JP2007117953A - 搬送処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 ウェットユニットからの液体の防止できる搬送処理装置を提供する。
【解決手段】 減圧チャンバー２０の搬出口２３の上下方向の寸法は、上縁部が基板Wの表面に供給された液体（現像液）に接触しない範囲で低く設定されている。その結果、基板Wが搬出口２３を通過する際には基板W上面と搬出口２３の上縁との間の隙間が小さくなり、且つ減圧チャンバー２０内は陰圧なので、外気が基板W上面を伝って減圧チャンバー２０内に勢いよく入り込み、基板Wの表面に盛られている現像液は、気流によって基板の長辺から流れ落ち、流れ落ちた現像液は回収口２４を介して回収される。
【選択図】 図１

Description

本発明は、ガラス基板などの基板をコロなどによって搬送しながら各種処理を行う搬送処理装置に関する。
従来から、特許文献１に示すように、処理効率を向上するため、基板の搬送ラインに沿って各種処理装置を配置し、ガラス基板等をコロ等によって搬送しながら各種処理を行うようにした搬送処理装置が知られている。
このような、基板の搬送ラインに沿って各種処理装置を配置した搬送処理装置では、例えばＵＶ照射装置（ドライユニット）の下流側に洗浄装置（ウェットユニット）を配置し、基板をＵＶ照射装置に送り込んで表面に付着している有機物の除去を行った後、洗浄装置でガラス基板の表面を洗浄する場合もある。
特開２００４−２８１９９１号公報
ところで、上述したように、ＵＶ照射装置と洗浄装置とが隣接するような構成を有する搬送処理装置では、例えば何らかの理由によりＵＶ照射装置と洗浄装置とに跨り基板が停止してしまった場合、洗浄処理において生じた洗浄液が基板表面を洗浄装置側からＵＶ照射装置側に向かって流れてしまう問題が生じる。
この場合、ＵＶ照射装置５０のランプ（図示せず）に現像液がかかり故障発生や機能低下等の影響を与えてしまう。
上記課題を解決するため、本発明は、基板を搬送しつつこの基板に対し各種処理を行う搬送処理装置において、この基板面に処理液を供給するウェットユニットが組み込まれ、ウェットユニットに隣接して若しくはウェットユニットを囲むように減圧チャンバーが設けられ、減圧チャンバーには基板の搬入口及び搬出口が形成され、搬入口及び搬出口のうち少なくとも一方の上縁部が基板表面に供給された処理液に接触しない範囲で低く設定され、また減圧チャンバーの底部には基板から落下した処理液の回収口が形成されている構成とした。
本発明に係る搬送処理装置によれば、この基板面に処理液を供給するウェットユニットが組み込まれ、ウェットユニットに隣接して若しくはウェットユニットを囲むように減圧チャンバーが設けられ、減圧チャンバーには基板の搬入口及び搬出口が形成され、搬入口及び搬出口のうち少なくとも一方の上縁部が基板表面に供給された処理液に接触しない範囲で低く設定され、また減圧チャンバーの底部には基板から落下した処理液の回収口が形成されているので、基板が搬入口または搬出口を通過する際に外気が減圧チャンバー内に引き込まれ、この際の気流により基板表面の余分な処理液は基板表面から落下する。その結果、基板表面に余分な処理液が付着したまま次の処理装置に持ち込まれることがない。
前記ウェットユニットとしては、例えば現像液の供給ユニット或いは洗浄ユニットが考えられる。また例えばエッチングユニット、剥離ユニットが考えられる。
本発明の搬送処理装置によれば、隣接する装置間において、一方の処理装置から他方の処理装置へと処理液が持ち込まれることを防ぐことができるので、例えば処理液が持ち込まれることによる装置の故障や機能低下を回避するこができる。また、基板上の余分な処理液も除去することができ、例えば処理液のリサイクル率の向上を図ることもできる。
従って、高い信頼性に加えて処理効率の低下のない搬送処理装置を実現することができる。
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
図１は搬送処理装置の一実施の形態を示す概略構成図（一部）、図２は減圧チャンバーの要部の縦断面図である。
