JP2014238402A - 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ターゲット3上に荷電粒子ビーム2を投影するための真空チャンバ50に配置され、荷電粒子ビーム2を偏向方向に偏向させるための偏向手段を有する荷電粒子光学カラム4と、ターゲット3を保持するためのキャリア51及び偏向方向とは異なる第1の方向に沿ってキャリア51を保持し移動させるためのステージ52を有するターゲット位置決め装置5と、を具備し、このターゲット位置決め装置5は、荷電粒子光学カラム4に対する第1の方向にステージ52を移動させるための第1のアクチュエータ53を有し、キャリア51は、ステージ52に移動可能に配置されており、ターゲット位置決め装置5は、第1の相対位置にステージ52に対してキャリア51を保持するための保持手段を有する。
【選択図】図1
Description
ターゲット上に荷電粒子ビームを投影するための真空チャンバに配置され、前記荷電粒子ビームを偏向方向に偏向させるための偏向手段を有する荷電粒子光学カラムと、
前記ターゲットを保持するためのキャリアと、第1の方向に沿って前記キャリアを保持し移動させるためのステージと、を有するターゲット位置決め装置と、を具備し、前記第1の方向は、前記偏向方向と異なっており、前記ターゲット位置決め装置は、前記荷電粒子光学カラムに対して前記第1の方向に前記ステージを移動させるための第1のアクチュエータを有し、
前記キャリアは、前記ステージに移動可能に配置されており、前記ターゲット位置決め装置は、前記ステージに対して前記キャリアを保持するための保持手段を有する荷電粒子リソグラフィシステムを提供する。
a.前記カップリング手段を駆動させる(activating)、及び、好ましくは、前記保持手段を非駆動にさせる(deactivating)工程と、
b.前記キャリアを前記第2の方向に移動させるために、前記第2のアクチュエータを駆動させる工程と、
c.前記第2のアクチュエータを非駆動にさせる、及び、好ましくは、前記保持手段を駆動させる工程と、
d.前記カップリング手段を非駆動にさせる工程と、
e.前記第2のアクチュエータを、特に、前記第2のアクチュエータの駆動部材を、前記第2の方向の後方に戻すために、前記第2のアクチュエータを駆動させる工程と、を具備する。前記第2の方向へのさらなる工程を構築するために、前記カップリング手段は再び駆動され、また、前記保持手段は非駆動にされ、さらに、さらなる上述の工程が繰り返される。
i.前記保持手段を駆動させる工程と、
ii.前記第1の方向への前記ターゲットの移動から前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、前記ターゲット上に前記荷電粒子ビームを投影するために前記荷電粒子光学カラムを駆動させる工程と、前記荷電粒子ビームを偏向方向に偏向させるために前記偏向手段を駆動させる工程と、の組合せを使用して前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、
iii.前記領域の外部に前記荷電粒子光学ビームを移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラムを非駆動にさせる工程と、の少なくとも一方の工程と、
iv.前記キャリアを前記第2の方向に移動させるために、前記保持手段を非駆動にさせる工程と、を具備する。
i.前記第2の方向への移動に対して前記キャリアの位置を保持するための前記圧電モータを制御する工程と、
ii.前記第1の方向に前記ターゲットを移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、前記ターゲットに前記荷電粒子ビームを投影するために前記荷電粒子光学カラムを駆動させる工程と、前記荷電粒子ビームを偏向方向に偏向させるための偏向手段を駆動させる工程と、の組合せを使用して前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、
iii.前記領域の外部に荷電粒子光学ビームを移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラムを非駆動する工程と、の少なくとも一方の工程と、
iv.前記キャリアを前記第2の方向に移動させるために、前記圧電モータを制御する工程と、を具備する。
i.前記第2のアクチュエータの非駆動にさせ、かつ前記第2の方向への移動に対して前記キャリアの位置を保持するための保持手段を駆動させる工程と、
ii.前記ターゲットを前記第1の方向に移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、前記ターゲット上に前記荷電粒子ビームを投影するために前記荷電粒子光学カラムを駆動させる工程と、前記荷電粒子ビームを偏向方向に偏向させるために前記偏向手段を駆動させる工程と、の組合せを使用して前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、
iii.前記領域の外部に前記荷電粒子光学ビームを移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラムを非駆動にさせる工程との少なくとも一方の工程と、
iv.前記保持手段を非駆動し、かつ前記キャリアを前記第2の方向に移動させるために前記第2のアクチュエータを駆動させる工程と、を具備する。
