DE10130999A1 - Multifunktions-Reinigungsmodul einer Herstellungseinrichtung für Flachbildschirme und Reinigungsgerät mit Verwendung desselben - Google Patents
Multifunktions-Reinigungsmodul einer Herstellungseinrichtung für Flachbildschirme und Reinigungsgerät mit Verwendung desselbenInfo
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 39
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 235000010678 Paulownia tomentosa Nutrition 0.000 description 1
- 240000002834 Paulownia tomentosa Species 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 238000005381 potential energy Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 210000002105 tongue Anatomy 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
- B08B3/022—Cleaning travelling work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/20—Cleaning of moving articles, e.g. of moving webs or of objects on a conveyor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
- B08B7/0057—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like by ultraviolet radiation
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- Cleaning In General (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
Das Multifunktions-Reinigungsmodul weist eine Mehrzahl von Luftvorhängen, eine Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvorrichtung, eine Bürste, eine Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung und eine Luftbürste auf, die ununterbrochen auf einer Ebene angeordnet sind, wobei die Glassubstrate ununterbrochen in sie eingeführt werden. DOLLAR A Das Reinigungsgerät zur Verwendung des Multifunktions-Reinigungsmoduls weist ein Antriebsteil mit Lade- und Entladeabschnitten sowie das Multifunktions-Reinigungsmodul auf.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Herstellungs
einrichtung für einen Flachbildschirm, und insbesonde
re ein Multifunktions-Reinigungsmodul, dessen Elemente
integriert sind und somit einen Anlagenbereich mini
mieren, und ein Reinigungsgerät mit Verwendung des
Multifunktions-Reinigungsmoduls.
Fig. 1a ist ein Blockdiagramm, das ein herkömmliches
Reinigungsgerät einer Herstellungseinrichtung für ei
nen Flachbildschirm darstellt und Fig. 1b ist ein
schematisches Anordnungsdiagramm.
Unter Bezugnahme auf Fig. 1a und Fig. 1b weist das
herkömmliche Reinigungsgerät ein Transportteil mit ei
nem Ladeabschnitt und einem Entladeabschnitt, ein Rei
nigungsteil mit einem O3-Behandlungsabschnitt, einen
Bürstenabschnitt, einen Düsenabschnitt und einen
Duschabschnitt mit entionisiertem Wasser und einen
Trocknungsabschnitt auf.
Der Ladeabschnitt des Transportteils bringt ein Glas
substrat (nicht dargestellt) in das Reinigungsgerät
hinein, und der Entladeabschnitt des Transportteils
bringt das Glassubstrat aus dem Reinigungsgerät her
aus.
Das Reinigungsteil entfernt auf dem Glassubstrat vor
handene Schadstoffe und Unreinheiten.
Das Trocknungsteil trocknet einen Reiniger, wie bei
spielsweise nach dem Reinigungsvorgang auf dem Glas
substrat verbliebendes entionisiertes Wasser.
Bei den oben erwähnten Vorgängen wird das Glassubstrat
durch eine Unterlage bewegt.
Bei dem herkömmlichen Reinigungsgerät ist jedoch eine
ununterbrochene Fortsetzung der Herstellungsvorgänge
mit Reinigung in Verbindung mit einem weiteren Her
stellungsvorgang mit Ausnahme des Reinigungsvorgangs
schwierig, weil der Anlagenbereich zu groß ist, wo
durch eine Fabrikations-Endausbeute verringert wird.
Dementsprechend betrifft die vorliegende Erfindung ein
Multifunktions-Reinigungsmodul, bei dem im wesentli
chen eines oder mehrere Probleme aufgrund der Begren
zungen und Nachteile des Standes der Technik vermieden
werden.
Die Aufgabe der Vorliegenden Erfindung besteht darin,
ein Multifunktions-Reinigungsmodul bereitzustellen,
dessen Elemente integriert sind und somit einen Anla
genbereich minimieren und bei der Fabrikation einen
Raum effektiv nutzen.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung be
steht darin, eine Ausbeute des Flachbildschirms durch
Verwendung des Multifunktions-Reinigungsmoduls zu er
höhen.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung be
steht darin, neue Elemente des Multifunktions-Reini
gungsmoduls bereitzustellen.
