JP4817802B2 - 搬送処理装置 - Google Patents
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Description
この場合、UV照射装置50のランプ(図示せず)に現像液がかかり故障発生や機能低下等の影響を与えてしまう。
前記搬出口の上縁部が前記基板表面に供給された処理液に接触しない範囲で低く設定され、また減圧チャンバーの底部には基板から落下した処理液の回収口が形成されている構成とした。
前記ウェットユニット及び減圧チャンバー内には搬送用コロが設置され、この搬送用コロにより基板が前記減圧チャンバー内及びウェットユニット内を搬送され、前記搬出口の上縁部が前記基板表面に供給された処理液に接触しない範囲で低く設定され、また減圧チャンバーの底部には基板から落下した処理液の回収口が形成されているので、基板が搬入口または搬出口を通過する際に外気が減圧チャンバー内に引き込まれ、この際の気流により基板表面の余分な処理液は基板表面から落下する。その結果、基板表面に余分な処理液が付着したまま次の処理装置に持ち込まれることがない。
従って、高い信頼性に加えて処理効率の低下のない搬送処理装置を実現することができる。
図1は搬送処理装置の参考形態を示す概略構成図(一部)、図2は減圧チャンバーの要部の縦断面図である。
して減圧チャンバー20が配置されている。これら現像装置10と減圧チャンバー20内を搬送用コロ2…を介してガラス基板Wが通過する。
なお、現像装置10及び減圧チャンバー20の前段及び後段にも図示しないが各種処理装置が配置されている。
これにより、基板Wが搬出口23を通過する際は、図2に示すように、基板W上面と搬出口23の上縁との間の隙間が小さくなり、且つ減圧チャンバー20内は陰圧なので、外気が基板W上面を伝って減圧チャンバー20内に勢いよく入り込み、基板Wの表面に盛られている余分な現像液は気流によって基板Wの長辺から流れ落ちる。
また、流れ落ちた現像液は減圧チャンバー20に設けられた回収口24を介して回収されるので例えばリサイクル率も向上させることが可能になる。
具体的には、基板W表面の洗浄液は圧力の境目(搬出口23付近)で停止した状態になり基板Wのみが搬送されることになる。この際現像液は境目を基準にして表面張力を超えた余分な現像液が基板W外に流れ落ちる。
この場合、一方(搬出口23)の低さと他方(搬入口22)の低さを異なるようにすることで上述したと同様の作用が得られる。例えば搬出口23の上縁部をより基板W表面に近く設定した場合、搬入口22の上縁部は搬出口23の上縁部程ではないが基板W表面に近づける。
リンス装置30では上流側から下流側に向かって、第1のリンスチャンバー31、第2のリンスチャンバー32、第3のリンスチャンバー33及び第4のリンスチャンバー34を搬送ラインに沿って配置されている。第4のリンスチャンバー34には新液(リンス液)が供給され、第4のリンスチャンバー34で使用されたリンス液はカスケードタンク35の第1室35aに戻され、第1室35aのリンス液が第3のリンスチャンバー33に供給される。なお、第3のリンスチャンバー33から第1室35aにもリンス液は戻される。また、カスケードタンク35の第1室35aから溢れて第2室35bに入ったリンス液は第2のリンスチャンバー32に送られ、第2のリンスチャンバー32で使用されたリンス液は他のカスケードタンク36に戻され、このカスケードタンク36内のリンス液(最も汚れているリンス液)を第1のリンスチャンバー31に供給するようにしている。なお、一方のカスケードタンク35の第1室35aから一部のリンス液が他方のカスケードタンク36へと流れるようにもなっている。
本実施の形態の搬送処理装置では、基板Wの搬送方向に沿って上流側にUV照射装置50が、下流側に洗浄装置40が配置されている。なお、UV照射装置50及び洗浄装置40の前段及び後段にも図示しないが各種処理装置が配置されている。
そして、本実施の形態では上述した実施の形態の搬出口23と同様に、搬入口62の上下方向寸法を基板Wの表面に供給された液体(洗浄液)に接触しない範囲で低く設定する。
これにより、UV照射装置50のランプ(図示せず)に現像液がかかり装置の故障発生や機能低下等の問題が生じることはない。
10…現像装置、12…搬入口、13…搬出口、14…現像液供給ノズル14、
20…減圧チャンバー、21…排気ダクト、22…搬入口、23…搬出口、24…現像液の回収口
30…リンス装置、31…第1のリンスチャンバー、32…第2のリンスチャンバー、33…第3のリンスチャンバー、34…第4のリンスチャンバー、35…カスケードタンク
、35a…カスケードタンクの第1室、35b…カスケードタンクの第2室、36…カスケードタンク、37…搬出口、38…回収口
40…洗浄装置、41…洗浄液供給ノズル、42…洗浄ブラシ
50…UV照射装置
60…減圧チャンバー、61…搬出口、62…搬入口、63…排気口、64…回収口
Claims (3)
- 基板を搬送しつつ該基板に対し各種処理を行う搬送処理装置において、
該基板面に処理液を供給するウェットユニットが組み込まれ、前記ウェットユニットを囲むように減圧チャンバーが設けられ、
前記減圧チャンバーには前記基板の搬入口及び搬出口が形成され、
前記ウェットユニット及び減圧チャンバー内には搬送用コロが設置され、この搬送用コロにより基板が前記ウェットユニット及び減圧チャンバー内を搬送され、
前記搬出口の上縁部が前記基板表面に供給された処理液に接触しない範囲で低く設定され、基板が前記搬出口を通過する際に前記減圧チャンバー内の陰圧により外気が基板上面を伝って減圧チャンバーに入り込み、また前記減圧チャンバーの底部には前記基板から落下した処理液の回収口が形成されていることを特徴とする搬送処理装置。 - 請求項1に記載の搬送処理装置において、前記ウェットユニットは現像液の供給ユニットであることを特徴とする搬送処理装置。
- 請求項1に記載の搬送処理装置において、前記ウェットユニットは洗浄ユニットであることを特徴とする基板の搬送処理装置。
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