KR101296659B1 - 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판의 처짐에 의한 기판의 파손을 방지할 수 있는 세정 장치에 관한 것으로, 기판 로딩부로부터 기판을 공급받아 이 기판에 플라즈마를 조사하여 기판상의 이물질을 제거하는 플라즈마 조사부; 상기 플라즈마 조사부로부터 상기 기판을 공급받아 상기 기판상에 남아 있는 이물질을 제거하는 이물질 세정부; 상기 이물질 세정부로부터 기판을 공급받아 상기 기판을 세정하는 마무리 세정부; 상기 마무리 세정부로부터 기판을 공급받아 상기 기판을 건조시키는 건조부; 상기 건조부로부터의 기판을 공급받아 상기 기판을 언로딩 시키는 기판 언로딩부를 포함하며; 상기 플라즈마 조사부는 상기 기판에 플라즈마를 조사하는 플라즈마 조사 유닛 및 상기 기판을 플로팅 상태로 유지시키기 위한 플로팅 유닛을 포함함을 그 특징으로 한다.
Figure R1020080113050
세정 장치, 액정표시장치, 다공성, 기판, 중력, 플라즈마

Description

세정 장치{WASHING DEVICE}
본 발명은 세정 장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마 조사 공정 중 기판의 처짐으로 인한 기판의 파손을 방지할 수 있는 세정 장치에 대한 것이다.
액정표시장치는 비디오신호에 따라 액정셀들의 광투과율을 조절하여 화상을 표시하게 된다. 액티브 매트릭스(Active Matrix) 타입의 액정표시장치는 화소셀마다 스위칭소자가 형성되어 동영상을 표시하기에 유리하다. 스위칭소자로는 주로 박막트랜지스터(Thin Film Transistor; 이하 "TFT"라 함)가 이용되고 있다.
이러한 액정표시장치는 서로 마주보는 두 개의 기판과, 이 기판 사이에 형성된 액정층을 포함한다. 어느 하나의 기판에는 상술된 스위칭소자와 같은 박막트랜지스터들이 형성되며, 다른 하나의 기판에는 컬러필터가 형성되는데, 이러한 공정 전후에 각 기판은 세정 공정을 거치게 된다.
세정 공정 과정에서 기판은 반송 롤러를 통해 각 공정 장치로 반송되는데, 기판이 대형화됨에 따라 이를 반송하는 반송 롤러의 길이도 증가하게 되어 이 반송 롤러의 중심 축의 중심부가 자중에 의해 중력 방향으로 처지게 된다. 그러면, 이 반송 롤러에 놓인 기판의 중심부도 중력 방향으로 처지게 되어, 공정 과정에서 기 판이 파손되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 플로팅 유닛을 이용하여 기판을 플로팅 상태로 유지한 상태에서 기판의 세정 공정을 실시함으로써 기판의 처짐에 의한 파손을 방지할 수 있는 세정 장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 세정 장치는, 기판 로딩부로부터 기판을 공급받아 이 기판에 플라즈마를 조사하여 기판상의 이물질을 제거하는 플라즈마 조사부; 상기 플라즈마 조사부로부터 상기 기판을 공급받아 상기 기판상에 남아 있는 이물질을 제거하는 이물질 세정부; 상기 이물질 세정부로부터 기판을 공급받아 상기 기판을 세정하는 마무리 세정부; 상기 마무리 세정부로부터 기판을 공급받아 상기 기판을 건조시키는 건조부; 상기 건조부로부터의 기판을 공급받아 상기 기판을 언로딩 시키는 기판 언로딩부를 포함하며; 상기 플라즈마 조사부는 상기 기판에 플라즈마를 조사하는 플라즈마 조사 유닛 및 상기 기판을 플로팅 상태로 유지시키기 위한 플로팅 유닛을 포함함을 그 특징으로 한다.
