CN106458459A - 搬运装置和湿式处理装置 - Google Patents

Abstract

搬运装置具有：搬运辊(62)，其按轴状延伸，沿着搬运方向搬运玻璃基板；轴承部(64)，其支撑搬运辊(62)，使搬运辊(62)能绕搬运辊(62)的轴旋转；以及框架(66)，其保持轴承部(64)，具有液体收纳部(70)，轴承部(64)的滑动接触部位的一部分在液体收纳部(70)内露出。通过使液体流入液体收纳部(70)内，能使轴承部(64)的滑动接触部位中的在液体收纳部(70)内露出的部位浸入液体，利用液体收纳部(70)内的液体将上述尘埃从该滑动接触部位洗掉。

Description

搬运装置和湿式处理装置

技术领域

本说明书公开的技术涉及搬运装置和湿式处理装置。

背景技术

以往，已知在作为液晶显示装置的主要构成部件的液晶面板的制造过程中，一边利用搬运装置搬运玻璃基板一边对玻璃基板的表面实施清洗处理、抗蚀剂涂敷处理等湿式处理的湿式处理装置。湿式处理装置所具备的搬运装置通常是轴状的搬运辊和轴承部沿着玻璃基板的搬运方向配置有多个而构成的，轴承部配置在搬运辊的两端部，以使搬运辊能绕其轴旋转的方式支撑搬运辊。

在这种搬运装置中，有时在搬运辊旋转时会由于滑脱等而搬运辊与轴承部之间发生滑动，从而导致轴承部的滑动接触部位发生磨损，从该滑动接触部位产生锈粉等尘埃。其结果是，从滑动接触部位产生的尘埃等有时会附着于玻璃基板的表面。因此，例如下述专利文献1公开了能防止从搬运装置的轴承部产生的这种尘埃附着于玻璃基板的湿式处理装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特许第3233243号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在上述专利文献1公开的湿式处理装置中，将搬运辊的旋转机构配置在设置于湿气氛外的外部室，并且将排气单元设置于该外部室，从而防止尘埃附着于湿气氛内的玻璃基板。因此，这样将搬运辊的旋转机构、排气单元配置在外部室，会导致装置在整体上会大型化，另外，存在部件个数变多的问题

本说明书中公开的技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供能避免装置的大型化并且防止或抑制从轴承部产生的尘埃附着于搬运构件的搬运装置和湿式处理装置。

用于解决问题的方案

本说明书中公开的技术涉及一种搬运装置，具备：搬运辊，其按轴状延伸，沿着搬运方向搬运搬运构件；轴承部，其支撑上述搬运辊，使上述搬运辊能绕上述搬运辊的轴旋转；以及保持构件，其保持上述轴承部，具有液体收纳部，上述轴承部的滑动接触部位的至少一部分在该液体收纳部内露出。

在上述搬运装置中，通过使纯水等液体流入液体收纳部内，能使轴承部的滑动接触部位中的在液体收纳部内露出的部位浸入液体。其结果是，液体收纳部内的液体能发挥作为轴承部的润滑剂的功能，能防止或抑制在轴承部的滑动接触部位产生尘埃。另外，即使在轴承部的滑动接触部位产生了尘埃，也能利用液体收纳部内的液体将上述尘埃从该滑动接触部位洗掉，能防止或抑制上述尘埃附着于搬运构件。另外，只需在保持构件中设置液体收纳部就能防止或抑制上述尘埃附着于搬运构件，因此能避免装置大型化。这样，在上述搬运装置中，能避免装置的大型化并且能防止或抑制从轴承部的滑动接触部位产生的尘埃附着于搬运构件。

也可以是，上述轴承部是滚珠轴承，具有：环状的环状部，其绕上述搬运辊的轴配置；以及多个滚珠，其介于上述搬运辊与上述环状部之间，由上述环状部支撑而能滑动，上述滑动接触部位是上述环状部中的支撑上述多个滚珠的部位。

根据该构成，能提供轴承部和滑动接触部位的具体构成。

也可以是，上述液体收纳部按槽状延伸。

根据该构成，流入液体收纳部后的液体会沿着液体收纳部的延伸方向流动，因此能利用液体流动所产生的力将在轴承部的滑动接触部位产生的尘埃等有效地洗掉。

也可以是，在上述液体收纳部的延伸方向的一端部设置有向上述液体收纳部内供应液体的液体供应部，在上述液体收纳部的延伸方向的另一端部设置有将在上述液体收纳部内流动的液体排出的液体排出部。

在该构成中，在液体供应部中向液体收纳部内依次供应新的液体，并且将洗掉轴承部表面的尘埃后的液体在液体排出部中从液体收纳部依次排出，由此能有效地将在轴承部的滑动接触部位产生的尘埃等洗掉。

也可以是，上述液体收纳部以上述一端部配置在上述搬运方向的上游侧并且上述另一端部配置在上述搬运方向的下游侧的形式沿着上述搬运方向延伸。

根据该构成，能从搬运方向的上游侧往下游侧按顺序将在轴承部的滑动接触部位产生的尘埃等洗掉。

也可以是，上述搬运构件是基板，上述搬运辊以其延伸方向与上述搬运方向正交的形式在该搬运方向上并列配置有多个，上述轴承部分别配置在上述搬运辊的两端部。

根据该构成，能提供用于搬运作为搬运构件的基板的搬运装置的具体构成。

本说明书中公开的另一技术是一种湿式处理装置，具备：上述搬运装置；以及湿式处理槽，其对沿着上述搬运方向搬运的上述基板进行湿式处理。

在帧对基板的清洗处理、涂敷处理等湿式处理中，对基板的表面喷射清洗水，使所喷射的清洗水在湿式处理槽内循环，再次用作清洗水。因此，在尘埃等流出到清洗水内的情况下，这些尘埃等容易附着于基板。在上述湿式处理装置中，利用液体收纳部内的液体将尘埃从轴承部的滑动接触部位洗掉，因此能防止或抑制尘埃等流出到清洗水内。其结果是，能防止或抑制在湿式处理槽内从轴承部的滑动接触部位产生的尘埃等附着于基板。此外，在本说明书中所说的湿式处理不限于基板的清洗处理、基板的涂敷处理，也可以包括基板的浸渍处理等其它处理。

