TWI261041B - Conveying apparatus, application system and inspection system - Google Patents

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1261041 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種搬運玻璃基板等的被搬運物的搬運 裝置’具備該裝置的塗布系統及檢查系統。 【先前技術】 作爲將光阻等塗布液塗布於玻璃基板上所用的塗布系 統’例如有揭示於專利文獻1者。該塗布系統是具備將塗 布液加以塗布所用的塗布裝置，及對於塗布裝置用以移動 玻璃基板所用的搬運裝置。搬運裝置是具有以全面吸附並 保持玻璃基板的基座，在吸附玻璃基板的狀態下移動每一 基座，就可對於塗布裝置移動玻璃基板。 又’也開發了玻璃基板是仍固定在基座上之狀態下， 對於玻璃基板移動塗布裝置的塗布系統（例如參照專利文 獻2 )。 專利文獻1 :日本特開平8-243476號公報 專利文獻2 :日本特開平2002-200450號公報 【發明內容】 然而，近年來，液晶用玻璃基板的尺寸變愈大型化之 故’因而在揭示於上述專利文獻1所揭示的搬運裝置中， 有基座重量變過重，而增大搬運所需的推力，有玻璃基板 的搬運成爲困難的缺點問題。又，在揭示於對於玻璃基板 移動塗布裝置的型式的專利文獻2的塗布系統中，又因玻 -5- (2) 1261041 璃基板的大型化而使起重台架變大而導致增大重量，有難 得到充分的移動精度的缺點問題。 如此地，考慮了保持玻璃基板的一部分來搬運玻璃基 板本體，惟這時候，爲了得到均勻的塗佈，必須來抑制玻 璃基板的彎曲。 本發明是鑑於上述事項而創作者，其目的是在於提供 一種謀求減低搬運所必需的推力，且可抑制被搬運物的彎 曲的搬運裝置，具備該裝置的塗布系統及檢查系統。 本發明的搬運裝置，其特徵爲具備： .(η具有朝被搬運物的搬運方向X延伸的主面的基 座；（2 )朝搬運方向X延伸的引導構件；（3 )被引導 構件引導而可朝搬運方向X可移動的移動構件；（4 )被 固定於移動構件而從主面隔著間隙而保持被搬運物的保持 構件；以及（5 )在基座上的搬運方向X的一部分領域中 ，對於朝該搬運方向X搬運的被搬運物進行氣體的吐出 及吸引所用的氣體吐出機構。 依照該裝置，利用保持構件來保持被搬運物，並利用 引導構件將移動構件朝搬運方向引導並移動，使得被搬運 物朝搬運方向搬運。這時候，在基座上的搬運方向的一部 分領域中，利用氣體吐出吸引機構對於搬運物可進行氣體 的吐出及吸引。如此地，在該搬運裝置中，在移動被搬運 物時不必基座別地移動之故，因而可減低搬運所必需的推 力。又，在搬運路徑上的一部分領域中對於被搬運物可進 行氣體的吐出及吸引之故，因而在該一部分領域中可抑制 -6- (3) 1261041 被搬運物的彎曲。 在本發明的搬運裝置中 可保持，爲其特徵者也可以 被搬運物。 在本發明的搬運裝置中 其特徵者也可以。構成如此 邊側加以保持。 在本發明的搬運裝置中 述主面的法線方向具有彈性 此，針對於基座的主面的法 位置，可減低被搬運物碰到 虞。 在本發明的搬運裝置中 於上述基座主面的法線方向 有彈性，爲其特徵者也可以 導構件的情形，即使藉由引 間隔，也可減低被保持在保 來自保持構件的保持脫落， 在本發明的搬運裝置中 面內的被搬運物的旋轉調整 其特徵者也可以。構成如此 物旋轉的系統中，成爲可適 ，保持構件是吸附被搬運物而 。構成如此，則可確實地保持 ，引導構件是以軸所構成，爲 ，被搬運物是從其中一方的側 ，保持構件是針對於基座的上 ，爲其特徵者也可以。構成如 線方向可微調被搬運物的高度 氣體吐出吸引機構等不方便之 ，上述保持構件是針對於正交 及搬運方向的雙方向的方向具 。構成如此，在以二軸構成引 導構件變形變動兩引導構件之 持構件的被搬運物受損，或是 或偏離之虞。 ，具備將平行於基座的主面的 正常的調整正常旋轉手段，爲 ，在所定作業時不希望被搬運 當地進行作業。 在本發明的搬運裝置中，在基座上的一部分領域以外 的領域中，具備從基座側朝被搬運物吐出氣體的第一氣體 (4) 1261041 吐出機構，爲其特徵者也可以。藉由此，可減輕保持構件 的重量負載，成爲容易搬運被搬運物。 在本發明的搬運裝置中，被搬運物是玻璃基板，爲其 特徵者也可以。 本發明的塗布系統，其特徵爲具備：上述的搬運裝置 ，及對於被搬運物塗布塗布液所用的塗布裝置；氣體吐出 吸引機構是在一部分領域中，將氣體吐出及吸引至具有相 對向的一對主面的被搬運物的其中一方的主面側；塗布裝 置是在一部分領域中，將塗布液塗布於被搬運物的另一方 的主面側。 在該塗布系統中，藉由在基座上的一部分領域對於被 搬運物進行氣體的吐出及吸引，就在該一部分領域中可抑 制塗布系統的彎曲，而在提昇平面度的狀態下可塗布塗布 液之故1因而成爲可均勻地塗布塗布液。 在本發明的塗布系統是在一部分領域中，位於比塗布 裝置還前段具備於另一方的主面側將氣體吐出至被搬運物 的第二氣體吐出機構，爲其特徵者也可以。