Um die Aufgabe zu lösen und in Übereinstimmung mit dem
Zweck der Erfindung, wie in diesem Dokument ausgeführt
und allgemein beschrieben wird, weist die Erfindung
ein Multifunktions-Reinigungsmodul mit einer Mehrzahl
von Luftvorhängen, eine Exzimer-Ultraviolettlicht-Aus
strahlungsvorrichtung, eine Bürste, eine Hochgeschwin
digkeits-Abduschvorrichtung und eine Luftbürste auf,
die ununterbrochen auf einer Ebene angeordnet sind,
wobei die Glassubstrate ununterbrochen in sie einge
führt werden.
Darüber hinaus weist das Reinigungsgerät gemäß der
vorliegenden Erfindung ein Antriebsteil mit Lade- und
Entladeabschnitten sowie das Multifunktions-Reini
gungsmodul auf.
Die vorliegende Erfindung wird anhand der nachfolgend
gegebenen detaillierten Beschreibung und anhand der
dazugehörigen Zeichnungen, die nur der Veranschauli
chung dienen sollen und somit die vorliegende Erfin
dung nicht begrenzen, verständlicher, wobei
Fig. 1a ein Blockdiagramm ist, das ein herkömmliches
Reinigungsgerät einer Herstellungseinrich
tung für den Flachbildschirm darstellt,
Fig. 1b ein schematisches Anordnungsdiagramm ist.
Fig. 2 eine schematische perspektivische Ansicht
ist, die ein Multifunktions-Reinigungsmodul
gemäß der vorliegenden Erfindung darstellt.
Fig. 3a eine schematische Ansicht ist, die eine
Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvor
richtung des Multifunktions-Reinigungsmoduls
gemäß der vorliegenden Erfindung darstellt,
Fig. 3b eine Schnittansicht von Fig. 3a ist,
Fig. 3c eine Seitenansicht von Fig. 3b ist.
Fig. 4a eine Zeichnung ist, die eine Hochgeschwin
digkeits-Abduschvorrichtung des Multifunkti
ons-Reinigungsmoduls gemäß der vorliegenden
Erfindung darstellt,
Fig. 4b eine teilweise vergrößerte Ansicht von Fig.
4a ist.
Fig. 5a eine Zeichnung ist, die eine weitere Ausfüh
rung der Hochgeschwindigkeits-Abduschvor
richtung darstellt,
Fig. 5b eine teilweise vergrößerte Ansicht von Fig.
5a ist.
Fig. 6 eine Vergleichsansicht zur Erklärung von
Fig. 5a und 5b ist.
Fig. 7 eine Zeichnung ist, die eine weitere Ausfüh
rung der Hochgeschwindigkeits-Abduschvor
richtung darstellt.
Fig. 8 eine Zeichnung ist, die eine weitere Ausfüh
rung der Hochgeschwindigkeits-Abduschvor
richtung darstellt.
Fig. 9a und 9b Zeichnungen sind, die die V-förmige
Luftbürste des Multifunktions-Reinigungsmo
duls gemäß der vorliegenden Erfindung dar
stellen.
Fig. 10 eine Zeichnung ist, die ein Prinzip des An
triebsteils des Multifunktions-Reinigungsmo
duls gemäß der vorliegenden Erfindung er
klärt.
Fig. 11 eine Zeichnung zur Erklärung eines weiteren
Prinzips eines Antriebsteils ist.
Fig. 12a eine Draufsicht ist, die eine Ausführung des
Antriebsteils des Multifunktions-Reinigungs
moduls gemäß der vorliegenden Erfindung dar
stellt,
Fig. 12b eine Seitenansicht von Fig. 12a ist.
Fig. 13a eine Draufsicht ist, die eine weitere Aus
führung des Antriebsteils darstellt,
Fig. 13b eine Seitenansicht von Fig. 13a ist.
