JP2942532B2 - 多段階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置 - Google Patents

多段階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置

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JP2942532B2 JP10036310A JP3631098A JP2942532B2 JP 2942532 B2 JP2942532 B2 JP 2942532B2 JP 10036310 A JP10036310 A JP 10036310A JP 3631098 A JP3631098 A JP 3631098A JP 2942532 B2 JP2942532 B2 JP 2942532B2
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治毅 園田
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雅司 大森
博司 田中
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    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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    • Y10S134/902Semiconductor wafer

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多段階流量式洗浄
方法および多段階流量式洗浄装置に係り、より詳細には
薬液処理した被洗浄物を洗浄槽内に収納して洗浄液を供
給することで、この洗浄液の液流により被洗浄物を洗浄
する多段階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体ウェーハ、ガラス基板、電
子基板などの被洗浄物は、薬液処理(エッチング)した
後、この被洗浄物の表面から薬液を除去するために純水
などの洗浄液により洗浄する洗浄工程が必要とされる。
この洗浄工程では、薬液処理した被洗浄物を洗浄槽内に
収納し、この洗浄槽の底面から純水などの洗浄液を供給
することで、この洗浄液の液流により被洗浄物を洗浄す
る洗浄装置がよく使用されている。
【0003】図11は、このように洗浄槽に洗浄液を流
出させて液流により被洗浄物を洗浄する従来の洗浄装置
の構造を示す配管図である。図11に示すように、従来
の洗浄装置は、薬液処理した被洗浄物(図示せず)を収
納する洗浄槽20と、この洗浄槽20の底面から純水な
どの洗浄液を供給する供給ライン24と、この供給ライ
ン24の途中に接続されて洗浄液の供給を制御するバル
ブ22とを備えている。ここで、バルブ22は、電気的
なオン・オフにより供給ラインを開閉する構造を備えて
いる。従って、バルブ22は、供給ライン24から流出
する洗浄液を洗浄槽20に供給および供給停止すること
ができる。
【0004】このような従来の洗浄装置を使用する場
合、まず、所定の工程からエッチングなどの薬液処理を
終えた被洗浄物を洗浄用カセット(図示せず)に複数枚
収納し、この洗浄用カセット(図示せず)を洗浄槽20
内に搬送する。洗浄用カセット(図示せず)を洗浄槽2
0内に搬送すると、供給ライン24を介して供給された
純水などの洗浄液をバルブ22を開くことにより洗浄槽
20内に流入させる。
【0005】ここで図12は、図11に示した従来の洗
浄装置が洗浄中に供給する洗浄液の流量変化を示すグラ
フである。図11に示すように、洗浄槽20内に供給さ
れる洗浄液流量は、バルブ22を開いて洗浄が終了する
まで、常に一定の流量が洗浄槽20内に供給されてい
る。この一定の流量で供給される洗浄液は、洗浄槽20
内に収納した洗浄用カセット(図示せず)の内部に流入
することで被洗浄物の表面を洗浄液の液流により洗浄す
る。
【0006】このように、従来の洗浄装置は、洗浄槽2
0の底面に接続した供給ライン24から洗浄液を一定の
流量で供給することで、洗浄用カセット(図示せず)に
収納した被洗浄物の表面を一定に流れる液流により洗浄
していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
洗浄装置では、洗浄槽に供給される洗浄液の液流により