構成如此，可 更提高一部分領域的被搬運物的平面度，成爲可更均勻地 塗布塗布液。 在本發明的塗布方法，屬於一面搬運具有相對向的一 對主面的被搬運物一面塗布塗布液的方法，其特徵爲：對 於被搬運物一面將氣體吐出及吸引至其中一方的主面側， 一面將塗布液塗布於另一方的主面側。 在該塗布方法中，可抑制被搬運物的彎曲，而在提高 -8- (5) 1261041 平面度的狀態下可塗布塗布液之故’因而成爲可均勻地塗 佈塗佈液° 本發明的檢查系統，其特徵爲具備：上述的搬運裝置 ，及進行被搬運物的檢查所用的檢查裝置；氣體吐出吸引 機構是在一部分領域中’將氣體吐出及吸引至具有相對向 的一對主面的被搬運物的其中一方的主面側；檢查裝置是 在一部分領域中，從被搬運物的另一方的主面檢查該被搬 運物。 在該檢查系統中，在基座上的一部分領域對於被搬運 物進行氣體的吐出及吸引，就在該一部分領域中可抑制塗 布系統的彎曲，而在提昇平面度的狀態下可進行檢查之故 ，因而成爲可提高檢查精度。 本發明的被搬運物中，保持構件是具有包含：沿著搬 運方向延伸的基體部；從基體部朝正交於基座的主面的法 線方向及搬運方向的雙方的方向延設的複數支持樑部；以 及分別設於複數支持樑部的前端，用以吸附加以保持被搬 運物的吸附部的保持機構；複數支持樑部是至少對於基座 的主面的法線方向分別具有彈性，同時具有本體軸周圍的 扭轉性也可以。構成如此，在基座上的一部分領域中藉由 進行氣體的吐出及吸引，即使被搬運物的高度成爲在搬運 方向的不相同者時，也不會損及被搬運物，而可確實地加 以保持。 本發明的搬運裝置中，分別具備兩個移動構件及保持 構件；各該移動構件是設置成可獨立地控制速度；依各該 -9- 1261041 (6) 上述保持構件的被搬運物的保持位置，針對於正交於基座 的主面的法線方向及搬運方向的雙方的方向形成偏離也可 以。構成如此，控制兩個移動構件的移動速度’就可正常 地保持與基座的主面平行的面內的被搬運物的旋轉’而在 所定作業時不希望被搬運物旋轉的系統上，成爲可適當地 進行作業。 本發明的保持機構，屬於保持板狀體的保持機構’其 特徵爲具備：沿著所定方向延伸的基體部；從基體部朝與 所定方向交叉的方向延設的複數支持樑部；以及分別設於 複數支持樑部的前端，用以吸附板狀體並加以保持的吸附 部；各該複數支持樑部是至少對於正交於上述所定方向及 該支持樑部的延設方向的雙方的方向具有彈性，同時具有 本體軸周圍的扭轉性。依照該保持機構，即使使得板狀體 的高度朝上述所定方向成爲不相同者時，也不會損及板狀 體，可確實地保持。 依照本發明，可提供一種謀求減低搬運所必需的推力 ，且可抑制被搬運物的彎曲的搬運裝置，具備該裝置的塗 布系統及檢查系統。 【實施方式】 以下，參照所附圖式說明本發明的實施形態。又在圖 式的說明中在相同要素賦予相同符號，省略重複說明。 (第一實施實施形態） •10- (7) 1261041 第1圖是表示本實施形態的塗布系統的構成的立體圖 。又，第2圖是表示本實施形態的塗布系統的構成的俯視 圖。又，在第2圖中，塗布裝置14及起重台架4〇，是以 虛鍵線表示。 如第1圖及第2圖所示地，塗布系統1 〇是具備搬運 裝置12及塗布裝置14。搬運裝置12是具備：基座16， 及一對導軌（引導構件）18，及四具滑件（移動構件）2〇 ，及驅動機構22，及四具保持構件24，及空氣吐出吸引 機構（氣體吐出吸引機構）26。 基座16是外形形成長方體狀，被載置在地板面等的 水平面上。該基座16的上面（主面）16a是朝所定方向 延伸。該基座16的上面16a的延伸方向，成爲玻璃基板 (被搬運物）28的被搬運方向。基座16的寬度是設成大 於玻璃基板2 8的寬度。又，如第1圖所示地，在以下說 明中，將基座16的上面16a所延伸的方向稱爲搬運方向 X ;將基座1 6的上面1 6 a的法線方向稱爲垂直方向Z ;將 正交於搬運方向X及垂直方向Z的雙方的方向稱爲寬度 方向Y。 一對導軌1 8是朝搬運方向X延伸般地，設置於基座 1 6的上面1 6a。這些一對導軌1 8是隔著比玻璃基板28的 寬度稍大的間隙，配置互相地平行。 滑件20是分別設置兩個一對導軌1 8。各滑件20是 被導軌18引導，設定成可朝搬運方向X移動。 如第3圖所示地，驅動機構22是由包含定子30與轉 -11 - (8) 1261041 子3 2的線性馬達機構所構成。定子3 0是在一對導軌1 8 的各該外側中，沿著導軌1 8般地設置在基座1 6上。如第 1圖至桌3圖所示地，轉子32是包含：與定子30作用被 驅動的驅動體3 3，及從驅動體3 3的兩端朝搬運方向X延 設而連結驅動體3 3與滑件2 0的連結構件3 7。連結構件 3 7是分別被固定在滑件2 〇的外側面。由此，設於各導軌 1 8的兩具滑件20，是保持一定距離之狀態下同步地移動 〇 保持構件2 4是分別被固定在四具滑件2 0的內側面。 如第3圖所示地，保持構件24是包含吸附部34與彈性板 部36。該保持構件24是藉由吸附部34的抽氣，吸附玻 璃基板28的側緣部並確實地保持。藉由此些保持構件24 ，玻璃基板28是在從基座16的上面16a所隔離的狀態下 被保持。