Fig. 14 eine schematische Seitenansicht des Reini
gungsgerätes gemäß einer Ausführung der vor
liegenden Erfindung ist.
Fig. 15 eine schematische Seitenansicht des Reini
gungsgerätes gemäß einer weiteren Ausführung
der vorliegenden Erfindung ist.
Nachfolgend wird das Multifunktions-Reinigungsmodul
und ein Reinigungsgerät der vorliegenden Erfindung mit
Verwendung desselben durch Beschreibung der dazugehö
rigen Zeichnungen detailliert beschrieben.
Fig. 2 ist eine schematische perspektivische Ansicht,
die das Multifunktions-Reinigungsmodul gemäß der vor
liegenden Erfindung darstellt.
Das Multifunktions-Reinigungsmodul gemäß der vorlie
genden Erfindung weist eine Mehrzahl von Luftvorhängen
1, eine Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvor
richtung 2, eine Bürste 3, eine Hochgeschwindigkeits-
Abduschvorrichtung 4 und eine Luftbürste 5 auf, die
ununterbrochen auf einer Ebene angeordnet sind, wobei
die Glassubstrate ununterbrochen in sie eingeführt
werden.
Die Mehrzahl von Luftvorhängen 1 ist so angeordnet,
daß eine möglicherweise zwischen ihnen erzeugte Kolli
sion ausgeschlossen ist.
Andererseits sind bei dem erfindungsgemäßen Multifunk
tions-Reinigungsmodul alle Elemente einschließlich der
Luftbürste im Vergleich zu dem herkömmlichen Reini
gungsmodul verbessert, wobei bei einem Glassubstrat
verschiedene Reinigungsfunktionen gleichzeitig ange
wandt werden.
Unter Bezugnahme auf Fig. 2 weist das erfindungsgemäße
Multifunktions-Reinigungsmodul die folgende Zusammen
setzung auf: Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolettlicht-
Ausstrahlungsvorrichtung - Bürste - Hochgeschwindig
keits-Abduschvorrichtung - Luftvorhang - Luftbürste -
Luftvorhang. Weiterhin ist es gemäß der vorliegenden
Erfindung möglich, verschiedene Zusammensetzungen ent
sprechend den nachfolgenden Funktionen und Gegenstän
den bereitzustellen.
- 1. Luftvorhang - Bürste - Hochgeschwindigkeits-Ab duschvorrichtung - Luftvorhang - Luftbürste - Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrah lungsvorrichtung - Luftvorhang
- 2. Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrah lungsvorrichtung - Luftvorhang - Bürste - Hochge schwindigkeits-Abduschvorrichtung - Luftvorhang - Luftbürste - Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolett licht-Ausstrahlungsvorrichtung - Luftvorhang
- 3. Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrah lungsvorrichtung - Luftvorhang - Hochgeschwindig keits-Abduschvorrichtung - Luftvorhang - Luftbür ste - Luftvorhang
- 4. Luftvorhang - Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrich tung - Luftvorhang - Luftbürste - Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvorrichtung - Luftvorhang
- 5. Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrah lungsvorrichtung - Luftvorhang - Hochgeschwindig keits-Abduschvorrichtung - Luftvorhang - Luftbür ste - Luftvorhang - Exzimer-Ultraviolettlicht-Aus strahlungsvorrichtung - Luftvorhang
Bei einem weiteren Aspekt gemäß der vorliegenden Er
findung kann außer bei den obigen Zusammensetzungen 1)
bis 5) eine andere Zusammensetzung verwendet werden,
die spezifische Funktionen ausführt.
Beispielsweise kann die Hochgeschwindigkeits-Abdusch
vorrichtung als Ätzvorrichtung oder als Entwicklungs
vorrichtung verwendet werden. Bei dem oben erwähnten
Aspekt stößt die Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrich
tung entionisiertes Wasser aus. Bei Verwendung als
Ätz- oder Entwicklungsvorrichtung stößt die Hochge
schwindigkeits-Abduschvorrichtung ein Ätzmittel oder
einen Entwickler aus.
Nachfolgend werden Elemente des Multifunktions-Reini
gungsmoduls gemäß der vorliegenden Erfindung durch Be
schreibung der dazugehörigen Zeichnungen detailliert
beschrieben.