상기 기판 로딩부에 설치되어 외부로부터의 기판을 플라즈마 조사부로 반송시키는 제 1 반송 롤러; 상기 플라즈마 조사부와 이물질 세정부 사이에 위치하여 상기 플라즈마 조사부로부터의 기판을 상기 이물질 세정부로 반송하는 제 2 반송 롤러; 상기 이물질 세정부와 상기 건조부 사이에 위치하여 상기 이물질 세정부로부 터의 기판을 상기 건조부로 반송하는 제 3 반송 롤러; 상기 기판 언로딩부에 설치되어 상기 건조부로부터의 기판을 외부로 반송시키는 제 4 반송롤러를 더 포함하며; 상기 세정부는 상기 제 3 반송 롤러의 상측에 위치하여 상기 제 3 반송 롤러상에 놓인 기판을 향해 세정액을 분사하는 세정 유닛을 포함함을 특징으로 한다.
상기 플라즈마 조사 유닛과 상기 플로팅 유닛은 서로 이격되어 마주보도록 위치하며, 상기 플라즈마 조사 유닛과 상기 플로팅 유닛 사이에 형성된 이동 공간을 통해 기판이 지나가는 것을 특징으로 한다.
상기 플로팅 유닛은 상기 이동 공간을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하는 것을 특징으로 한다.
상기 플로팅 유닛은 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛으로 구분되며; 상기 제 2 플로팅 유닛은 상기 플라즈마 조사 유닛과 마주보도록 상기 제 1 플로팅 유닛과 제 3 플로팅 유닛 사이에 위치하며; 그리고, 상기 기판의 진행 방향에 위치한 제 1 및 제 3 플로팅 유닛의 각 일측면이 경사진 것을 특징으로 한다.
상게 제 1 플로팅 유닛은 상기 제 1 반송 롤러에 인접하여 위치하며, 상기 제 1 플로팅 유닛의 일측면이 상기 제 1 반송 롤러를 향해 점진적으로 낮아지는 형태의 경사면을 가지며; 그리고, 상기 제 3 플로팅 유닛은 상기 제 2 반송 롤러에 인접하여 위치하며, 상기 제 3 플로팅 유닛의 일측면이 상기 제 2 반송 롤러를 향해 점진적으로 낮아지는 형태의 경사면을 갖는 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 플로팅 유닛의 일측면에서 가장 낮은 부분으로부터 지면까지의 거 리가 상기 제 1 반송 롤러의 중심축으로부터 지면까지의 거리와 동일하며; 그리고, 상기 제 2 플로팅 유닛의 일측면에서 가장 낮은 부분으로부터 지면까지의 거리가 상기 제 2 반송 롤러의 중심축으로부터 지면까지의 거리와 동일함을 특징으로 한다.
상기 이물질 세정부는, 상기 기판이 지나갈 수 있는 이동 공간이 형성되도록 서로 이격되어 마주보는 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부를 포함하며; 상기 상부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입하고, 상기 하부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하며; 상기 상부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 세정액을 분사하여 이 세정액과 상기 분사된 공기를 이용하여 거품을 발생시킴으로써 상기 이동 공간을 지나는 기판의 상부면에 형성된 이물질을 제거하며; 상기 하부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 세정액을 분사하여 이 세정액과 상기 분사된 공기를 이용하여 거품을 발생시킴으로써 상기 이동 공간을 지나는 기판의 하부면에 형성된 이물질을 제거하며; 상기 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부는 상기 흡입되는 공기를 이용하여 상기 세정액을 외부로 배출시킴을 특징으로 한다.
외부로부터 공급된 공기가 상기 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부 자체를 통과하여 상기 이동 공간에 분사되도록, 상기 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부는 다공성 소재인 것을 특징으로 한다.
상기 이물질 세정부는, 상기 제 2 반송 롤러의 일측에 위치한 제 1 플로팅 유닛; 및 상기 제 3 반송 롤러의 일측에 위치한 제 2 플로팅 유닛을 더 포함하며; 상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛은 상측으로 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하는 것을 특징으로 한다.
