているため、ガラス基板２８の変形に追随して確実に保持することができ、ガラス基板２８が毀損するおそれを低減することができる。

また、第２実施形態に係る塗布システム６０が備える１軸の搬送装置６２において、ガラス基板２８の保持を次のように行ってもよい。保持部材２４は、図１７及び図１８に示すように、バネ板部１０２と吸着部１０４とを有している。これら保持部材２４は、バネ板部１０２を介して２個のスライダ２０それぞれに連結されている。バネ板部１０２は、少なくとも鉛直方向Ｚにバネ性を有している。バネ板部１０２の先端に搭載された吸着部１０４は、エア引きによりガラス基板２８を吸着して保持するための部材であり、図１８に示すように、鉛直方向Ｚに沿う軸βの周りに回転可能に設けられている。

上記した保持部材２４を用いたガラス基板２８の保持では、各々の保持部材２４で吸着部１０４の幅方向Ｙの位置をずらしている。これにより、各々の保持部材２４でガラス基板２８を吸着して保持する保持位置が、幅方向Ｙについて異なっている。このズレ量Δｙは、後述するようにガラス基板２８の１度程度の回転を是正可能な量に設定されていると好ましい。例えば、搬送方向Ｘの長さが２０００ｍｍのガラス基板２８を搬送するときには、ズレ量Δｙは１ｍｍ以下であると好ましい。

また上記した保持部材２４を用いたガラス基板２８の保持では、スライダ２０の各々は独立に速度制御可能に設けられている。すなわち、上記した第２実施形態では、各々のスライダ２０は一つの駆動体３３により一定距離を保ったまま同期して移動可能に設けられていたが、ここでは各々のスライダ２０はそれぞれ駆動体３３により独立して速度制御可能に設けられている。

これにより、図１９に示すように、２個のスライダ２０が同一速度で移動されているとき、ガラス基板２８の保持位置がＡ点及びＢ点であったのが、前方のスライダ２０の速度ｖ２を後方のスライダ２０の速度ｖ１よりもΔｖだけ大きくすることで、ガラス基板２８の保持位置がＡ点及びＣ点となる。また、前方のスライダ２０の速度ｖ２を後方のスライダ２０の速度ｖ１よりもΔｖだけ小さくすることで、ガラス基板２８の保持位置がＡ点及びＤ点となる。このように、前方のスライダ２０の速度ｖ２と後方のスライダ２０の速度ｖ１とを制御することで、前方の保持部材２４によるガラス基板２８の保持位置Ｂの軌跡が、Ａ点を中心とした半径ｌの円弧（図１９において破線で示す）を描くことになる。その結果、図２０に示すように、ガイドレール１８が歪んでいるとき、前方のスライダ２０の速度ｖ２と後方のスライダ２０の速度ｖ１とを制御することで、ベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を是正することが可能となる。

また上記した第３実施形態では、スライド部材８４により検査装置８２を幅方向Ｙにスライドさせて、ガラス基板２８をスキャンする構成としたが、検査装置８２を幅方向Ｙにアレイ状に並べた検査装置アレイを利用して検査システムを構成してもよい。このようにすれば、ガラス基板２８を幅方向Ｙにスキャンする必要がなくなり、検査効率の向上が図られる。

また上記した第１及び第２実施形態では、ガラス基板２８上へのフォトレジストの塗布について説明したが、カラーフィルターを積層形成するときのインクの塗布などにも適用することができる。

また上記した実施形態では、被搬送物としてガラス基板２８の搬送について説明したが、被搬送物はフィルムや半導体基板などのたわみを生じ易い他の部材であってもよい。

本発明に係る搬送装置は、例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を製造するＰＤＰ製造装置や、半導体基板の欠陥等の検査を行う半導体検査装置など、所定作業時に被搬送物のたわみを嫌うような他のシステムにも適用可能である。

第１実施形態に係る塗布システムの構成を示す斜視図である。 第１実施形態に係る塗布システムの構成を示す平面図である（塗布装置及びガントリは一点鎖線で示している）。 搬送装置の構成を示す部分拡大部である。 空気吐出吸引機構が有する複数の孔について、吸引用の孔（白丸で示す）と吐出用の孔（黒丸で示す）とが隣り合っている状態を説明する図である。 塗布装置の前段に設けられた空気吐出機構によりガラス基板の上面に空気を吐出する様子を示す図である。 第２実施形態に係る塗布システムの構成を示す平面図である（塗布装置及びガントリは一点鎖線で示している）。 ガイドレールの歪みによりガラス基板がベースの上面と平行な面内で回転する様子を説明するための図である。 ガイドレールの歪みによるガラス基板の回転を是正する様子を説明するための図である。 第３実施形態に係る検査システムの構成を示す斜視図である。 第３実施形態に係る検査システムの構成を示す平面図である。 検査装置の前段に設けられた空気吐出機構によりガラス基板の上面に空気を吐出する様子を示す図である。 検査装置に一体化された空気吐出機構を示す図である。 搬送装置の変形例を説明するための図である。 搬送装置の他の変形例を説明するための図である。 図１４の搬送装置が備える保持機構を示す斜視図である。 空気吐出吸引機構によりガラス基板が変形する様子を説明する図である。 搬送装置の他の変形例を説明するための図である。 図１７の搬送装置が備える保持部材の構成を示す斜視図である。 ガラス基板の保持位置とスライダの速度との関係を説明する図である。 図１７の搬送装置においてガイドレールの歪みによるガラス基板の回転を是正する様子を説明するための図である。

