JP2007287753A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板4を搬送しつつ基板4に対して各処理を行う基板処理装置において、少なくとも基板4の搬送方向に沿って処理液供給装置1、乾燥装置3が順に配置され、乾燥装置3は基板4上の処理液を乾燥させるエアナイフ20から構成され、処理液供給装置1には基板4に処理液を供給する複数のノズル(11a〜11d)が設けられ、これら複数のノズルのうち少なくとも最後段のノズル11dが、基板4の搬送方向とは反対の方向に向けられた構成とした。
【選択図】 図1
Description
また、基板上に残存する処理液を除去して基板を乾燥させるために、例えば現像装置(ウェットユニット)の後段の乾燥装置(ドライユニット)の直前にエアナイフを配置し、エアナイフにより乾燥工程を実施するプロセスも既知である。
すなわち、エアナイフで処理液を十分に除去するには、例えば基板の搬送速度を下げて、基板表面にエアが噴射される時間を長くしなければならず、処理液の除去に要する時間が長くなってしまう。一方エアナイフによる処理時間を短縮しようとすると、局所的に処理液が残存してしまい乾燥ムラが発生してしまう。
また本発明は、リンス液のリサイクル効率を一層改善した基板処理装置を提供するものである。
すなわち、最初の処理室内における複数のノズルうち、最後段のノズルを基板の搬送方向とは反対の方向に向けて構成することにより、このノズルより噴出される液体により基板上に残存するリンス液(純粋)が基板の後端側に押し戻され最初の処理室内に残る。これにより後段の処理室に基板上に汚染されたリンス液が付着した状態で搬送されることを防ぐことができ、後段に連続して続く処理室に汚染されたリンス液が混入することを防ぐことが可能になる。
また本発明の基板処理装置によれば、後段に連続して続く処理室に汚染された処理液(例えばリンス液)が混入することを防ぐことが可能になるので、各処理室でリンス液のリサイクルを行っている場合は、リンス液のリサイクル率をさらに向上することが可能になる。
本実施の形態では、現像工程と乾燥工程との間に配置され、現像処理された基板を洗浄し乾燥させる基板処理装置について説明する。
基板処理装置は、基板搬送ラインLに沿って、現像装置2、処理液供給装置(洗浄装置)1、乾燥装置3が所定の位置に配置されている。処理すべき基板4は、搬送ラインLに沿って、図面上左側から右側に向けて搬送され、順次現像処理、洗浄処理、乾燥処理される。乾燥装置3はエアナイフ20から構成されている。このエアナイフは基板4の表面に残存するリンス液を除去するためのものであり、エアを基板4に対して噴出する構成とされている。
なお、上段及び下段の各洗浄ノズルはリンス液供給管に接続されており、リンス液タンク(図示せず)からリンス液供給管を通じて所定量のリンス液が供給され、供給された所定量のリンス液がノズルを介して基板4の表面に噴射される。これにより基板表面に残存する現像液が洗浄除去される。
図示の場合では、第2及び第3の洗浄ユニットではそれぞれ3列に配置されたノズル群を有し、第4の洗浄ユニットでは4列に配置された洗浄ノズル群を有している。
本実施の形態においてこの複数のノズルとは、複数の洗浄ユニット(1a〜1d)のうち最後段に配置された第4の洗浄ユニット1d内に設けられたものである。
すなわち、第4の洗浄ユニット1d内に設けられた複数のノズル(11a〜11d)のうち最後段のノズル11dが、基板4の搬送方向とは反対の方向に向けられた構成である。
即ちエアナイフ20の前処理として、ノズル11dから噴出される液体により基板4上のリンス液を基板4進行方向に対して後端側に押し戻すことができ、第4の洗浄ユニット1d内にリンス液を落すことができる。これにより次のエアナイフ20での乾燥処理は、例えば基板4の搬送方向とは反対の方向に向けられたノズル11dを設けない場合と比較して大幅に短縮することができる。例えば向きを変更しない従来の場合では、乾燥装置3(エーアナイフ20)でのスピードが50mm/secであったが、本実施の形態の構成では70〜100mm/secとなった。
本実施の形態の基板処理装置は、図1に示す基板処理装置において、現像装置2、乾燥装置3を除いた構成、即ち基板4の搬送ラインに沿って少なくとも洗浄装置1のみが配置された構成である。なお、各装置の構成は上述した場合と同様であるため重複説明は省略する。
そして本実施の形態においては特に、連続する洗浄ユニット(1a〜1d)のうち第1の洗浄ユニット1aにおける複数のノズル(10a〜10d)のうち最後段のノズル10dが基板4の搬送方向とは反対の方向に向けられた構成である。
図示しないが、リンス液を貯留する3つタンク(第1〜第3)が設けられている。
先ず第4の洗浄ユニットに新液(新しいリンス液)が供給される。そして第4の洗浄ユニット1dで用いられたリンス液は第1のタンクに集められて第3の洗浄ユニット1cで用いられる。そして、第3の洗浄ユニット1cで用いられたリンス液は第2のタンクに集められて第2の洗浄ユニット1bで用いられる。そしてさらに第2の洗浄ユニット1bで用いられたリンス液は第3のタンクに集められて第1の洗浄ユニット1aで用いられる。そして最後に第1の洗浄ユニット1aで用いられたリンス液はドレイン側へ排出される。このようにリサイクルを行うことによりリンス液の消費量を低減している。
しかし本実施の形態のように第1の洗浄ユニット1aにおける複数のノズルにおいて最後段のノズル10dが基板4の搬送方向とは反対の方向に向けられた構成としたことで、第1の洗浄ユニット1a内において汚染されたリンス液をドレイン側へ排出することができ、第2の洗浄ユニット1bに汚染されたリンス液が混入することを防ぐことができる。これにより第1の洗浄ユニット1a以降の洗浄ユニット(1b〜1d)において回収されるリンス液が汚染されることを抑えることができるので、リンス液のリサイクル率を向上させることができる。
Claims (2)
- 基板を搬送しつつ前記基板に対して各処理を行う基板処理装置において、
少なくとも前記基板の搬送方向に沿って処理液供給装置、乾燥装置が順に配置され、前記乾燥装置は前記基板上の処理液を乾燥させるエアナイフから構成され、前記処理液供給装置には前記基板に処理液を供給する複数のノズルが設けられ、
前記複数のノズルのうち少なくとも最後段のノズルが、前記基板の搬送方向とは反対の方向に向けられた構成であることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を搬送しつつ前記基板に対して各処理を行う基板処理装置において、
少なくとも前記基板の搬送方向に沿って連続する複数の処理室からなる処理液供給装置が配置され、前記複数の処理室のそれぞれには前記基板に処理液を供給する複数のノズルが設けられ、前記処理室のうち少なくとも1つの処理室内における複数のノズルうち、最後段のノズルが前記基板の搬送方向とは反対の方向に向けられた構成であることを特徴とする基板処理装置。
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