상기 건조부는, 상기 제 3 반송 롤러의 일측에 위치한 제 1 플로팅 유닛; 및, 상기 제 4 반송 롤러의 일측에 위치한 제 2 플로팅 유닛을 더 포함하며; 상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛은 상측으로 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 세정 장치에는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 플라즈마 조사 유닛의 하부에 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛이 설치됨으로 인해, 플라즈마 조사 공정 중 기판이 중력 방향으로 처지는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 플라즈마 조사 공정 중 기판의 파손을 방지할 수 있다.
둘째, 마무리 세정부로부터의 세정액을 재활용함으로 인해, 세정액의 낭비를 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치를 나타낸 도면이다.
본 발명의 실시예에 따른 세정 장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판 로딩부(111)로부터 기판(SUB)을 공급받아 이 기판(SUB)에 플라즈마를 조사하여 기판(SUB)상의 이물질을 제거하는 플라즈마 조사부(100)와, 상기 플라즈마 조사부(100)로부터 상기 기판(SUB)을 공급받아 상기 기판(SUB)상에 남아 있는 이물질을 제거하는 이물질 세정부(101)와, 상기 이물질 세정부(101)로부터 기판(SUB)을 공급받아 상기 기판(SUB)을 세정하는 마무리 세정부(102)와, 상기 마무리 세정부(102)로부터 기판(SUB)을 공급받아 상기 기판(SUB)을 건조시키는 건조부(103)와, 상기 건조부(103)로부터의 기판(SUB)을 공급받아 상기 기판(SUB)을 언로딩 시키는 기판 언로딩부(112)를 포함한다. 여기서, 상기 플라즈마 조사부(100)는 기판(SUB)에 플라즈마를 조사하는 플라즈마 조사 유닛(800) 및 기판(SUB)을 플로팅 상태로 유지시키기 위한 플로팅 유닛을 포함한다.
상술된 각 구성요소 사이에는 각 구성요소간 기판(SUB) 반송을 위한 다수의 반송 롤러가 형성된다. 또한 기판 로딩부(111) 및 기판 언로딩부(112)도 반송 롤러를 포함한다.
기판 로딩부(111)에는 기판(SUB)을 플라즈마 조사부(100)로 반송시키기 위한 제 1 반송 롤러(201)가 설치되며, 상기 플라즈마 조사부(100)와 이물질 세정부(101) 사이에는 상기 플라즈마 조사부(100)로부터의 기판(SUB)을 상기 이물질 세정부(101)로 반송하기 위한 제 2 반송 롤러(202)가 설치되며, 상기 이물질 세정부(101)와 상기 건조부(103) 사이에는 상기 이물질 세정부(101)로부터의 기판(SUB)을 상기 건조부(103)로 반송하기 위한 제 3 반송 롤러(203)가 설치되며, 상기 기판 언로딩부(112)에는 상기 건조부(103)로부터의 기판(SUB)을 외부로 반송시키기 위한 제 4 반송 롤러(204)가 설치된다. 여기서, 마무리 세정부(102)는 제 3 반송 롤러(203)의 상측에 위치하여 상기 제 3 반송 롤러(203)상에 놓인 기판(SUB)을 향해 세정액을 분사하는 세정 유닛(333)을 포함한다.
여기서, 상술된 각 구성요소를 도 1 내지 도 3을 통해 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 2는 도 1의 플라즈마 조사부(100)의 상세 구성도이고, 도 3은 도 1의 세정부의 상세 구성도이다.
플라즈마 조사부(100)
플라즈마 조사부(100)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 기판(SUB)에 플라즈마를 조사하는 플라즈마 조사 유닛(800) 및 상기 기판(SUB)을 플로팅 상태로 유지시키기 위한 플로팅 유닛(100abc)을 포함한다.
상기 플라즈마 조사 유닛(800)은 기판(SUB)상에 플라즈마를 조사함으로써 상기 기판(SUB)에 형성된 이물질, 특히 유기물을 태움으로써 제거한다.
