JP4964936B2 - 洗浄装置 - Google Patents

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Description

本発明は、洗浄装置に関するもので、特に、プラズマ照射工程中に基板の垂れによる基板の破損を防止できる洗浄装置に関する。
液晶表示装置は、ビデオ信号によって液晶セルの光透過率を調節して画像を表示する。アクティブマトリクス（Ａｃｔｉｖｅ Ｍａｔｒｉｘ）タイプの液晶表示装置は、画素セルごとにスイッチング素子が設けられ、動映像を表示し易くなっている。スイッチング素子には主として薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；以下、“ＴＦＴ”という。）が用いられている。
かかる液晶表示装置は、相対向する２枚の基板と、これらの基板間に形成された液晶層と、を含む。いずれか一方の基板にはスイッチング素子の薄膜トランジスタが形成され、他方の基板にはカラーフィルタが形成されるが、このような工程前後に各基板には洗浄工程が行われる。
洗浄工程において基板は搬送ローラによって各工程装置に搬送されるが、基板の大型化に伴ってこれを搬送する搬送ローラの長さも増加し、この搬送ローラの中心軸の中心部は自重により重力方向に垂れてしまう。こうなると、この搬送ローラに置かれた基板の中心部も重力方向に反り、工程中に基板が破損するという問題点につながる。
本発明は、上記の問題点を解決するために案出されたもので、その目的は、フローティングユニットを用いて基板をフローティング状態に維持したままで基板の洗浄工程を行うことによって、基板の垂れによる破損を防止することができる洗浄装置を提供することにある。
上記の目的を達成するための本発明による洗浄装置は、基板ローディング部から基板が供給され、該基板にプラズマを照射して基板上の異物を除去するプラズマ照射部と、プラズマ照射部から基板が供給され、該基板上に残っている異物を除去する異物洗浄部と、異物洗浄部から基板が供給され、該基板を洗浄する仕上げ洗浄部と、仕上げ洗浄部から基板が供給され、該基板を乾燥させる乾燥部と、乾燥部から基板が供給され、該基板をアンローディングする基板アンローディング部と、を含み、プラズマ照射部は、基板にプラズマを照射するプラズマ照射ユニット及び基板をフローティング状態に維持させるフローティングユニットを含むことを特徴とする。
上記洗浄装置は、基板ローディング部に設置されて外部からの基板をプラズマ照射部に搬送する第１搬送ローラと、プラズマ照射部と異物洗浄部との間に位置してプラズマ照射部からの基板を異物洗浄部に搬送する第２搬送ローラと、異物洗浄部と乾燥部との間に位置して異物洗浄部からの基板を乾燥部に搬送する第３搬送ローラと、基板アンローディング部に設置されて乾燥部からの基板を外部に搬送する第４搬送ローラと、をさらに含み、洗浄部は、第３搬送ローラの上側に位置して第３搬送ローラ上に置かれた基板に向けて洗浄液を噴射する洗浄ユニットを含むことを特徴とする。
プラズマ照射ユニットとフローティングユニットは、互いに離間しつつ相対向するように配置され、プラズマ照射ユニットとフローティングユニットとの間に形成された移動空間を基板が通過することを特徴とする。
フローティングユニットは、移動空間に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって基板をフローティング状態に維持させることを特徴とする。
フローティングユニットは、第１〜第３フローティングユニットに区分され、第２フローティングユニットは、プラズマ照射ユニットと対向しつつ第１フローティングユニットと第３フローティングユニットとの間に位置し、基板の進行方向に位置している第１及び第３フローティングユニットの各一側面が傾斜していることを特徴とする。
第１フローティングユニットは、第１搬送ローラに隣接して位置し、第１フローティングユニットの一側面が第１搬送ローラに向って漸次低くなる形態の傾斜面を有し、第３フローティングユニットは、第２搬送ローラに隣接して位置し、第３フローティングユニットの一側面が第２搬送ローラに向って漸次低くなる形態の傾斜面を有することを特徴とする。
第１フローティングユニットの一側面において最も低い部分から地面までの距離が、第１搬送ローラの中心軸から地面までの距離と同一であり、第３フローティングユニットの一側面において最も低い部分から地面までの距離が、第２搬送ローラの中心軸から地面までの距離と同一であることを特徴とする。
異物洗浄部は、基板が通過できる移動空間を形成するように互いに離間して対向配置される上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部を含み、上部異物洗浄部は、移動空間に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入し、下部異物洗浄部は、移動空間に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって、基板をフローティング状態に維持させ、上部異物洗浄部は、移動空間に向けて洗浄液を噴射し、この洗浄液と噴射された空気とを用いてバブルを生成することによって、移動空間を通過する基板の上面についた異物を除去し、下部異物洗浄部は、移動空間に向けて洗浄液を噴射し、この洗浄液と噴射された空気とを用いてバブルを生成することによって、移動空間を通過する基板の下面についた異物を除去し、上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部は、吸入される空気を用いて洗浄液を外部に排出させることを特徴とする。