彈性板部3 6是包含沿著垂直方向Z所延伸的基 部3 6a，及沿著寬度方向γ所延伸的折曲部3 6b。吸附部 34是被固定於折曲部36b上。 在此，如第3圖所示地，彈性板部3 6的折曲部3 6b 是在垂直方向Z具有彈性較理想。構成如此，保持構件 24是成爲在垂直方向Z具有彈性，對於垂直方向Z可微 調玻璃基板2 8的高度位置。由此玻璃基板2 8可減低產生 接觸於氣體吐出吸引機構26等不方便之虞。 又，針對於被固定在設於其中一方的導軌1 8上的兩 具滑件20的保持構件24，如第3圖所示地，彈性板部36 的基部3 6a是在寬度方向Y具有彈性較理想。構成如此’ -12- (9) 1261041 保持構件24是成爲在寬度方向Y具有彈性。結果，當導 軌1 8變形時，則以另一方的導軌1 8側作爲基準，成爲可 調整正常玻璃基板2 8的寬度方向Υ的偏離或與基座1 6 的上面1 6 a平行的面內的玻璃基板2 8的旋轉（調整正常 旋轉手段）。 空氣吐出吸引機構2 6是設在位於基座1 6而下述的塗 布裝置14下方的塗布領域（一部分領域）。如第3圖所 示地，該空氣吐出吸引機構26是在玻璃基板28的下面（ 其中一方的主面）28a側吐出及吸引空氣（氣體）。空氣 吐出吸引機構26是具有通過空氣的複數孔26a，此些複 數孔26a是規則地被排列在搬運方向X及寬度方向Y。空 氣吐出吸引機構26的寬度方向Y的長度是設置成與玻璃 基板2 8的寬度大約相同。空氣吐出吸引機構2 6的搬運方 向X的長度是在塗布裝置1 4之前後採取充分長度較理想 。作爲一例子，欲以250 mm/sec搬運搬運方向X的長度 2300 mm，寬度方向Y的長度2000 mm、厚度0.6 mm的 玻璃基板2 8時，則空氣吐出吸引機構2 6的搬運方向X 的長度，是至少採用400至500 mm左右爲佳。 塗布裝置14是在玻璃基板28上面（另一方的主面） 2 8b側塗布光阻液等的塗布液。塗布裝置1 4的噴嘴前端 邰38是朝寬度方向γ延伸。該塗布裝置14是藉由設在 基座16上的起重台架40，以所定高度支持基座16上。 以下，說明使用上述的塗布系統1 0的塗布液的塗布 方法。 -13- (10) 1261041 首先’在比基座16上的塗布裝置14還前段，藉由四 具保持構件24以寬度方向γ的側緣部吸附保持著玻璃基 板28。這時候’玻璃基板28是從基座16的上面16a隔 離的狀態下被保持。更具體而言，玻璃基板2 8是在塗布 領域中從空氣吐出吸引機構2 6上面隔離約1 〇 // m，被保 持成從塗布裝置14的噴嘴前端部38隔離約loo" m至 2 0 0 // m 〇 之後，藉由驅動機構22進行移動滑件20，就可朝搬 運方向以所定速度搬運玻璃基板2 8。當玻璃基板2 8到達 塗布領域時，則藉由空氣吐出吸引機構2 6俾在玻璃基板 28的下面28a進行空氣的吐出及吸引。由此，玻璃基板 2 8是浮在空氣吐出吸引機構2 6上的狀態下，在塗布領域 中來矯正彎曲，提高玻璃基板28的平面度。又，在本實 施形態中，矯正玻璃基板2 8的彎曲，是最大位置可能爲 約1 0 // m至1 〇 〇 // m者。這時候，如第4圖所示地，針對 於設在空氣吐出吸引機構26的複數孔26a，相鄰接吸引 用孔（以白圈表示）與吐出用孔（以黑圈表示），對於玻 璃基板2 8均勻地進行空氣的吸引與吐出較理想。構成如 此’可更提高玻璃基板2 8的平面度。 之後，如上所述地，在塗布領域中，於玻璃基板2 8 的下面28a進行空氣的吐出及吸引，同時藉由塗布裝置 1 4將塗布液塗布玻璃基板2 8的上面2 8 b。在此，玻璃基 板28的平面度被提高之故，因而可將塗布液均勻地塗布 於玻璃基板28的上面28b。這時候，如第5圖所示地， -14- (11) 1261041 位於空氣吐出吸引機構26的上方而相鄰接於塗布裝置1 4 的前段般地設置空氣吐出機構（第二氣體吐出機構）42 ’ 而在塗布領域的塗布前段將空氣吐出至玻璃基板2 8的上 面2 8 b較理想。構成如此，玻璃基板2 8的平面度成爲更 提高平面度，可進行更均勻的塗布。 之後，通過塗布領域對於搬運至基座1 6的後段的經 塗布的玻璃基板28，來解除保持構件24所致的吸附。又 ，將玻璃基板2 8搬出系外面，同時爲了對於下一玻璃基 板2 8的塗布，將保持構件24回到基座1 6的前段。 如上所詳述地，在本實施形態中，在移動玻璃基板 2 8時不必基座別地進行移動之故，因而可減低搬運所必 需的推力。又與基座別地進行移動時相比較，可減低傳輸 至振動或玻璃基板2 8的熱量。又，藉由空氣吐出吸引機 構2 6對於玻璃基板2 8可進行空氣的吐出及吸引之故，因 而在塗布領域中可抑制玻璃基板2 8的彎曲。結果，在塗 布領域中而在提高玻璃基板2 8的平面度的狀態下成爲可 塗布塗布液，而成爲可進行塗布液的均勻塗布。 又，在本實施形態中，保持構件24是吸附玻璃基板 28而可加以保持之故，因而可確實地保持玻璃基板28。 又，從下面2 8 a保持玻璃基板2 8者之故，因而如夾持玻 璃基板2 8時降低產生玻璃的破裂或傷痕之虞，又，在玻 璃基板28的上面28a整體上可進行塗布液的塗布。 