CN101733258A - 清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种清洗装置，其能够防止由于基板下垂所造成的对基板的损伤。所述清洗装置包括：等离子体照射部，其被提供有来自基板装载部的基板以通过向基板照射等离子体从基板去除污物；清污部，其被提供有来自等离子体照射部的基板以去除留在基板上的污物；最后清洗部，其被提供有来自清污部的基板以清洗基板；烘干部，其被提供有来自最后清洗部的基板以烘干基板；以及基板卸载部，其被提供有来自烘干部的基板以卸载基板，其中等离子体照射部包括向基板照射等离子体的等离子体照射单元，以及使所述基板保持处于浮动状态的浮动单元。

Description

清洗装置
技术领域
本发明涉及清洗装置，尤其涉及能够防止等离子体照射处理中由于基板下垂造成的对基板的损伤。
背景技术
本申请要求2008年11月14日提交的韩国专利申请No.10-2008-0113050的优先权，此处以引证的方式并入其全部内容，就像在此进行了完整阐述一样。
液晶显示装置(LCD)通过根据视频信号控制液晶单元的透光率来显示图像。尤其，有源矩阵式LCD由于每个像素单元都装配有开关元件，因此在显示移动画面方面具有优势。通常，薄膜晶体管(TFT)用作开关元件。
LCD包括互相面对的一对基板，以及置于基板之间的液晶层。其中一个基板设置有TFT(如，开关元件)，而另一基板设置有滤色器。在这些处理之前或之后，对基板进行清洗处理。
在清洗处理中，基板通过传输辊传递到相关装置。但是，随着基板尺寸增加，传输辊的长度也相应增加，从而造成所述传输辊中心轴的中间部分由于其自身重量在重力方向上发生下垂。因此，放置在所述传输辊上的基板的中间部分也会在重力方向上发生下垂，从而可能损坏基板。
发明内容
因此，本发明旨在提供一种基本上解决了由于相关技术的局限性和不利产生的一个或更多个问题的清洗装置。
本发明的一个目的是提供一种通过使用浮动单元使正在清洗的基板保持处于浮动状态从而能够防止正在清洗的基板由于下垂而受损伤的清洗装置。
本发明的附加优点、目的和特征将在下面的描述中部分描述且本领域普通技术人员在研究下文后将部分变得明显，或可以通过本发明的实践来了解。通过书面的说明书及其权利要求书以及附图中特别指出的结构可以实现和获得本发明的目的和其他优点。
为了实现这些目的和其他优点，按照本发明的目的，作为这里具体和广义描述的，一种清洗装置包括：等离子体照射部，其被提供有来自基板装载部的基板以通过向所述基板照射等离子体从所述基板去除污物；清污部，其被提供有来自所述等离子体照射部的基板以去除留在所述基板上的污物；最后清洗部，其被提供有来自所述清污部的基板以清洗所述基板；烘干部，其被提供有来自所述最后清洗部的基板以烘干所述基板；以及基板卸载部，其被提供有来自所述烘干部的基板以卸载所述基板，其中所述等离子体照射部包括向所述基板照射等离子体的等离子体照射单元，以及使所述基板保持处于浮动状态的浮动单元。
所述清洗装置可以还包括：安装到所述基板装载部以将所述基板传递到所述等离子体照射部的第一传输辊；安装在所述等离子体照射部和所述清污部之间以将所述基板从所述等离子体照射部传递到所述清污部的第二传输辊；安装在所述清污部和所述烘干部之间以将所述基板从所述清污部传递到所述烘干部的第三传输辊；以及安装到所述基板卸载部以将所述基板从所述烘干部传递到外部的第四传输辊。所述清污部可以包括清洗单元，其设置于所述第三传输辊之上以向放置在所述第三传输辊上的所述基板喷射清洗剂溶液。
所述等离子体照射单元和所述浮动单元可以以预定间隔彼此面对，从而在所述等离子体照射单元和所述浮动单元之间形成用于让所述基板通过的传输空间。
所述浮动单元可以向所述传输空间喷射空气并同时抽取所喷射的空气，从而保持所述基板处于浮动状态。