外部から供給された空気が上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部自体を通過して移動空間に噴射されるように、上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部は多孔性素材からなることを特徴とする。
異物洗浄部は、第２搬送ローラの一側に位置している第１フローティングユニットと、第３搬送ローラの一側に位置している第２フローティングユニットと、
をさらに含み、第１及び第２フローティングユニットは、上側に空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって基板をフローティング状態に維持させることを特徴とする。
乾燥部は、第３搬送ローラの一側に位置している第１フローティングユニットと、第４搬送ローラの一側に位置している第２フローティングユニットと、をさらに含み、第１及び第２フローティングユニットは、上側に空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって基板をフローティング状態に維持させることを特徴とする。
本発明による洗浄装置は下記のような効果を奏する。
第一に、プラズマ照射ユニットの下部に第１〜第３フローティングユニットが設置されるため、プラズマ照射工程中に基板が重力方向に反ることを防止し、結果として、プラズマ照射工程中における基板の破損を防止することが可能になる。
第二に、仕上げ洗浄部からの洗浄液を再利用するため、洗浄液の浪費を減らすことが可能になる。
本発明の一実施例による洗浄装置を示す図である。 図１に示すプラズマ照射部の詳細構成図である。 図１に示す洗浄部の詳細構成図である。 上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部の背面を示す図である。
図１は、本発明の一実施例による洗浄装置を示す図である。
本発明の一実施例による洗浄装置は、図１に示すように、基板ローディング部１１１から基板ＳＵＢが供給され、この基板ＳＵＢにプラズマを照射して基板ＳＵＢ上の異物を除去するプラズマ照射部１００と、プラズマ照射部１００から基板ＳＵＢが供給され、この基板ＳＵＢ上に残っている異物を除去する異物洗浄部１０１と、異物洗浄部１０１から基板ＳＵＢが供給され、この基板ＳＵＢを洗浄する仕上げ洗浄部１０２と、仕上げ洗浄部１０２から基板ＳＵＢが供給され、この基板ＳＵＢを乾燥させる乾燥部１０３と、乾燥部１０３から基板ＳＵＢが供給され、この基板ＳＵＢをアンローディングする基板アンローディング部１１２と、を含む。ここで、プラズマ照射部１００は、基板ＳＵＢにプラズマを照射するプラズマ照射ユニット８００及び基板ＳＵＢをフローティング状態に維持させるフローティングユニットを含む。
上述した各構成要素の間には、各構成要素間における基板ＳＵＢの搬送のための複数の搬送ローラが設けられる。また、基板ローディング部１１１及び基板アンローディング部１１２も搬送ローラを備える。
基板ローディング部１１１には、基板ＳＵＢをプラズマ照射部１００に搬送する第１搬送ローラ２０１が設置され、プラズマ照射部１００と異物洗浄部１０１との間にはプラズマ照射部１００からの基板ＳＵＢを異物洗浄部１０１に搬送する第２搬送ローラ２０２が設置され、異物洗浄部１０１と乾燥部１０３との間には、異物洗浄部１０１からの基板ＳＵＢを乾燥部１０３に搬送する第３搬送ローラ２０３が設置され、基板アンローディング部１１２には、乾燥部１０３からの基板ＳＵＢを外部に搬送する第４搬送ローラ２０４が設置される。ここで、仕上げ洗浄部１０２は、第３搬送ローラ２０３の上側に配置され、第３搬送ローラ２０３上に置かれた基板ＳＵＢに向けて洗浄液を噴射する洗浄ユニット３３３を含む。
次に、上述した各構成要素を、図１〜図３を参照しつつより具体的に説明する。
図２は、図１に示すプラズマ照射部１００の詳細構成図であり、図３は、図１に示す洗浄部の詳細構成図である。
プラズマ照射部１００
プラズマ照射部１００は、図１及び図２に示すように、基板ＳＵＢにプラズマを照射するプラズマ照射ユニット８００及び基板ＳＵＢをフローティング状態に維持させるフローティングユニット１００ａｂｃを含む。
プラズマ照射ユニット８００は、基板ＳＵＢ上にプラズマを照射することによって基板ＳＵＢについた異物、特に有機物を燃やして除去する。
プラズマ照射ユニット８００とフローティングユニット１００ａｂｃは互いに離間しつつ相対向するように配置され、プラズマ照射ユニット８００とフローティングユニット１００ａｂｃとの間に形成された移動空間７７７を通って基板ＳＵＢが移動する。
フローティングユニット１００ａｂｃは、移動空間７７７に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって、基板ＳＵＢをフローティング状態に維持させる。
このフローティングユニット１００ａｂｃは、第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃに区分されることができるが、その数が３個に制限されることはない。すなわち、フローティングユニットは、２個または４個以上にしても良い。本発明では、説明の便宜上、３個で構成されたフローティングユニットとして説明する。
