JP2002096030A - ノズルを用いた処理装置 - Google Patents
ノズルを用いた処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は、ノズルから噴射される処理液の
圧力変動を防止できるようにしたノズルを用いた処理装
置を提供することにある。 【解決手段】 基板５を処理するための処理液を噴射す
る複数のノズル６，７を有する処理装置において、処理
液が貯えられたタンク１４と、このタンク内の処理液を
上記ノズルに供給する供給ポンプ１５と、各ノズルに設
けられ上記供給ポンプから供給された処理液が上記ノズ
ルに流れるのを制御する開閉制御弁１２と、この開閉制
御弁を通過して上記ノズルから噴射される処理液の流量
を検出する検出手段と、上記供給ポンプと上記ノズルと
の間に設けられ上記ノズルに供給される処理液の流量を
調整する第１の流量調整弁１７と、上記検出手段が検出
する上記ノズルから噴射される処理液の流量に基づいて
上記流量調整手段を流れる処理液の流量を制御する制御
装置１３とを具備する。
圧力変動を防止できるようにしたノズルを用いた処理装
置を提供することにある。 【解決手段】 基板５を処理するための処理液を噴射す
る複数のノズル６，７を有する処理装置において、処理
液が貯えられたタンク１４と、このタンク内の処理液を
上記ノズルに供給する供給ポンプ１５と、各ノズルに設
けられ上記供給ポンプから供給された処理液が上記ノズ
ルに流れるのを制御する開閉制御弁１２と、この開閉制
御弁を通過して上記ノズルから噴射される処理液の流量
を検出する検出手段と、上記供給ポンプと上記ノズルと
の間に設けられ上記ノズルに供給される処理液の流量を
調整する第１の流量調整弁１７と、上記検出手段が検出
する上記ノズルから噴射される処理液の流量に基づいて
上記流量調整手段を流れる処理液の流量を制御する制御
装置１３とを具備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はノズルから噴射さ
れる処理液によって半導体ウエハやガラス基板などの基
板を処理するノズルを用いた処理装置に関する。
れる処理液によって半導体ウエハやガラス基板などの基
板を処理するノズルを用いた処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置などの製造工
程においては、基板としての半導体ウエハやガラス基板
に回路パタ−ンを形成するリソグラフィプロセスがあ
る。リソグラフィプロセスは、周知のように上記基板に
レジストを塗布し、このレジストに回路パタ−ンが形成
されたマスクを介して光を照射し、ついでレジストの光
が照射されない部分（あるいは光が照射された部分）を
除去し、除去された部分を処理するという一連の工程を
数十回繰り返すことで回路パタ−ンが形成される。
程においては、基板としての半導体ウエハやガラス基板
に回路パタ−ンを形成するリソグラフィプロセスがあ
る。リソグラフィプロセスは、周知のように上記基板に
レジストを塗布し、このレジストに回路パタ−ンが形成
されたマスクを介して光を照射し、ついでレジストの光
が照射されない部分（あるいは光が照射された部分）を
除去し、除去された部分を処理するという一連の工程を
数十回繰り返すことで回路パタ−ンが形成される。
【０００３】各工程において、上記基板が汚染されてい
ると回路パタ−ンを精密に形成することができなくな
り、不良品の発生原因となる。したがって、それぞれの
工程で回路パタ−ンを形成する際には、レジストや塵埃
が残留しない清浄な状態に上記基板を洗浄するというこ
とが行われている。
ると回路パタ−ンを精密に形成することができなくな
り、不良品の発生原因となる。したがって、それぞれの
工程で回路パタ−ンを形成する際には、レジストや塵埃
が残留しない清浄な状態に上記基板を洗浄するというこ
とが行われている。
【０００４】上記基板を洗浄する装置としては、複数枚
の半導体ウエハを洗浄液が収容された洗浄タンク内に漬
けて洗浄するバッチ方式と、１枚の基板を回転させ、そ
の基板に対して処理液を噴射させて洗浄する枚葉方式と
があり、基板の大型化にともない洗浄効果の高い枚葉方
式が用いられる傾向にある。
の半導体ウエハを洗浄液が収容された洗浄タンク内に漬
けて洗浄するバッチ方式と、１枚の基板を回転させ、そ
の基板に対して処理液を噴射させて洗浄する枚葉方式と
があり、基板の大型化にともない洗浄効果の高い枚葉方
式が用いられる傾向にある。
【０００５】枚葉方式の洗浄処理装置にはスピン洗浄処
理装置があり、このスピン洗浄処理装置において洗浄効
果をより一層高めるために、基板の上面だけでなく下面
からも洗浄ノズルによって処理液を噴射したり、それと
同時に上面側には通常の洗浄ノズルの他に超音波洗浄ノ
ズルを配置し、超音波振動が付与された処理液を噴射す
ることで洗浄効果を高めるなどのことが行われている。
理装置があり、このスピン洗浄処理装置において洗浄効
果をより一層高めるために、基板の上面だけでなく下面
からも洗浄ノズルによって処理液を噴射したり、それと
同時に上面側には通常の洗浄ノズルの他に超音波洗浄ノ
ズルを配置し、超音波振動が付与された処理液を噴射す
ることで洗浄効果を高めるなどのことが行われている。
【０００６】処理液としては純水が用いられることが多
いが、基板に付着した有機物を効率よく洗浄除去する場
合には純水にオゾンガスを溶解させたオゾン水が用いら
れることもある。
いが、基板に付着した有機物を効率よく洗浄除去する場
合には純水にオゾンガスを溶解させたオゾン水が用いら