所述浮动单元可以包括第一浮动单元至第三浮动单元，其中，所述第二浮动单元设置于所述第一浮动单元和第三浮动单元之间以面对所述等离子体照射单元，以及所述第一浮动单元和第三浮动单元在朝向正在传递的所述基板的表面是倾斜的。
所述第一浮动单元可以设置为与所述第一传输辊相邻，使得所述第一浮动单元的一个表面是倾斜的以向着所述第一传输辊逐渐降低；以及所述第三浮动单元可以设置为与所述第二传输辊相邻，使得所述第三浮动单元的一个表面是倾斜的以向着所述第二传输辊逐渐降低。
这里，从所述第一浮动单元的倾斜的表面中的最低位置到地面的距离可以等于从所述第一传输辊的中心轴到所述地面的距离，以及从所述第三浮动单元的倾斜的表面中的最低位置到所述地面的距离可以等于从所述第二传输辊的中心轴到所述地面的距离。
所述清污部可以包括上清污单元和下清污单元，该上清污单元和下清污单元以预定间隔彼此面对，从而形成让所述基板通过的传输空间。所述上清污单元可以向所述传输空间喷射空气并同时抽回所喷射的空气，而所述下清污单元向所述传输空间喷射空气并同时抽回所喷射的空气，从而保持所述基板处于浮动状态。所述上清污单元可以向所述传输空间喷射清洗剂溶液并利用所述清洗剂溶液和所喷射的空气产生泡沫，从而去除在正通过所述传输空间的所述基板的上表面形成的污物。所述下清污单元可以向所述传输空间喷射清洗剂溶液并利用所述清洗剂溶液和所喷射的空气产生泡沫，从而去除在正通过所述传输空间的所述基板的下表面形成的污物。此外，所述上清污单元和所述下清污单元利用正被抽回的空气将清洗剂溶液排到所述外部。
所述上清污单元和所述下清污单元可以是由多孔材料制成的，使得由所述外部提供的空气能够通过穿过所述上清污单元和所述下清污单元而喷射到所述传输空间。
所述清污部可以包括设置于第二传输辊一侧的第一浮动单元，以及设置于第三传输辊一侧的第二浮动单元，其中，所述第一浮动单元和所述第二浮动单元向上喷射空气并同时抽回所喷射的空气，从而保持所述基板处于浮动状态。
所述烘干部可以包括置于第三传输辊一侧的第一浮动单元，以及设置于第四传输辊一侧的第二浮动单元，其中，所述第一浮动单元和所述第二浮动单元向上喷射空气并同时抽回所喷射的空气，从而保持所述基板处于浮动状态。
应当理解，本发明的上述概括性描述和下述详细描述是示例性的和说明性的，且旨在提供所要求保护的本发明的进一步解释。
附图说明
附图被包括在本发明中以提供对本发明的进一步理解，并结合到本申请中且构成本申请的一部分，附图示出了本发明的实施方式，且与说明书一起用于解释本发明的原理。附图中：
图1是根据本发明的实施方式的清洗装置；
图2是图1的清洗装置的等离子体照射部的详细结构图；
图3是图1的清洗装置的清污部的详细结构图；以及
图4是示出了所述清污部的上清污单元和下清污单元的后侧的视图。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的优选实施方式，在附图中例示出了其示例。在可能的情况下，相同的标号在整个附图中代表相同或类似部件。
图1示出了根据本发明的实施方式的清洗装置。
参照图1，清洗装置包括等离子体照射部100、清污部101、最后清洗部(finishing washing part)102、烘干部103，以及基板卸载部112。等离子体照射部100被提供有来自基板装载部111的基板SUB，且通过向基板SUB照射等离子体去除基板SUB的污物。清污部101被提供有来自等离子体照射部100的基板SUB，并洗去留在基板SUB上的污物。最后清洗部102被提供有来自清污部101的基板SUB，并清洗基板SUB。烘干部103被提供有基板SUB并烘干基板SUB。基板卸载部112被提供有来自烘干部103的基板SUB，并卸载基板SUB。这里，等离子体照射部100包括向基板SUB照射等离子体的等离子体照射单元800，以及保持基板SUB处于浮动状态的浮动单元。