发明效果

根据在本说明书中公开的技术，能提供一种能避免装置的大型化并且能防止或抑制从轴承部产生的尘埃附着于搬运构件的搬运装置和湿式处理装置。

附图说明

图1是示出沿着长边方向切断液晶显示装置的截面的概略截面图。

图2是液晶面板的概略俯视图。

图3是示出液晶面板的截面构成的概略截面图。

图4是示出构成液晶面板的阵列基板中的显示区域的平面构成的俯视图。

图5是图4的V-V截面的截面图，是示出阵列基板的一部分的截面构成的截面图。

图6是用于说明各制造装置对玻璃基板的处理过程的框图。

图7是实施方式1的搬运装置的侧面图。

图8是搬运装置的俯视图。

图9是在搬运方向的下游侧端部将搬运装置放大的放大立体图。

图10是轴承部的主视图。

图11是图10的XI-XI截面的截面图，是纯水流入了液体收纳部的状态下的轴承部附近的截面图。

图12是纯水流入了液体收纳部的状态下的轴承部的主视图。

图13是实施方式2的搬运装置的轴承部的主视图。

图14是图13的XIV-XIV截面的截面图，是纯水流入了液体收纳部的状态下的轴承部附近的截面图。

图15是实施方式3的搬运装置的截面图。

图16是将搬运装置的一部分放大的放大立体图。

图17是示出在实施例中应用了本发明前后的栅极绝缘膜异物和栅极绝缘膜缺损的检测结果的表。

图18是示出在实施例中应用了本发明前后的层间绝缘膜异物和层间绝缘膜缺损的检测结果的表。

具体实施方式

＜实施方式1＞

参照图1至图12对实施方式1进行说明。在本实施方式中，示出了在作为液晶显示装置10的构成部件的液晶面板11的制造过程中，一边对玻璃基板30A的表面实施清洗处理一边搬运玻璃基板30A的清洗装置50(参照图7)的例子。此外，在一部分附图中示出了X轴、Y轴和Z轴，各轴方向在各附图中描绘为共同的方向。另外，在图1、图3以及图5中，将图的上侧设为液晶显示装置10的上侧(表侧)。

首先对液晶显示装置10以及液晶面板11的构成进行说明。如图1和图2所示，液晶显示装置10具备：液晶面板11；IC芯片17，其安装于液晶面板11，是驱动该液晶面板11的电子部件；控制基板19，其从外部对IC芯片17供应各种输入信号；柔性基板18，其将液晶面板11和外部的控制基板19电连接；以及背光源装置14，其是对液晶面板11供应光的外部光源。另外，液晶显示装置10具备用于收纳并保持相互组装后的液晶面板11和背光源装置14的表里一体的外部构件15、16，其中，在表侧的外部构件15中设置有用于从外部观察在液晶面板11中显示的图像的开口部15A。

如图1所示，背光源装置14具备：底座14A，其呈向表侧开口的大致箱型；配置在底座14A内的未图示的光源(冷阴极管、LED、有机EL等)；以及以覆盖底座14A的开口部的形式配置的未图示的光学构件。光学构件具有将从光源出射的光变换为面状光等的功能。通过光学构件后成为面状的光入射到液晶面板11，用于在液晶面板11中显示图像。

如图2所示，液晶面板11整体上呈纵长的矩形，其长边方向与各附图的Y轴方向一致，其短边方向与各附图的X轴方向一致。在液晶面板11中，在其大部分中配置有能显示图像的显示区域A1，在其长边方向的偏向一方端部侧(图2所示的下侧)的位置配置有不显示图像的非显示区域A2。在非显示区域A2的一部分，隔着各向异性导电膜(未图示)通过压接连接而安装有IC芯片17和柔性基板18。此外，如图1所示，在液晶面板11中，比后述的彩色滤光片基板20小一圈的框状的点划线形成显示区域A1的外形，比该点划线靠外侧的区域为非显示区域A2。

如图3所示，液晶面板11具备：透光性良好的一对玻璃制的基板20、30；以及包含作为光学特性会随着施加电场而发生变化的物质的液晶分子的液晶层11A。构成液晶面板11的两个基板20、30在维持着液晶层11A的厚度的单元间隙的状态下由未图示的密封材料贴合。两个基板20、30中的表侧(正面侧)的基板20为彩色滤光片基板20，里侧(背面侧)的基板30为阵列基板(电路基板的一个例子)30。在两个基板20、30的内面侧，如图3所示，分别形成有用于使液晶层11A中包含的液晶分子取向的取向膜11B、11C。另外，在构成两个基板20、30的玻璃基板20A、30A的外面侧分别贴附有偏振板11D、11E。

如图2所示，彩色滤光片基板20的短边尺寸与阵列基板30大致相同，而长边尺寸比阵列基板30小，以长边方向上的一方端部(图2所示的上侧)与阵列基板30对齐的状态被贴合。因此，阵列基板30中的长边方向上的另一方端部(图1所示的下侧)在规定范围中不与彩色滤光片基板20重合，而成为表里两板面向外部露出的状态，在此处确保了IC芯片17和柔性基板18的安装区域。在构成阵列基板30的玻璃基板30A中，在其主要部分贴合有彩色滤光片基板20和偏振板11E，确保IC芯片17和柔性基板18的安装区域的部分与彩色滤光片基板20和偏振板11E是不重叠的。