又在本實施形態中，保持構件24是在垂直方向Z具 有彈性之故，因而在垂直方向Z可微調玻璃基板28的高 -15- (12) 1261041 度位置。由此可減低玻璃基板2 8產生接觸於空氣吐出吸 引機構26等的不方便之虞。 又在本實施形態中，被固定在設於另一方的導軌1 8 上的兩具滑件2 0的保持構件2 4是在寬度方向Υ具有彈 性之故，因而導軌1 8有變形時，則將另一方的導軌1 8側 作爲基準，成爲可正常調整玻璃基板28的寬度方向Y的 偏離或與基座1 6的上面1 6 a平行的面內的玻璃基板2 8的 旋轉。 又在本實施形態中，在比塗布裝置1 4更前段，位於 玻璃基板28的上面28b側具備吐出空氣的空氣吐出機構 4 2，就可更提高塗布領域的玻璃基板2 8的平面度，成爲 可更均句地塗布塗布液。 (第二實施形態） 以下，說明本發明的第二實施形態。又，在與上述的 第一貫施形態相同要素賦予相同符號，省略重複的說明。 第6圖是表示第二實施形態的塗布系統6〇的構成的 俯視圖。又，在第6圖中，塗布裝置14及起重台架40是 以一點鏈線表示。本實施形態的塗布系統60的構成是除 了搬連裝置62的構成不相同之外，是與第一實施形態的 塗布系統1 0同樣。 在本實施形態中，搬運裝置62是沿著搬運方向X僅 設置一支導軌1 8，以一軸所構成。由此，與排設兩支並 以兩軸構成導軌1 8的情形相比較’作爲驅動機構22的線 -16- (13) 1261041 性馬達機構僅設置在一邊，而可減低成本。 這時候，玻璃基板28是利用保持構件24被保持在其 中一方的側緣部，惟爲懸臂支持之故，因而增大施加於保 持構件24的重量負載，故有因撓曲而接觸於基座16造成 損傷，或有玻璃基板2 8破裂之虞。在此，在基座1 6上的 塗佈領域以外的領域中’設有從基座1 6側朝玻璃基板2 8 的下面28a吐出空氣（氣體）的氣體吐出機構（第一氣體 吐出機構）66 °氣體吐出機構66是包含複數靜壓軸承 6 6 a，此些複數靜壓軸承6 6 a規則地排列在搬運方向X及 寬度方向Y。此些靜壓軸承66a是由石頭，陶瓷，或是金 屬的多孔質體所構成。 又，在本實施形態中保持構件24是在垂直方向Z具 有彈性較理想。構成如此，在垂直方向Z可微調玻璃基板 2 8的高度位置。由此，可減低玻璃基板2 8產生接觸於氣 體吐出吸引機構26等的不方便之虞。 又在本實施形態中搬運裝置62是具備強制地進行調 整正常與基座16的上面16a平行的面內的玻璃基板28的 旋轉的調整正常旋轉手段較理想。亦即，導軌1 8是並未 被限定於筆直，也有朝寬度方向Y變形的情形。若導軌 1 8變形，則如第7圖中以實線所示地，在與基座1 6的上 面16a平行的面內會旋轉玻璃基板28。玻璃基板28的旋 轉是對均勻地塗布塗佈液而言較不理想。 如第8圖所示地，保持構件24是具有以沿著垂直方 向的軸作爲中心可旋轉的鉸鏈機構68 ;又在其中一方的 -17- (14) 1261041 保持構件2 4安裝有朝寬度方向Y可微 的變位的壓電元件 7 0。由此，如第 8 示地，將仍旋轉玻璃基板2 8的情形，ΐ 調整正常以實線所示的位置。代替壓電 音圏或超音波馬達，線性馬達，氣動致丨 以下，說明使用上述塗布系統60 法。 首先，未進行塗布裝置14所致的 搬運玻璃基板2 8，藉由導軌1 8的變形 座16的上面16a平行的面內的玻璃基板 ，玻璃基板2 8的旋轉被認定時，驅動壓 正常旋轉方向般地，事先設定控制程式 的塗布作業的玻璃基板28的旋轉。 然後，從空氣吐出機構66的複數青 璃基板2 8的下面2 8 a，開始空氣的吐 是具有空氣吐出部與吸引該吐出的空氣 此時的空氣吸引，是吐出空氣包含微細 ，因而防止該垃圾等附著於玻璃基板而 影響者。之後，在比基座1 6上的塗布裝 由兩具保持構件24，以寬度方向Y的 板2 8並加以懸臂保持。此時，玻璃基板 基座16的上面16a隔離之狀態。更具 2 8是保持於：在塗布領域中從空氣吐出 面隔離約1 0 // m，而距離塗布裝置1 4 & 小變位約數十// m 圖中以一點鏈線所 ί藉由壓電元件70 元件70也可使用 助器等也可以。 的塗布液的塗布方 塗布，朝搬運方向 ，檢測有沒有與基 [2 8的旋轉。之後 丨電元件70朝調整 。由此，防止以後 爭壓軸承66a朝玻 出。靜壓軸承6 6 a 的吸引部也可以。 垃圾等的情形之故 及於塗布上有不良 [置14還前段，藉 側緣部吸附玻璃基 (2 8是被保持在從 體而言，玻璃基板 吸引機構26的上 勺噴嘴之先端部3 8 -18 - (15) 1261041 約 100// m 〜200// mo 之後，藉由驅動機構22來移動滑件20，朝搬運方向 X以所定速度搬運玻璃基板2 8。當玻璃基板2 8來到塗布 領域時，則藉由空氣吐出吸引機構26在玻璃基板28的下 面2 8 a進行空氣的吐出及吸引。由此，玻璃基板2 8是在 空氣吐出吸引機構26上浮起的狀態下，在塗布領域中被 矯正撓曲，而提昇玻璃基板28的平面度。 如上所述地，在塗布領域中於玻璃基板2 8的下面 28a進行空氣的吐出及吸引，同時藉由塗布裝置14將塗 布液塗布在塗布玻璃基板28的上面28b。