在上述各部分中提供有多个传输辊以传递基板SUB。同样向基板装载部111和基板卸载部112提供传输辊。
基板装载部111装有用于将基板SUB传递到等离子体照射部100的第一传输辊201。第二传输辊202安装在等离子体照射部100和清污部101之间以将基板SUB传递到清污部101。第三传输辊203安装在清污部101和烘干部103之间以将基板SUB从清污部101传递到烘干部103。第四传输辊204安装到基板卸载部112以将基板SUB从烘干部103传递到外部。最后清洗部102设置于第三传输辊203之上，该最后清洗部102包括向位于第三传输辊203上的基板SUB喷射清洗剂溶液的清洗单元333。
在下文中，将参照图1至图3更详细地解释上述组成部分。
图2是图1中等离子体照射部100的详细图，且图3是图1中清污部101的详细图。
等离子体照射部100
参照图1和图2，等离子体照射部100包括将等离子体照射在基板SUB上的等离子体照射单元800，以及保持基板SUB处于浮动状态的浮动单元100abc。
等离子体照射单元800将等离子体照射在基板SUB上以烧掉形成在基板SUB上的污物，尤其是有机物质，从而去除污物。
等离子体照射单元800以及浮动单元100abc彼此面对，并相隔预定间隔。通过形成在等离子体照射单元800和浮动单元100abc之间的传输空间777来传递基板SUB。
浮动单元100abc向传输空间777喷射空气，并同时抽回所喷射的空气，从而保持基板SUB处于浮动状态。
浮动单元100abc可以分为第一至第三浮动单元100a，100b以及100c。但是，浮动单元的数量不限于本实施方式中的三个。就是说，浮动单元100abc可以包括两个单元或多于四个单元。为方便解释，在本实施方式中浮动单元100abc将解释为包括三个浮动单元。
第二浮动单元100b设置于第一浮动单元100a和第三浮动单元100c之间以面对等离子体照射单元800。如图2所示，尤其，第一浮动单元100a和第三浮动单元100c在朝向正在传递的基板SUB的表面是倾斜的。更具体地，设置为与第一传输辊201相邻的第一浮动单元100a在其一表面是倾斜的以向着第一传输辊201逐渐降低。而且，设置为与第二传输辊202相邻的第三浮动单元100c在其一表面是倾斜的以向着第二传输辊202逐渐降低。
如图2所示，从第一浮动单元100a的倾斜表面中最低位置到地面的距离h等于从第一传输辊201的中心轴到地面的距离h。而且，从第三浮动单元100c的倾斜表面中最低位置到地面的距离h等于从第二传输辊的中心轴到地面的距离h。
第一浮动单元100a至第三浮动单元100c由多孔材料制成，使得由外部提供的空气能够穿过第一至第三浮动单元100a至100c喷射至基板SUB。也就是说，从外部朝向第一浮动单元100a至第三浮动单元100c的上部喷射的空气穿过第一至第三浮动单元100a至100c，从而提供给传输空间777。
第一浮动单元100a至第三浮动单元100c中的每一个包括用于从传输空间777抽吸空气的多个吸气孔403。该多个吸气孔403穿过第一至第三浮动单元100a至100c朝向传输空间777。
因此，由于在等离子体照射单元800下面形成有第一浮动单元100a至第三浮动单元100c，因此能够防止在等离子体照射处理期间基板SUB下垂。
清污部101
如图1和图3所示，清污部101包括彼此面对并相隔预定间隔的上清污单元101Uabc和下清污单元101Babc。因此，在两个相隔的结构101Uabc和101Babc之间形成了基板SUB的传输空间888。