接着，对阵列基板30和彩色滤光片基板20中的显示区域A1内的构成进行说明。在构成阵列基板30的玻璃基板(基板的一个例子)30A的内面侧(液晶层11A侧)，如图3和图4所示，作为具有3个电极32A～32C的开关元件的TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)32和包括ITO(Indium Tin Oxide：铟锡氧化物)等透明导电膜的像素电极33排列设置有多个。如图4所示，在这些TFT32和像素电极33周围，以包围的方式配置有呈格子状的栅极配线34和源极配线35。栅极配线34和源极配线35分别与TFT32的栅极电极32A和源极电极32B连接，像素电极33通过漏极配线(未图示)与TFT32的漏极电极32C连接。

另外，在阵列基板30中设有与栅极配线34并行并且俯视时与像素电极33重叠的电容配线36。电容配线36在Y轴方向上与栅极配线34交替配置。栅极配线34配置于在Y轴方向上相邻的像素电极33之间，而电容配线36配置在横穿各像素电极33中的Y轴方向的大致中央部的位置。在该阵列基板30的端部设置有从栅极配线34和电容配线36引出的端子部和从源极配线35引出的端子部，从图1所示的控制基板19对该各端子部输入各信号或者基准电位，由此控制TFT32的驱动。

另一方面，如图3所示，在构成彩色滤光片基板20的玻璃基板20A的内面侧(液晶层11A侧)，在俯视时与阵列基板30的各像素电极33重叠的位置排列设置有多个彩色滤光片。在彩色滤光片中，呈R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)的各着色部22沿着X轴方向交替排列配置。在构成彩色滤光片的各着色部22间形成有用于防止混色的大致格子状的遮光部(黑矩阵)23。遮光部23是俯视时与阵列基板30侧的栅极配线34、源极配线35以及电容配线36重叠的配置。另外，在各着色部22和遮光部23的表面设置有与阵列基板30侧的像素电极33相对的相对电极24。在液晶面板11中，由R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)的3色着色部22以及与它们相对的3个像素电极33的组构成作为显示单位的1个显示像素。

在此，详细说明作为设置于阵列基板30的开关元件的TFT32。如图4和图5所示，TFT32是在阵列基板30上层叠有多个膜的构成。具体地说，如图5所示，从下层侧(玻璃基板30A侧)起按顺序层叠有与栅极配线34连接的栅极电极32A、栅极绝缘膜37、半导体膜38、与源极配线35连接的源极电极32B及与像素电极33连接的漏极电极32C、层间绝缘膜39、保护膜40。

栅极电极32A包括与栅极配线34相同的材料，并且用与栅极配线34相同的工序图案化在阵列基板30上，能用铝(Al)、铬(Cr)、钽(Ta)、钛(Ti)、铜(Cu)等金属膜单体或者与它们的金属氮化物的层叠膜形成。栅极绝缘膜37例如包括硅氧化膜(SiOx)，使栅极电极32A与半导体膜38之间绝缘。半导体膜38例如包括非晶硅(a-Si)或者透明的非晶体氧化物半导体(InGaZnOx)，一端侧与漏极电极32C连接，另一端侧与源极电极32B连接，由此作为谋求相互间的导通的沟道区域而发挥功能。

源极电极32B和漏极电极32C包括与源极配线35相同的材料，并且用与源极配线35相同的工序图案化在阵列基板30上。源极电极32B和漏极电极32C是将下层侧(半导体膜38侧)的第1导电膜32B1、32C1和上层侧(层间绝缘膜39侧)的第2导电膜32B2、32C2层叠的构成。下层侧的第1导电膜32B1、32C1包括以高浓度掺杂有磷(P)等n型杂质的非晶硅(n+Si)，作为欧姆接触层而发挥功能。上层侧的第2导电膜32B2、32C2是将不同的金属膜层叠而成的双层结构，其中的下层侧的金属膜包括钛(Ti)，上层侧的金属膜包括铝(Al)。

上述源极电极32B和漏极电极32C隔着规定的间隔(开口区域)配置为相对状，因此相互未直接电连接。但是，源极电极32B和漏极电极32C通过其下层侧的半导体膜38间接地电连接，该半导体膜38的两个电极32B、32C间的桥部分作为流动漏极电流的沟道区域而发挥功能。

层间绝缘膜39例如包括硅氧化膜(SiOx)，是与上述栅极绝缘膜37相同的材料。保护膜40包括作为有机材料的丙烯酸树脂(例如聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA))、聚酰亚胺树脂。因此，该保护膜40的膜厚比包括其它无机材料的栅极绝缘膜37、层间绝缘膜39要厚，并且能作为平坦化膜而发挥功能。此外，TFT32中的各绝缘膜(栅极绝缘膜37、层间绝缘膜39和保护膜40)分别在阵列基板30中包括TFT32的形成区域以外的区域，并且在大致整个范围中形成为均匀的膜厚。

在阵列基板30上形成上述TFT32、像素电极33以及各配线34、35、36等薄膜时，使用已知的光刻法，为此使用各种制造装置50～56。具体地说，如图6所示，制造装置50～56采用清洗装置50、成膜装置51、清洗装置50A、抗蚀剂涂敷装置52、曝光装置53、显影装置54、清洗装置50B、蚀刻装置55以及抗蚀剂剥离装置56。并且，在构成阵列基板30的玻璃基板30A上，经过清洗装置50的清洗工序、成膜装置51的成膜工序、清洗装置50A的清洗工序、抗蚀剂涂敷装置52的抗蚀剂涂敷工序、曝光装置53的曝光工序、显影装置54的显影工序、清洗装置50B的清洗工序、蚀刻装置55的蚀刻工序、抗蚀剂剥离装置56的抗蚀剂剥离工序而以规定的图案形成目标薄膜，通过对各薄膜反复进行该过程，按顺序层叠形成各薄膜。