在此，提高玻 璃基板2 8的平面度之故，因而可將塗布液均勻地塗布在 玻璃基板2 8的上面2 8 b。如第5圖所示地，這時候，在 空氣吐出吸引機構26的上方且相鄰接於塗布裝置1 4前段 般地設置空氣吐出機構（第二氣體吐出機構）42，在塗布 領域的塗布的前段將空氣吐出至玻璃基板28的上面28b 較理想。構成如此，更提高玻璃基板2 8的平面度，成爲 可進行更均勻的塗布。 然後，對於通過塗布領域而被搬運至基座1 6的後段 的經塗布的玻璃基板28，來解除保持構件24所致的吸附 。之後，將玻璃基板28搬出至系統之外，同時爲了對於 下一玻璃基板28的塗布，將保持構件24回到基座16的 前段。 以上，在本實施形態中，可得到與第一實施形態同樣 的作用效果。特別是在本實施形態中，導軌1 8以一軸所 -19- (16) 1261041 構成之故，因而與以二軸所構成時相比較’作爲驅動機構 22的線性馬達機構僅一邊就足夠，而可減低成本。這時 候，在基座1 6上的塗布領域以外的領域中，具備將空氣 從基座16側朝玻璃基板28的下面28a吐出的空氣吐出機 構66之故，因而藉由所吐出的空氣來抬高玻璃基板28就 可減輕施加於保持構件24的重量負載，成爲可容易地搬 運玻璃基板2 8的搬運。 又，可強制地調整正常與基座16的上面16a平行的 面內的玻璃基板2 8的旋轉之故，因而防止玻璃基板2 8的 旋轉，成爲可進行塗布液的更均勻的塗布。 (弟二貫施形態） 以下，說明本發明的第三實施形態。又，與第一及第 二實施形態相同要素賦予相同符號，省略重複的說明。 第9圖是表示第三實施形態的檢查系統80的構成的 立體圖。又第10圖是表示該檢查系統80的俯視圖。又， 在第10圖中，起重台架40是以一點鏈線來表示。 如第9圖及第1 〇圖所示地，本實施形態的檢查系統 8〇’是具備有搬運裝置12與檢查裝置82。搬運裝置12 是與第一實施形態的塗布系統i 〇的搬運裝置同樣之故， 因而省略說明。 檢查裝置82是從上面28b側檢查玻璃基板28。作爲 檢查裝置82，可舉出有CCd攝影機的攝影裝置，或是照 射雷射光而受光其反射光的雷射計測裝置。依照攝影裝置 -20- (17) 1261041 ，得到形成在如玻璃基板2 8上的電路圖案等的光學像， 由此成爲可檢查不良品等的檢查。又，作爲檢查裝置82 ，並不被限定於此些CCD攝影機或是雷射計測裝置，包 含所有以非接觸可檢查玻璃基板2 8的狀態下可檢查的公 知裝置。 該檢查裝置82是在設置於基座16上的起重台架40 ，經由滑動構件84被安裝。滑動構件84是沿著起重台架 40朝寬度方向Y移動。因此，被安裝於滑動構件84的檢 查裝置82是成爲朝寬度方向Y，成爲可進行對於玻璃基 板2 8的寬度方向Y的掃描。又，檢查裝置8 2本身，對 於滑動構件84朝垂直方向Z移動，由此，以基座1 6上的 所定高度位置可支持檢查裝置82。因此，在攝影裝置中 ，可得到聚焦的光學像，在雷射計測器中成爲可提高資料 精確度，而可提高檢查精確度。 以下，說明使用上述的檢查系統8 0的玻璃基板2 8的 檢查方法。 首先，比基座16上的檢查裝置82更前段，藉由如具 保持構件24，在寬度方向Y的側緣部吸附並保持玻璃基 板2 8。這時候，玻璃基板2 8是在從基座1 6的上面1 6 a 隔離的狀態而被保持。更詳細地，玻璃基板2 8是在檢查 領域（一部領域）中，從空氣吐出吸引機構26上面隔離 約 1 0 μ m。 然後，藉由驅動機構22來移動滑件20。朝搬運方向 X以所定速度搬運玻璃基板2 8。又’當玻璃基板2 8來到 -21 - (18) 1261041 檢查領域時，藉由空氣吐出吸引機構2 6於玻璃I 下面2 8 a進行空氣的吐出及吸引。由此，玻璃基 在空氣吐出吸引機構2 6上浮起的狀態下，在檢 來矯正彎曲，可提高玻璃基板28的平面度。又 施形態中，矯正玻璃基板2 8的彎曲是在最大右 //m至100//m左右者。這時候，如第4圖所示 設於空氣吐出吸引機構26的複數孔26a，相鄰 孔（以白圈表示）與吐出用孔（以黑圈表示）般 玻璃基板2 8均勻地進行空氣的吸引與吐出較理 如此，可更提高玻璃基板2 8的平面度。 然後，如上述地，在檢查領域中，於玻璃基 下面2 8 a進行空氣的吐出及吸引，同時對於搬運 止搬運玻璃基板2 8。 又，朝滑動構件8 4朝寬度方向Y滑動，並 基板28上，這時候，視需要來微調檢查裝置82 向的位置較理想。當完成掃描，則在搬運方向 所定距離，再停止搬運之後，進行第二次的掃描 當進行複數次掃描，藉由檢查裝置82而從上面 玻璃基板2 8。在此，玻璃基板2 8的平面度是被 ，因而可提高玻璃基板28的檢查精確度。這時 1 1圖所示地，位在空氣吐出吸引機構26上方於 8 2的前段設置空氣吐出機構4 2，在檢查領域的 於玻璃基板28的上面28b吐出空氣較理想。構 玻璃基板28的平面度會被更提高，成爲可進行 S板2 8的 :板28是 查領域中 ，在本實 Ϊ置爲1〇 地，對於 接吸引用 地，對於 想。構成 板2 8的 方向X停 掃描玻璃 的垂直方 X僅移動 。