Fig. 3a ist eine schematische Ansicht, die eine Exzi
mer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvorrichtung des
Multifunktions-Reinigungsmoduls gemäß der vorliegenden
Erfindung darstellt.
Unter Bezugnahme auf Fig. 3a weist die Exzimer-
Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvorrichtung 2 ein Lam
pengehäuse 113, ein zylinderförmiges Quarzrohr 115 und
eine Ultraviolettlichtlampe 117 in dem zylinderförmi
gen Quarzrohr 115 auf.
Die Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvorrichtung
2 ist dafür vorgesehen, einen Ausfluß von durch die
Ultraviolettlichtlampe 117 erzeugtem O3-Gas zu unter
drücken und eine konstante Konzentration von O3, vor
zugsweise 50-500 ppm, aufrecht zu erhalten, und zwar
als ein Zuflußloch → ein Luft oder N2-Gas ausstoßen
des Loch → ein Ausflußloch → das Lampengehäuse → das
Ausflußloch → das Luft oder N2-Gas ausstoßende Loch →
das Ausflußloch.
In der Zeichnung stellt eine Markierung 116 ein N2-Gas
ausstoßendes Loch dar, ein Pfeil A stellt eine Luft
ausstoßrichtung dar, und ein Pfeil O stellt eine Luft
ausflußrichtung dar. Andererseits stellt ein Pfeil un
ter dem Glassubstrat 10 eine Ausflußrichtung einer an
steigenden Flüssigkeit dar.
Fig. 3b ist eine Schnittansicht von Fig. 3a, und Fig.
3c ist eine Seitenansicht.
Unter Bezugnahme auf Fig. 3a und Fig. 3b weist das zy
linderförmige Quarzrohr 115 die bereitgestellte Ultra
violettlichtlampe 117 und eine Reflexionsfolie 115a
auf. Durch diese Zusammensetzung wird ein Licht von
der Ultraviolettlichtlampe 117 auf das Glassubstrat 10
konzentriert, wodurch eine Lichtausbeute erhöht wird.
Zu diesem Zeitpunkt kann die Reflexionsfolie 115a
durch Ablage eines Materials hergestellt werden, das
ein Lichtreflexionsmerkmal aufweist.
Das durch das N2-Gas ausstoßende Loch austretende N2-
Gas hält in einem Raum zwischen dem zylinderförmigen
Quarzrohr 115 und der Ultraviolettlichtlampe 117 eine
N2-Gasatmosphäre aufrecht und minimiert dadurch einen
Verlust an Ultraviolettlicht durch Sauerstoff.
Die Ultraviolettlichtlampe 117 weist eine Mehrzahl von
Außenelektroden 117a, eine Innenelektrode 117b und ei
ne elektrische Lichtquelle 117c auf.
In der Zeichnung sind die Außenelektroden 117a überall
außer in einem Bereich S vorhanden, wodurch die Licht
ausbeute erhöht wird.
Nachfolgend wird der Ultraviolettlicht-Ausstrahlungs
vorgang durch Beschreibung der dazugehörigen Zeichnun
gen detailliert beschrieben.
Zunächst wird das Glassubstrat 10 durch eine Trans
portvorrichtung (nicht dargestellt) in das Gerät ein
geführt und durch ein später erwähntes Düsenventil in
einem Schwebezustand gehalten. Zu diesem Zeitpunkt
wird ein Spalt zwischen dem Glassubstrat 10 und dem
Lampengehäuse 113 ordnungsgemäß aufrecht erhalten, in
dem eine Intensität der ansteigenden Flüssigkeit von
dem Düsenventil gesteuert wird.