薬液処理で被洗浄物の表面に付着した異物の一部は除去
できるが、一定に供給される洗浄液の液流では一部の頑
固な異物が被洗浄物の表面に残存してしまう。従って、
従来の洗浄装置では、薬液処理で付着した異物を十分に
低減させることが困難であった。また、このような従来
の洗浄装置では、薬液処理で被洗浄物の表面に付着した
頑固な異物を十分に除去するためには多量の洗浄液およ
び長い洗浄時間が必要になる。従って、被洗浄物を十分
に洗浄するためには、洗浄液の削減および洗浄時間の短
縮が困難であった。本発明は、上述の問題点を解決し、
被洗浄物を洗浄液の液流により効果的に洗浄するととも
に被洗浄物の表面に付着する異物の増加を抑制する多段
階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、被洗浄物を洗浄槽に収納して洗浄液を供
給することで洗浄液の液流により被洗浄物を洗浄する洗
浄方法において、洗浄槽に洗浄液の流量を洗浄中に調節
して液流を変化させて供給することでこの変化する洗浄
液の液流により被洗浄物を洗浄する。ここで、洗浄槽に
供給する洗浄液の流量は、低流量から段階的に高流量に
変化、または低流量から連続的に高流量に変化させるい
ずれかの方法で供給する。また、洗浄液の供給流量は、
少なくとも洗浄槽に供給する洗浄液により被洗浄物が完
全に浸漬するまで低流量で供給する。また、被洗浄物を
洗浄槽に収納して洗浄槽に供給ラインを設けて洗浄液を
供給することで洗浄液の液流により被洗浄物を洗浄する
洗浄装置において、洗浄槽に洗浄液を供給する供給ライ
ンと、この供給ライン上に配設されて洗浄槽に供給する
洗浄液の流量を調節する流量調節手段とを備え、この流
量調節手段により洗浄槽に洗浄液の流量を調節して液流
を変化させて供給することでこの変化する洗浄液の液流
により被洗浄物を洗浄する。
【0009】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
による多段階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装
置の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明によ
る多段階流量式洗浄装置の第1の実施の形態の構造を示
す配管図である。また、図2は、図1に示した多段階流
量式洗浄装置が洗浄中に供給する洗浄液の流量変化を示
すグラフである。
【0010】図1に示すように、本発明による多段階流
量式洗浄装置の第1の実施の形態は、薬液処理した被洗
浄物(図示せず)を収納する洗浄槽10と、この洗浄槽
10の底面に接続して外部から純水などの洗浄液を供給
する供給ライン14と、この供給ライン14の途中に配
設して純水などの洗浄液の流量を調節する調節バルブ1
2とを備えている。ここで、調節バルブ12は、電気的
にオン・オフすることにより供給ライン14を開閉する
開閉部12aと、この開閉部12aを通過するように設
けたバイパス12bとを備えている。従って、調節バル
ブ12は、従来の洗浄装置と異なり、開閉部12aから
の供給流量と、バイパス12bからの供給流量とにより
時間経過に伴って洗浄液の流量を2段階に調節すること
ができる。
【0011】このように構成された多段階流量式洗浄装
置を使用する場合、まず、所定の工程から被洗浄物を洗
浄用カセット(図示せず)に複数枚収納し、この洗浄用
カセット(図示せず)を洗浄槽10内に搬送する。洗浄
用カセット(図示せず)を洗浄槽10内に搬送すると、
純水などの洗浄液を供給ライン14から洗浄槽10内に
流出させる。このとき、調節バルブ12の開閉部12a
は、閉めた状態に維持することで供給ライン14に供給
された洗浄液がバイパス12bを介して洗浄槽10内に
流出する。この洗浄槽10内に流出した洗浄液は、洗浄
用カセット(図示せず)の下部から上部に流入して収納
された被洗浄物の表面を液流により洗浄する。また、調
節バルブ12は、バイパス12bから供給する洗浄液に
より被洗浄物を一定の時間洗浄した後、開閉部12aを
開いてバイパス12bに加えて開閉部12aからも洗浄
液を供給する。
【0012】このように第1の実施の形態では、図2に
示すように、最初の1段階にバルブ12を閉めた状態で
バイパス12bから低流量で流出する洗浄液の液流によ
り被洗浄物を洗浄する。次に、1段階で被洗浄物の洗浄
を一定時間実行した後、2段階として調節バルブ12の
開閉部12aを開いて、バイパス12bおよび開閉部1
2aから同時に洗浄液を供給して高流量で被洗浄物の洗