れることもある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】半導体装置や液晶表示
装置の製造工場においては、複数のスピン処理装置が並
設使用される。そして、各スピン処理装置への処理液の
供給は１つの供給部によって行なわれる。処理液を１つ
の供給部から複数のスピン処理装置に供給する場合、た
とえば複数のスピン処理装置を同時に使用している状態
から１つだけのスピン処理装置を使用する状態に切り替
えると、稼動数の減少にも係わらず、供給される処理液
の量が変わらないため、使用されるスピン処理装置のノ
ズルから噴出される処理液の圧力が上昇することにな
る。
装置の製造工場においては、複数のスピン処理装置が並
設使用される。そして、各スピン処理装置への処理液の
供給は１つの供給部によって行なわれる。処理液を１つ
の供給部から複数のスピン処理装置に供給する場合、た
とえば複数のスピン処理装置を同時に使用している状態
から１つだけのスピン処理装置を使用する状態に切り替
えると、稼動数の減少にも係わらず、供給される処理液
の量が変わらないため、使用されるスピン処理装置のノ
ズルから噴出される処理液の圧力が上昇することにな
る。
【０００８】それによって、そのノズルから基板に噴射
される処理液の位置がずれ、基板を均一に洗浄できなく
なったり、圧力の急激な上昇によって処理液が飛散し、
ミストの発生を招くなどのことがある。
される処理液の位置がずれ、基板を均一に洗浄できなく
なったり、圧力の急激な上昇によって処理液が飛散し、
ミストの発生を招くなどのことがある。
【０００９】また、処理液がオゾン水の場合、その供給
源では所定量の純水に所定量のオゾンガスを溶解させる
ことで一定濃度のオゾン水を生成するようにしている。
処理液にオゾンガスを溶解させる場合、たとえばタンク
に処理液を流し、そのタンクにオゾンガスを供給して処
理液に溶解させるようにしている。
源では所定量の純水に所定量のオゾンガスを溶解させる
ことで一定濃度のオゾン水を生成するようにしている。
処理液にオゾンガスを溶解させる場合、たとえばタンク
に処理液を流し、そのタンクにオゾンガスを供給して処
理液に溶解させるようにしている。
【００１０】しかしながら、タンクを流れる処理液に単
にオゾンガスを接触させるだけでは、オゾンガスを処理
液に十分に溶解させることができないため、オゾンガス
濃度の高い処理液を得ることができなかったり、オゾン
ガス濃度が不安定になるなどのことがあった。
にオゾンガスを接触させるだけでは、オゾンガスを処理
液に十分に溶解させることができないため、オゾンガス
濃度の高い処理液を得ることができなかったり、オゾン
ガス濃度が不安定になるなどのことがあった。
【００１１】この発明は、処理液の使用量が変化して
も、ノズルから噴射される処理液の圧力を一定に維持で
きるようにしたノズルを用いた処理装置を提供すること
にある。
も、ノズルから噴射される処理液の圧力を一定に維持で
きるようにしたノズルを用いた処理装置を提供すること
にある。
【００１２】この発明は、オゾンガス濃度の高い処理液
を得ることができるようにしたノズルを用いた処理装置
を提供することにある。
を得ることができるようにしたノズルを用いた処理装置
を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を処理するための処理液を噴射する複数のノズルを有す
る処理装置において、各ノズルに設けられこれらノズル
への処理液の供給を制御する開閉制御弁と、この開閉制
御弁を通過して上記ノズルから噴射される処理液の流量
を検出する検出手段と、上記ノズルへの処理液の供給量
を制御する流量調整手段と、上記検出手段が検出する上
記ノズルから噴射される処理液の流量に基づいて上記流
量調整手段から上記ノズルへ流れる処理液の流量を制御
する制御手段とを具備したことを特徴とするノズルを用
いた処理装置にある。
を処理するための処理液を噴射する複数のノズルを有す
る処理装置において、各ノズルに設けられこれらノズル
への処理液の供給を制御する開閉制御弁と、この開閉制
御弁を通過して上記ノズルから噴射される処理液の流量
を検出する検出手段と、上記ノズルへの処理液の供給量
を制御する流量調整手段と、上記検出手段が検出する上
記ノズルから噴射される処理液の流量に基づいて上記流
量調整手段から上記ノズルへ流れる処理液の流量を制御
する制御手段とを具備したことを特徴とするノズルを用
いた処理装置にある。
【００１４】請求項２の発明は、基板を処理するための
処理液を噴射する複数のノズルを有する処理装置におい
て、処理液が貯えられたタンクと、このタンク内の処理
液を上記ノズルに供給する供給ポンプと、各ノズルに設
けられ上記供給ポンプから供給された処理液が上記ノズ
ルに流れるのを制御する開閉制御弁と、この開閉制御弁
を通過して上記ノズルから噴射される処理液の流量を検
出する検出手段と、上記供給ポンプと上記ノズルとの間
に設けられた流量調整手段と、上記検出手段が検出する
上記ノズルから噴射される処理液の流量に基づいて上記
流量調整手段から上記ノズルへ流れる処理液の流量を制
御する制御手段とを具備したことを特徴とするノズルを
用いた処理装置にある。
処理液を噴射する複数のノズルを有する処理装置におい
て、処理液が貯えられたタンクと、このタンク内の処理
液を上記ノズルに供給する供給ポンプと、各ノズルに設
けられ上記供給ポンプから供給された処理液が上記ノズ
ルに流れるのを制御する開閉制御弁と、この開閉制御弁
を通過して上記ノズルから噴射される処理液の流量を検
出する検出手段と、上記供給ポンプと上記ノズルとの間
に設けられた流量調整手段と、上記検出手段が検出する