具体地说，在清洗工序中，利用清洗装置50向形成各薄膜前的玻璃基板30A上供应清洗液从而对玻璃基板30A进行清洗，除去玻璃基板30A上的尘埃等。在成膜工序中，利用成膜装置51使要形成的薄膜的材料相对于玻璃基板30A的板面成为均匀的膜厚来进行成膜。具体地说，该成膜装置51使用CVD装置、溅射装置、真空蒸镀装置等。然后，为了除去成膜带来的残余物质、垃圾而利用清洗装置50A对基板进行清洗。接下来，在抗蚀剂涂敷工序中，利用抗蚀剂涂敷装置52对由成膜装置51进行成膜后的材料膜涂敷光致抗蚀剂使其成为均匀的膜厚而使其层叠。此时，光致抗蚀剂采用正型或者负型的光致抗蚀剂。在曝光工序中，利用曝光装置53对由抗蚀剂涂敷装置52涂敷的光致抗蚀剂隔着具有规定图案的光掩模照射UV光等，由此将与光掩模的图案相应的范围曝光。

在显影工序中，利用显影装置54向玻璃基板30A的板面上供应显影液，由此使光致抗蚀剂显影，除去曝光区域或者非曝光区域中的任意一个。在为了清洗显影液等残渣物而利用清洗装置50B对基板进行清洗后，在蚀刻工序中，利用蚀刻装置55将材料膜中残留的未被光致抗蚀剂覆盖的区域通过蚀刻除去，从而对材料膜进行图案化。具体地说，蚀刻装置55采用通过蚀刻气体、离子、自由基对材料膜进行蚀刻的干式蚀刻装置、通过蚀刻液对材料膜进行蚀刻的湿式蚀刻装置等。其中，在湿式蚀刻装置中，向玻璃基板30A的板面上供应蚀刻液从而对材料膜进行蚀刻。在抗蚀剂剥离工序中，利用抗蚀剂剥离装置56向玻璃基板30A的板面上供应抗蚀剂剥离液，由此除去残留的光致抗蚀剂。

上述各制造装置50～56中的清洗装置除了上述成膜前后的清洗工序以及显影后的清洗工序以外，有时会在其它制造装置51～56的工序后使用。具体地说，例如在蚀刻装置55采用干式蚀刻装置的情况下，有时会在其蚀刻工序后为了除去干式蚀刻所产生的残渣物而进行清洗工序，在该清洗工序中也要使用上述清洗装置。

此外，在上述制造装置50～56中的向玻璃基板30A上供应液体来进行处理的装置中，具体地说，在清洗装置50、50A、50B、抗蚀剂涂敷装置52、显影装置54、进行湿式蚀刻的蚀刻装置55以及抗蚀剂剥离装置56中，采用了用于搬运玻璃基板30A的共同的搬运装置60。以下详细说明清洗装置50内的搬运装置60的构成。此外，在图7至图12中，设X轴方向为玻璃基板30A的搬运方向，在图7和图8中，设图的左侧为搬运方向的上游侧，图的右侧为搬运方向的下游侧。另外，在图7、图8以及图10至图12中，设图的上侧为搬运装置60的上侧，图的下侧为搬运装置60的下侧。另外，清洗装置50、抗蚀剂涂敷装置52、显影装置54、进行湿式蚀刻的蚀刻装置55以及抗蚀剂剥离装置56分别是湿式处理装置的一个例子。

如图7所示，清洗装置50构成为具备从外部气氛隔开的清洗槽(湿式处理槽的一个例子)50A和配置在该清洗槽50A内的搬运装置60。另外，在清洗槽50A的上侧设置有向由搬运装置60搬运的玻璃基板30A上喷射清洗液的未图示的多个喷嘴。在清洗装置50中，从喷嘴喷射的清洗液被回收，利用未图示的循环装置进行循环而再次用作清洗液。在清洗装置50中，玻璃基板30A是各种薄膜的形成面或者形成预定面朝向上侧而被投入搬运方向的上游侧，以其长边方向沿着X轴方向并且其短边方向沿着Y轴方向的姿势由搬运装置60从搬运方向的上游侧向下游侧搬运(参照图7和图8的箭头)。

如图7和图8所示，搬运装置60，具备：多个搬运辊62，其按轴状延伸，沿着搬运方向搬运玻璃基板30A；轴承部64，其支撑各搬运辊62的两端部，使各搬运辊62能绕各自的轴旋转；一对框架(保持构件的一个例子)66、67，其固定于规定的高度位置，保持轴承部64。其中，一对框架66、67为沿着玻璃基板30A的搬运方向延伸的形状，在与各搬运辊62的装配位置对应的位置具备凹陷为凹状而成的多个凹状部66A1。各凹状部66A1以向上方开口的形式沿着玻璃基板30A的搬运方向断续地设置。

各搬运辊62架设在一对框架66、67之间，以其延伸方向为沿着Y轴方向的姿势沿着搬运方向按规定的间隔并列配置。如图7和图8所示，各搬运辊62具有金属制的轴部62A和装配于轴部62A的合成树脂制的多个基板支撑部62B。如图11所示，轴部62A的两端部的顶端分别为比轴部62A的其它部位直径缩小的缩径部62A1。各基板支撑部62B为比轴部62A直径大的圆板状，在搬运辊62的延伸方向上隔开规定的间隔装配于轴部62A。玻璃基板30A是与各种薄膜的形成面或者形成预定面相反一侧的板面一边被搬运辊62的基板支撑部62B持续地支撑，一边沿着搬运方向被搬运。此外，如图8所示，搬运装置60具备用于使各搬运辊62绕各自的轴旋转的旋转机构68。旋转机构68设置于各搬运辊62的延伸方向的一端侧(图8中的附图上侧)，构成为具备多个齿轮。

如图10所示，轴承部64是所谓的滚珠轴承，绕搬运辊62的轴部62A的缩径部62A1的轴配置在外侧。轴承部64具有呈环状的金属制的环状部64A以及设置于缩径部62A1与环状部64A之间的金属制的多个滚珠64B。轴承部64的环状部64A的下侧部分与各框架66、67的凹状部66A1接合固定，从而轴承部64被保持于框架66。如图11所示，在环状部64A中的与轴部62A的缩径部62A1相对的部位设置有向内侧凹陷而成并且供各滚珠64B的一部分进入的轴承侧凹部(滑动接触部位的一个例子)64A1。该轴承侧凹部64A1沿着环状部64A设置成槽状。另一方面，在轴部62A的缩径部62A1中与轴承侧凹部64A1相对的部位同样设置有向内侧凹陷而成并且供各滚珠64B的一部分进入的槽状的轴侧凹部62A2。该轴侧凹部62A2沿着缩径部62A1的外周设置成槽状。