符号の説明

１０…塗布システム、１２，６２…搬送装置、１４…塗布装置、１６…ベース、１８…ガイドレール、２０…スライダ、２４…保持部材、２６…空気吐出吸引機構、２８…ガラス基板、３４…吸着部、３６…バネ板部、４２…空気吐出機構、６６…空気吐出機構、８０…検査システム、８２…検査装置、９０…保持機構、９２…基体部、９４…支持梁部、９６…吸着部、Ｘ…搬送方向。

Claims (15)

1. 被搬送物の搬送方向に延びる主面を有するベースと、
   前記搬送方向に延びるガイド部材と、
   前記ガイド部材にガイドされて前記搬送方向に移動可能な移動部材と、
   前記移動部材に固定され前記主面から間隙を於いて前記被搬送物を保持する保持部材と、
   前記ベース上の前記搬送方向における一部領域において、該搬送方向に搬送される前記被搬送物に対し気体の吐出及び吸引を行うための気体吐出吸引機構と、
   を備えることを特徴とする搬送装置。
2. 前記保持部材は、前記被搬送物を吸着して保持可能であることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
3. 前記ガイド部材は一軸で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
4. 前記保持部材は、前記ベースの前記主面の法線方向についてバネ性を有することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
5. 前記保持部材は、前記ベースの前記主面の法線方向及び前記搬送方向の双方に直交する方向についてバネ性を有することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
6. 前記ベースの前記主面と平行な面内における、前記被搬送物の回転を是正する回転是正手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
7. 前記ベース上の前記一部領域以外の領域において、前記ベース側から前記被搬送物に向けて気体を吐出する第１の気体吐出機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
8. 前記被搬送物はガラス基板であることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
9. 請求項１に記載の搬送装置と、
   前記被搬送物に対して塗布液を塗布するための塗布装置と、を備え、
   前記気体吐出吸引機構は、前記一部領域において、対向する一対の主面を有する前記被搬送物の一方の主面側に前記気体を吐出及び吸引し、
   前記塗布装置は、前記一部領域において、前記被搬送物の他方の主面側に前記塗布液を塗布する、
   ことを特徴とする塗布システム。
10. 前記一部領域において、前記塗布装置よりも前段で、前記他方の主面側に前記被搬送物に対して気体を吐出する第２の気体吐出機構を備えることを特徴とする請求項９に記載の塗布システム。
11. 対向する一対の主面を有する被搬送物を搬送しながら塗布液を塗布する塗布方法であって、
    前記被搬送物に対して一方の主面側に気体を吐出及び吸引しながら、他方の主面側に前記塗布液を塗布することを特徴とする塗布方法。
12. 請求項１に記載の搬送装置と、
    前記被搬送物の検査を行うための検査装置と、を備え、
    前記気体吐出吸引機構は、前記一部領域において、対向する一対の主面を有する前記被搬送物の一方の主面側に前記気体を吐出及び吸引し、
    前記検査装置は、前記一部領域において、前記被搬送物の他方の主面側から該被搬送物を検査する、
    ことを特徴とする検査システム。
13. 前記保持部材は、
    前記搬送方向に沿って延びる基体部と、
    前記基体部から前記ベースの前記主面の法線方向及び前記搬送方向の双方に直交する方向に延設された複数の支持梁部と、
    前記複数の支持梁部の先端にそれぞれ設けられており、前記被搬送物を吸着して保持するための吸着部と、を含む保持機構を有し、
    前記複数の支持梁部の各々は、少なくとも前記ベースの前記主面の法線方向についてバネ性を有すると共に、自身の軸周りのねじれ性を有することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
14. 前記移動部材及び前記保持部材をそれぞれ二個備え、
    前記移動部材の各々は、独立に速度制御可能に設けられており、
    前記保持部材の各々による前記被搬送物の保持位置が、前記ベースの前記主面の法線方向及び前記搬送方向の双方に直交する方向についてずれていることを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。
15. 板状体を保持する保持機構であって、
    所定方向に沿って延びる基体部と、
    前記基体部から前記所定方向と交差する方向に延設された複数の支持梁部と、
    前記複数の支持梁部の先端にそれぞれ設けられており、前記板状体を吸着して保持するための吸着部と、を備え、
    前記複数の支持梁部の各々は、少なくとも前記所定方向及び該支持梁部の延設方向の双方に直交する方向についてバネ性を有すると共に、自身の軸周りのねじれ性を有することを特徴とする保持機構。

Images