上清污单元101Uabc向传输空间888喷射空气并同时抽回所喷射的空气。同样，下清污单元101Babc向传输空间888喷射空气并同时抽回所喷射的空气。因此，传输空间888内的基板SUB能够保持在浮动状态。也就是说，由于上清污单元101Uabc向被引导入传输空间888内的基板SUB的上表面喷射空气并同时抽回所喷射的空气，而且下清污单元101Babc向被引导入传输空间888内的基板SUB的下表面喷射空气并同时抽回所喷射的空气，因此基板SUB能够在传输空间888内保持处于浮动状态。这里，喷射力比吸力强。
通过向传输空间888喷射清洗剂溶液666，上清污单元101Uabc利用清洗剂溶液666和所喷射的空气产生泡沫。因此，能够去除在穿过传输空间888的基板SUB的上表面形成的污物。此外，下清污单元101Babc向传输空间888喷射清洗剂溶液666，从而利用清洗剂溶液666和所喷射的空气产生泡沫。因此，能够去除在穿过传输空间888的基板SUB的下表面形成的污物。而且，上清污单元101Uabc和下清污单元101Babc利用正被抽回的空气将清洗剂溶液666排到外部。这里，可以将去离子水、化学溶液或者去离子水和化学溶液的混合物用作清洗剂溶液666。
上清污单元101Uabc和下清污单元101Babc由多孔材料制成，使得外部提供的空气能够穿过上清污单元101Uabc和下清污单元101Babc喷射到传输空间888。也就是说，从外部向上清污单元101Uabc的下部喷射的空气穿过上清污单元101Uabc提供给传输空间888，而从外部向下清污单元101Babc的上部喷射的空气穿过下清污单元101Babc提供给传输空间888。
用于抽吸空气的多个吸气孔603分别形成在上清污单元101Uabc和下清污单元101Babc。上清污单元101Uabc的吸气孔603朝向传输空间888，穿过上清污单元101Uabc形成。下清污单元101Babc的吸气孔603朝向传输空间888，穿过下清污单元101Babc形成。
此外，上清污单元101Uabc和下清污单元101Babc分别包括用于将清洗剂溶液666喷射到传输空间888的多个喷射孔613。更具体地，上清污单元101Uabc的喷射孔613朝向传输空间888，穿过上清污单元101Uabc形成。另一方面，下清污单元101Babc的喷射孔613朝向传输空间888，穿过下清污单元101Babc形成。
上清污单元101Uabc可以分为第一至第三上清污单元101Ua，101Ub以及101Uc。这只是一种示例方式，也就是说，上清污单元的数量不限于三个。因此，上清污单元101Uabc可以包括两个单元或多于四个单元。同样，下清污单元101Babc可以被分成第一至第三下清污单元101Ba，101Bb和101Bc。同样，下清污单元101Babc的数量可以是两个或者是多于四个。第一上清污单元101Ua、第二上清污单元101Ub和第三上清污单元分别面对第一下清污单元101Ba、第二下清污单元101Bb和第三下清污单元101Bc。
图4是第一上清污单元101Ua和第一下清污单元101Ba的后视图。参照图4，第一上清污单元101Ua以及第一下清污单元101Ba还分别包括多个沟槽123。多个吸气孔603共同连接至沟槽123中的任意一个，从而能够通过沟槽123抽回空气或清洗剂溶液666。此外，多个喷射孔613共同连接至沟槽123中的另一个，从而能够通过沟槽123向传输空间888喷射清洗剂溶液666。
沟槽123垂直于基板SUB的移动方向延伸，且沿基板移动方向排列。由于沟槽123填充有清洗剂溶液666，所以能够提高基板SUB的清洗效率。
第一至第三上清污单元101Ua，101Ub以及101Uc与基板SUB的上表面相隔大约20μm。第一至第三下清污单元101Ba，101Bb以及101Bc也与基板SUB的上表面相隔大约20μm。能够根据基板SUB的厚度控制第一至第三上清污单元101Ua，101Ub以及101Uc与第一至第三下清污单元101Ba，101Bb以及101Bc之间的间隔。