Zweitens wird Luft in das Lampengehäuse 113 eingelei
tet und N2-Gas wird durch das N2-Gas ausstoßende Loch
in das zylinderförmige Quarzrohr 115 eingeleitet. Da
nach wird die elektrische Lichtquelle 117c eingeschal
tet und dann ein elektrisches Feld zwischen den Au
ßenelektroden 117a und der Innenelektrode 117b er
zeugt, wodurch ein Ultraviolettlicht erzeugt wird. Zur
Erhöhung der Strahlungsausbeute beträgt zu diesem
Zeitpunkt eine Frequenz der elektrischen Lichtquelle
117c vorzugsweise 20 KHz-200 KHz, was einem metastabi
len Zustand von Innengasen der elektrischen Lichtquel
le 117c, wie beispielsweise Xe, Kr oder Rn ähnlich
ist.
Ein Teil des von der Ultraviolettlichtlampe 117 er
zeugten Ultraviolettlichtes wird durch das zylinder
förmige Quarzrohr 115 auf die Oberfläche des Glas
substrates 10 abgestrahlt, und die anderen Teile des
Ultraviolettlichtes werden durch die Reflexionsfolie
115a reflektiert, und dann wird Ultraviolettlicht auf
die Oberfläche des Glassubstrates 10 abgestrahlt.
Fig. 4a ist eine Zeichnung, die eine Hochgeschwindig
keits-Abduschvorrichtung des Multifunktions-Reini
gungsmoduls gemäß der vorliegenden Erfindung dar
stellt, und Fig. 4b ist eine teilweise vergrößerte An
sicht von Fig. 4a.
Unter Bezugnahme auf Fig. 4a und 4b wird zunächst ein
Reiniger über ein Zuflußloch 30 mit einem kleinen Be
reich, in dem eine Menge eines Reinigers mit Qs und
ein Druck mit Ps bezeichnet ist, zugeführt. Danach
wird eine Geschwindigkeit von aus dem Zuflußloch 30 in
einen Wassertank 40 ausgeflossenem Reiniger von hoher
Geschwindigkeit in niedrige Geschwindigkeit verändert.
Weiterhin wird der Fluß des Reinigers durch eine Loch
platte 50 in eine Laminarströmung verändert und auf
der Oberfläche des Glassubstrates (nicht dargestellt)
verteilt.
Fig. 5a ist eine Zeichnung, die eine weitere Ausfüh
rung der Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung dar
stellt, Fig. 5b ist eine teilweise vergrößerte Ansicht
von Fig. 5a, und Fig. 6 ist eine Vergleichsansicht zur
Erklärung von Fig. 5a und 5b.
Unter Bezugnahme auf die Zeichnungen wird die durch
die Lochplatte 50 erzeugte Laminarströmung durch eine
Verbindungsvorrichtung 60 abgespalten, wodurch ein
Wirbel erzeugt wird. Eine Beseitigung dieses Wirbels
wird durch die Größe der Verbindungsvorrichtung 60 und
eine Distanz b zwischen den benachbarten Verbindungs
vorrichtungen gesteuert. Zur Vermeidung des Wirbels
beträgt bei dieser Ausführung die Distanz b das 3-5
fache der Größe a.
In den Zeichnungen bezeichnet Pm einen Druck unter der
Lochplatte 50, h ist ein Spalt zwischen benachbarten
Düsen, Fm ist eine auf den Spalt h wirkende Kraft. Zum
Ausgleich einer elastischen Veränderung eines Spaltes
zwischen benachbarten Düsen ist eine Verbindungsvor
richtung 70 vorgesehen.
Fig. 7 ist eine Zeichnung, die noch eine weitere Aus
führung der Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung
darstellt.
Bei dieser Ausführung wird der obere und untere Teil
des Glassubstrates 10 gleichzeitig durch Geschwindig
keitsenergie und durch Kollisionsenergie gereinigt.
Fig. 8 ist eine Zeichnung, die noch eine weitere Aus
führung der Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung
darstellt.
Bei dieser Ausführung ist die Hochgeschwindigkeits-
Abduschvorrichtung ununterbrochen auf einer Ebene auf
der oberen und der unteren Seite entsprechend Fig. 7
vorgesehen.
Die Zusammensetzung von Fig. 7 und Fig. 8 basiert auf
Fig. 4 bis Fig. 6, weshalb die Beschreibung eines je
den Elementes ausgelassen wird.