上記ノズルから噴射される処理液の流量に基づいて上記
流量調整手段から上記ノズルへ流れる処理液の流量を制
御する制御手段とを具備したことを特徴とするノズルを
用いた処理装置にある。
【００１５】請求項３の発明は、上記検出手段は、開あ
るいは閉の状態にある上記開閉制御弁の数を検出するこ
とを特徴とする請求項２記載のノズルを用いた処理装置
にある。
るいは閉の状態にある上記開閉制御弁の数を検出するこ
とを特徴とする請求項２記載のノズルを用いた処理装置
にある。
【００１６】請求項４の発明は、上記検出手段は、上記
流量調整手段と上記開閉制御弁との間の処理液の圧力を
検出することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
ノズルを用いた処理装置にある。
流量調整手段と上記開閉制御弁との間の処理液の圧力を
検出することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
ノズルを用いた処理装置にある。
【００１７】請求項５の発明は、上記流量調整手段は、
上記供給ポンプと上記開閉制御弁との間に設けられた第
１の流量調整弁と、この第１の流量調整弁と上記供給ポ
ンプとの間に設けられ上記供給ポンプから吐出される処
理液の一部を上記タンクに戻す第２の流量調整弁とを備
えていることを特徴とする請求項２記載のノズルを用い
た処理装置にある。
上記供給ポンプと上記開閉制御弁との間に設けられた第
１の流量調整弁と、この第１の流量調整弁と上記供給ポ
ンプとの間に設けられ上記供給ポンプから吐出される処
理液の一部を上記タンクに戻す第２の流量調整弁とを備
えていることを特徴とする請求項２記載のノズルを用い
た処理装置にある。
【００１８】請求項６の発明は、上記供給ポンプと上記
第１の流量調整弁との間には、この供給ポンプから吐出
される処理液に所定のガスを溶解させるガス溶解部が設
けられていることを特徴とする請求項５記載のノズルを
用いた処理装置にある。
第１の流量調整弁との間には、この供給ポンプから吐出
される処理液に所定のガスを溶解させるガス溶解部が設
けられていることを特徴とする請求項５記載のノズルを
用いた処理装置にある。
【００１９】請求項７の発明は、処理液に所定のガスを
溶解し、この処理液をノズルから噴射させて基板を処理
する処理装置において、処理液が貯えられたタンクと、
このタンク内の処理液を上記ノズルに供給する供給ポン
プと、この供給ポンプとノズルとの間に設けられタンク
から吐出された処理液に所定のガスを溶解させるガス溶
解部と、このガス溶解部で所定のガスが溶解された処理
液の一部を上記タンクへ戻す循環手段とを具備したこと
を特徴とするノズルを用いた処理装置にある。
溶解し、この処理液をノズルから噴射させて基板を処理
する処理装置において、処理液が貯えられたタンクと、
このタンク内の処理液を上記ノズルに供給する供給ポン
プと、この供給ポンプとノズルとの間に設けられタンク
から吐出された処理液に所定のガスを溶解させるガス溶
解部と、このガス溶解部で所定のガスが溶解された処理
液の一部を上記タンクへ戻す循環手段とを具備したこと
を特徴とするノズルを用いた処理装置にある。
【００２０】請求項１と請求項２の発明によれば、複数
のノズルから噴射される処理液の流量に基づいて流量調
整手段を流れる処理液の流量を制御するため、ノズルか
ら噴射される処理液の流量の変動に応じて流量調整手段
を流れる処理液の量が制御されるから、処理液を圧力の
変動を招くことなくノズルから噴射させることができ
る。
のノズルから噴射される処理液の流量に基づいて流量調
整手段を流れる処理液の流量を制御するため、ノズルか
ら噴射される処理液の流量の変動に応じて流量調整手段
を流れる処理液の量が制御されるから、処理液を圧力の
変動を招くことなくノズルから噴射させることができ
る。
【００２１】請求項３の発明によれば、複数の開閉制御
弁の開閉状態によってノズルから噴射される処理液の流
量を検出することができる。
弁の開閉状態によってノズルから噴射される処理液の流
量を検出することができる。
【００２２】請求項４の発明によれば、ノズルに供給さ
れる処理液の圧力変動によってノズルから噴射される処
理液の流量を検出することができる。
れる処理液の圧力変動によってノズルから噴射される処
理液の流量を検出することができる。
【００２３】請求項５の発明によれば、供給ポンプから
吐出される処理液の一部をタンクに戻すようにしたか
ら、ノズルから噴射される処理液の流量が減少した場合
などに、その減少分をタンクに戻すことができる。
吐出される処理液の一部をタンクに戻すようにしたか
ら、ノズルから噴射される処理液の流量が減少した場合
などに、その減少分をタンクに戻すことができる。
【００２４】請求項６と請求項７の発明によれば、供給
ポンプの吐出側にガス溶解部を設け、所定のガスを溶解
した処理液をタンクに戻して循環させるため、ガス溶解
部で処理液に所定のガスを高濃度に溶解させることが可
能となる。
ポンプの吐出側にガス溶解部を設け、所定のガスを溶解
した処理液をタンクに戻して循環させるため、ガス溶解
部で処理液に所定のガスを高濃度に溶解させることが可
能となる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００２６】図１はこの発明の一実施の形態を示す処理
装置であって、この処理装置は第１乃至第３のスピン処
理装置１Ａ〜１Ｃが並設されている。各スピン処理装置
１Ａ〜１Ｃはカップ２を有し、このカップ２内には駆動
源３によって回転駆動される回転テーブル４が設けられ
ている。この回転テーブル４には、たとえば液晶表示装