同时，清污部101还包括第一浮动单元101a和第二浮动单元101b。第一浮动单元101a设置于第二传输辊202与第一下清污单元101Ba之间，而第二浮动单元101b设置于第三传输辊203与第三下清污单元101Bc之间。
第一浮动单元101a和第二浮动单元101b由多孔材料制成，使得由外部提供的空气能够通过第一和第二浮动单元101a和101b喷射到基板SUB。也就是说，从外部向第一和第二浮动单元101a和101b的上部喷射的空气通过第一和第二浮动单元101a和101b提供给传输空间888。
第一浮动单元101a和第二浮动单元101b可以分别包括用于从传输空间888抽回空气的多个吸气孔703。
最后清洗部102
最后清洗部102包括设置于第三传输辊203之上以将清洗剂溶液666喷射到位于第三传输辊203上的基板SUB的清洗单元333。从清洗单元333喷射出的清洗剂溶液666提供给清污部101，从而被循环利用。也就是说，清污部101循环利用在清洗单元333中使用过一次的清洗剂溶液666。
通过这样循环利用来自最后清洗部102的清洗剂溶液666，能够减小清洗剂溶液666的浪费。
烘干部103
烘干部103包括上烘干单元1032以及下烘干单元1031。上烘干单元1032和下烘干单元1031彼此相隔预定间隔，从而形成在上烘干单元1032以及下烘干单元1031之间的用于基板SUB的传输空间999。
上烘干单元1032向传输空间999喷射空气。更具体地，上烘干单元1032将空气喷射到穿过传输空间999的基板SUB的上表面，从而将留在基板SUB上表面的清洗剂溶液666吹到外部，并烘干基板SUB的上表面。同样，下烘干单元1031向传输空间999喷射空气。更具体地，下烘干单元1031将空气喷射到基板SUB的下表面，从而将留在基板SUB下表面的清洗剂溶液666吹到外部，并烘干基板SUB的下表面。
烘干部103可以还包括第一浮动单元103a和第二浮动单元103b。
第一浮动单元103a设置于第三传输辊203和下烘干单元1031之间，而第二浮动单元103b设置于第四传输辊112与下烘干单元1031之间。第一浮动单元103a和第二浮动单元103b向上喷射空气并同时抽回所喷射的空气，从而保持基板SUB处于浮动状态。
第一浮动单元103a和第二浮动单元103b由多孔材料制成，使得由外部提供的空气穿过第一和第二浮动单元103a以及103b喷射到基板SUB。同样，在第一和第二浮动单元103a以及103b形成有多个吸气孔。
从上述描述可以显而易见的是，根据本发明的上述实施方式的清洗装置具有下述优点。
首先，安装在等离子体照射单元下部的第一至第三浮动单元能够防止在等离子体照射处理期间基板在重力方向上的下垂。因此，能够防止在等离子体照射处理期间对基板的损伤。
第二，由于清洗剂溶液从最后清洗部循环利用，因此能够减小清洗剂溶液的浪费。
对于本领域技术人员而言很明显，在不偏离本发明的精神或范围的情况下，可以在本发明中做出各种修改和变型。因而，本发明旨在涵盖落入所附权利要求书及其等同物范围内的本发明的修改和变型。

Claims (11)

1.一种清洗装置，该清洗装置包括：
等离子体照射部，其被提供有来自基板装载部的基板以通过向所述基板照射等离子体从所述基板进一步去除污物；
清污部，其被提供有来自所述等离子体照射部的所述基板以去除留在所述基板上的污物；
最后清洗部，其被提供有来自所述清污部的基板以清洗所述基板；
烘干部，其被提供有来自所述最后清洗部的基板以烘干所述基板；以及
基板卸载部，其被提供有来自所述烘干部的基板以卸载所述基板，