상기 플라즈마 조사 유닛(800)과 상기 플로팅 유닛(100abc)은 서로 이격되어 마주보도록 위치하며, 상기 플라즈마 조사 유닛(800)과 상기 플로팅 유닛(100abc) 사이에 형성된 이동 공간(777)을 통해 기판(SUB)이 지나간다.
상기 플로팅 유닛(100abc)은 상기 이동 공간(777)을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판(SUB)을 플로팅 상태로 유지시킨다.
상기 플로팅 유닛(100abc)은 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c)으로 구분될 수 있으며, 그 수는 3개로 제한되지 않는다. 즉, 상기 플로팅 유닛은 2개 또는 4개 이상이 될 수 도 있다. 본 발명에서는 설명의 편의상 3개로 구성된 플로팅 유닛에 대해 설명하기로 한다.
상기 제 2 플로팅 유닛(100b)은 상기 플라즈마 조사 유닛(800)과 마주보도록 상기 제 1 플로팅 유닛(100a)과 제 3 플로팅 유닛(100c) 사이에 위치한다. 특히, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 기판(SUB)의 진행 방향에 위치한 제 1 및 제 3 플로팅 유닛(100a, 100c)의 각 일측면이 경사져 있다. 구체적으로, 상게 제 1 플로팅 유닛(100a)은 상기 제 1 반송 롤러(201)에 인접하여 위치하는데, 이러한 제 1 플로팅 유닛(100a)의 일측면이 상기 제 1 반송 롤러(201)를 향해 점진적으로 낮아지는 형태의 경사면을 가진다. 그리고, 상기 제 3 플로팅 유닛(100c)은 상기 제 2 반송 롤러(202)에 인접하여 위치하는데, 이러한 제 3 플로팅 유닛(100c)의 일측면이 상기 제 2 반송 롤러(202)를 향해 점진적으로 낮아지는 형태의 경사면을 갖는다.
여기서, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 플로팅 유닛(100a)의 일측면에서 가장 낮은 부분으로부터 지면(ground)까지의 거리(h)가 상기 제 1 반송 롤러(201)의 중심축으로부터 지면까지의 거리(h)와 동일하며, 그리고 상기 제 3 플로팅 유닛(100c)의 일측면에서 가장 낮은 부분으로부터 지면까지의 거리(h)가 상기 제 2 반송 롤러(202)의 중심축으로부터 지면까지의 거리(h)와 동일하다.
외부로부터 공급된 공기가 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c) 자체를 통과하여 상기 기판(SUB)에 분사될 수 있도록, 상기 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c) 자체는 다공성 소재로 이루어진다. 즉, 외부로부터 상기 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c)의 상부를 향해 분사된 공기는 상기 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c)을 통과하여 상기 이동 공간(777)에 공급된다.
상부 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c) 각각에는 상기 이동 공간(777)내의 공기를 흡입하기 위한 다수의 흡입홀(403)들이 형성되어 있다. 상기 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c)에 형성된 흡입홀(403)들은 상기 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c)을 관통하여 이동 공간(777)을 향해 있다.
이와 같이 플라즈마 조사 유닛(800)의 하부에 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛(100a, 100b, 100c)이 설치됨으로 인해, 플라즈마 조사 공정 중 기판(SUB)이 중력 방향으로 처지는 것을 방지할 수 있다.
이물질 세정부(101)
이물질 세정부(101)는, 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 서로 마주보는 상부 이물질 세정부(101Uabc)와 하부 이물질 세정부(101Babc)를 포함한다. 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)와 하부 이물질 세정부(101Babc)는 서로 소정 간격 이격되어 있으며, 이 이격된 두 구조물(101Uabc, 101Babc) 사이에 기판(SUB)이 이동할 수 있는 이동 공간(888)이 형성된다.