供各滚珠64B进入的轴承侧凹部64A1和轴侧凹部62A2为如上所述的构成，从而各滚珠64B为被环状部64A支撑而能滑动的状态。换言之，轴承部64在各轴承侧凹部64A1中通过滚珠64B与搬运辊的轴部62A滑动接触。如上所述，轴承部64被框架66保持，因此，各滚珠64B在轴承部64的环状部64A与搬运辊62的轴部62A(缩径部62A1)之间滑动，由此，环状部64A不旋转，而仅搬运辊62通过上述旋转机构68绕其轴旋转。

详细说明各框架66、67的构成。如图11所示，各框架66具有：构成框架66的主要部分的主体部66A、外板66B以及多个内板66C。其中，在主体部66A中设置有上述凹状部66A1。此外，一对框架66、67为其一部分相互不同的构成。首先，说明设置于各搬运辊62的延伸方向的另一端侧(图8的附图下侧，与设置有旋转机构68的一侧相反的一侧)的图7所示的框架66(以下，称为“一方框架66”)的构成。

构成一方框架66的主体部66A沿着搬运方向(X轴方向)按壁状延伸，位于比凹状部66A1略靠下方位置的部位的Y轴方向的厚度大于轴承部64的Y轴方向上的宽度尺寸。具体地说，在主体部66A中，位于比凹状部66A1略靠下方位置的部位与搬运辊62中的轴部62A的缩径部62A1的顶端相比更向外侧(图11所示的左侧，搬运辊62的延伸方向上的与中心侧相反的一侧)突出(以下，将该突出的部位称为“突出部66A2”)。外板66B为透明的合成树脂制的板状构件，在上下方向(Z轴方向)上其上端位于与搬运辊62的旋转轴大致相同的高度的状态下，其下侧部分贴附固定于上述突出部66A2的外面(图11所示的左侧的面)。多个内板66C为板状构件，在上下方向上其上端接近搬运辊62的轴部62A的缩径部62A1的状态下，其下侧部分分别贴附固定于主体部66A的内面中的与各凹状部66A1对应的位置。此外，如图10和图12所示，在主体部66A的各凹状部66A1的上方，装配有防止轴承部64从凹状部66A1向上方脱落的防脱落板69(在除了图10和图12以外的各附图中省略图示)。

通过将一方框架66设为上述的构成，如图9和图11所示，在该一方框架66中被主体部66A、外板66B以及多个内板66C包围的部分，形成有能收纳液体的液体收纳部70。在此，如上所述，多个内板66C是以其上端接近搬运辊62中的轴部62A的缩径部62A1的状态配置的，因此，如图11所示，轴承部64的轴承侧凹部64A1的至少一部分露出在液体收纳部70内。此外，在一方框架66中，主体部66A的上述突出部66A2是跨搬运方向的上游侧端部到下游侧端部而设置的。因此，如图7和图8所示，一方框架66中的液体收纳部70跨搬运方向的上游侧端部到下游侧端部而按槽状延伸。

如图7所示，在主体部66A中的搬运方向的上游侧端部，以在液体收纳部70内露出的形式设置有用于向液体收纳部70内供应液体的圆形的供应口(液体供应部的一个例子)66A3。另一方面，如图7和图9所示，在主体部66A中的搬运方向的下游侧端部，以在液体收纳部70内露出的形式设置有用于将液体收纳部70内的液体向外部排出的圆形的排水口(液体排出部的一个例子)66A4。另外，如图7所示，在上述供应口66A3装配有用于从清洗装置50的外部向该供应口66A3供应液体的供应管72的一端，在上述排出口66A4装配有用于从该排出口66A4向清洗装置50的外部排出液体的排出管74的一端。根据这种构成，在一方框架66中，从清洗装置50的外部通过供应口66A3供应到液体收纳部70内的液体在液体收纳部70内从搬运方向的上游侧向下游侧流动，从排出口66A4向清洗装置50的外部排出。此外，如上所述，外板66B是透明的，因此在液体被收纳在液体收纳部70内的状态下，能从搬运装置60的侧方观察液体收纳部70内的液体。

在本实施方式中，举例示出纯水W1作为向液体收纳部70内供应的液体的一个例子(参照图7、图8、图11和图12)。在一方框架66中，当纯水W1流入液体收纳部70内时，如图11和图12所示，在液体收纳部70内露出的轴承部64的轴承侧凹部64A1的一部分成为浸入纯水W1的状态。在此，在本实施方式的搬运装置60中，有时在搬运辊62旋转时会由于滑脱等而在搬运辊62与轴承部64之间发生滑动，从而导致轴承部64的轴承侧凹部64A1发生磨损，从该轴承侧凹部64A1产生锈粉等尘埃。关于这一点，在搬运装置60的一方框架66中，即使在配置于一方框架66侧的轴承部64的轴承侧凹部64A1中产生了锈粉等尘埃的情况下，纯水W1也会流入液体收纳部70内，产生锈粉等尘埃的轴承侧凹部64A1如上所述成为浸入纯水W1的状态，从而将该尘埃从轴承侧凹部64A1洗掉。另外，即使在轴承侧凹部64A1中的在液体收纳部70内露出的部位以外的部位产生了上述尘埃的情况下，该尘埃也会随着搬运辊62的旋转而沿着轴承侧凹部64A移动到在液体收纳部70内露出的轴承侧凹部64A1的部位，从而该尘埃被液体收纳部70内的纯水W1洗掉。