Fig. 9a und 9b sind Zeichnungen, die die V-förmige
Luftbürste des Multifunktions-Reinigungsmoduls gemäß
der vorliegenden Erfindung darstellen.
Unter Bezugnahme auf Fig. 9a und 9b weist die V-
förmige Luftbürste gemäß der vorliegenden Erfindung
eine obere und untere Luftbürste 5a, 5b, sowie Zufluß-
und Ausflußlöcher (nicht dargestellt) auf.
In Fig. 9a wird der Reiniger auf einem Mittelabschnitt
des Glassubstrates 10 entfernt, wobei jedoch in Fig.
9b der Reiniger auf Seitenabschnitten des Glassubstra
tes 10 entfernt wird.
Bei dieser Ausführung bewegt sich das Glassubstrat 10
in einen Zustand, in dem die V-förmige Luftbürste 5
gestoppt wird, wobei es aber möglich ist, die V-
förmige Luftbürste 5 in einen Zustand zu bewegen, in
dem das Glassubstrat 10 gestoppt wird.
Fig. 10 ist eine Zeichnung, die ein Prinzip des An
triebsteils des Multifunktions-Reinigungsmoduls gemäß
der vorliegenden Erfindung erklärt.
Unter Bezugnahme auf Fig. 10 weist ein Düsenventil des
Antriebsteils einen Wassertank 250 und eine Lochplatte
260 auf.
Zunächst fließt die ansteigende Flüssigkeit mit dem
Druck P2 und Menge Q2 in den Wassertank 250, wobei zu
diesem Zeitpunkt die Menge Q2 und die Menge Q4 in dem
Wassertank 250 gleich ist und ein Druck in dem Wasser
tank 250 verringert wird.
Zweitens erhöht sich, wenn es sich bei den potentiel
len Energien ohne Berücksichtigung des Energieverlu
stes um dieselben handelt, ein Druck P4 in dem Wasser
tank 250 aufgrund der Veränderung einer Geschwindig
keitsenergie in eine Druckenergie auf der Grundlage
der Bernoullischen Gleichung schnell.
Andererseits ist die ansteigende Flüssigkeit in dem
Wassertank 250 einem gleichförmigen Druck ausgesetzt,
da der Durchmesser der Lochplatte 260 klein ist, wobei
durch die Lochplatte 260 ein gleichförmiger Druck P6
auf dem Düsenventil und unter dem Glassubstrat 10 an
liegt.
Ein gleichförmiger Spalt h wird ununterbrochen zwi
schen dem Düsenventil und dem Glassubstrat 10 durch
eine gleichförmige Verteilungstarierung W auf dem
Glassubstrat 10 und durch den gleichförmigen Spritz
druck P6 aufrecht erhalten, wodurch das Glassubstrat
10 mit dem Düsenventil nicht in Berührung gebracht
wird.
Eine Markierung A stellt eine Bewegungsrichtung des
Glassubstrates 10 dar.
Fig. 11 ist eine Zeichnung zur Erklärung eines weite
ren Prinzips eines Antriebsteils.
In diesem Fall ist ein Paar von Düsenventilen an obe
ren und unteren Abschnitten des Glassubstrates 10 vor
gesehen, da der Schwerkraftmittelpunkt durch den Druck
und das Eigengewicht des Reinigers jederzeit ins Un
gleichgewicht kommen kann. Dementsprechend sind obere
und untere Düsenventile weniger als 1 mm von Oberflä
chen des Glassubstrates 10 entfernt vorgesehen, wo
durch ein Druck P1 durch das obere Düsenventil und ein
Druck P2 durch das untere Düsenventil gleich wird.
In der Zeichnung stellen die Markierungen 250a und
250b Wassertanks dar, und die Markierungen 260a und
260b stellen Lochplatten dar.
Fig. 12a ist eine Draufsicht, die eine Ausführung des
Antriebsteils des Multifunktions-Reinigungsmoduls ge
mäß der vorliegenden Erfindung darstellt, und Fig. 12b
ist eine Seitenansicht von Fig. 12a.