상부 이물질 세정부(101Uabc)는 상기 이동 공간(888)을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입한다. 마찬가지로, 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)는 상기 이동 공간(888)을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입한다. 이에 따라, 상기 이동 공간(888)에 진입한 기판(SUB)이 이동 공 간(888)상에 떠 있는 상태가 된다. 다시 말해, 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)는 상기 이동 공간(888)에 진입된 기판(SUB)의 상부면을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입하고, 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)는 상기 이동 공간(888)에 진입된 기판(SUB)의 하부면을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판(SUB)을 이동 공간상에 떠 있는 플로팅(floating) 상태로 유지시킨다. 이때, 분사력이 흡입력보다 더 강하게 작용한다.
상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)는 상기 이동 공간(888)을 향해 상기 세정액(666)을 분사하여 이 세정액(666)과 상기 분사된 공기를 이용하여 거품을 발생시킴으로써 상기 이동 공간(888)을 지나는 기판(SUB)의 상부면에 형성된 이물질을 제거하며, 그리고 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)는 상기 이동 공간(888)을 향해 세정액(666)을 분사하여 이 세정액(666)과 상기 분사된 공기를 이용하여 거품을 발생시킴으로써 상기 이동 공간(888)을 지나는 기판(SUB)의 하부면에 형성된 이물질을 제거한다. 또한, 상부 이물질 세정부(101Uabc) 및 하부 이물질 세정부(101Babc)는 상기 흡입되는 공기를 이용하여 상기 세정액(666)을 외부로 배출시킨다. 상기 세정액(666)은 순수(Deionized water) 또는 케미칼(chemical) 용액 또는 순수와 케미칼의 혼합 용액이 사용될 수 있다.
외부로부터 공급된 공기가 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc) 및 하부 이물질 세정부(101Babc) 자체를 통과하여 상기 이동 공간(888)에 분사될 수 있도록, 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc) 및 하부 이물질 세정부(101Babc) 자체는 다공성 소재로 이루어진다. 즉, 외부로부터 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)의 상부를 향해 분사된 공기는 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)를 통과하여 상기 이동 공간(888)에 공급되며, 그리고 외부로부터 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)의 하부를 향해 분사된 공기는 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)를 통과하여 상기 이동 공간(888)에 공급된다.
상부 이물질 세정부(101Uabc) 및 하부 이물질 세정부(101Babc) 각각에는 상기 공기를 흡입하기 위한 다수의 흡입홀(603)들이 형성되어 있다. 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)에 형성된 흡입홀(603)들은 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)를 관통하여 상기 이동 공간(888)을 향해 있으며, 그리고 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)에 형성된 흡입홀(603)들은 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)를 관통하여 상기 이동 공간(888)을 향해 있다.
또한, 상부 이물질 세정부(101Uabc) 및 하부 이물질 세정부(101Babc) 각각에는 상기 세정액(666)을 이동 공간(888)으로 분사하기 위한 다수의 분사홀(613)들이 형성되어 있다. 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)에 형성된 분사홀(613)들은 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)를 관통하여 상기 이동 공간(888)을 향해 있으며, 그리고 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)에 형성된 분사홀(613)들은 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)를 관통하여 상기 이동 공간(888)을 향해 있다.
이러한 상부 이물질 세정부(101Uabc)는 제 1 내지 제 3 상부 이물질 세정부(101Ua, 101Ub, 101Uc)로 구분될 수 있으며, 그 수는 3개로 제한되지 않는다. 즉, 상기 상부 이물질 세정부(101Uabc)는 2개 또는 4개 이상이 될 수 도 있다. 또한, 하부 이물질 세정부(101Babc) 역시 제 1 내지 제 3 하부 이물질 세정부(101Ba, 101Bb, 101Bc)로 구분될 수 있으며, 그 수는 3개로 제한되지 않는다. 즉, 상기 하부 이물질 세정부(101Babc)는 2개 또는 4개 이상이 될 수 도 있다. 제 1 상부 이물질 세정부(101Ua)는 제 1 하부 이물질 세정부(101Ba)와 마주보고 있으며, 제 2 상부 이물질 세정부(101Ub)는 제 2 하부 이물질 세정부(101Bb)와 마주보고 있으며, 그리고 제 3 상부 이물질 세정부(101Uc)는 제 3 하부 이물질 세정부(101Bc)와 마주보고 있다.