v.前記第2の方向に、前記偏向手段によって前記荷電粒子ビームの前記偏向の範囲以下の距離にわたって前記第2の方向に前記キャリアを移動させる工程を有する。
以下に、本出願の出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1] ターゲット(3)上に荷電粒子ビーム(2)を投影するために真空チャンバに配置され、前記荷電粒子ビーム(2)を偏向方向(Y)に偏向させるための偏向手段(41)を有する荷電粒子光学カラム(4)と、前記ターゲット(3)を保持するためのキャリア(51,54;844)と、第1の方向(X)に沿って前記キャリアを保持し移動させるためのステージ(52;84,86)と、を有するターゲット位置決め装置(5)と、を具備し、前記第1の方向(X)は、前記偏向方向(Y)とは異なっており、前記ターゲット位置決め装置は、前記荷電粒子光学カラム(4)に対して前記第1の方向(X)に前記ステージを移動させるための第1のアクチュエータ(53;86)を有し、前記キャリア(51,54;844)は、前記ステージ(52;84,86)に移動可能に配置されている荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)において、前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリア(54;844)を第1の相対位置に保持するための保持手段(541;91;91’)を有することを特徴とする荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)。
[2]前記キャリア(51,54;844)は、第2の方向(Y)に沿って移動可能であり、前記第2の方向は、前記偏向方向とほぼ同じである[1]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[3]前記保持手段(541;91,91’)は、少なくとも前記キャリア(54;844)が前記ステージ(52;84)に保持されたとき、磁場と電場との少なくとも一方の漏出と、このような場の変動との少なくとも一方を少なくとも最小にするように配置されている[1]又は[2]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[4]前記保持手段(541;91,91’)は、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリア(54;844)を留めて保持するための伸張位置と、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリアを解放して、前記ステージに対する前記キャリアの移動を可能にするための収縮位置と、に置かれることができる伸張可能かつ収縮可能なクランプ手段を有する[1]ないし[3]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[5]前記クランプ手段は、圧電素子(541;92,92’)を有する[4]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[6]前記保持手段は、前記キャリアを前記第2の方向(Y)に移動させるための圧電モータ(91,91’)を有する[1]ないし[5]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[7]前記キャリア(844)は、2つの対向している圧電モータ(91,91’)の間に介在されているか、制限されているかの少なくとも一方である[6]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[8]前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記キャリア(51,54;844)を前記第2の方向(Y)に移動させるために、第2のアクチュエータ(59;91,91’)を有する[1]ないし[5]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[9]前記第2のアクチュエータ(59;91,91’)は、少なくとも前記第2のアクチュエータのスイッチが切られたとき、電磁分散場のような、前記第2のアクチュエータの外部の磁場と電場との少なくとも一方の漏出を最小にするために配置されている[8]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[10]前記第2のアクチュエータは、誘導モータ(59)を有する[8]又は[9]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[11]前記誘導モータは、非強磁性材料のコアを含む[10]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[12]前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記キャリア(54)を前記第2のアクチュエータ(59)に取り外し可能に結合させるためのカップリング手段(543)を有する[8]ないし[11]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[13]前記カップリング手段(543)は、少なくとも前記キャリア(54)が前記第2のアクチュエータ(59)に結合されていないとき、磁場と電場との少なくとも一方の漏出と、このような場の変動との少なくとも一方を少なくとも最小にするために配置されている[12]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[14]前記カップリング手段は、圧電素子(543)を有する[12]又は[13]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[15]周囲磁場と周囲電場との少なくとも一方から前記荷電粒子光学カラム(4)を少なくとも部分的に遮蔽するための光学カラムシールド手段(6)をさらに具備する[1]ないし[14]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[16]前記第1のアクチュエータ(53)は、前記光学カラムシールド手段(6)の外部に配置されており、また、前記保持手段(541)は、前記シールド手段(6)の内部に配置されている[15]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[17]前記第2のアクチュエータ(59;91,91’)は、前記シールド手段(6)の内部に配置されている[8]に従属する[16]の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[18]前記光学カラムシールド(6)は、前記真空チャンバのライニングとして配置されている[1]ないし[17]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[19]前記第1のアクチュエータ(53)は、前記真空チャンバの外部に配置されている[1]ないし[18]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
[20]ターゲット(3)上に荷電粒子ビーム(2)を投影するための真空チャンバに配置され、前記荷電粒子ビーム(2)を偏向方向(Y)に偏向させるための偏向手段(41)を有する荷電粒子光学カラム(4)と、前記ターゲット(3)を保持するためのキャリア(51,54;844)と、第1の方向に沿って前記キャリアを保持し移動させるためのステージ(52;84,86)と、を有するターゲット位置決め装置(5)と、を具備し、前記第1の方向(X)は、前記偏向方向(Y)とは異なっており、前記ターゲット位置決め装置は、前記荷電粒子光学カラム(4)に対する前記第1の方向(X)に前記ステージを移動させるための第1のアクチュエータ(53;86)を有し、前記キャリア(51,54;844)は、前記ステージ(52;84,86)に移動可能に配置されている荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)において、前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリア(54;844)を第1の相対位置に保持するための保持手段(541;91;91’)を有することを特徴とする荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)のためのターゲット位置決め装置。
[21]i.前記保持手段(541)を駆動させる工程と、ii.前記第1の方向(X)に前記ターゲット(3)を移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、前記ターゲット(3)上に前記荷電粒子ビーム(2)を投影するために前記荷電粒子光学カラム(4)を駆動させる工程と、偏向方向(Y)に前記荷電粒子ビーム(2)を偏向させるための偏向手段(41)を駆動させる工程と、の組合せを使用することによって、前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、iii.前記領域の外部の荷電粒子光学ビーム(2)を移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラム(4)を非駆動にする工程との少なくとも一方と、iv.前記第2の方向(Y)に前記キャリア(51,54)を移動させるために前記保持手段(541)を非駆動にする工程と、を具備する[1]ないし[19]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)でターゲット(3)の領域にイメージを投影する方法。
[22]i.前記第2の方向(Y)への移動に対する前記ステージ(844)の位置を保持するための前記圧電モータ(91,91’)を制御する工程と、ii.前記第1の方向(X)に前記ターゲット(3)を移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、前記ターゲット上に前記荷電粒子ビーム(2)を投影するために前記荷電粒子光学カラム(4)を駆動させる工程と、偏向方向(Y)に前記荷電粒子ビーム(2)を偏向させるための偏向手段(41)を駆動させる工程と、の組合せを使用することによって、前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、iii.前記領域の外部の荷電粒子光学ビーム(2)を移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラム(4)を非駆動にする工程との少なくとも一方と、iv.前記第2の方向(Y)に前記キャリア(51,844)を移動させるために前記圧電モータ(91,91’)を制御する工程と、を具備する[6]又は[7]に従属する[1]ないし[19]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステムのターゲット(3)の領域にイメージを投影する方法。