如此地 2 8 b檢查 提高之故 候，如第 檢查裝置 檢查前段 成如此， 更高精確 -22- (19) 1261041 度。又，空氣吐出機構42是在空氣吐出吸引機 方設在檢查裝置3 2的前段也可以，或是設在前 方也可以。又，如第1 2圖所示地，在攝影裝置 空氣吐出機構42設於透鏡周圍，在雷射計測裝 射光的入出射部周圍，設置環狀空氣吐出機構 檢查裝置82成爲一體化也可以。 然後，對於通過檢查領域而在被搬運至基座 段的經檢查的玻璃基板2 8，來解除保持構件24 附。又，將玻璃基板2 8搬出至系統之外，同時 下一玻璃基板2 8的檢查，將保持構件24回到3 前段。 如上所詳述地，在本實施形態中，在移動 2 8時並不需要基座別地移動之故，因而可得到 所需的推力。又，與基座別地移動時相比較，可 或被傳至玻璃基板2 8的熱量。又，藉由空氣吐 構2 6對於玻璃基板2 8可進行空氣的吐出及吸引 而在檢查領域中可抑制玻璃基板2 8的彎曲。結 查領域中成爲在提高玻璃基板2 8的平面度的狀 以檢查，成爲可提高檢查精確度。 其他，在本實施形態中，藉由與第一實施形 系統1 〇相同構成，可得到同樣的作用效果。 又，本發明是並不被限定於上述的實施形態 各種變形。例如第一實施形態的搬運裝置1 2是 施形態的搬運裝置62同樣地，在塗布領域以外 _ 2 6的上 後段的雙 將環狀的 置是於雷 42，而與 1 6的後 所致的吸 爲了對於 B座1 6的 玻璃基板 減低搬運 減低振動 出吸引機 之故，因 果，在檢 態下可加 態的塗布 ，可作爲 與第二實 的領域具 •23- (20) 1261041 備空氣吐出機構66也可以。 又在第一實施形態的搬運裝置1 2中，也與第二實施 形態的搬運裝置62同樣地，是強制地調整正常與基座1 6 的上面1 6 a平行的面內的玻璃基板2 8的旋轉也可以。 又，驅動機構22的定子3 0是設置於地板面F上，從 基座1 6分開而設置較理想。構成如此，可成爲藉由將驅 動機構22予以驅動所產生的反作用避開至系統之外。 又，藉由沿著輸送方向X的方向的基座1 6的隅部來 構成引導構件；滑件20是藉由該隅部所引導般地構成也 可以。構成如此，省略了導軌1 8就可減少零件數。 又，如第1 3圖所示地，在第二實施形態的塗布系統 60的搬運裝置62中，由基台部70與空氣機構72構成基 座1 6，將空氣機構部72施以硏削加工，並一體地構成空 氣吐出吸引機構28與空氣吐出機構66較理想。構成如此 ，可省略合倂空氣吐出吸引機構26的高度與空氣吐出機 構6 6的高度的作業，可得到製造的效率化。 又，在上述的實施形態中，滑件20是設置兩個於一 具導軌1 8，惟以具有與玻璃基板2 8的搬運方向X的長度 相同程度的長度的一個構件構成滑件2 0也可以。構成如 此，可加長吸附部3 4的長度，並可提高吸附力。又，減 少滑件20的數而可減少零件數。 又，在第一實施形態的塗布系統1 0及第三實施形態 的檢查系統8 0的二軸搬運裝置1 2中，如下地進行玻璃基 板28的保持也可以。保持構件24是具有如第14圖及第 -24- (21) 1261041 1 5圖所示的保持機構90。該保持機構90是包含：沿著搬 運方向X延伸的基體部92，及從基體部92朝寬度方向Y 延設的複數支持樑部94，及分別設在複數支持樑部94的 前端，且吸附玻璃基板28並加以保持所用的吸附部96。 基體部92的長度是與玻璃基板28的搬運方向X的長度 相同程度。各該複數支持樑部94是針對於垂直方向Z至 少具有彈性，同時在本身的軸α周圍具有扭轉性。又，各 該複數支持樑部94是具有搬運方向X，寬度方向γ，及 垂直方向Ζ的彈性，且具有此些的軸周圍的扭轉性，具有 6自由度最適當。在支持樑部94的前端，爲了確實地裝 載吸附部96而設寬廣的裝載部98。 該保持機構9 0被連結於可滑動地設於導軌丨8的兩個 滑件20的內側。更具體地，在成爲基準的其中一方的導 軌1 8之一側，保持機構9 0是將基板部9 2直接連結於兩 個滑件2 0，而在另一方的導軌1 8的一側，經由彈性構件 9 9使得保持機構9 0的基板部9 2被連結於兩個滑件2 0。 藉由此，另一方的導軌1 8之側變爲在γ方向具有彈性。 其結果，在另一方的導軌1 8有變形時，則以其中一方的 導軌1 8側作爲基準，成爲可調整正常玻璃基板2 8的寬度 方向Υ的偏差或與基座16的上面16a平行面內的玻璃基 板2 8的旋轉。作爲該彈性構件9 9，可舉出有如朝寬度方 向Y具有彈性的彈板片等的彈性體。 此些支持樑部94是由如SUS等材料可形成。作爲典 型的尺寸，有長度T1爲約l〇〇mm，寬度T2爲約l〇mm， -25- (22) 1261041 又厚度T 3爲約1 .5 m m。由此，支持樑部9 4是在軸α的周 圍可具有±2度左右的扭轉性。 在此如第1 6圖所示地，在基座1 6上的塗布領域或檢 查領域中，藉由空氣吐出吸引機構26對於玻璃基板28進 行空氣的吐出及吸引，使得玻璃基板2 8的高度在搬運方 向X成爲不相同者。該高度的相差d是有成爲50//m至 2 0 0 // m左右。這時候，追隨於玻璃基板2 8的變形未適當 地加以保持，則產生破裂或裂縫等而有損及玻璃基板2 8 之虞。