한편, 도 4는 상부 이물질 세정부(101Ua) 및 하부 이물질 세정부(101Ba)의 배면을 나타낸 도면으로, 이 도 4에 도시된 바와 같이, 제 1 상부 이물질 세정부(101Ua) 및 제 1 하부 이물질 세정부(101Ba)는 다수의 트랜치(123)들을 더 포함한다. 상기 다수의 흡입홀(603)들은 상기 트랜치(123)들 중 어느 하나의 트랜치(123)에 공통으로 연결되어 상기 트랜치(123)를 통해 상기 공기를 흡입하거나 또는 상기 세정액(666)을 흡입하며, 그리고 상기 다수의 분사홀(613)들은 상기 트랜치(123)들 중 다른 어느 하나의 트랜치(123)에 공통으로 연결되어 상기 트랜치(123)를 통해 상기 세정액(666)을 이동 공간(888)으로 분사한다.
각 트랜치(123)는 기판(SUB) 진행방향에 대하여 수직한 방향으로 길이를 가지며, 이 트랜치(123)들은 기판(SUB) 진행방향을 따라 배열되어 있다. 이 트랜치(123)들에는 세정액(666)이 채워지는데, 이로 인해 기판(SUB)의 세정 효과를 높일 수 있다.
제 1 내지 제 3 상부 이물질 세정부(101Ua, 101Ub, 101Uc)와 상기 기판(SUB)의 상부면간의 간격은 약 20um이고, 상기 제 1 내지 제 3 하부 이물질 세정 부(101Ba, 101Bb, 101Bc)와 상기 기판(SUB)의 하부면간의 간격도 약 20um이다. 상부 제 1 내지 제 3 상부 이물질 세정부(101Ua, 101Ub, 101Uc)와 제 1 내지 제 3 하부 이물질 세정부(101Ba, 101Bb, 101Bc)간의 간격은 기판(SUB)의 두께에 따라 조절될 수 있다.
한편, 이물질 세정부(101)는 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(101a, 101b)을 더 구비할 수 있다. 제 1 플로팅 유닛(101a)은 제 2 반송 롤러(202)와 제 1 하부 이물질 세정부(101Babc) 사이에 위치하며, 그리고 제 2 플로팅 유닛(101b)은 제 3 반송 롤러(203)와 제 3 하부 이물질 세정부(101Babc) 사이에 위치한다.
외부로부터 공급된 공기가 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(101a, 101b) 자체를 통과하여 상기 기판(SUB)에 분사될 수 있도록, 상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(101a, 101b) 자체는 다공성 소재로 이루어진다. 즉, 외부로부터 상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(101a, 101b)의 상부를 향해 분사된 공기는 상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(101a, 101b)을 통과하여 상기 이동 공간(888)에 공급된다.
상부 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(101a, 101b) 각각에는 상기 이동 공간(888)내의 공기를 흡입하기 위한 다수의 흡입홀(703)들이 형성되어 있다.
마무리 세정부(102)
마무리 세정부(102)는 제 3 반송 롤러(203)의 상측에 위치하여 상기 제 3 반송 롤러(203)상에 놓인 기판(SUB)을 향해 세정액(666)을 분사하는 세정 유닛(333)을 포함한다. 이 세정 유닛(333)으로부터 분사된 세정액(666)은 이물질 세정 부(101)에 공급되어 재활용된다. 즉, 상기 이물질 세정부(101)는 세정 유닛(333)에서 사용된 세정액(666)을 재활용한다.
이와 같이 마무리 세정부(102)로부터의 세정액(666)을 재활용함으로 인해, 세정액(666)의 낭비를 줄일 수 있다.
건조부(103)
건조부(103)는 서로 마주보는 상부 건조부(1032)와 하부 건조부(1031)를 포함한다. 상기 상부 건조부(1032)와 하부 건조부(1031)는 서로 소정 간격 이격되어 있으며, 이 이격된 두 구조물 사이에 기판(SUB)이 이동할 수 있는 이동 공간이 형성된다.