[23]i.前記第2の方向(Y)への移動に対する前記ステージ(844)の位置を保持するための前記圧電モータ(91,91’)を制御する工程と、ii.前記第1の方向(X)に前記ターゲット(3)を移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、前記ターゲット上に前記荷電粒子ビーム(2)を投影するために前記荷電粒子光学カラム(4)を駆動させる工程と、偏向方向(Y)に前記荷電粒子ビーム(2)を偏向させるための偏向手段(41)を駆動させる工程と、の組合せを使用することによって、前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、iii.前記領域の外部の荷電粒子光学ビーム(2)を移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラム(4)を非駆動にする工程との少なくとも一方と、iv.前記第2の方向(Y)に前記キャリア(51,54)を移動させるために、前記保持手段(541)を非駆動にさせ、かつ前記第2のアクチュエータ(59)を駆動させる工程と、を具備する[8]に従属する[1]ないし[19]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステムのターゲット(3)の領域にイメージを投影する方法。
[24]a.前記カップリング手段(543)を駆動させる工程と、b.前記第2の方向(Y)に前記キャリア(54)を移動させるために前記第2のアクチュエータ(59)を駆動させる工程と、c.前記第2のアクチュエータ(59)を非駆動にさせる工程と、d.前記カップリング手段(543)を非駆動にさせる工程と、e.前記第2の方向(Y)の後方に、特に、第2のアクチュエータの駆動部材にアクチュエータを後ろに返すために第2のアクチュエータを駆動させる工程と、をさらに具備する、[12]に従属する[1]ないし[19]のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステムの[23]の方法。
[25]v.前記第2の方向(Y)に前記偏向手段(41)による前記荷電粒子ビーム(2)の偏向量以下の距離にわたって、前記第2の方向(Y)に前記キャリア(54)を移動させる工程をさらに具備する[23]又は[24]の方法。
[26]前記i、ii、iii、iv及びvの工程が繰り返される請求項25の方法。
[27]前記iiiの工程において、前記荷電粒子光学カラム(4)は、前記荷電粒子ビーム(2)が前記ターゲット(3)に達するのを防ぐことによって非駆動にされる[21]ないし[26]のいずれか1の方法。
[28]前記荷電粒子光学カラム(4)は、前記カラムの荷電粒子源のスイッチを切ることによって、又は前記荷電粒子源の陰極を前記荷電粒子源の陽極よりも高い正電位に切り替えることによって非駆動にされる[27]の方法。
Claims (28)
- ターゲット(3)上に荷電粒子ビーム(2)を投影するために真空チャンバに配置され、前記荷電粒子ビーム(2)を偏向方向(Y)に偏向させるための偏向手段(41)を有する荷電粒子光学カラム(4)と、
前記ターゲット(3)を保持するためのキャリア(51,54;844)と、第1の方向(X)に沿って前記キャリアを保持し移動させるためのステージ(52;84,86)と、を有するターゲット位置決め装置(5)と、を具備し、前記第1の方向(X)は、前記偏向方向(Y)とは異なっており、前記ターゲット位置決め装置は、前記荷電粒子光学カラム(4)に対して前記第1の方向(X)に前記ステージを移動させるための第1のアクチュエータ(53;86)を有し、
前記キャリア(51,54;844)は、前記ステージ(52;84,86)に移動可能に配置されている荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)において、
前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリア(54;844)を第1の相対位置に保持するための保持手段(541;91;91’)を有することを特徴とする荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)。 - 前記キャリア(51,54;844)は、第2の方向(Y)に沿って移動可能であり、前記第2の方向は、前記偏向方向とほぼ同じである請求項1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記保持手段(541;91,91’)は、少なくとも前記キャリア(54;844)が前記ステージ(52;84)に保持されたとき、磁場と電場との少なくとも一方の漏出と、このような場の変動との少なくとも一方を少なくとも最小にするように配置されている請求項1又は2の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記保持手段(541;91,91’)は、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリア(54;844)を留めて保持するための伸張位置と、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリアを解放して、前記