第２フローティングユニット１００ｂは、プラズマ照射ユニット８００と対向しつつ第１フローティングユニット１００ａと第３フローティングユニット１００ｃとの間に位置する。特に、図２に示すように、基板ＳＵＢの進行方向に位置している第１及び第３フローティングユニット１００ａ，１００ｃの各一側面が傾斜している。具体的に、第１フローティングユニット１００ａは第１搬送ローラ２０１に隣接して位置するが、このような第１フローティングユニット１００ａの一側面が第１搬送ローラ２０１に向って漸次低くなる形態の傾斜面を持つ。そして、第３フローティングユニット１００ｃは第２搬送ローラ２０２に隣接して位置するが、このような第３フローティングユニット１００ｃの一側面が第２搬送ローラ２０２に向って漸次低くなる形態の傾斜面を持つ。
ここで、図２に示すように、第１フローティングユニット１００ａの一側面において最も低い部分から地面（ｇｒｏｕｎｄ）までの距離ｈが、第１搬送ローラ２０１の中心軸から地面までの距離ｈと同一であり、また、第３フローティングユニット１００ｃの一側面において最も低い部分から地面までの距離ｈが、第２搬送ローラ２０２の中心軸から地面までの距離ｈと同一である。
外部から供給された空気が第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃ自体を通過して基板ＳＵＢに噴射されるように、第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃは多孔性素材からなる。すなわち、外部から第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃの上部に向けて噴射された空気は、第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃを通過して移動空間７７７に供給される。
第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃのそれぞれには、移動空間７７７中の空気を吸入するための複数の吸入穴４０３が形成されている。第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃに形成された吸入穴４０３は、第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃを貫通して移動空間７７７に延びている。
このように、プラズマ照射ユニット８００の下部に第１〜第３フローティングユニット１００ａ，１００ｂ，１００ｃを設置することによって、プラズマ照射工程中に基板ＳＵＢが重力方向に反ることを防止することができる。
異物洗浄部１０１は、図１及び図３に示すように、相対向する上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃと下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃとを含む。上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃと下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃは互いに所定間隔離間しており、これら離間している構造物１０１Ｕａｂｃ，１０１Ｂａｂｃの間には、基板ＳＵＢが移動できる移動空間８８８が形成される。
上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃは、移動空間８８８に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入する。同様に、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃは、移動空間８８８に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入する。これにより、移動空間８８８に進入した基板ＳＵＢは移動空間８８８上に浮いている状態となる。換言すると、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃは、移動空間８８８に進入した基板ＳＵＢの上面に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入し、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃは、移動空間８８８に進入した基板ＳＵＢの下面に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって、基板ＳＵＢを移動空間上に浮いているフローティング状態に維持させる。この時、噴射力が吸入力よりも強く作用する。
上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃは、移動空間８８８に向けて洗浄液６６６を噴射し、この洗浄液６６６と噴射された空気とを用いてバブルを生成することによって、移動空間８８８を通過する基板ＳＵＢの上面についた異物を除去し、また、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃは、移動空間８８８に向けて洗浄液６６６を噴射し、この洗浄液６６６と噴射された空気とを用いてバブルを生成することによって、移動空間８８８を通過する基板ＳＵＢの下面についた異物を除去する。また、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃ及び下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃは、吸入する空気を用いて洗浄液６６６を外部に排出させる。洗浄液６６６は、純水またはケミカル溶液または純水とケミカルとの混合溶液とすることができる。