상부 건조부(1032)는 상기 이동 공간(999)을 향해 공기를 분사한다. 즉, 이 상부 건조부(1032)는 상기 이동 공간(999)을 통과하는 기판(SUB)의 상부면에 공기를 분사하여 상기 기판(SUB)의 상부면에 남아 있는 세정액(666)을 기판(SUB) 외부로 흘려보냄으로써 상기 기판(SUB)의 상부면을 건조시킨다. 이와 마찬가지로, 하부 건조부(1031)는 상기 이동 공간(999)을 향해 공기를 분사한다. 즉, 이 하부 건조부(1031)는 상기 이동 공간(999)을 통과하는 기판(SUB)의 하부면에 공기를 분사하여 상기 기판(SUB)의 하부면에 남아 있는 세정액(666)을 기판(SUB) 외부로 흘려보냄으로써 상기 기판(SUB)의 하부면을 건조시킨다.
이러한 건조부(103)는 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(103a, 103b)을 더 구비할 수 있다.
제 1 플로팅 유닛(103a)은 제 3 반송 롤러(203)와 하부 건조부(1031) 사이에 위치하며, 제 2 플로팅 유닛(103b)은 제 4 반송 롤러(112)와 하부 건조부(1031) 사이에 위치한다. 상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(103a, 103b)은 상측으로 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판(SUB)을 플로팅 상태로 유지시킨다.
외부로부터 공급된 공기가 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(103a, 103b) 자체를 통과하여 상기 기판(SUB)에 분사될 수 있도록, 상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛 자체(103a, 103b)는 다공성 소재로 이루어진다. 상부 제 1 및 제 2 플로팅 유닛(103a, 103b) 각각에는 공기를 흡입하기 위한 다수의 흡입홀들이 형성되어 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 플라즈마 조사부의 상세 구성도
도 3은 도 1의 세정부의 상세 구성도
도 4는 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부의 배면을 나타낸 도면
* 도면의 주요부에 대한 설명:
111: 기판 로딩부 100: 플라즈마 조사부
101: 이물질 세정부 102: 마무리 세정부
103: 건조부 112: 기판 언로딩부
100abc: 플로팅 유닛 101Babc: 하부 이물질 세정부
101Uabc: 상부 이물질 세정부 1031: 상부 건조부
1032: 하부 건조부 201: 제 1 반송 롤러
202: 제 2 반송 롤러 203: 제 3 반송 롤러
204: 제 4 반송 롤러

Claims (11)

  1. 기판 로딩부로부터 기판을 공급받아 이 기판에 플라즈마를 조사하여 기판상의 이물질을 제거하는 플라즈마 조사부;
    상기 플라즈마 조사부로부터 상기 기판을 공급받아 상기 기판상에 남아 있는 이물질을 제거하는 이물질 세정부;
    상기 이물질 세정부로부터 기판을 공급받아 상기 기판을 세정하는 마무리 세정부;
    상기 마무리 세정부로부터 기판을 공급받아 상기 기판을 건조시키는 건조부;
    상기 건조부로부터의 기판을 공급받아 상기 기판을 언로딩 시키는 기판 언로딩부;
    상기 기판 로딩부에 설치되어 외부로부터의 기판을 플라즈마 조사부로 반송시키는 제 1 반송 롤러;
    상기 플라즈마 조사부와 이물질 세정부 사이에 위치하여 상기 플라즈마 조사부로부터의 기판을 상기 이물질 세정부로 반송하는 제 2 반송 롤러;
    상기 이물질 세정부와 상기 건조부 사이에 위치하여 상기 이물질 세정부로부터의 기판을 상기 건조부로 반송하는 제 3 반송 롤러;
    상기 기판 언로딩부에 설치되어 상기 건조부로부터의 기판을 외부로 반송시키는 제 4 반송롤러를 포함하며;
    상기 세정부는 상기 제 3 반송 롤러의 상측에 위치하여 상기 제 3 반송 롤러상에 놓인 기판을 향해 세정액을 분사하는 세정 유닛을 포함하며;
    상기 플라즈마 조사부는 상기 기판에 플라즈마를 조사하는 플라즈마 조사 유닛 및 상기 기판을 플로팅 상태로 유지시키기 위한 플로팅 유닛을 포함하며;