ステージに対する前記キャリアの移動を可能にするための収縮位置と、に置かれることができる伸張可能かつ収縮可能なクランプ手段を有する請求項1ないし3のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記クランプ手段は、圧電素子(541;92,92’)を有する請求項4の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記保持手段は、前記キャリアを前記第2の方向(Y)に移動させるための圧電モータ(91,91’)を有する請求項1ないし5のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記キャリア(844)は、2つの対向している圧電モータ(91,91’)の間に介在されているか、制限されているかの少なくとも一方である請求項6の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記キャリア(51,54;844)を前記第2の方向(Y)に移動させるために、第2のアクチュエータ(59;91,91’)を有する請求項1ないし5のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記第2のアクチュエータ(59;91,91’)は、少なくとも前記第2のアクチュエータのスイッチが切られたとき、電磁分散場のような、前記第2のアクチュエータの外部の磁場と電場との少なくとも一方の漏出を最小にするために配置されている請求項8の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記第2のアクチュエータは、誘導モータ(59)を有する請求項8又は9の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記誘導モータは、非強磁性材料のコアを含む請求項10の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記キャリア(54)を前記第2のアクチュエータ(59)に取り外し可能に結合させるためのカップリング手段(543)を有する請求項8ないし11のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記カップリング手段(543)は、少なくとも前記キャリア(54)が前記第2のアクチュエータ(59)に結合されていないとき、磁場と電場との少なくとも一方の漏出と、このような場の変動との少なくとも一方を少なくとも最小にするために配置されている請求項12の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記カップリング手段は、圧電素子(543)を有する請求項12又は13の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 周囲磁場と周囲電場との少なくとも一方から前記荷電粒子光学カラム(4)を少なくとも部分的に遮蔽するための光学カラムシールド手段(6)をさらに具備する請求項1ないし14のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記第1のアクチュエータ(53)は、前記光学カラムシールド手段(6)の外部に配置されており、また、前記保持手段(541)は、前記シールド手段(6)の内部に配置されている請求項15の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記第2のアクチュエータ(59;91,91’)は、前記シールド手段(6)の内部に配置されている請求項8に従属する請求項16の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記光学カラムシールド(6)は、前記真空チャンバのライニングとして配置されている請求項1ないし17のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- 前記第1のアクチュエータ(53)は、前記真空チャンバの外部に配置されている請求項1ないし18のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム。
- ターゲット(3)上に荷電粒子ビーム(2)を投影するための真空チャンバに配置され、前記荷電粒子ビーム(2)を偏向方向(Y)に偏向させるための偏向手段(41)を有する荷電粒子光学カラム(4)と、
前記ターゲット(3)を保持するためのキャリア(51,54;844)と、第1の方向に沿って前記キャリアを保持し移動させるためのステージ(52;84,86)と、を有するターゲット位置決め装置(5)と、を具備し、
前記第1の方向(X)は、前記偏向方向(Y)とは異なっており、
前記ターゲット位置決め装置は、前記荷電粒子光学カラム(4)に対する前記第1の方向(X)に前記ステージを移動させるための第1のアクチュエータ(53;86)を有し、
前記キャリア(51,54;844)は、前記ステージ(52;84,86)に移動可能に配置されている荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)において、
前記ターゲット位置決め装置(5)は、前記ステージ(52;84)に対して前記キャリア(54;844)を第1の相対位置に保持するための保持手段(541;91;91’)を有することを特徴とする荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)のためのターゲット位置決め装置。 - i. 前記保持手段(541)を駆動させる工程と、
