JP6349388B2 - ウェットプロセス装置 - Google Patents
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Description
しかしながら、上記特許文献1で開示されるウェットプロセス装置では、搬送ローラの回転機構をウェット雰囲気外に設けられた外部室に配設するとともに排気手段をこの外部室に設けることで、ウェット雰囲気内のガラス基板に塵や埃が付着することを防止する。このため、このように搬送ローラの回転機構や排気手段を外部室に配設することで、装置が全体として大型化し、また、部品点数が多くなる問題があった。
本明細書で開示される技術は、軸状に延在し、搬送部材を搬送方向に沿って搬送する搬送ローラと、前記搬送ローラをその軸周りに回転可能に支持する軸受部と、前記軸受部を保持する保持部材であって、液体収容部を有し、該液体収容部内に前記軸受部の摺接部位の少なくとも一部が露出するものとされた保持部材と、を備える搬送装置に関する。
本明細書で開示される技術によれば、装置の大型化を回避しながら、軸受部から発生した塵や埃が搬送部材に付着することを防止ないし抑制できる搬送装置及びウェットプロセス装置を提供することができる。
図1から図12を参照して実施形態1を説明する。本実施形態では、液晶表示装置10の構成部品である液晶パネル11の製造過程において、ガラス基板30Aの表面に対して洗浄処理を施しながらガラス基板30Aを搬送する洗浄装置50(図7参照)について例示する。なお、各図面の一部にはX軸、Y軸およびZ軸を示しており、各軸方向が各図面で共通した方向となるように描かれている。また、図1、図3、及び図5では、図の上側を液晶表示装置10の上側(表側)とする。
図13及び図14を参照して実施形態2を説明する。実施形態2は、搬送装置における搬送ローラ162の構成、軸受部164の構成、軸受部164による搬送ローラ162の支持態様、及びフレーム166における軸受部164の保持態様が実施形態1のものとそれぞれ異なっている。その他の構成については実施形態1と同様であるため、構造、作用、及び効果の説明は省略する。なお、図13、図14において、それぞれ図10、図11の参照符号に数字100を加えた部位は、実施形態1で説明した部位と同一である。
図15及び図16を参照して実施形態3を説明する。実施形態3は、搬送装置260におけるフレーム266の構成が実施形態1のものとそれぞれ異なっている。その他の構成については実施形態1と同様であるため、構造、作用、及び効果の説明は省略する。なお、図15、図16において、それぞれ図7、図9の参照符号に数字200を加えた部位は、実施形態1で説明した部位と同一である。
(1)上記の各実施形態では、洗浄装置が備える搬送装置の構成について例示したが、洗浄装置以外でガラス基板に対してウェットプロセスを施す装置、即ちレジスト塗布装置、現像装置、ウェットエッチングを行うエッチング装置、及びレジスト剥離装置の各装置に上述したような液体収容部が設けられた搬送装置を適用してもよい。この場合、各装置において用いる処理液に軸受部の軸軸受側凹部から発生した塵や埃が紛れ込んだとしても、当該塵や埃を液体収容部内に流し込まれた純水によって流し落とすことができ、当該塵や埃が搬送装置によって搬送されるガラス基板上に付着することを防止ないし抑制することができる。
Claims (6)
- 軸状に延在し、基板を搬送方向に沿って搬送する搬送ローラと、
前記搬送ローラをその軸周りに回転可能に支持する軸受部と、
前記軸受部を保持する保持部材であって、液体を収容する液体収容部を有し、該液体収容部内に前記軸受部の摺接部位の少なくとも一部が露出するものとされた保持部材と、を備え、
前記搬送ローラはその延在方向が前記搬送方向と直交する形で該搬送方向に複数が並列配置され、
前記軸受部は前記搬送ローラの両端部にそれぞれ配され、
前記液体収容部が、複数の前記軸受部の前記露出する部位が前記液体に浸かるよう、前記搬送方向に沿って複数の前記軸受部に跨がるように溝状に延在する、搬送装置と、
前記搬送方向に沿って搬送される前記基板にウェットプロセスを施すウェットプロセス槽と、を備え、
前記保持部材は、搬送方向に沿って壁状に延在する本体部であって、当該本体部における前記軸受部を保持する部分の下方が、前記搬送装置の外側に迫り出した迫り出し部として構成される本体部と、前記本体部とは別部材にて構成され前記迫り出し部の外面に固定される外板と、前記本体部とは別部材にて構成され前記本体部の前記軸受部を保持する部分の内側に固定される内板と、を備え、
前記液体収容部は、前記本体部と前記外板と複数の前記内板で形成され、
前記外板の下側部分が前記迫り出し部の外面に固定され、
複数の前記内板は、その上端が前記搬送ローラのシャフト部の縮径部と近接した状態で、その下端が前記本体部の前記軸受部を保持する部分の内側に固定されているウェットプロセス装置。 - 前記外板は、その上端が前記搬送ローラの回転軸とほぼ同じ高さに位置され、
複数の前記内板は、その上端が、前記搬送ローラのシャフト部の外面よりも前記シャフト部の径方向において内側に入り込むよう前記縮径部に近接している請求項1に記載のウェットプロセス装置。 - 前記軸受部は、前記搬送ローラの軸周りに配された環状の環状部と、前記搬送ローラと前記環状部との間に介在し、前記環状部によって摺動可能に支持される複数のボールと、を有するボールベアリングであり、
前記摺接部位は、前記環状部のうち前記複数のボールを支持する部位である、請求項1または2に記載のウェットプロセス装置。 - 前記液体収容部の延在方向の一端部に前記液体収容部内に液体を供給する液体供給部が設けられ、前記液体収容部の延在方向の他端部に前記液体収容部内を流れる液体を排出する液体排出部が設けられており、前記一端部側から前記他端部側に向かって前記液体収容部を液体が流れる、請求項1から3のいずれか1項に記載のウェットプロセス装置。
- 前記液体収容部は、前記一端部が前記搬送方向の上流側に配されるとともに前記他端部が前記搬送方向の下流側に配され、前記搬送方向の上流側から下流側に向かって前記液体収容部を液体が流れる、請求項4に記載のウェットプロセス装置。
- 前記外板は、透明な板状部材からなる、請求項1から4のいずれか1項に記載のウェットプロセス装置。
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