接下来，简单说明设置于各搬运辊62的延伸方向的一端侧(图8的附图上侧，设置有旋转机构68的一侧)的框架67(以下，称为“另一方框架67”)的构成。如图8所示，在另一方框架67中，形成于被主体部、外板以及多个内板包围的部分的液体收纳部71不是如一方框架66那样跨搬运方向的上游侧端部到下游侧端部设置，而是沿着搬运方向断续地形成有多个。因此，在另一方框架67中，流入液体收纳部71内的纯水W1不是从搬运方向的上游侧向下游侧流动，而是积存在液体收纳部71内。即使在这种构成中，当纯水W1流入液体收纳部71内时，在液体收纳部71内露出的轴承部64的轴承侧凹部64A1也会成为浸入纯水W1的状态。因此，在配置于另一方框架67侧的轴承部的轴承侧凹部产生了锈粉等尘埃的情况下，纯水W1流入液体收纳部70内，产生锈粉等尘埃的轴承侧凹部会随着搬运辊62的旋转而如上所述成为浸入纯水W1的状态，从而将该尘埃从轴承侧凹部洗掉。

另外，在本实施方式的清洗装置50中，从轴承部64的轴承侧凹部64A1产生的锈粉等尘埃有时会混入到从喷嘴喷射的清洗液中。并且，如上所述，在清洗装置50中从喷嘴喷射的清洗液被循环而再次用作清洗液，因此，在阵列基板30的制造过程中，当在其它制造装置51～56的工序后使用清洗装置50时，有时会将混入了上述尘埃的清洗液喷射到玻璃基板30A上。因此，在其它制造装置51～56的工序后使用清洗装置50的情况下，从轴承侧凹部64A1产生的锈粉等尘埃有时会混在清洗液中而附着于例如在玻璃基板30A上成膜的上述栅极绝缘膜37、上述层间绝缘膜39，而被检测为栅极绝缘膜异物或者层间绝缘膜异物。

另外，在其它制造装置51～56进行的工序后使用清洗装置50的情况下，从轴承侧凹部64A1产生的尘埃有时会混在清洗液中而附着于例如在玻璃基板30A上成膜的上述栅极绝缘膜37、上述层间绝缘膜39，并与栅极绝缘膜37、层间绝缘膜39的一部分一起从玻璃基板30A剥离，从而被检测为栅极绝缘膜缺损或者层间绝缘膜缺损。检测出这种异物、缺损的阵列基板30成为次品。关于这一点，在上述清洗装置50所具备的搬运装置60中，如上所述，从轴承侧凹部64A1产生的尘埃被流入液体收纳部70内的纯水W1洗掉，因此在阵列基板30的制造过程中，防止或抑制了由于从轴承侧凹部64A1产生的尘埃而导致阵列基板30产生次品。

如以上说明的那样，在本实施方式的清洗装置50所具备的搬运装置60中，通过使纯水W1流入液体收纳部70内，能使轴承部64的轴承侧凹部64A1中的在液体收纳部70内露出的部位浸入纯水W1。其结果是，液体收纳部70内的纯水W1能作为轴承部64的润滑剂而发挥功能，能防止或抑制在轴承部64的轴承侧凹部64A1产生尘埃。另外，即使在轴承部64的轴承侧凹部64A1中产生了尘埃，也能用液体收纳部70内的纯水W1将上述尘埃从该轴承侧凹部64A1洗掉，能防止或抑制上述尘埃附着在玻璃基板30A上。另外，只需在框架66、67中设置上述构成的液体收纳部70就能防止或抑制上述尘埃附着于玻璃基板30A，因此能避免装置大型化。这样，在本实施方式的搬运装置60中，能避免装置的大型化并且能防止或抑制从轴承部64的轴承侧凹部64A1产生的尘埃附着于作为搬运对象的玻璃基板30A。

另外，在本实施方式中，设置于一方框架66侧的液体收纳部70按槽状延伸。而且，在一方框架66侧，在搬运方向(液体收纳部70的延伸方向)的上游侧端部设置有向液体收纳部70内供应纯水W1的供应口66A3，在搬运方向的下游侧端部设置有将在液体收纳部70内流动的纯水W1排出的排出口66A4。根据这种构成，在一方框架66侧，从供应口66A3向液体收纳部70内依次供应新的纯水W1，并且洗掉在轴承侧凹部64A1产生的尘埃后的纯水W1在排出口66A4中从液体收纳部70依次排出。因此，能利用纯水W1从搬运方向的上游侧向下游侧在槽状的液体收纳部70内流动的力来有效地洗掉在轴承部64的轴承侧凹部64A1产生的尘埃等。

另外，在本实施方式中，如上所述，能防止从轴承部64和轴承侧凹部64A1产生的尘埃混在清洗液中而附着于作为搬运对象的玻璃基板30A。其结果是，在阵列基板30的制造过程中，能防止或抑制由于上述尘埃而导致阵列基板30产生次品。

另外，在本实施方式中，如上所述，通过使纯水W1流入液体收纳部70内，液体收纳部70内的纯水W1也能作为滚珠轴承的轴承部64的润滑剂而发挥功能。因此，能使被轴承部64支撑而能旋转的搬运辊62的旋转性能保持在良好的状态。

＜实施方式2＞

参照图13和图14说明实施方式2。在实施方式2中，搬运装置的搬运辊162的构成、轴承部164的构成、轴承部164对搬运辊162的支撑方式以及框架166中的轴承部164的保持方式分别与实施方式1不同。其它的构成与实施方式1是同样的，因此省略结构、作用以及效果的说明。此外，在图13、图14中，分别对图10、图11的参照附图标记加上了数字100的部位是与在实施方式1中说明的部位相同的部位。