置に用いられる矩形状のガラス製の基板５が保持され
る。
装置であって、この処理装置は第１乃至第３のスピン処
理装置１Ａ〜１Ｃが並設されている。各スピン処理装置
１Ａ〜１Ｃはカップ２を有し、このカップ２内には駆動
源３によって回転駆動される回転テーブル４が設けられ
ている。この回転テーブル４には、たとえば液晶表示装
置に用いられる矩形状のガラス製の基板５が保持され
る。
【００２７】回転テーブル４に保持された基板５の上面
と下面とには、それぞれ上部ノズル６と下部ノズル７と
が対向して配置されている。これらノズル６，７からは
基板５の上面と下面に向けて処理液が噴射される。それ
によって、基板５の上面と下面とは処理液によってたと
えば洗浄処理などが行なわれる。
と下面とには、それぞれ上部ノズル６と下部ノズル７と
が対向して配置されている。これらノズル６，７からは
基板５の上面と下面に向けて処理液が噴射される。それ
によって、基板５の上面と下面とは処理液によってたと
えば洗浄処理などが行なわれる。
【００２８】上記上部ノズル６と下部ノズル７とは処理
液の供給管１１に接続されている。この供給管１１はヘ
ッダ管１１ａを有し、このヘッダ管１１ａから複数、こ
の実施の形態では６本の分岐管１１ｂが分岐されてい
る。各分岐管１１ｂには上記上部ノズル６と下部ノズル
７とが接続されている。
液の供給管１１に接続されている。この供給管１１はヘ
ッダ管１１ａを有し、このヘッダ管１１ａから複数、こ
の実施の形態では６本の分岐管１１ｂが分岐されてい
る。各分岐管１１ｂには上記上部ノズル６と下部ノズル
７とが接続されている。
【００２９】各分岐管１１ｂにはぞれぞれ開閉制御弁１
２が設けられている。これらの開閉制御弁１２は制御装
置１３によって開閉が制御されるようになっている。上
記ヘッダ管１１ａには処理液Ｌが貯えられるタンク１４
が接続されている。このタンク１４と上記ヘッダ管１１
ａとの間には、ポンプ１５、ガス溶解部１６及び第１の
流量制御弁１７が順次接続されている。
２が設けられている。これらの開閉制御弁１２は制御装
置１３によって開閉が制御されるようになっている。上
記ヘッダ管１１ａには処理液Ｌが貯えられるタンク１４
が接続されている。このタンク１４と上記ヘッダ管１１
ａとの間には、ポンプ１５、ガス溶解部１６及び第１の
流量制御弁１７が順次接続されている。
【００３０】第１の流量制御弁１７は、上記制御装置１
３からの駆動信号によって上記ポンプ１５から上記ヘッ
ダ管１１ａに供給されるタンク１４内の処理液の流量を
比例制御する。第１の流量調整弁１７の開度は、制御装
置１３が開閉制御する開閉制御弁１２の数に基づいて設
定される。
３からの駆動信号によって上記ポンプ１５から上記ヘッ
ダ管１１ａに供給されるタンク１４内の処理液の流量を
比例制御する。第１の流量調整弁１７の開度は、制御装
置１３が開閉制御する開閉制御弁１２の数に基づいて設
定される。
【００３１】たとえば、制御装置１３によって３台のス
ピン処理装置１Ａ〜１Ｃの６つの開閉制御弁１２のう
ち、２台のスピン処理装置１Ａ、１Ｂの４つの開閉制御
弁１２を開くよう設定すると、その設定に基づく駆動信
号が第１の流量調整弁１７に出力される。
ピン処理装置１Ａ〜１Ｃの６つの開閉制御弁１２のう
ち、２台のスピン処理装置１Ａ、１Ｂの４つの開閉制御
弁１２を開くよう設定すると、その設定に基づく駆動信
号が第１の流量調整弁１７に出力される。
【００３２】つまり、制御装置１３によって開放される
開閉制御弁１２の数に基づいて４つのノズル６，７から
噴射される処理液の流量が定まるから、その流量に応じ
て上記第１の流量調整弁１７の開度が設定される。
開閉制御弁１２の数に基づいて４つのノズル６，７から
噴射される処理液の流量が定まるから、その流量に応じ
て上記第１の流量調整弁１７の開度が設定される。
【００３３】具体的には、６つのノズル６、７から処理
液が噴射されるときの流量を１００とすると、４つのノ
ズル６，７から噴射される処理液の流量は１００×２／
３となるから、第１の流量調整弁１７の開度は、全開時
に対して流量が３分の２になるよう設定される。
液が噴射されるときの流量を１００とすると、４つのノ
ズル６，７から噴射される処理液の流量は１００×２／
３となるから、第１の流量調整弁１７の開度は、全開時
に対して流量が３分の２になるよう設定される。
【００３４】第１の流量調整弁１７の開度と流量とが比
例関係にあれば、第１の流量調整弁１７の開度を全開時
の３分の２にすればよいが、開度と流量とが比例しない
場合には、予め求めた流量と開度との関係に基づいて所
定の流量が得られる開度に設定すればよい。
例関係にあれば、第１の流量調整弁１７の開度を全開時
の３分の２にすればよいが、開度と流量とが比例しない
場合には、予め求めた流量と開度との関係に基づいて所
定の流量が得られる開度に設定すればよい。
【００３５】すなわち、この実施の形態では、制御装置
１３が開閉制御弁１２を開閉制御する制御信号によって
ノズル６，７から噴射される処理液の流量を検出するた
めの検出手段を兼ねている。
１３が開閉制御弁１２を開閉制御する制御信号によって
ノズル６，７から噴射される処理液の流量を検出するた
めの検出手段を兼ねている。
【００３６】なお、ノズル６，７から噴射される処理液
の流量の検出は、検出手段を兼ねる制御装置１３によっ
て開放される開閉制御弁１２の数を検出して行なうよう
にしたが、それに代わり、閉じた状態の開閉制御弁１２
の数を検出して行なうようにしてもよい。
の流量の検出は、検出手段を兼ねる制御装置１３によっ
て開放される開閉制御弁１２の数を検出して行なうよう
にしたが、それに代わり、閉じた状態の開閉制御弁１２