浄を実行する。このように洗浄槽10内に供給した洗浄
液は、この洗浄槽10内に収納した被洗浄物を2段階に
変化する洗浄液の液流により洗浄する。このように第1
の実施の形態によると、被洗浄物を洗浄する際に、時間
経過に伴って2段階の純水流量で洗浄処理するため、被
洗浄物の表面に付着した異物を効果的に除去でき、洗浄
時間の短縮および洗浄液の削減を実現できる。
【0013】次に、図3および図4を参照して本発明に
よる多段階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置
の第2の実施の形態を詳細に説明する。図3は、本発明
による多段階流量式洗浄装置の第2の実施の形態の構造
を示す配管図である。また、図4は、図3に示した多段
階流量式洗浄装置が洗浄中に供給する洗浄液の流量変化
を示すグラフである。ここで、第2の実施の形態は、第
1の実施の形態での調節バルブ12を複数装着したもの
であり、同一構成要素には同一符号を記載するととも
に、重複する説明は省略する。
【0014】図3に示すように、本発明による多段階流
量式洗浄装置の第2の実施の形態は、被洗浄物を収納す
る洗浄槽10と、純水などの洗浄液を供給する供給ライ
ン14と、この供給ライン14に直列に配設された複数
の調節バルブ12−1、12−2およびバルブ16とを
備えている。また、バルブ16は、電気的にオン・オフ
することにより供給ラインを開閉するように設けてあ
る。さらに、調節バルブ12−1、12−2は、電気的
にオン・オフすることにより供給ライン14を開閉する
開閉部12aと、この開閉部12aを通過するように設
けたバイパス12bとを備えている。従って、第2の実
施の形態は、調節バルブ12−1、12−2およびバル
ブ16により時間経過に伴って洗浄液の流量を複数段階
に変化させることができる。
【0015】このように構成された多段階流量式洗浄装
置を使用する場合、まず、所定の工程から被洗浄物を洗
浄用カセット(図示せず)に複数枚収納し、この洗浄用
カセット(図示せず)を洗浄槽10内に搬送する。被洗
浄物を収納した洗浄用カセット(図示せず)を洗浄槽1
0内に搬送すると、純水などの洗浄液を供給ライン14
から洗浄槽10内に流出させる。このとき、調節バルブ
12−1、12−2は、開閉部12a−1、12a−2
を閉めた状態に維持する。ここで、バルブ16を開ける
ことにより、調節バルブ12−1、12−2のバイパス
12b−1、12b−2を介して洗浄槽10内に洗浄液
が供給されて被洗浄物を洗浄する。
【0016】また、このような状態で一定の時間洗浄を
行った後には、調節バルブ12−2の開閉部12a−2
を閉めた状態から開けた状態にする。これにより洗浄槽
10には、調節バルブ12−1のバイパス12b−1を
介して、バイパス12b−2、および開閉部12a−2
から高流量の洗浄液が流出することで被洗浄物の表面を
洗浄する。さらに、このような高流量で一定の時間洗浄
を行った後、調節バルブ12−1の開閉部12a−1を
閉めた状態から開けた状態にする。これにより、洗浄槽
10には、調節バルブ12−1、12−2から更に高流
量の洗浄液が供給されて被洗浄物の表面を洗浄する。
【0017】このように第2の実施の形態では、図4に
示すように、最初の1段階にバルブ16を開いて流出す
る洗浄液により被洗浄物を洗浄する。また、1段階によ
る被洗浄物の洗浄を一定時間実行した後、2段階として
調節バルブ12−2の開閉部12a−2を開いて、被洗
浄物の洗浄を実行する。さらに、2段階による被洗浄物
の洗浄を一定時間実行した後、3段階として調節バルブ
12−1の開閉部12a−1を開いて、被洗浄物の洗浄
を実行する。このように洗浄槽10内に供給した洗浄液
は、3段階に変化する洗浄液の液流により、洗浄槽10
内に収納した被洗浄物を洗浄することができる。
【0018】このように第2の実施の形態によると、被
洗浄物を洗浄する際に、時間経過に伴って3段階の純水
流量で洗浄処理するため、被洗浄物の表面に付着した異
物を効果的に除去でき、洗浄時間の短縮および洗浄液の
削減を実現できる。また第2の実施の形態は、第1の実
施の形態に比べてより効果的な洗浄を実行することがで
きる。
【0019】次に、図5および図6を参照して本発明に
よる多段階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置
の第3の実施の形態を詳細に説明する。図5は、本発明
による多段階流量式洗浄装置の第3の実施の形態の構造
を示す配管図である。また、図6は、図5に示した多段
階流量式洗浄装置が洗浄中に供給する洗浄液の流量変化
