TWI407270B - 顯影設備 - Google Patents

Description

顯影設備

本發明關於一種顯影設備，尤指一種可有效提高顯影液回收率的顯影設備。

隨著科技不斷地進步，各式各樣的電子裝置，如行動電話、數位相機、個人數位助理、筆記型電腦等，無不朝向更便利、多功能且美觀的方向發展。在使用這些電子裝置時，顯示螢幕是不可或缺的人機溝通介面，透過上述電子裝置之顯示螢幕將可為使用者的操作帶來更多的便利。其中，液晶顯示器已逐漸成為顯示螢幕的主流。

一般而言，液晶顯示器是利用基板上的電晶體，來控制液晶的光線明暗，讓不同色彩顯示在螢幕上。要在基板上形成可用的電晶體，便需要對基板重覆進行清洗、鍍膜、上光阻、曝光、顯影、蝕刻、去光阻等過程。其中，顯影製程是將曝光好之基板放入顯影液中，使曝到光之光阻被顯影液給溶解掉。

一般而言，在基板顯影完畢後，會將多餘的顯影液回收並重複利用，以節省生產成本。然而，在顯影的過程中，顯影液會在基板上形成表面張力，而使得顯影液的回收率不佳，造成生產成本提高。

因此，本發明的目的之一在於提供一種顯影設備，其在定位柱上設有突出結構，以在基板的輸送過程中，破壞顯影液在基板上形成的表面張力。

根據一實施例，本發明之顯影設備包含一輸送機構以及一定位柱。輸送機構用以輸送一基板，基板以一顯影液進行顯影。定位柱設置在輸送機構的一側，定位柱具有一突出結構，突出結構延伸至基板上方。在輸送機構輸送基板的過程中，突出結構會破壞顯影液在基板上形成的表面張力，進而有效提高顯影液的回收率。

關於本發明之優點與精神可以藉由以下的發明詳述及所附圖式得到進一步的瞭解。

請參閱第1圖以及第2圖，第1圖為根據本發明一實施例之顯影設備5的上視圖，第2圖為第1圖中的顯影設備5的側視圖。顯影設備5係用以對基板7進行顯影製程，顯影製程即是將曝光好之基板7放入顯影液9中，使曝到光之光阻被顯影液9給溶解掉。如第1圖與第2圖所示，顯影設備5包含輸送機構50以及定位柱52。輸送機構50用以輸送基板7，且基板7在顯影設備5中以顯影液9進行顯影。顯影液9可為氫氧化四甲銨(Tetramethylammonium Hydroxide,TMAH)，但不以此為限。

於此實施例中，輸送機構50是由多根平行排列的轉軸所組成，藉由驅動裝置(未繪示於圖中)驅動轉軸轉動，以將基板7往前輸送。此外，八個定位柱52分別位於輸送機構50的兩側。需說明的是，定位柱52的數量及設置位置可根據實際應用而調整，不以圖中所繪示的為限。

定位柱52包含一轉動件520以及一突出結構522，其中突出結構522自轉動件520向外延伸。在基板7的輸送過程中，轉動件520會隨著顯影液9的流動而轉動。於此實施例中，突出結構522可設計為放射狀毛刷結構或放射狀實心結構，如第1圖所示。請參閱第3圖，第3圖為根據本發明另一實施例之定位柱52'的示意圖，其中第3圖(A)為上視圖，且第3圖(B)為側視圖。於另一實施例中，定位柱52'之突出結構522'亦可設計為環狀毛刷結構或環狀實心結構，如第3圖所示。需說明的是，本發明之定位柱的突出結構並不以上述的放射狀或環狀為限，可根據實際應用而設計。此外，突出結構522及突出結構522'係由抗腐蝕性材料製成，以防止被顯影液9腐蝕。

如第1圖所示，當基板7被放置在顯影設備5中以進行顯影時，突出結構522係延伸至基板7的邊緣上方。於此實施例中，突出結構522在基板7上的投影不超出基板7之一無效(dummy)區域。無效區域即是指基板7的非使用區域。此外，一間隙g介於突出結構522與基板7之間，亦即突出結構522不與基板7接觸。較佳地，間隙g可設計為大於或等於3毫米，但不以此為限。

如前所述，在顯影的過程中，顯影液9會在基板7上形成表面張力，而使得顯影液9的回收率不佳。由於本發明之定位柱52具有突出結構522，在基板7的輸送過程中，在基板7上形成表面張力的顯影液9通過突出結構522時，表面張力即會遭到突出結構522破壞，使顯影液9可以儘量留在顯影設備5中，不被基板7帶走，進而有效提高顯影液9的回收率。較佳地，突出結構522之厚度t可設計為大於或等於5毫米，但不以此為限。

請參閱表1，表1為安裝本發明具有突出結構522之定位柱52前後的測試數據。由表1可以得知，安裝本發明具有突出結構522之定位柱52後，可以有效提高顯影液的回收率。此外，安裝愈多具有突出結構522之定位柱52，顯影液的回收效果就愈好。

以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

5．．．顯影設備

7．．．基板

9．．．顯影液

50．．．輸送機構

52、52'．．．定位柱

520．．．轉動件

522、522'．．．突出結構

g．．．間隙

t．．．厚度

第1圖為根據本發明一實施例之顯影設備的上視圖。

第2圖為第1圖中的顯影設備的側視圖。

第3圖為根據本發明另一實施例之定位柱的示意圖，其中第3圖(A)為上視圖，且第3圖(B)為側視圖。

5．．．顯影設備

7．．．基板

50．．．輸送機構

52．．．定位柱

520．．．轉動件

522．．．突出結構

Claims (6)

1. 一種顯影設備，包含：一輸送機構，用以輸送一基板，該基板以一顯影液進行顯影；以及一定位柱，設置在該輸送機構的一側，該定位柱具有一突出結構，該突出結構延伸至該基板上方，以在該基板的輸送過程中，破壞該顯影液在該基板上形成的表面張力；其中，該定位柱包含一轉動件，該突出結構自該轉動件向外延伸，在該基板的輸送過程中，該轉動件會隨著該顯影液的流動而轉動。
2. 如請求項1所述之顯影設備，其中該突出結構選自下列群組的其中之一：放射狀毛刷結構、環狀毛刷結構、放射狀實心結構以及環狀實心結構。
3. 如請求項1所述之顯影設備，其中該突出結構之厚度大於或等於5毫米。
4. 如請求項1所述之顯影設備，其中一間隙介於該突出結構與該基板之間，且該間隙大於或等於3毫米。
5. 如請求項1所述之顯影設備，其中該突出結構在該基板上的投 影不超出該基板之一無效區域。
6. 如請求項1所述之顯影設備，其中該突出結構由抗腐蝕性材料製成。