搬送処理装置１では、図１に示すように、ウェットユニットとしての現像装置１０に隣接して減圧チャンバー２０が配置されている。これら現像装置１０と減圧チャンバー２０内を搬送用コロ２…を介してガラス基板Wが通過する。
なお、現像装置１０及び減圧チャンバー２０の前段及び後段にも図示しないが各種処理装置が配置されている。
現像装置１０ではボックス状をなすケースに基板の搬入口１２と搬出口１３が形成され、ケース内には現像液供給ノズル１４が配置されている。また、減圧チャンバー２０の天井部には減圧チャンバー２０内を陰圧にするための排気ダクト２１が接続され、前後の側面には基板の搬入口２２と搬出口２３が形成されている。
そして、本実施の形態においては特に、減圧チャンバー２０の搬出口２３の上下方向の寸法が、上縁部が基板Wの表面に供給された液体（現像液）に接触しない範囲で低く設定されている。また、減圧チャンバー２０の底部には現像液の回収口２４が設けられている。
これにより、基板Wが搬出口２３を通過する際は、図２に示すように、基板W上面と搬出口２３の上縁との間の隙間が小さくなり、且つ減圧チャンバー２０内は陰圧なので、外気が基板W上面を伝って減圧チャンバー２０内に勢いよく入り込み、基板Wの表面に盛られている余分な現像液は気流によって基板Ｗの長辺から流れ落ちる。
また、流れ落ちた現像液は減圧チャンバー２０に設けられた回収口２４を介して回収されるので例えばリサイクル率も向上させることが可能になる。
具体的には、基板Ｗ表面の洗浄液は圧力の境目（搬出口２３付近）で停止した状態になり基板Ｗのみが搬送されることになる。この際現像液は境目を基準にして表面張力を超えた余分な現像液が基板Ｗ外に流れ落ちる。
なお、減圧チャンバー２０に入り込む空気は勢いよくと記述したが、隣接ユニットとの圧力差があれば極少ない圧力差で問題ない。
搬出口２３の上縁部は基板Ｗが通過するに支障がない程度でできる限り狭く形成されているが、基板Ｗのサイズや装置構成、さらには排気量等によってもその低さは異なる。好ましくは、現像液の表面張力が3ｍｍのため3ｍｍ以上が適している。
また、搬出口２３一方のみの上縁部を低く設定した場合を説明したが、上述したような基板Ｗのサイズや装置構成、さらには排気量等の兼ね合いから、一方の上縁部だけでなく両方（搬入口２２及び搬出口２３）の上縁部を低く設定することもできる。
この場合、一方（搬出口２３）の低さと他方（搬入口２２）の低さを異なるようにすることで上述したと同様の作用が得られる。例えば搬出口２３の上縁部をより基板Ｗ表面に近く設定した場合、搬入口２２の上縁部は搬出口２３の上縁部程ではないが基板Ｗ表面に近づける。
図３は本発明の他の実施の形態に係る搬送処理装置の図（一部）であり、この実施の形態ではリンス装置に本発明を適用している。なおリンス装置３０の前後には図示しないが各種装置が配置されている。
リンス装置３０では上流側から下流側に向かって、第１のリンスチャンバー３１、第２のリンスチャンバー３２、第３のリンスチャンバー３３及び第４のリンスチャンバー３４を搬送ラインに沿って配置されている。第４のリンスチャンバー３４には新液（リンス液）が供給され、第４のリンスチャンバー３４で使用されたリンス液はカスケードタンク３５の第１室３５ａに戻され、第１室３５ａのリンス液が第３のリンスチャンバー３３に供給される。なお、第３のリンスチャンバー３３から第１室３５ａにもリンス液は戻される。
また、カスケードタンク３５の第１室３５ａから溢れて第２室３５ｂに入ったリンス液は第２のリンスチャンバー３２に送られ、第２のリンスチャンバー３２で使用されたリンス液は他のカスケードタンク３６に戻され、このカスケードタンク３６内のリンス液（最も汚れているリンス液）を第１のリンスチャンバー３１に供給するようにしている。なお、一方のカスケードタンク３５の第１室３５ａから一部のリンス液が他方のカスケードタンク３６へと流れるようにもなっている。
そして、本実施の形態では、第２のリンスチャンバー３２内を減圧チャンバーを兼ねる構造とし、上述した実施の形態の場合と同様に、第２のリンスチャンバー３２の搬出口３７の上下方向寸法を基板Wの表面に供給された液体（リンス液）に接触しない範囲で低く設定する。