Unter Bezugnahme auf Fig. 12a und 12b weist das An
triebsteil eine Antriebsrolle 210, einen Glastrans
portkarren 270, einen Transportdraht 280 und ein Dü
senventil 290 auf.
Der Glastransportkarren 270 ist über einen Stromtrans
portdraht (nicht dargestellt) mit der Antriebsrolle
210 verbunden. Das Glassubstrat 10 wird durch das Dü
senventil 290 in der Schwebe gehalten, wobei das Glas
substrat 10 dann auf dem Glastransportkarren 270 posi
tioniert wird.
Fig. 13a ist eine Draufsicht, die eine weitere Ausfüh
rung des Antriebsteils darstellt, und Fig. 13b ist ei
ne Seitenansicht von Fig. 13a.
Bei dieser Ausführung handelt es sich bei allen Ele
menten mit Ausnahme des in Fig. 12a und 12b beschrie
benen Glastransportkarrens 270 um dieselben Elemente
wie bei den vorangegangenen.
Fig. 14 ist eine schematische Seitenansicht eines Rei
nigungsgerätes gemäß einer Ausführung der vorliegenden
Erfindung.
Unter Bezugnahme auf Fig. 14 weist das Reinigungsgerät
ein Antriebsteil 340, das das Laden und Entladen des
Glassubstrates 10 ausführt, ein Multifunktions-Reini
gungsmodul 300 mit einer Mehrzahl von Luftvorhängen,
eine Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvorrich
tung, eine Bürste, eine Hochgeschwindigkeits-Abdusch
vorrichtung und eine Luftbürste auf, die ununterbro
chen auf einer Ebene angeordnet sind, wobei die Glas
substrate ununterbrochen in sie eingeführt werden, ei
ne Trägerplatte 320 zum Sammeln eines Reinigers 350,
wie beispielsweise entionisiertes Wasser, und einen
Wassertank 330 auf.
In der Zeichnung stellt eine Markierung A eine Bewe
gungsrichtung des Glassubstrates 10, und eine Markie
rung B eine Bewegungsrichtung des Multifunktions-
Reinigungsmoduls 300 dar.
Fig. 15 ist eine schematische Seitenansicht des Reini
gungsgerätes gemäß einer weiteren Ausführung der vor
liegenden Erfindung.
Bei dieser Ausführung stimmen alle Elemente, mit Aus
nahme der Befestigung des Multifunktions-Reinigungsmo
duls 300, mit denjenigen der vorangegangenen überein.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann durch die Ver
wendung des Multifunktions-Reinigungsmoduls, dessen
Elemente integriert sind, ein Anlagenbereich mini
miert, und bei der Fabrikation (FAB) ein Raum effektiv
genutzt werden.
Darüber hinaus ist es gemäß der vorliegenden Erfindung
möglich, eine Ausbeute des Flachbildschirms wie bei
spielsweise einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung
durch Verwendung des Multifunktions-Reinigungsmoduls
zu erhöhen.
Es wird weiterhin von Fachleuten auf diesem Fachgebiet
verstanden, daß es sich bei der vorangegangenen Be
schreibung um eine bevorzugte Ausführung der offenbar
ten Vorrichtung handelt, und daß verschiedene Verände
rungen und Abänderungen der Erfindung vorgenommen wer
den können, ohne von deren Geist und Umfang abzuwei
chen.
Claims (10)
1. Multifunktions-Reinigungsmodul für einen Flach
bildschirm, das folgendes aufweist:
Eine Mehrzahl von Luftvorhängen (1);
eine Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvor richtung (2);
eine Bürste (3);
eine Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung (4); und
eine V-förmige Luftbürste (5),
dadurch gekennzeichnet, daß die Luftvorhänge (1), die Exzimer-Ultraviolett licht-Ausstrahlungsvorrichtung (2), die Bürste (3), die Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung (4) und die Luftbürste (5) ununterbrochen auf ei ner Ebene angeordnet sind und Glassubstrate (10) ununterbrochen in sie eingeführt werden.