の数を検出して行なうようにしてもよい。
【００３７】上記ガス溶解部１６は処理液にオゾンガス
を溶解することで、処理液としての純水をオゾン水とし
て各ノズル６，７へ供給する。オゾン水を供給する場
合、一定量の処理液に所定量のオゾンガスを溶解させる
ことで、オゾン水のオゾン濃度を一定に維持するように
している。
を溶解することで、処理液としての純水をオゾン水とし
て各ノズル６，７へ供給する。オゾン水を供給する場
合、一定量の処理液に所定量のオゾンガスを溶解させる
ことで、オゾン水のオゾン濃度を一定に維持するように
している。
【００３８】そのため、ガス溶解部１６へは一定量の処
理液が供給されるようになっている。つまり、使用する
ノズル６、７の数に係わらず、上記ポンプ１５は一定量
の処理液をガス溶解部１６へ吐出する。
理液が供給されるようになっている。つまり、使用する
ノズル６、７の数に係わらず、上記ポンプ１５は一定量
の処理液をガス溶解部１６へ吐出する。
【００３９】使用するノズル６，７の数が減少して上記
第１の流量調整弁１７の開度が絞られた場合、余剰とな
った処理液（オゾン水）は、上記ガス溶解部１６と第１
の流量調整弁１７との間に設けられた第２の流量調整弁
１８へ逃される。この第２の流量調整弁１８に流れた処
理液は戻し管１９を通じて上記タンク１４へ戻される。
つまり、第１の流量調整弁１７の開度に応じて余剰とな
った処理液は、第２の流量調整弁１８から戻し管１９を
通ってタンク１４に戻るという循環経路を経ることにな
る。
第１の流量調整弁１７の開度が絞られた場合、余剰とな
った処理液（オゾン水）は、上記ガス溶解部１６と第１
の流量調整弁１７との間に設けられた第２の流量調整弁
１８へ逃される。この第２の流量調整弁１８に流れた処
理液は戻し管１９を通じて上記タンク１４へ戻される。
つまり、第１の流量調整弁１７の開度に応じて余剰とな
った処理液は、第２の流量調整弁１８から戻し管１９を
通ってタンク１４に戻るという循環経路を経ることにな
る。
【００４０】第１の流量調整弁１７を流れる処理液の量
と、第２の流量調整弁１８を流れる処理液の量との和
は、ポンプ１５から吐出される処理液の量に等しくな
る。
と、第２の流量調整弁１８を流れる処理液の量との和
は、ポンプ１５から吐出される処理液の量に等しくな
る。
【００４１】上記タンク１４には液面レベルを検出する
センサ２１が設けられている。このセンサ２１が検出す
る液面信号は上記制御装置１３に入力される。さらにタ
ンク１４には処理液（純水）の供給管２２が接続されて
いる。この供給管２２には開閉制御弁２３が設けられて
いる。上記センサ２１が検出するタンク１４内の液面が
所定の高さになると、その検出信号に基づいて制御装置
１３は上記開閉制御弁２３を閉じる。つまり、タンク１
４内の処理液の液面は上記センサ２１によって所定以上
にならないように制御されている。
センサ２１が設けられている。このセンサ２１が検出す
る液面信号は上記制御装置１３に入力される。さらにタ
ンク１４には処理液（純水）の供給管２２が接続されて
いる。この供給管２２には開閉制御弁２３が設けられて
いる。上記センサ２１が検出するタンク１４内の液面が
所定の高さになると、その検出信号に基づいて制御装置
１３は上記開閉制御弁２３を閉じる。つまり、タンク１
４内の処理液の液面は上記センサ２１によって所定以上
にならないように制御されている。
【００４２】ガス溶解部１６で生成されたオゾン水の、
第１乃至第３のスピン処理装置１Ａ〜１Ｃでの使用量が
減少すると、その減少分が第２の流量調整弁１８及び戻
り管１９を通じてタンク１４へ戻るという経路で循環す
る。つまり、オゾンガスを溶解した処理液が循環を繰り
返してタンク１４に貯えられる。
第１乃至第３のスピン処理装置１Ａ〜１Ｃでの使用量が
減少すると、その減少分が第２の流量調整弁１８及び戻
り管１９を通じてタンク１４へ戻るという経路で循環す
る。つまり、オゾンガスを溶解した処理液が循環を繰り
返してタンク１４に貯えられる。
【００４３】そのため、所定の濃度でオゾンガスを溶解
した処理液にさらにオゾンガスが溶解されるということ
が繰り返されるから、結果的にオゾンガスの濃度の高い
処理液をノズル６，７へ供給することが可能となる。
した処理液にさらにオゾンガスが溶解されるということ
が繰り返されるから、結果的にオゾンガスの濃度の高い
処理液をノズル６，７へ供給することが可能となる。
【００４４】処理液に溶解されるオゾンガスの濃度は、
圧力や温度によって飽和濃度が決まっているから、処理
液が循環を繰り返しても、処理液のオゾン濃度は所定以
上にはならない。つまり、処理液の一部をガス溶解部１
６に繰り返して循環させるようにしたことで、高濃度
（飽和濃度）の処理液を供給することが可能となる。
圧力や温度によって飽和濃度が決まっているから、処理
液が循環を繰り返しても、処理液のオゾン濃度は所定以
上にはならない。つまり、処理液の一部をガス溶解部１
６に繰り返して循環させるようにしたことで、高濃度
（飽和濃度）の処理液を供給することが可能となる。
【００４５】つぎに、上記構成の処理装置によって基板
５を洗浄処理する場合について説明する。
５を洗浄処理する場合について説明する。
【００４６】第１乃至第３のスピン処理装置１Ａ〜１Ｃ
のうち、たとえば第１のスピン処理装置１Ａと第２のス
ピン処理装置１Ｂとを運転して基板５を処理し、第３の
スピン処理装置１Ｃを休止する場合、制御装置１３を操
作して第１、第２のスピン処理装置１Ａ，１Ｂの運転を
開始する。
のうち、たとえば第１のスピン処理装置１Ａと第２のス
ピン処理装置１Ｂとを運転して基板５を処理し、第３の