外部から供給された空気が上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃ及び下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃ自体を通過して移動空間８８８へと噴射されるように、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃ及び下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃは多孔性素材からなる。すなわち、外部から上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃの上部に向けて噴射された空気は、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃを通過して移動空間８８８に供給され、また、外部から下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃの下部に向けて噴射された空気は下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃを通過して移動空間８８８に供給される。
上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃ及び下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃのそれぞれには、空気を吸入するための複数の吸入穴６０３が形成されている。上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃに形成された吸入穴６０３は、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃを貫通して移動空間８８８に延びており、また、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃに形成された吸入穴６０３は下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃを貫通して移動空間８８８に延びている。
また、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃ及び下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃのそれぞれには、洗浄液６６６を移動空間８８８に噴射するための複数の噴射穴６１３が形成されている。上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃに形成された噴射穴６１３は、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃを貫通して移動空間８８８に延びており、また、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃに形成された噴射穴６１３は、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃを貫通して移動空間８８８に延びている。
このような上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃは、第１〜第３上部異物洗浄部１０１Ｕａ，１０１Ｕｂ，１０１Ｕｃに区分されることができるが、その数が３個に制限されることはない。
すなわち、上部異物洗浄部１０１Ｕａｂｃは、２個または４個以上にしても良い。また、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃも同様に、第１〜第３下部異物洗浄部１０１Ｂａ，１０１Ｂｂ，１０１Ｂｃに区分されることができるが、その数が３個に制限されることはない。すなわち、下部異物洗浄部１０１Ｂａｂｃは２個または４個以上にしても良い。第１上部異物洗浄部１０１Ｕａは第１下部異物洗浄部１０１Ｂａと対向しており、第２上部異物洗浄部１０１Ｕｂは第２下部異物洗浄部１０１Ｂｂと対向しており、また、第３上部異物洗浄部１０１Ｕｃは第３下部異物洗浄部１０１Ｂｃと対向している。
一方、図４は、上部異物洗浄部１０１Ｕａ及び下部異物洗浄部１０１Ｂａの背面を示す図である。同図に示すように、第１上部異物洗浄部１０１Ｕａ及び第１下部異物洗浄部１０１Ｂａは、複数のトレンチ１２３をさらに含む。複数の吸入穴６０３は、複数のトレンチ１２３のいずれかに共通してつながってこのトレンチ１２３を通じて空気を吸入したりまたは洗浄液６６６を吸入し、また、複数の噴射穴６１３は、複数のトレンチ１２３のいずれかに共通してつながってこのトレンチ１２３を通じて洗浄液６６６を移動空間８８８に噴射する。