對此，若藉由上述保持機構90來保持玻璃基板28 ，則複數支持樑部94是至少對於垂直方向Z具有彈性， 同時在本身的軸α周圍具有扭轉性之故，因而追隨於玻璃 基板2 8的變形而可確實地加以保持，可減低損及玻璃基 板2 8之虞。 又，在第二實施形態的塗布系統60所具備的一軸搬 運裝置62中，如下地進行玻璃基板28的保持也可以。如 第17圖及第18圖所示地，保持構件24是具有彈板部 102與吸附部104。此些保持構件24是經由彈板部102分 別連結於兩個滑件20。彈板部1 02是至少在垂直方向Ζ 具有彈性。被裝載於彈板部1 02前端的吸附部1 04，是藉 由空氣抽引來吸附玻璃基板2 8並加以保持的構件，如第 1 8圖所示地，可旋轉地設在沿著垂直方向Ζ的軸0的周 圍。 在保持使用上述保持構件24的玻璃基板2 8中，以各 該保持構件24來偏離吸附部1 04的寬度方向Υ的位置。 -26- (23) 1261041 由此，以各該保持構件24吸附玻璃基板28並加以保持 保持位置，對於寬度方向Y不相同。該偏離量Ay是如 所述地設定成可調整正常玻璃基板2 8的一度左右的旋 量較理想。例如，欲搬運搬運方向X的長度爲200mm 玻璃基板2 8時，則偏離量Ay是1 mm以下較理想。 又，在保持使用上述保持構件24的玻璃基板2 8中 各該滑件20是設成可獨立地控制速度。亦即，在上述 二實施形態中’各該滑件2 0是設成藉由一^個驅動體3 3 保持一定距離下同步且可移動的狀態’惟在此，各該滑 20是藉由各該驅動體3 3可獨立並加以控制速度。 如第1 9圖所示地，由此，兩個滑件2 0以同一速度 移動時，玻璃基板2 8的保持位置爲A點及B點，惟將 方滑件20的速度v2作成比後方滑件20的速度vl僅 Δ v，則玻璃基板2 8的保持位置成爲A點及C點。又將 方滑件20的速度v2作成比後方滑件20的速度vl僅 △ v，則玻璃基板2 8的保持位置成爲A點及D點。如此 ，控制前方滑件20的速度v2與後方滑件20的速度vl 則前方保持構件24所致的玻璃基板2 8的保持位置B的 跡，成爲描繪以A點作爲中心的半徑1的圓弧（在第 圖中以虛線表示）。結果’如弟2 0圖所不地’當導軌 變形時，控制前方滑件20的速度v2與後方滑件20的 度vl，則成爲可調整正常與基座16的上面16a平行的 內的玻璃基板2 8的旋轉。 又在上述第三實施形態中’作成藉由滑動構件8 4 的 下 轉 的 第 仍 件 被 刖 大 丄.，· 刖 小 地 軌 19 18 速 面 朝 -27- (24) 1261041 寬度方向滑動檢查裝置8 2，並掃描玻璃基板2 8的構成， 惟作成將檢查裝置82利用朝寬度方向Y列狀排列的檢查 裝置列來構成檢查系統也可以。構成如此，不必朝橫方向 Y來掃描玻璃基板2 8，可提高檢查效率。 又在上述第一及第二實施形態中，說明了對於玻璃基 板2 8上塗布光阻的情況，惟也可適用於層積形成濾色片 時的油墨塗布等。 又在上述實施形態中，說明了作爲被搬運物來搬運玻 璃基板28的情形，惟被搬運物是薄膜或半導體基板等的 容易產生彎曲的其他構件也可以。 本發明的搬運裝置是也可適用於如製造電漿顯示屏（ PDP )的PDP製造裝置，或進行半導體基板的缺陷等檢查 裝置等在所定作業時不希望被搬運物產生彎曲的其他系統 【圖式簡單說明】 第1圖是表示第一實施形態的塗布系統的構成的立體 圖。 第2圖是表示第一實施形態的塗布系統的構成的俯視 圖（塗布裝置及起重台架是以一點鏈線表示）。 第3圖是表示搬運裝置的構成的一部分擴大部。 第4圖是表示對於具有空氣吐出吸引機構的複數孔， 說明吸引用的孔（以白圈表示）及吐出用孔（以黑圈表示 )相鄰接的狀態的圖式。 -28- (25) 1261041 第5圖是表示藉由設置塗布裝置的前段的空氣吐出機 構將空氣吐出至玻璃基板的上面的樣子的圖式。 第6圖是表示第二實施形態的塗布系統的構成的俯視 圖（塗布裝置及起重台架是以一點鏈線表示）。 第7圖是表示用以說明藉由導軌的彎曲使得玻璃基板 在與基座的上面平行的面內進行旋轉的樣子的圖式。 第8圖是表示用以說明調整正常導軌的彎曲所致的玻 璃基板的旋轉的樣子的圖式。 第9圖是表示第三實施形態的檢查系統的構成的立體 圖。 第1 〇圖是表示第三實施形態的檢查系統的構成的俯 視圖。 第11圖是表示藉由設於檢查裝置前段的空氣吐出機 構將空氣吐出至玻璃基板上面的樣子的圖式。 第1 2圖是表示與檢查裝置一體化的空氣吐出機構的 圖式。 第1 3圖是表示用以說明搬運裝置的變形例的圖式。 第1 4圖是表示用以說明搬運裝置的其他變形例的圖 式。 第1 5圖是表示具備第1 4圖的搬運裝置的保持機構的 立體圖。 第1 6圖是表示說明藉由空氣吐出吸引機構來變形玻 璃基板的樣子的圖式。 第1 7圖是表示用以說明搬運裝置的其他變形例的圖 -29- 1261041 第__Ι 8圖是表^具備第〃圖护搬運裝置的保持搆&护 構或，—7體圖： 夫.:::―圖墨：表=钙：¾璃基S η洗Μ '二置與.着4速Ϊ π關係叼圖瓦= 第2 0圖是表示吊以說明在第1 1圖的搬運裝置中調整 正常導軌的變形所致的玻璃基板的旋轉的樣子的圖式。 【主要元件符號說明】 1 0 :塗布系統 12，62 :搬運裝置 14 :塗布裝置 1 6 :基座 1 8 :導軌 2 〇 :滑件 24 :保持構件 2 6 :空氣吐出吸引機構 2 8 :玻璃基板 3 4 :吸附部 3 6 :彈板部 42 :空氣吐出機構 6 6 :空氣吐出機構 8 〇 :檢查系統 8 2 :檢查裝置 -30- (27) 1261041 90 :保持機構 92 :基體部 94 :支持樑部 9 6 :吸附部 X :搬運方向 -31