スピン処理装置１Ｃを休止する場合、制御装置１３を操
作して第１、第２のスピン処理装置１Ａ，１Ｂの運転を
開始する。
【００４７】第１、第２のスピン処理装置１Ａ，１Ｂの
運転を開始すると、制御装置１３によってこれらスピン
処理装置１Ａ，１Ｂの上部ノズル６と下部ノズル７とに
処理液を供給する４つの開閉弁１２が開放される。
運転を開始すると、制御装置１３によってこれらスピン
処理装置１Ａ，１Ｂの上部ノズル６と下部ノズル７とに
処理液を供給する４つの開閉弁１２が開放される。
【００４８】処理液のオゾン濃度を一定に維持するた
め、ポンプ１５からは一定量の処理液が吐出される。そ
のため、制御装置１３は、第１の流量調整弁１７の開度
を、開放される開閉弁１２の数に応じて設定する。この
実施の形態では、第１の流量調整弁１７の開度は、全開
時の流量に対して３分の２の流量となるよう制御され
る。また、第２の流量調整弁１８の開度は全開時の流量
に比べて３分の１の流量となるよう制御される。
め、ポンプ１５からは一定量の処理液が吐出される。そ
のため、制御装置１３は、第１の流量調整弁１７の開度
を、開放される開閉弁１２の数に応じて設定する。この
実施の形態では、第１の流量調整弁１７の開度は、全開
時の流量に対して３分の２の流量となるよう制御され
る。また、第２の流量調整弁１８の開度は全開時の流量
に比べて３分の１の流量となるよう制御される。
【００４９】それによって、第１の流量調整弁１７と第
２の流量調整弁１８を流れる処理液の総流量がポンプ１
５からの吐出量と一致することになる。
２の流量調整弁１８を流れる処理液の総流量がポンプ１
５からの吐出量と一致することになる。
【００５０】このように、第１、第２の流量調整弁１
７，１８の開度が調整されることで、ポンプ１５から吐
出される処理液は、全流量の３分の２が第１の流量調整
弁１７を通過して４つのノズル６、７に供給され、３分
の１が第２の流量調整弁１８を通じてタンク１４へ戻
る。
７，１８の開度が調整されることで、ポンプ１５から吐
出される処理液は、全流量の３分の２が第１の流量調整
弁１７を通過して４つのノズル６、７に供給され、３分
の１が第２の流量調整弁１８を通じてタンク１４へ戻
る。
【００５１】それによって、１つ当たりのノズルに供給
される処理液の流量は、ノズルの使用個数に係わりなく
一定に維持されるから、４つのノズル６、７からは一定
量の処理液が噴射されることになる。
される処理液の流量は、ノズルの使用個数に係わりなく
一定に維持されるから、４つのノズル６、７からは一定
量の処理液が噴射されることになる。
【００５２】つまり、スピン処理装置１Ａ〜１Ｃの稼働
台数が変動しても、稼動されているスピン処理装置１
Ａ，１Ｂの上部ノズル６と下部ノズル７とから噴射され
る処理液の圧力は変動しないから、処理液による基板５
の処理を一定の状態で均一に行なうことができる。
台数が変動しても、稼動されているスピン処理装置１
Ａ，１Ｂの上部ノズル６と下部ノズル７とから噴射され
る処理液の圧力は変動しないから、処理液による基板５
の処理を一定の状態で均一に行なうことができる。
【００５３】しかも、スピン処理装置の稼働台数が減少
しても、各ノズル６，７から噴射される処理液の圧力が
上昇することがないから、処理液が周囲に飛散してミス
トの発生を招くということも防止できる。
しても、各ノズル６，７から噴射される処理液の圧力が
上昇することがないから、処理液が周囲に飛散してミス
トの発生を招くということも防止できる。
【００５４】スピン処理装置の可動台数が減少した場合
には、第１の流量調整弁１７の開度調整によってヘッダ
管１１ａへ流れなかった処理液の一部が第２の流量調整
弁１８を通じてタンク１４へ戻り、循環する。
には、第１の流量調整弁１７の開度調整によってヘッダ
管１１ａへ流れなかった処理液の一部が第２の流量調整
弁１８を通じてタンク１４へ戻り、循環する。
【００５５】つまり、ポンプ１５から吐出される処理液
の流量を一定に維持することができるから、処理液の使
用量の変動に応じてポンプ１５から吐出される処理液の
供給量を変えずにすむ。
の流量を一定に維持することができるから、処理液の使
用量の変動に応じてポンプ１５から吐出される処理液の
供給量を変えずにすむ。
【００５６】また、処理液の一部が循環することで、タ
ンク１４の液面が徐々に上昇してくる。そして、液面が
所定のレベルに達すると、そのことがセンサ２１によっ
て検出され、その検出信号で処理液（純水）をタンク１
４に供給する供給管２２に設けられた開閉制御弁２３が
閉じられる。したがって、タンク１４内の液面が所定以
上に上昇するのが防止される。
ンク１４の液面が徐々に上昇してくる。そして、液面が
所定のレベルに達すると、そのことがセンサ２１によっ
て検出され、その検出信号で処理液（純水）をタンク１
４に供給する供給管２２に設けられた開閉制御弁２３が
閉じられる。したがって、タンク１４内の液面が所定以
上に上昇するのが防止される。
【００５７】ガス溶解部１６で生成されたオゾン水の一
部が第２の流量調整弁１８を通って循環することで、オ
ゾンガスを溶解した処理液がタンク１４に貯えられる。
そのため、ガス溶解部１６では予め所定量のオゾンガス
を溶解した処理液にさらにオゾンガスが溶解されること
になるから、処理液にオゾンガスを十分に溶解させるこ
とができる。その結果、処理液は、オゾンガスを飽和濃
度まで溶解して第１の流量調整弁１７を通じてノズル
６，７に供給することができる。
部が第２の流量調整弁１８を通って循環することで、オ
ゾンガスを溶解した処理液がタンク１４に貯えられる。
そのため、ガス溶解部１６では予め所定量のオゾンガス
