JP2014238402A5

JP2014238402A5 -

Info

Publication number: JP2014238402A5
Application number: JP2014136143A
Authority: JP
Filing date: 2014-07-01
Publication date: 2015-02-05
Anticipated expiration: 2029-08-18

Description

この実施の形態では、Ｙキャリッジ８４４は、一方では、厳密なインターフェース（リジッドインターフェース）８４７によって第１のステージ８４６のキャリッジに緊密に接続され、他方では、ステージ８４５、８４６とＹキャリッジ８４４との少なくとも１つのいかなる熱膨張も吸収するために、撓み部８４８によってステージ８４５のキャリッジに接続されている。

Claims

キャリア（８４；８４４）と、
各々が前記キャリア（８４；８４４）に接続されたステージキャリッジ（８６１；８４５，８４６）を有する、前記キャリア（８４；８４４）を保持するための２つのステージと、
共通ベースプレート（８５；８４）と、
各々が前記ステージキャリッジ（８６１；８４５，８４６）の一方をそれぞれ保持し、両方が前記共通ベースプレート（８５；８４）に配置された２つのステージベースとを具備し、
前記ステージキャリッジ（８６１；８４５）の少なくとも一方が、撓み部（８６２；８４８）によって前記キャリッジ（８４；８４４）に接続されているステージ。
前記撓み部（８６２；８４８）は、前記共通ベースプレート（８５；８４）に垂直に延びている請求項１のステージ。
前記２つのステージベースは、前記共通ベースプレート（８５）の上部に配置された２つのＸステージベース（８６）であり、前記キャリアは、Ｙビーム（８４）であり、前記ステージキャリッジの各々は、Ｘステージキャリッジ（８６１）であり、前記Ｘステージキャリッジ（８６１）の両方に、前記Ｙビーム（８４）を前記Ｘステージキャリッジ（８６１）に前記Ｙビーム（８４）を接続するための複数の撓み部（８６２）が設けられている請求項１又は２のステージ。
前記複数の撓み部（８６２）は、異なる平面にある請求項３のステージ。
各Ｘステージキャリッジ（８６１）には、少なくとも２つの撓み部（８６２）が設けられている請求項３又は４のステージ。
各Ｘステージキャリッジ（８６１）の前記２つの撓み部（８６２）は、前記共通ベースプレート（８５）に垂直に延びている請求項５のステージ。
前記２つのステージは、互いに平行に配置されたリニアステージ（８４５；８４６）であり、前記共通ベースプレート（８４）が、前記キャリア（８４４）を有するＹビーム（８４）によって設けられ、前記キャリア（８４）は、一方で、リジッドインターフェース（８４７）を介して前記ステージキャリア（８４６）の１つに緊密に接続され、他方で、前記撓み部（８４８）を介して前記ステージキャリア（８４５）の他方に接続されている請求項１のステージ。
前記キャリッジ（８４４）は、２つの対向しているモータ（９１，９１’）の間に介在され、制限されている請求項７のステージ。
前記２つの対向モータ（９１，９１’）は、前記Ｙビーム（８４）に対して前記キャリア（８４４）をＹ方向に移動させるように構成された圧電モータであり、
前記Ｙビーム（８４）は、前記Ｙ方向に沿って延びている対向側面を有し、前記対向側面の各々には、前記２つの対向している圧電モータ（９１，９１’）が１つずつ設けられている請求項８のステージ。
前記ステージ（８４５，８４６）の少なくとも１つには、リニアエンコーダヘッドと協働して前記Ｙ方向の前記キャリア（８４４）の位置情報を与えることができるルーラ（９６）が設けられている請求項７ないし９のいずれか１のステージ。
請求項３ないし６のいずれか１のステージで使用するためのビーム（８４）であって、
ビーム（８４）は、前記ステージでの使用時に、前記Ｘステージキャリッジ（８６１）の間のスペースにかかり、ビーム（８４）には、前記撓み部（８６２）に接続するためのインターフェース部材（８４２）が設けられているビーム（８４）。
ターゲットモジュールを保持するためのＹキャリッジ（８４４）をさらに具備し、
前記Ｙキャリッジ（８４４）には、前記Ｙキャリッジ（８４４）に前記ターゲットモジュールを正確に位置決めするために、キネマティックマウントを与えるインターフェースピン（８４３）が設けられている請求項１１のビーム（８４）。
２つのＸステージベース（８６）を具備するＸＹステージが設けられたターゲット位置決め装置（５）であって、
前記Ｘステージベース（８６）の両方が、共通ベースプレート（８５）の上部に配置され、
前記Ｘステージベース（８６）の各々が、Ｘステージキャリッジ（８６１）を支持しているターゲット位置決め装置（５）。
２つの第１のアクチュエータ（５３）をさらに具備し、
前記２つの第１のアクチュエータ（５３）の各々は、前記Ｙビームに接続するプッシュプルロッド（５８）を有し、
前記２つの第１のアクチュエータの各々は、そのプッシュプルロッド（５８）を介して前記Ｙビームに力を加えるように構成されている請求項１３のターゲット位置決め装置（５）。
前記Ｙビームに前記プッシュプルロッドの各々の力を加える作用点は、ターゲット位置決め装置（５）の重心（５７）の高さに位置されている請求項１４のターゲット位置決め装置（５）。
前記２つの第１のアクチュエータ（５３）及び対応する前記プッシュプルロッドは、平面図に見られるように、互いに平行かつ互いに離間されて配置されている請求項１４又は１５のターゲット位置決め装置（５）。
請求項１３ないし１６のいずれか１のターゲット位置決め装置（５）を具備する荷電粒子ビームリソグラフィシステム（１）。
前記ターゲット位置決め装置（５）を収容するための真空チャンバをさらに具備し、
前記第１のアクチュエータ（５３）は、前記真空チャンバの外部に配置されている請求項１７の荷電粒子ビームリソグラフィシステム（１）。