在本实施方式的清洗装置所具备的搬运装置中，与实施方式1不同，作为滚珠轴承的轴承部164绕搬运辊162的轴部162A的轴配置在内侧。即，如图13所示，搬运辊162的轴部162A为筒状，内部是中空的，并且其整体的直径均匀。另一方面，如图13和图14所示，轴承部164包括：金属制的圆柱部164A，其为圆柱状，并且直径小于搬运辊162的轴部162A的内径；以及金属制的多个滚珠164B，其设置于轴部162A与圆柱部164A之间。轴承部164的圆柱部164A的外面与框架166的主体部166A的内面接合固定，从而被保持于框架166。如图14所示，在圆柱部164A中的与轴部162A相对的部位，设置有向内侧凹陷而成并且供各滚珠164B的一部分进入的槽状的轴承侧凹部(滑动接触部位的一个例子)164A1。另一方面，在轴部162A中与轴承侧凹部164A1相对的部位，同样设置有向内侧凹陷而成并且供各滚珠164B的一部分进入的槽状的轴侧凹部162A2。

供各滚珠164B进入的轴承侧凹部164A1和轴侧凹部162A2为上述的构成，由此，各滚珠164B成为被圆柱部164A支撑而能滑动的状态。换言之，轴承部164在各轴承侧凹部164A1中通过滚珠164B与搬运辊的轴部162A滑动接触。如上所述，在本实施方式的轴承部164中，其圆柱部164A被框架166保持，因此，各滚珠164B在轴承部164的圆柱部164A与搬运辊162的轴部162A之间滑动，由此，圆柱部164A不发生旋转，而仅搬运辊162通过未图示的旋转机构绕其轴旋转。

构成框架166的主体部166A与实施方式1同样沿着搬运方向(X轴方向)按壁状延伸。主体部166A的内面(与轴承部164的圆柱部164A接合的面)的上端与该圆柱部164A的上端大致一致，其外面侧位于比该圆柱部164A的上端略靠下方的位置而形成台阶，成为向外面侧突出的突出部166A2。外板166B为透明的合成树脂制的板状构件，以在上下方向(Z轴方向)上其上端位于比搬运辊162的轴部162A略靠上方的位置的形式接合固定于主体部166A的外面。多个内板166C为板状构件，在上下方向上其上端位于比轴承部164的圆柱部164A的上端略靠上方的位置的状态下，分别贴附固定于各轴承部164的圆柱部164A的内面。

在本实施方式中，搬运辊162、轴承部164以及框架166分别为上述构成，由此，如图13和图14所示，在框架166中被主体部166A、外板166B以及多个内板166C包围的部分，形成有能收纳液体的液体收纳部170。在此，如上所述，多个内板166C是以其上端位于比轴承部164的圆柱部164A的上端略靠上方的位置的状态配置的，因此，如图14所示，轴承部164的轴承侧凹部164A1的至少一部分露出在液体收纳部170内。此外，本实施方式中的液体收纳部170与实施方式1同样是跨搬运方向的上游侧端部到下游侧端部而按槽状延伸的，在主体部166A的搬运方向的上游侧端部设置有供应口，在主体部166A的搬运方向的下游侧端部设置有排出口。另外，在框架166的主体部166A装配有位于轴承部164的下方的支承板168，由此，能承接从滚珠164B中的位于图14下侧的滚珠164B漏出的液体(清洗液)，将接到的液体从排出沟169向外部排出。

在如以上说明的本实施方式中，轴承侧凹部164A1的至少一部分也在液体收纳部170内露出，由此，与实施方式1同样，通过使纯水W1流入液体收纳部170内，能使轴承部164的轴承侧凹部164A1中的在液体收纳部170内露出的部位浸入纯水W1。其结果是，即使在轴承部164的轴承侧凹部164A1产生了尘埃，也能利用液体收纳部170内的纯水W1将上述尘埃从该轴承侧凹部164A1洗掉，能防止或抑制上述尘埃附着在作为搬运对象的玻璃基板上。另外，新的纯水W1会从搬运方向的上游侧向下游侧在呈槽状的液体收纳部170内依次流动，因此能利用纯水W1在液体收纳部170内流动的力来有效地洗掉在轴承部164的轴承侧凹部164A1产生的尘埃等。

＜实施方式3＞

参照图15和图16对实施方式3进行说明。在实施方式3中，搬运装置260的框架266的构成与实施方式1不同。其它的构成与实施方式1是同样的，因此省略结构、作用以及效果的说明。此外，在图15、图16中，分别对图7、图9的参照附图标记加上了数字200的部位是与在实施方式1说明的部位相同的部位。

在本实施方式的清洗装置250所具备的搬运装置260中，如图15和图16所示，在框架266的主体部266A的突出部(在位于比凹状部266A1略靠下方的位置的部位中向外侧突出的部位)中，在相邻的凹状部266A1之间分别设置有将液体收纳部270隔开的隔壁266A3。其结果是，在框架266中，以使1个液体收纳部270与1个轴承部264对应的形式沿着搬运方向形成有被隔壁266A3隔开的多个液体收纳部270。因此，在各液体收纳部270内，成为轴承部264的轴承侧凹部264A1的至少一部分露出的状态。并且，流入各液体收纳部270内的纯水W1与实施方式1中的设置于另一方框架67侧的液体收纳部71同样地积存在液体收纳部270内。

在本实施方式中，在搬运装置260中，在如上述那样以使1个液体收纳部270与1个轴承部264对应的形式形成有多个液体收纳部270的情况下，当纯水W1流入各液体收纳部270内时，在各液体收纳部270内露出的轴承部264的各个轴承侧凹部264A1也会分别成为浸入纯水W1的状态。因此，即使在各轴承部264的轴承侧凹部264A1产生了尘埃，也能用利用液体收纳部270内的纯水W1将上述尘埃从该轴承侧凹部264A1洗掉，能防止或抑制上述尘埃附着在作为搬运对象的玻璃基板230A上。

以下列举上述各实施方式的变形例。

(1)在上述各实施方式中，举例示出了清洗装置所具备的搬运装置的构成，但是除了清洗装置以外，也可以在对玻璃基板实施湿式处理的装置即抗蚀剂涂敷装置、显影装置、进行湿式蚀刻的蚀刻装置以及抗蚀剂剥离装置的各装置中应用设置有上述液体收纳部的搬运装置。在这种情况下，即使在各装置中使用的处理液中混入了从轴承部的轴轴承侧凹部产生的尘埃，也能用流入液体收纳部内的纯水洗掉该尘埃，能防止或抑制该尘埃附着在被搬运装置搬运的玻璃基板上。