を溶解した処理液にさらにオゾンガスが溶解されること
になるから、処理液にオゾンガスを十分に溶解させるこ
とができる。その結果、処理液は、オゾンガスを飽和濃
度まで溶解して第１の流量調整弁１７を通じてノズル
６，７に供給することができる。
【００５８】つまり、スピン処理装置１Ａ〜１Ｃの稼動
状況に応じて余剰となった処理液を循環させるようにし
たことで、タンク１４にオゾンガスを溶解した処理液を
貯え、その処理液にオゾンガスを繰り返し溶解吸収させ
ることができるから、オゾンガス濃度の高い処理液を供
給することが可能となる。
状況に応じて余剰となった処理液を循環させるようにし
たことで、タンク１４にオゾンガスを溶解した処理液を
貯え、その処理液にオゾンガスを繰り返し溶解吸収させ
ることができるから、オゾンガス濃度の高い処理液を供
給することが可能となる。
【００５９】通常、オゾンガス濃度の高い処理液を得る
ためには、ガス溶解部１６を大型化しなければならない
が、この発明のように、ガス溶解部１６から流出する処
理液の一部を循環させるようにしたことで、ガス溶解部
１６を大型化することなく、処理液のオゾンガス濃度を
高めることが可能となる。
ためには、ガス溶解部１６を大型化しなければならない
が、この発明のように、ガス溶解部１６から流出する処
理液の一部を循環させるようにしたことで、ガス溶解部
１６を大型化することなく、処理液のオゾンガス濃度を
高めることが可能となる。
【００６０】図２はこの発明の他の実施の形態を示す。
この実施の形態はノズル６，７から噴出される処理液の
流量を検出する検出手段の変形例である。つまり、この
実施の形態では、検出手段として第１の流量調整弁１７
とヘッダ管１１ａとの間に、このヘッダ管１１ａを流れ
る処理液の圧力を検出する圧力センサ３１を設けた。
この実施の形態はノズル６，７から噴出される処理液の
流量を検出する検出手段の変形例である。つまり、この
実施の形態では、検出手段として第１の流量調整弁１７
とヘッダ管１１ａとの間に、このヘッダ管１１ａを流れ
る処理液の圧力を検出する圧力センサ３１を設けた。
【００６１】ヘッダ管１１ａを流れる処理液の圧力は、
各スピン処理装置１Ａ〜１Ｃの稼働状態によって変化す
る。つまり、処理液が噴射されるノズル６，７の数によ
って変化する。
各スピン処理装置１Ａ〜１Ｃの稼働状態によって変化す
る。つまり、処理液が噴射されるノズル６，７の数によ
って変化する。
【００６２】したがって、圧力センサ３１により、ヘッ
ダ管１１ａの処理液の圧力を検出すれば、その圧力によ
ってノズルから噴射されている処理液の流量を求めるこ
とができるから、それに応じて第１の流量調整弁１７の
開度を設定し、各ノズル６，７から噴射される処理液の
圧力を一定に維持することが可能となる。
ダ管１１ａの処理液の圧力を検出すれば、その圧力によ
ってノズルから噴射されている処理液の流量を求めるこ
とができるから、それに応じて第１の流量調整弁１７の
開度を設定し、各ノズル６，７から噴射される処理液の
圧力を一定に維持することが可能となる。
【００６３】なお、上記一実施の形態では、供給ポンプ
からの処理液の吐出量を、複数のスピン処理装置による
処理液の全使用量とほぼ同じに設定したが、供給ポンプ
の吐出量を全使用量よりも大きくし、ガス溶解部から流
出した処理液の一部を常時タンクへ戻すようにしてもよ
い。
からの処理液の吐出量を、複数のスピン処理装置による
処理液の全使用量とほぼ同じに設定したが、供給ポンプ
の吐出量を全使用量よりも大きくし、ガス溶解部から流
出した処理液の一部を常時タンクへ戻すようにしてもよ
い。
【００６４】そのようにすれば、処理液の使用量が最大
であっても、ガス溶解部でガスを溶解した処理液の一部
が確実にタンクへ戻されることになるから、ノズルに供
給される処理液が溶解するガス濃度を確実に高めること
ができる。
であっても、ガス溶解部でガスを溶解した処理液の一部
が確実にタンクへ戻されることになるから、ノズルに供
給される処理液が溶解するガス濃度を確実に高めること
ができる。
【００６５】
【発明の効果】この発明によれば、複数のノズルから噴
射される処理液の流量に基づいて流量調整手段を流れる
処理液の流量を制御するようにした。
射される処理液の流量に基づいて流量調整手段を流れる
処理液の流量を制御するようにした。
【００６６】そのため、ノズルから噴射される処理液の
流量の変動に応じて流量調整手段を流れる処理液の量が
制御されるから、処理液を圧力の変動を招くことなくノ
ズルから噴射させることができる。
流量の変動に応じて流量調整手段を流れる処理液の量が
制御されるから、処理液を圧力の変動を招くことなくノ
ズルから噴射させることができる。
【００６７】また、この発明によれば、ガス溶解部を通
過した処理液の一部をタンクに戻すようにした。
過した処理液の一部をタンクに戻すようにした。
【００６８】そのため、処理液の一部はガス溶解部で繰
り返してガスが溶解されることになるから、ガス溶解部
を大型化させることなく、処理液に所定のガスを十分な
濃度で溶解させることが可能となる。
り返してガスが溶解されることになるから、ガス溶解部
を大型化させることなく、処理液に所定のガスを十分な
濃度で溶解させることが可能となる。
【図１】この発明の一実施の形態を示す処理装置の概略
的構成図。
的構成図。
【図２】この発明の他の実施の形態を示す処理装置の一
部分を示す図。
部分を示す図。
５…基板 ６…上部ノズル ７…下部ノズル １２…開閉制御弁 １３…制御装置 １４…タンク １５…供給ポンプ １６…ガス溶解部 １７…第１の流量制御弁 １８…第２の流量制御弁 ３１…圧力センサ