Claims (1)

1261041 (1) 十、申請專利範圍 1·-種搬運裝置，其特徵爲具備： 具有朝被搬運物的搬運方向X延伸的主面的基座； 朝上述搬運方向X延伸的引導構件； 被上述引導構件引導而可朝上述搬運方向X移動的 移動構件； 被固定於上述移動構件而從上述主面隔著間隙而保持 上述被搬運物的保持構件；以及 在上述基座上的上述搬運方向X的一部分領域中， 對於朝該搬運方向X搬運的上述被搬運物進行氣體的吐 出及吸引所用的氣體吐出吸引機構。 2 ·如申請專利範圍第i項所述的搬運裝置，其中，上 述保持構件是吸附上述被搬運物而可保持。 3 .如申請專利範圍第i項所述的搬運裝置，其中，上 述引導構件是以一軸所構成。 4 ·如申請專利範圍第1項所述的搬運裝置，其中，上 述保持構件是針對於上述基座的上述主面的法線方向具有 彈性。 5 .如申請專利範圍第1項所述的搬運裝置，其中，上 述保持構件是針對於正交於上述基座主面的法線方向及搬 運方向的雙方向的方向具有彈性。 6 ·如申請專利範圍第1項所述的搬運裝置，其中，具 備將在平行於上述基座的上述主面的面內的上述被搬運物 的旋轉調整正常的調整正常旋轉手段。 -32- (2) 1261041 7 ·如申請專利範圍第1項所述的搬運裝置’其中，在 上述基座上的上述一部分領域以外的領域中’具備從上述 基座側朝上述被搬運物吐出氣體的第一氣體吐出機構。 8 .如申請專利範圍第1項所述的搬運裝置，其中，上 述被搬運物是玻璃基板。 9 . 一種塗布系統，其特徵爲具備： 申請專利範圍第1項所述的搬運裝置，及 對於上述被搬運物塗布塗布液所用的塗布裝置； 上述氣體吐出吸引機構是在上述一部分領域中，將上 述氣體吐出及吸引至具有相對向的一對主面的上述被搬運 物的其中一方的主面側； 上述塗布裝置是在上述一部分領域中，將上述塗布液 塗布於上述被搬運物的另一方的主面側。 1 〇 .如申請專利範圍第9項所述的塗布系統，其中， 在上述一部分領域中，位於比上述塗布裝置還前段具備於 上述另一方的主面側將氣體吐出至上述被搬運物的第二氣 體吐出機構。 1 1 · 一種塗布方法，屬於一面搬運具有相對向的一對 主面的被搬運物一面塗布塗布液的方法，其特徵爲：對於 上述被搬運物一面將氣體吐出及吸引至其中一方的主面側 ，一面將上述塗布液塗布於另一方的主面側。 1 2 · —種檢查系統，其特徵爲具備： 申請專利範圍第1項所述的搬運裝置，及 進行上述被搬運物的檢查所用的檢查裝g ; -33- 1261041 (3) 上述氣體吐出吸引機構是在上述一部分領域中，將上 述氣體吐出及吸引至具有相對向的一對主面的上述被搬運 物的其中一方的主面側； 上述檢查裝置是在上述一部分領域中，從上述被搬運 物的另一方的主面檢查該被搬運物。 1 3 .如申請專利範圍第1項所述的搬運裝置，其中， 上述保持構件是具有包含： 沿著上述搬運方向延伸的基體部； 從上述基體部朝正交於上述基座的上述主面的法線方 @及上述搬運方向的雙方的方向延設的複數支持樑部；以 及 分別設於上述複數支持樑部的前端，用以吸附加以保 持上：述被搬運物的吸附部的保持機構； 上述複數支持樑部是至少對於上述基座的上述主面的 法線方向分別具有彈性，同時具有本體軸周圍的扭轉性。 1 4 .如申請專利範圍第3項所述的搬運裝置，其中， 分別具備兩個上述移動構件及上述保持構件； 各該上述移動構件是設置成可獨立地控制速度； 依各該上述保持構件的上述被搬運物的保持位置，針 對於正交於上述基座的上述主面的法線方向及上述搬運方 向的雙方的方向形成偏離。 1 5 . —種保持機構，屬於保持板狀體的保持機構，其 特徵爲具備： 沿著所定方向延伸的基體部； -34- (4) 1261041 從上述基體部朝與上述所定方向交 數支持樑部；以及 分別設於上述複數支持樑部的前端 狀體並加以保持的吸附部； 各該上述複數支持樑部是至少對於 向及該支持樑部的延設方向的雙方的方 具有本體軸周圍的扭轉性。 的方向延設的夺复 用以吸附上述板 交於上述所定方 具有彈性，同時 -35- 1261041 七 圖 明 \)y J 1說 C單 第簡 :號 為符 圖件 表元 代之 定圖 :指表 圖案代 表本本 代 定一二 ^,θ Γν /IV a 2 4 6 6 8 0 2 機構吐h基體構前台 布運布座hs軌件動持氣1¾璃動結嘴重 塗搬塗基±導滑驅保空丨玻驅連噴起 統置置 系裝裝 構 機 引 吸 構件出 孔 板 咅 件端架 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：無