Eine Mehrzahl von Luftvorhängen (1);
eine Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvor richtung (2);
eine Bürste (3);
eine Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung (4); und
eine V-förmige Luftbürste (5),
dadurch gekennzeichnet, daß die Luftvorhänge (1), die Exzimer-Ultraviolett licht-Ausstrahlungsvorrichtung (2), die Bürste (3), die Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung (4) und die Luftbürste (5) ununterbrochen auf ei ner Ebene angeordnet sind und Glassubstrate (10) ununterbrochen in sie eingeführt werden.
2. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Exzimer-Ultraviolettlicht-Ausstrahlungsvor
richtung (2) ein Lampengehäuse (113), ein zylin
derförmiges Quarzrohr (115) und eine Ultraviolett
lichtlampe (117) in dem zylinderförmigen Quarzrohr
(115) aufweist.
3. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Ultraviolettlichtlampe (117) eine Mehrzahl von
Außenelektroden (117a), eine Innenelektrode (117b)
und eine elektrische Lichtquelle (117c) aufweist.
4. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
eine Reflexionsfolie (115a) in dem zylinderförmi
gen Quarzrohr (115) vorgesehen ist, um das von der
Ultraviolettlichtlampe (117) erzeugte Ultravio
lettlicht zu reflektieren.
5. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung (4)
einen Wassertank (40, 250), in den ein Reiniger
fließt, und eine Lochplatte (50, 260) zur Verände
rung des Reinigers in eine Laminarströmung auf
weist, die den Reiniger auf der Oberfläche des
Glassubstrates (10) verteilt.
6. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung (4)
auf oberen und unteren Abschnitten des Glas
substrates (10) vorgesehen ist.
7. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Hochgeschwindigkeits-Abduschvorrichtung (4)
ein Ätzmittel oder einen Entwickler ausstößt.
8. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die V-förmige Luftbürste (5) eine obere und untere
Luftbürste (5a, 5b) für das Glassubstrat (10), so
wie Zufluß- und Ausflußlöcher für Luft aufweist.
9. Multifunktions-Reinigungsmodul nach Anspruch 1,
das weiterhin folgendes aufweist:
Eine Antriebsrolle (210);
einen Glastransportkarren (270);
einen Transportdraht (280) zum Transportieren des Glastransportkarrens (270); und
ein Düsenventil (290) mit einem Wassertank (250) und einer Lochplatte (260)
Eine Antriebsrolle (210);
einen Glastransportkarren (270);
einen Transportdraht (280) zum Transportieren des Glastransportkarrens (270); und
ein Düsenventil (290) mit einem Wassertank (250) und einer Lochplatte (260)
10. Reinigungsgerät für einen Flachbildschirm, das
folgendes aufweist:
Ein Antriebsteil (340), das das Laden und Entladen eines Glassubstrates (10) ausführt;
ein Multifunktions-Reinigungsmodul (300) mit einer Mehrzahl von Luftvorhängen (1), eine Exzimer-Ul traviolettlicht-Ausstrahlungsvorrichtung (2), eine Bürste (3), eine Hochgeschwindigkeits-Abduschvor richtung (4) und eine Luftbürste (5), die ununter brochen auf einer Ebene angeordnet sind, wobei die Glassubstrate (10) ununterbrochen in sie einge führt werden;
eine Trägerplatte (320) zum Sammeln eines Reini gers (350); und
einen Wassertank (330).
Ein Antriebsteil (340), das das Laden und Entladen eines Glassubstrates (10) ausführt;
ein Multifunktions-Reinigungsmodul (300) mit einer Mehrzahl von Luftvorhängen (1), eine Exzimer-Ul traviolettlicht-Ausstrahlungsvorrichtung (2), eine Bürste (3), eine Hochgeschwindigkeits-Abduschvor richtung (4) und eine Luftbürste (5), die ununter brochen auf einer Ebene angeordnet sind, wobei die Glassubstrate (10) ununterbrochen in sie einge führt werden;
eine Trägerplatte (320) zum Sammeln eines Reini gers (350); und
einen Wassertank (330).
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Date | Code | Title | Description |
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8141 | Disposal/no request for examination |