ii. 前記第1の方向(X)に前記ターゲット(3)を移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、
前記ターゲット(3)上に前記荷電粒子ビーム(2)を投影するために前記荷電粒子光学カラム(4)を駆動させる工程と、
偏向方向(Y)に前記荷電粒子ビーム(2)を偏向させるための偏向手段(41)を駆動させる工程と、
の組合せを使用することによって、前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、
iii. 前記領域の外部の荷電粒子光学ビーム(2)を移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラム(4)を非駆動にする工程との少なくとも一方と、
iv. 前記第2の方向(Y)に前記キャリア(51,54)を移動させるために前記保持手段(541)を非駆動にする工程と、を具備する請求項1ないし19のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステム(1)でターゲット(3)の領域にイメージを投影する方法。 - i. 前記第2の方向(Y)への移動に対する前記ステージ(844)の位置を保持するための前記圧電モータ(91,91’)を制御する工程と、
ii. 前記第1の方向(X)に前記ターゲット(3)を移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、
前記ターゲット上に前記荷電粒子ビーム(2)を投影するために前記荷電粒子光学カラム(4)を駆動させる工程と、
偏向方向(Y)に前記荷電粒子ビーム(2)を偏向させるための偏向手段(41)を駆動させる工程と、
の組合せを使用することによって、前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、
iii. 前記領域の外部の荷電粒子光学ビーム(2)を移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラム(4)を非駆動にする工程との少なくとも一方と、
iv. 前記第2の方向(Y)に前記キャリア(51,844)を移動させるために前記圧電モータ(91,91’)を制御する工程と、を具備する請求項6又は7に従属する請求項1ないし19のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステムのターゲット(3)の領域にイメージを投影する方法。 - i. 前記第2の方向(Y)への移動に対する前記ステージ(844)の位置を保持するための前記圧電モータ(91,91’)を制御する工程と、
ii. 前記第1の方向(X)に前記ターゲット(3)を移動させるために前記第1のアクチュエータを駆動させる工程と、
前記ターゲット上に前記荷電粒子ビーム(2)を投影するために前記荷電粒子光学カラム(4)を駆動させる工程と、
偏向方向(Y)に前記荷電粒子ビーム(2)を偏向させるための偏向手段(41)を駆動させる工程と、
の組合せを使用することによって、前記領域の少なくとも一部に前記イメージの少なくとも一部を投影する工程と、
iii. 前記領域の外部の荷電粒子光学ビーム(2)を移動させる工程と、前記荷電粒子光学カラム(4)を非駆動にする工程との少なくとも一方と、
iv. 前記第2の方向(Y)に前記キャリア(51,54)を移動させるために、前記保持手段(541)を非駆動にさせ、かつ前記第2のアクチュエータ(59)を駆動させる工程と、を具備する請求項8に従属する請求項1ないし19のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステムのターゲット(3)の領域にイメージを投影する方法。 - a. 前記カップリング手段(543)を駆動させる工程と、
b. 前記第2の方向(Y)に前記キャリア(54)を移動させるために前記第2のアクチュエータ(59)を駆動させる工程と、
c. 前記第2のアクチュエータ(59)を非駆動にさせる工程と、
d. 前記カップリング手段(543)を非駆動にさせる工程と、
e. 前記第2の方向(Y)の後方に、特に、第2のアクチュエータの駆動部材にアクチュエータを後ろに返すために第2のアクチュエータを駆動させる工程と、をさらに具備する、請求項12に従属する請求項1ないし19のいずれか1の荷電粒子ビームリソグラフィシステムの請求項23の方法。 - v. 前記第2の方向(Y)に前記偏向手段(41)による前記荷電粒子ビーム(2)の偏向量以下の距離にわたって、前記第2の方向(Y)に前記キャリア(54)を移動させる工程をさらに具備する請求項23又は24の方法。
- 前記i、ii、iii、iv及びvの工程が繰り返される請求項25の方法。
- 前記iiiの工程において、前記荷電粒子光学カラム(4)は、前記荷電粒子ビーム(2)が前記ターゲット(3)に達するのを防ぐことによって非駆動にされる請求項21ないし26のいずれか1の方法。
- 前記荷電粒子光学カラム(4)は、前記カラムの荷電粒子源のスイッチを切ることによって、又は前記荷電粒子源の陰極を前記荷電粒子源の陽極よりも高い正電位に切り替えることによって非駆動にされる請求項27の方法。
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