これにより、ガラス基板Ｗが第２のリンスチャンバー３２から第３のリンスチャンバー３３に移送される際に、ガラス基板Wが搬出口３７を通過すると、ガラス基板Wの表面には内部に引き込む気流が生じ、ガラス基板Ｗ表面のリンス液は気流により掻き落とされ、第２のリンスチャンバー３２の底部の回収口３８を介してカスケードタンク３６に戻される。これにより、最も汚れているリンス液が第３のリンスチャンバー３３へと持ち込まれることもなく、リンス液のリサイクル率が向上する。
図４は本発明のさらに他の実施の形態に係る搬送処理装置の図（一部）であり、この実施の形態では洗浄装置に本発明を適用している。
本実施の形態の搬送処理装置では、基板Wの搬送方向に沿って上流側にＵＶ照射装置５０が、下流側に洗浄装置４０が配置されている。なお、ＵＶ照射装置５０及び洗浄装置４０の前段及び後段にも図示しないが各種処理装置が配置されている。
洗浄装置４０内には洗浄液供給ノズル４１と洗浄ブラシ４２が配置され、洗浄装置４０の全体が減圧チャンバー６０内に収納されている。この減圧チャンバー６０にはガラス基板Ｗの搬入口６２と搬出口６１が形成され、また排気口６３が側面に開口し、更には回収口６４が底面に設けられている。
そして、本実施の形態では上述した実施の形態の搬出口２３と同様に、搬入口６２の上下方向寸法を基板Ｗの表面に供給された液体（洗浄液）に接触しない範囲で低く設定する。
以上において、例えば何らかの理由によりＵＶ照射装置５０と洗浄装置４０とに跨り基板Ｗが停止してしまった場合でも、上述した実施の形態の場合と同様の作用により、洗浄処理において生じた洗浄液が基板Ｗ表面を洗浄装置４０側からＵＶ照射装置５０側に向かって流れることを回避できる。
これにより、ＵＶ照射装置５０のランプ（図示せず）に現像液がかかり装置の故障発生や機能低下等の問題が生じることはない。
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
本発明に係る搬送処理装置の一実施の形態を示す概略構成図（一部）。 減圧チャンバーの要部の縦断面図。 本発明に係る搬送処理装置の他の実施の形態を示す概略構成図（一部）。 本発明に係る搬送処理装置の更に他の実施の形態を示す概略構成図（一部）。
符号の説明
１…搬送処理装置、２…搬送用コロ
１０…現像装置、１２…搬入口、１３…搬出口、１４…現像液供給ノズル１４、
２０…減圧チャンバー、２１…排気ダクト、２２…搬入口、２３…搬出口、２４…現像液の回収口
３０…リンス装置、３１…第１のリンスチャンバー、３２…第２のリンスチャンバー、３３…第３のリンスチャンバー、３４…第４のリンスチャンバー、３５…カスケードタンク、３５ａ…カスケードタンクの第１室、３５ｂ…カスケードタンクの第２室、３６…カスケードタンク、３７…搬出口、３８…回収口
４０…洗浄装置、４１…洗浄液供給ノズル、４２…洗浄ブラシ
５０…UV照射装置
６０…減圧チャンバー、６１…搬出口、６２…搬入口、６３…排気口、６４…回収口

Claims (3)

  1. 基板を搬送しつつ該基板に対し各種処理を行う搬送処理装置において、
    該基板面に処理液を供給するウェットユニットが組み込まれ、前記ウェットユニットに隣接して若しくは前記ウェットユニットを囲むように減圧チャンバーが設けられ、
    前記減圧チャンバーには前記基板の搬入口及び搬出口が形成され、前記搬入口及び搬出口のうち少なくとも一方の上縁部が前記基板表面に供給された処理液に接触しない範囲で低く設定され、また前記減圧チャンバーの底部には前記基板から落下した処理液の回収口が形成されていることを特徴とする搬送処理装置。
  2. 請求項１に記載の搬送処理装置において、前記ウェットユニットは現像液の供給ユニットであることを特徴とする搬送処理装置。
  3. 請求項１に記載の搬送処理装置において、前記ウェットユニットは洗浄ユニットであることを特徴とする基板の搬送処理装置。
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