JP5341427B2 - 基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
3 キャリア 4 基板搬入出台
5 基板搬送室 6 基板処理室
7 前壁 8 基板搬送装置
9 基板受渡台 10 基板搬送装置
11〜22 第1〜第12の基板処理部 23 処理部
24 処理液供給部 25 制御部
26 連結管 27 共通供給管
28 バイパス管 29 フローコントローラ
30 廃液部 31,32 ノズル
33,34 切換バルブ 35,36 フローコントローラ
37 純水供給源 38 純水供給管
39 フローコントローラ 40 混合部
41 フッ酸供給源 42 フッ酸供給管
43 フローコントローラ 44 記録媒体
45 リンス液供給源 46 供給管
Claims (8)
- 処理液を使用して基板を処理する複数個の基板処理部と、前記複数個の基板処理部に処理液を供給する処理液供給部と、各基板処理部及び処理液供給部を制御する制御部とを有する基板処理装置において、
制御部は、
前記複数個の基板処理部に基板を順次搬送するとともに、各基板処理部で処理液による基板の処理を順次開始し、
基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量よりも少量の間は、処理液供給部で制御可能な最小流量になるように基板処理部で同時に使用する処理液の流量よりも余分に処理液供給部から処理液を供給し、
その後、基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量となった時は、基板処理部で同時に使用する流量の処理液を処理液供給部から供給するように制御することを特徴とする基板処理装置。 - 前記制御部は、基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量よりも少量の場合にのみ、基板処理部で同時に使用されない余剰の処理液を廃液部から排出するように制御することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記処理液供給部は、第1の流体で第2の流体を希釈して所定濃度の処理液を生成するとともに、生成した処理液を生成直後に基板処理部に供給するように構成し、
前記制御部は、基板処理部で同時に使用する所定濃度の処理液に含まれる第2の流体の流量が処理液供給部で制御可能な第2の流体の流量よりも少量の場合にのみ、処理液供給部で制御可能な第2の流体の流量になるように基板処理部で同時に使用する所定濃度の処理液に含まれる第2の流体の流量よりも余分に処理液供給部から所定濃度の処理液を供給するように制御することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。 - 処理液供給部から供給される処理液を使用して複数個の基板処理部で基板を処理する基板処理方法において、
前記複数個の基板処理部に基板を順次搬送するとともに、各基板処理部で処理液による基板の処理を順次開始し、
基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量よりも少量の間は、処理液供給部で制御可能な最小流量になるように基板処理部で同時に使用する処理液の流量よりも余分に処理液供給部から処理液を供給し、
その後、基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量となった時は、基板処理部で同時に使用する流量の処理液を処理液供給部から供給することを特徴とする基板処理方法。 - 前記制御部は、基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量よりも少量の場合にのみ、基板処理部で同時に使用されない余剰の処理液を廃液部から排出するように制御することを特徴とする請求項4に記載の基板処理方法。
- 前記処理液供給部は、第1の流体で第2の流体を希釈して所定濃度の処理液を生成するとともに、生成した処理液を生成直後に基板処理部に供給し、基板処理部で同時に使用する所定濃度の処理液に含まれる第2の流体の流量が処理液供給部で制御可能な第2の流体の流量よりも少量の場合にのみ、処理液供給部で制御可能な第2の流体の流量になるように基板処理部で同時に使用する所定濃度の処理液に含まれる第2の流体の流量よりも余分に処理液供給部から所定濃度の処理液を供給することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の基板処理方法。
- 処理液供給部から供給される処理液を使用して複数個の基板処理部で基板を処理する基板処理装置に基板の処理を行わせる基板処理プログラムにおいて、
前記複数個の基板処理部に基板を順次搬送するとともに、各基板処理部で処理液による基板の処理を順次開始し、
基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量よりも少量の間は、処理液供給部で制御可能な最小流量になるように基板処理部で同時に使用する処理液の流量よりも余分に処理液供給部から処理液を供給し、
その後、基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量となった時は、基板処理部で同時に使用する流量の処理液を処理液供給部から供給するように制御することを特徴とする基板処理プログラム。 - 処理液供給部から供給される処理液を使用して複数個の基板処理部で基板を処理する基板処理装置に基板の処理を行わせる基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体において、
前記複数個の基板処理部に基板を順次搬送するとともに、各基板処理部で処理液による基板の処理を順次開始し、
基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量よりも少量の間は、処理液供給部で制御可能な最小流量になるように基板処理部で同時に使用する処理液の流量よりも余分に処理液供給部から処理液を供給し、
その後、基板処理部で同時に使用する処理液の流量が処理液供給部で制御可能な流量となった時は、基板処理部で同時に使用する流量の処理液を処理液供給部から供給するように制御することを特徴とする基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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