各トレンチ１２３は、基板ＳＵＢの進行方向に垂直な方向に長さを有し、これらのトレンチ１２３は、基板ＳＵＢの進行方向を沿って配列されている。これらのトレンチ１２３には洗浄液６６６が埋め込まれ、これによって基板ＳＵＢの洗浄効果を高めることができる。
第１〜第３上部異物洗浄部１０１Ｕａ，１０１Ｕｂ，１０１Ｕｃと基板ＳＵＢの上面間の間隔は約２０μｍであり、第１〜第３下部異物洗浄部１０１Ｂａ，１０１Ｂｂ，１０１Ｂｃと基板ＳＵＢの下面間の間隔も約２０μｍである。第１〜第３上部異物洗浄部１０１Ｕａ，１０１Ｕｂ，１０１Ｕｃと第１〜第３下部異物洗浄部１０１Ｂａ，１０１Ｂｂ，１０１Ｂｃ間の間隔は、基板ＳＵＢの厚さによって調節可能である。
一方、異物洗浄部１０１は、第１及び第２フローティングユニット１０１ａ，１０１ｂをさらに備えることができる。第１フローティングユニット１０１ａは、第２搬送ローラ２０２と第１下部異物洗浄部１０１Ｂａとの間に位置し、第２フローティングユニット１０１ｂは、第３搬送ローラ２０３と第３下部異物洗浄部１０１Ｂｃとの間に位置する。
外部から供給された空気が第１及び第２フローティングユニット１０１ａ，１０１ｂ自体を通過して基板ＳＵＢに噴射されるように、第１及び第２フローティングユニット１０１ａ，１０１ｂは多孔性素材からなる。すなわち、外部から第１及び第２フローティングユニット１０１ａ，１０１ｂの上部に向けて噴射された空気は、第１及び第２フローティングユニット１０１ａ，１０１ｂを通過して移動空間８８８に供給される。
第１及び第２フローティングユニット１０１ａ，１０１ｂのそれぞれには、移動空間８８８中の空気を吸入するための複数の吸入穴７０３が形成されている。
仕上げ洗浄部１０２
仕上げ洗浄部１０２は、第３搬送ローラ２０３の上側に配置され、第３搬送ローラ２０３上に置かれた基板ＳＵＢに向けて洗浄液６６６を噴射する洗浄ユニット３３３を含む。
この洗浄ユニット３３３から噴射された洗浄液６６６は、異物洗浄部１０１に供給されて再利用される。すなわち、異物洗浄部１０１は洗浄ユニット３３３で使用された洗浄液６６６を再利用する。
このように仕上げ洗浄部１０２からの洗浄液６６６を再利用することによって、洗浄液６６６の浪費を減らすことができる。
乾燥部１０３
乾燥部１０３は、相対向する上部乾燥部１０３２と下部乾燥部１０３１とを含む。上部乾燥部１０３２と下部乾燥部１０３１は互いに所定間隔離間しており、これら離間している構造物間に基板ＳＵＢが移動できる移動空間が形成される。
上部乾燥部１０３２は、移動空間９９９に向けて空気を噴射する。すなわち、この上部乾燥部１０３２は、移動空間９９９を通過する基板ＳＵＢの上面に空気を噴射し、基板ＳＵＢの上面に残っている洗浄液６６６を基板ＳＵＢ外に流し出すことによって、基板ＳＵＢの上面を乾燥させる。これと同様に、下部乾燥部１０３１は、移動空間９９９に向けて空気を噴射する。すなわち、この下部乾燥部１０３１は、移動空間９９９を通過する基板ＳＵＢの下面に空気を噴射し、基板ＳＵＢの下面に残っている洗浄液６６６を基板ＳＵＢ外に流し出すことによって基板ＳＵＢの下面を乾燥させる。
このような乾燥部１０３は、第１及び第２フローティングユニット１０３ａ，１０３ｂをさらに備えることができる。
第１フローティングユニット１０３ａは、第３搬送ローラ２０３と下部乾燥部１０３１との間に位置し、第２フローティングユニット１０３ｂは、第４搬送ローラ１１２と下部乾燥部１０３１との間に位置する。第１及び第２フローティングユニット１０３ａ，１０３ｂは、上側に空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって、基板ＳＵＢをフローティング状態に維持させる。
外部から供給された空気が第１及び第２フローティングユニット１０３ａ，１０３ｂ自体を通過して基板ＳＵＢに噴射されるように、第１及び第２フローティングユニット１０３ａ，１０３ｂは多孔性素材からなる。第１及び第２フローティングユニット１０３ａ，１０３ｂのそれぞれには空気を吸入するための複数の吸入穴が形成されている。
以上説明してきた実施例及び添付図面に本発明が限定されることはなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で様々な置換、変形及び変更が可能であるということが、本発明の属する技術分野における通常の知識を持つ者にとっては明白である。
１１１ 基板ローディング部
１００ プラズマ照射部
１０１ 異物洗浄部
１０２ 仕上げ洗浄部
１０３ 乾燥部
１１２ 基板アンローディング部
１００ａｂｃ フローティングユニット
１０１Ｂａｂｃ:下部異物洗浄部
１０１Ｕａｂｃ 上部異物洗浄部
１０３１ 下部乾燥部
１０３２ 上部乾燥部
２０１ 第１搬送ローラ
２０２ 第２搬送ローラ
２０３ 第３搬送ローラ
２０４ 第４搬送ローラ

Claims (9)

  1. 基板ローディング部から基板が供給され、該基板にプラズマを照射して基板上の異物を除去するプラズマ照射部と、
    前記プラズマ照射部から前記基板が供給され、該基板上に残っている異物を除去する異物洗浄部と、
    前記異物洗浄部から基板が供給され、該基板を洗浄する仕上げ洗浄部と、
    前記仕上げ洗浄部から基板が供給され、該基板を乾燥させる乾燥部と、
    前記乾燥部から基板が供給され、該基板をアンローディングする基板アンローディング部と、
    前記基板ローディング部に設置されて外部からの基板をプラズマ照射部に搬送する第１搬送ローラと、