其中，所述等离子体照射部包括向所述基板照射等离子体的等离子体照射单元，以及使所述基板保持处于浮动状态的浮动单元。
2.根据权利要求1所述的清洗装置，所述清洗装置还包括：
第一传输辊，其安装到所述基板装载部以将所述基板传递到所述等离子体照射部；
第二传输辊，其安装在所述等离子体照射部和所述清污部之间以将所述基板从所述等离子体照射部传递到所述清污部；
第三传输辊，其安装在所述清污部和所述烘干部之间以将所述基板从所述清污部传递到所述烘干部；以及
第四传输辊，其安装到所述基板卸载部以将所述基板从所述烘干部传递到外部；
其中，所述清污部包括清洗单元，该清洗单元设置于所述第三传输辊之上以向放置在所述第三传输辊上的所述基板喷射清洗剂溶液。
3.根据权利要求2所述的清洗装置，其中，所述等离子体照射单元和所述浮动单元以预定间隔彼此面对，从而在所述等离子体照射单元和所述浮动单元之间形成了用于让所述基板通过的传输空间。
4.根据权利要求3所述的清洗装置，其中，所述浮动单元向所述传输空间喷射空气并同时抽回所喷射出的空气，从而保持所述基板的浮动状态。
5.根据权利要求3所述的清洗装置，其中，所述浮动单元包括第一浮动单元、第二浮动单元和第三浮动单元，
所述第二浮动单元设置于所述第一浮动单元与所述第三浮动单元之间以面对所述等离子体照射单元，以及
所述第一浮动单元和所述第三浮动单元在朝向正在传递的所述基板的表面是倾斜的。
6.根据权利要求5所述的清洗装置，其中，
所述第一浮动单元设置为与所述第一传输辊相邻，使得所述第一浮动单元的一个表面是倾斜的，以向着所述第一传输辊逐渐降低；以及
所述第三浮动单元设置为与所述第二传输辊相邻，使得所述第三浮动单元的一个表面是倾斜的，以向着所述第二传输辊逐渐降低。
7.根据权利要求6所述的清洗装置，其中，从所述第一浮动单元的倾斜的表面中的最低位置到地面的距离等于从所述第一传输辊的中心轴到所述地面的距离；以及
从所述第三浮动单元的倾斜的表面中的最低位置到所述地面的距离等于从所述第二传输辊的中心轴到所述地面的距离。
8.根据权利要求2所述的清洗装置，其中，所述清污部包括上清污单元和下清污单元，该上清污单元和下清污单元以预定间隔彼此面对，从而形成了用于让所述基板通过的传输空间；
所述上清污单元向所述传输空间喷射空气并同时抽回所喷射的空气，而所述下清污单元向所述传输空间喷射空气并同时抽回所喷射的空气，从而保持所述基板处于浮动状态；
所述上清污单元向所述传输空间喷射清洗剂溶液并利用所述清洗剂溶液和所喷射的空气产生泡沫，从而去除正通过所述传输空间的所述基板的上表面处形成的污物；
所述下清污单元向所述传输空间喷射清洗剂溶液并利用所述清洗剂溶液和所喷射的空气产生泡沫，从而去除正通过所述传输空间的所述基板的下表面处形成的污物；以及
所述上清污单元和所述下清污单元利用正被抽回的空气将所述清洗剂溶液排出到所述外部。
9.根据权利要求8所述的清洗装置，其中，所述上清污单元和所述下清污单元是由多孔材料制成的，使得由所述外部提供的空气能够通过穿过所述上清污单元和所述下清污单元而喷射到所述传输空间。
10.根据权利要求8所述的清洗装置，其中，所述清污部包括：
第一浮动单元，其设置于所述第二传输辊的一侧；以及
第二浮动单元，其设置于所述第三传输辊的一侧，
其中，所述第一浮动单元和所述第二浮动单元向上喷射空气并同时抽回所喷射的空气，从而保持所述基板处于浮动状态。
11.根据权利要求2所述的清洗装置，其中，所述烘干部包括：
第一浮动单元，其设置于所述第三传输辊的一侧；以及
第二浮动单元，其设置于所述第四传输辊的一侧，
其中，所述第一浮动单元和所述第二浮动单元向上喷射空气并同时抽回所喷射的空气，从而保持所述基板处于浮动状态。
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