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８Ｇ ６４８Ｋ Ｆターム(参考） 2H088 EA02 FA21 FA30 HA01 MA20 2H090 HC18 JC19 3B201 AA02 AA03 AB33 BB03 BB05 BB24 BB62 CB12 CC13 CD22 CD42 CD43
Claims (7)
- 【請求項１】 基板を処理するための処理液を噴射する
複数のノズルを有する処理装置において、 各ノズルに設けられこれらノズルへの処理液の供給を制
御する開閉制御弁と、 この開閉制御弁を通過して上記ノズルから噴射される処
理液の流量を検出する検出手段と、 上記ノズルへの処理液の供給量を制御する流量調整手段
と、 上記検出手段が検出する上記ノズルから噴射される処理
液の流量に基づいて上記流量調整手段から上記ノズルへ
流れる処理液の流量を制御する制御手段とを具備したこ
とを特徴とするノズルを用いた処理装置。 - 【請求項２】 基板を処理するための処理液を噴射する
複数のノズルを有する処理装置において、 処理液が貯えられたタンクと、 このタンク内の処理液を上記ノズルに供給する供給ポン
プと、 各ノズルに設けられ上記供給ポンプから供給された処理
液が上記ノズルに流れるのを制御する開閉制御弁と、 この開閉制御弁を通過して上記ノズルから噴射される処
理液の流量を検出する検出手段と、 上記供給ポンプと上記ノズルとの間に設けられた流量調
整手段と、 上記検出手段が検出する上記ノズルから噴射される処理
液の流量に基づいて上記流量調整手段から上記ノズルへ
流れる処理液の流量を制御する制御手段とを具備したこ
とを特徴とするノズルを用いた処理装置。 - 【請求項３】 上記検出手段は、開あるいは閉の状態に
ある上記開閉制御弁の数を検出することを特徴とする請
求項１又は請求項２記載のノズルを用いた処理装置。 - 【請求項４】 上記検出手段は、上記流量調整手段と上
記開閉制御弁との間の処理液の圧力を検出することを特
徴とする請求項１又は請求項２記載のノズルを用いた処
理装置。 - 【請求項５】 上記流量調整手段は、上記供給ポンプと
上記開閉制御弁との間に設けられた第１の流量調整弁
と、この第１の流量調整弁と上記供給ポンプとの間に設
けられ上記供給ポンプから吐出される処理液の一部を上
記タンクに戻す第２の流量調整弁とを備えていることを
特徴とする請求項２記載のノズルを用いた処理装置。 - 【請求項６】 上記供給ポンプと上記第１の流量調整弁
との間には、この供給ポンプから吐出される処理液に所
定のガスを溶解させるガス溶解部が設けられていること
を特徴とする請求項５記載のノズルを用いた処理装置。 - 【請求項７】 処理液に所定のガスを溶解し、この処理
液をノズルから噴射させて基板を処理する処理装置にお
いて、 処理液が貯えられたタンクと、 このタンク内の処理液を上記ノズルに供給する供給ポン
プと、 この供給ポンプとノズルとの間に設けられタンクから吐
出された処理液に所定のガスを溶解させるガス溶解部
と、 このガス溶解部で所定のガスが溶解された処理液の一部
を上記タンクへ戻す循環手段とを具備したことを特徴と
するノズルを用いた処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000292220A JP2002096030A (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | ノズルを用いた処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000292220A JP2002096030A (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | ノズルを用いた処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002096030A true JP2002096030A (ja) | 2002-04-02 |
Family
ID=18775186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000292220A Pending JP2002096030A (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | ノズルを用いた処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002096030A (ja) |
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2000
- 2000-09-26 JP JP2000292220A patent/JP2002096030A/ja active Pending
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| KR101437187B1 (ko) | 2008-08-20 | 2014-09-03 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 및 기판 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 |
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Legal Events
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100525 |