    前記プラズマ照射部と異物洗浄部との間に位置して前記プラズマ照射部からの基板を前記異物洗浄部に搬送する第２搬送ローラと、
    前記異物洗浄部と前記乾燥部との間に位置して前記異物洗浄部からの基板を前記乾燥部に搬送する第３搬送ローラと、
    前記基板アンローディング部に設置されて前記乾燥部からの基板を外部に搬送する第４搬送ローラと、
    を含み、
    前記プラズマ照射部は、前記基板にプラズマを照射するプラズマ照射ユニット及び前記基板をフローティング状態に維持させるフローティングユニットを含み、
    前記仕上げ洗浄部は、前記第３搬送ローラの上側に位置して前記第３搬送ローラ上に置かれた基板に向けて洗浄液を噴射する洗浄ユニットを含み、
    前記プラズマ照射ユニットと前記フローティングユニットは、互いに離間しつつ相対向するように配置され、前記プラズマ照射ユニットと前記フローティングユニットとの間に形成された移動空間を基板が通過し、
    前記フローティングユニットは、前記移動空間に向けて空気を噴射すると共に噴射された空気を吸入することによって基板をフローティング状態に維持させることを特徴とする洗浄装置。
  2. 前記フローティングユニットは、前記移動空間に向けて空気を噴射すると共に前記噴射された空気を吸入することによって前記基板をフローティング状態に維持させることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
  3. 前記フローティングユニットは、第１〜第３フローティングユニットに区分され、
    前記第２フローティングユニットは、前記プラズマ照射ユニットと対向しつつ前記第１フローティングユニットと第３フローティングユニットとの間に位置し、
    前記基板の進行方向に位置している第１及び第３フローティングユニットの各一側面が傾斜していることを特徴とする請求項２に記載の洗浄装置。
  4. 前記第１フローティングユニットは、前記第１搬送ローラに隣接して位置し、前記第１フローティングユニットの一側面が前記第１搬送ローラに向って漸次低くなる形態の傾斜面を有し、
    前記第３フローティングユニットは、前記第２搬送ローラに隣接して位置し、前記第３フローティングユニットの一側面が前記第２搬送ローラに向って漸次低くなる形態の傾斜面を有することを特徴とする請求項３に記載の洗浄装置。
  5. 前記第１フローティングユニットの一側面において最も低い部分から地面までの距離が、前記第１搬送ローラの中心軸から地面までの距離と同一であり、
    前記第３フローティングユニットの一側面において最も低い部分から地面までの距離が、前記第２搬送ローラの中心軸から地面までの距離と同一であることを特徴とする請求項４に記載の洗浄装置。
  6. 前記異物洗浄部は、
    前記基板が通過できる移動空間を形成するように互いに離間して対向配置される上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部を含み、
    前記上部異物洗浄部は、前記移動空間に向けて空気を噴射すると共に前記噴射された空気を吸入し、前記下部異物洗浄部は、前記移動空間に向けて空気を噴射すると共に前記噴射された空気を吸入することによって、前記基板をフローティング状態に維持させ、
    前記上部異物洗浄部は、前記移動空間に向けて洗浄液を噴射し、この洗浄液と前記噴射された空気とを用いてバブルを生成することによって、前記移動空間を通過する基板の上面についた異物を除去し、
    前記下部異物洗浄部は、前記移動空間に向けて洗浄液を噴射し、この洗浄液と前記噴射された空気とを用いてバブルを生成することによって、前記移動空間を通過する基板の下面についた異物を除去し、
    前記上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部は、前記吸入される空気を用いて前記洗浄液を外部に排出させることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
  7. 外部から供給された空気が前記上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部自体を通過して前記移動空間に噴射されるように、前記上部異物洗浄部及び下部異物洗浄部は多孔性素材からなることを特徴とする請求項６に記載の洗浄装置。
  8. 前記異物洗浄部は、
    前記第２搬送ローラの一側に位置している第１フローティングユニットと、
    前記第３搬送ローラの一側に位置している第２フローティングユニットと、
    をさらに含み、
    前記第１及び第２フローティングユニットは、上側に空気を噴射すると共に前記噴射された空気を吸入することによって前記基板をフローティング状態に維持させることを特徴とする請求項６に記載の洗浄装置。
  9. 前記乾燥部は、
    前記第３搬送ローラの一側に位置している第１フローティングユニットと、
    前記第４搬送ローラの一側に位置している第２フローティングユニットと、
    をさらに含み、
    前記第１及び第２フローティングユニットは、上側に空気を噴射すると共に前記噴射された空気を吸入することによって前記基板をフローティング状態に維持させることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
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