    상기 플라즈마 조사 유닛과 상기 플로팅 유닛은 서로 이격되어 마주보도록 위치하며, 상기 플라즈마 조사 유닛과 상기 플로팅 유닛 사이에 형성된 이동 공간을 통해 기판이 지나가는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 플로팅 유닛은 상기 이동 공간을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 플로팅 유닛은 제 1 내지 제 3 플로팅 유닛으로 구분되며;
    상기 제 2 플로팅 유닛은 상기 플라즈마 조사 유닛과 마주보도록 상기 제 1 플로팅 유닛과 제 3 플로팅 유닛 사이에 위치하며; 그리고,
    상기 기판의 진행 방향에 위치한 제 1 및 제 3 플로팅 유닛의 각 일측면이 경사진 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 플로팅 유닛은 상기 제 1 반송 롤러와 제 2 플로팅 유닛 사이에 위치하며, 상기 제 1 반송 롤러에 더 근접할수록 더 낮은 높이를 갖도록 상기 제 1 플로팅 유닛의 일측면이 경사져 있으며; 그리고,
    상기 제 3 플로팅 유닛은 상기 제 2 플로팅 유닛과 제 2 반송 롤러 사이에 위치하며, 상기 제 2 반송 롤러에 더 근접할수록 더 낮은 높이를 갖도록 상기 제 3 플로팅 유닛의 일측면이 경사져 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 플로팅 유닛의 일측면에서 가장 낮은 높이를 갖는 부분으로부터 지면까지의 거리가 상기 제 1 반송 롤러의 중심축으로부터 지면까지의 거리와 동일하며; 그리고,
    상기 제 2 플로팅 유닛의 일측면에서 가장 낮은 높이를 갖는 부분으로부터 지면까지의 거리가 상기 제 2 반송 롤러의 중심축으로부터 지면까지의 거리와 동일함을 특징으로 하는 세정 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 이물질 세정부는,
    상기 기판이 지나갈 수 있는 이동 공간이 형성되도록 서로 이격되어 마주보는 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부를 포함하며;
    상기 상부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입하고, 상기 하부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하며;
    상기 상부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 세정액을 분사하여 이 세정액과 상기 분사된 공기를 이용하여 거품을 발생시킴으로써 상기 이동 공간을 지나는 기판의 상부면에 형성된 이물질을 제거하며;
    상기 하부 이물질 세정부는 상기 이동 공간을 향해 세정액을 분사하여 이 세정액과 상기 분사된 공기를 이용하여 거품을 발생시킴으로써 상기 이동 공간을 지나는 기판의 하부면에 형성된 이물질을 제거하며;
    상기 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부는 상기 흡입되는 공기를 이용하여 상기 세정액을 외부로 배출시킴을 특징으로 하는 세정 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    외부로부터 공급된 공기가 상기 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부 자체를 통과하여 상기 이동 공간에 분사되도록, 상기 상부 이물질 세정부 및 하부 이물질 세정부는 다공성 소재인 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 이물질 세정부는,
    상기 제 2 반송 롤러의 일측에 위치한 제 1 플로팅 유닛; 및
    상기 제 3 반송 롤러의 일측에 위치한 제 2 플로팅 유닛을 더 포함하며;
    상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛은 상측으로 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 건조부는,
    상기 제 3 반송 롤러의 일측에 위치한 제 1 플로팅 유닛; 및,
    상기 제 4 반송 롤러의 일측에 위치한 제 2 플로팅 유닛을 더 포함하며;
    상기 제 1 및 제 2 플로팅 유닛은 상측으로 공기를 분사함과 아울러 상기 분사된 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 플로팅 상태로 유지하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
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