(2)在上述各实施方式中，举例示出了在阵列基板的制造过程中使用的清洗装置，但是也能将本发明应用于在彩色滤光片基板的制造过程中使用的清洗装置。在这种情况下，能防止或抑制由于从轴承侧凹部产生的尘埃而导致彩色滤光片基板产生次品。

(3)在上述各实施方式中，举例示出了纯水作为流入液体收纳部的液体的一个例子，但是流入液体收纳部的液体只要是能洗掉从轴承部的轴承侧凹部产生的尘埃的程度的粘度的液体即可，不限于纯水。

(4)在上述各实施方式中，举例示出了玻璃基板作为被搬运装置搬运的搬运对象构件的一个例子，但是被搬运装置搬运的搬运对象构件不限于玻璃基板。即使搬运对象构件不是玻璃基板，也能通过应用本发明来防止或抑制从轴承部的轴承侧凹部产生的尘埃附着于该搬运对象构件。

(5)在上述各实施方式中，举例示出了轴承部为滚珠轴承的构成，但是轴承部也可以是滚珠轴承以外的构成。在这种情况下，也能通过应用本发明来防止或抑制从轴承部的滑动接触部位产生的尘埃附着于搬运对象构件。

(6)除了上述各实施方式以外，能适当变更保持构件中的液体收纳部的形状和构成。

以上，详细说明了本发明的各实施方式，但是这些只不过是例示，并不是对权利要求的限定。权利要求记载的技术中包含对以上例示的具体例进行各种变形、变更的方案。

实施例

接下来，利用实施例具体说明本发明。在实施例中，在阵列基板的制造过程中，在对清洗装置所具备的搬运装置应用本发明前后，分别检测在玻璃基板上成膜的栅极绝缘膜的栅极绝缘膜异物、栅极绝缘膜缺损以及在玻璃基板上成膜的层间绝缘膜的层间绝缘膜异物、层间绝缘膜缺损。此外，图17和图18中的数值用百分率(％)表示个别次品率(产生次品的个体相对于进行检查的总个体数的比例)。

如图17所示，关于检测出的栅极绝缘膜异物和栅极绝缘膜缺损，在应用本发明前后能看出大幅减少。因此，能确认通过应用本发明能防止或抑制由于从轴承部的轴承侧凹部产生的尘埃而导致在阵列基板上的栅极绝缘膜中产生栅极绝缘膜异物、栅极绝缘膜缺损。

另外，如图18所示，关于检测出的层间绝缘膜异物和层间绝缘膜缺损，层间绝缘膜缺损在应用本发明前后看不出大的变化，而层间绝缘膜异物在应用本发明前后能看出大幅减少。因此，能确认通过应用本发明能防止或抑制由于从轴承部的轴承侧凹部产生的尘埃而导致阵列基板上的层间绝缘膜中产生层间绝缘膜异物。

根据以上的结果，能确认通过将本发明应用于在阵列基板的制造过程中使用的清洗装置，能防止或抑制由于从轴承部的轴承侧凹部产生的尘埃而导致阵列基板产生次品。

附图标记说明：

10：液晶显示装置，11：液晶面板，20：彩色滤光片基板，30：阵列基板，30A：玻璃基板，37：栅极绝缘膜，39：层间绝缘膜，50、250：清洗装置，50A、250A：清洗槽，60：搬运装置，62、162、262：搬运辊，62A、162A、262A：轴部，62A1、262A1：缩径部，62B、262B：基板支撑部，64、164、262：轴承部，64A、164A：环状部，64A1、164A1、264A1：轴承侧凹部，64B、164B、264B：滚珠，66、67、166、266：框架，66A、166A、266A：主体部，66A3：供应口，66A4：排出口，66B、166B、266B：外板，66C、166C：内板，70、71，170、270：液体收纳部，72、272：供应管，74、274：排出管，264A：圆柱部，W1：纯水。

Claims (7)

1.一种搬运装置，其特征在于，

具备：搬运辊，其按轴状延伸，沿着搬运方向搬运搬运构件；

轴承部，其支撑上述搬运辊，使上述搬运辊能绕上述搬运辊的轴旋转；以及

保持构件，其保持上述轴承部，具有液体收纳部，上述轴承部的滑动接触部位的至少一部分在该液体收纳部内露出。

2.根据权利要求1所述的搬运装置，其中，

上述轴承部是滚珠轴承，具有：环状的环状部，其绕上述搬运辊的轴配置；以及多个滚珠，其介于上述搬运辊与上述环状部之间，由上述环状部支撑而能滑动，

上述滑动接触部位是上述环状部中的支撑上述多个滚珠的部位。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的搬运装置，其中，

上述液体收纳部按槽状延伸。

4.根据权利要求3所述的搬运装置，其中，

在上述液体收纳部的延伸方向的一端部设置有向上述液体收纳部内供应液体的液体供应部，在上述液体收纳部的延伸方向的另一端部设置有将在上述液体收纳部内流动的液体排出的液体排出部。

5.根据权利要求4所述的搬运装置，其中，

上述液体收纳部以上述一端部配置在上述搬运方向的上游侧并且上述另一端部配置在上述搬运方向的下游侧的形式沿着上述搬运方向延伸。

6.根据权利要求1至权利要求5中的任意一项所述的搬运装置，其中，

上述搬运构件是基板，

上述搬运辊以其延伸方向与上述搬运方向正交的形式在该搬运方向上并列配置有多个，

上述轴承部分别配置在上述搬运辊的两端部。

7.一种湿式处理装置，其特征在于，具备：

权利要求6所述的搬运装置；以及湿式处理槽，其对沿着上述搬运方向搬运的上述基板进行湿式处理。