を示すグラフである。ここで、第3の実施の形態は、第
1の実施の形態での調節バルブ12以外は同じ構成要素
であり、同一構成要素には同一符号を記載するととも
に、重複する説明は省略する。
【0020】図5に示すように、本発明による多段階流
量式洗浄装置の第3の実施の形態は、被洗浄物を収納す
る洗浄槽10と、この洗浄槽10の底部から並列に2つ
分岐して純水などの洗浄液を各々供給する供給ライン1
4−1、14−2と、この並列に配列する供給ライン1
4−1、14−2に各々配設されたバルブ16−1、1
6−2とを備えている。また、バルブ16−1、16−
2は、電気的にオン・オフすることにより供給ラインを
開閉するように設けてある。また、バルブ16−2は、
バルブ16−1に比べて洗浄液の流量を多く供給できる
ように設けてある。従って、第3の実施の形態は、バル
ブ16−1からの供給流量と、バルブ16−2からの供
給流量と、この両方のバルブ16−1、16−2から同
時に供給する供給流量とにより、時間経過に伴って洗浄
液の流量を3段階に変化させることができる。
【0021】このように構成された本発明による多段階
流量式洗浄装置を使用する場合、まず、所定の工程から
被洗浄物を洗浄用カセット(図示せず)に複数枚収納
し、この洗浄用カセット(図示せず)を洗浄槽10内に
搬送する。洗浄用カセット(図示せず)を洗浄槽10内
に搬送すると、純水などの洗浄液を洗浄槽10内に流出
させる。このとき、バルブ16−2は、閉めた状態に維
持する。また、バルブ16−1は、閉めた状態から徐々
に開いた状態にする。これにより、バルブ16−1を介
して洗浄槽10内に洗浄液が供給されて被洗浄物を洗浄
する。
【0022】また、このような状態で一定の時間洗浄を
行った後には、バルブ16−1を閉じると同時に、バル
ブ16−2を閉めた状態から開けた状態にする。これに
より洗浄槽10には、バルブ16−2を介して洗浄液が
供給されて被洗浄物を洗浄する。さらに、このような状
態で一定の時間洗浄を行った後、バルブ16−1、16
−2を同時に開いた状態にする。これにより、洗浄槽1
0には、バルブ16−1、16−2から高流量の洗浄液
が供給されて被洗浄物を洗浄する。
【0023】このように第3の実施の形態では、図6に
示すように、最初の1段階にバルブ16−1を開くこと
により被洗浄物を洗浄する。また、1段階による被洗浄
物の洗浄を一定時間実行した後、2段階としてバルブ1
6−1を閉めてバルブ16−2を開くことにより被洗浄
物の洗浄を実行する。さらに、2段階による被洗浄物の
洗浄を一定時間実行した後、3段階としてバルブ16−
1、16−2を同時に開いて被洗浄物の洗浄を実行す
る。このように洗浄槽10内に供給した洗浄液は、この
洗浄槽10内に収納した被洗浄物を3段階に変化する洗
浄液の液流により洗浄することができる。
【0024】このような構成による第3の実施の形態に
よると、被洗浄物を洗浄する際に、時間経過に伴って洗
浄液の流量を3段階に変化させて洗浄処理するため、被
洗浄物の表面に付着した異物を効果的に除去でき、洗浄
時間の短縮および洗浄液の削減を実現できる。また第3
の実施の形態は、第2の実施の形態と同じ効果を得るこ
とができる。
【0025】次に、図7および図8を参照して本発明に
よる多段階流量式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置
の第4の実施の形態を詳細に説明する。図7は、本発明
による多段階流量式洗浄装置の第4の実施の形態の構造
を示す配管図である。また、図8は、図7に示した多段
階流量式洗浄装置が洗浄中に供給する洗浄液の流量変化
を示すグラフである。ここで、第4の実施の形態は、第
1の実施の形態での調節バルブ12以外は同じ構成要素
であり、同一構成要素には同一符号を記載するととも
に、重複する説明は省略する。
【0026】図7に示すように、本発明による多段階流
量式洗浄装置の第4の実施の形態は、被洗浄物を収納す
る洗浄槽10と、この洗浄槽10の底部から純水などの
洗浄液を供給する供給ライン14と、この供給ライン1
4に配設されたバルブ16と、このバルブ16から供給
された洗浄液を流量調整するレギュレータ18とを備え
ている。また、バルブ16は、電気的にオン・オフする
ことにより供給ラインを開閉するように設けてある。ま
た、レギュレータ18は、バルブ16から供給される洗
浄液を電圧またはエアー駆動圧により流量調整するよう
に設けてある。従って、第4の実施の形態は、バルブ1
6からの供給流量をレギュレータ18が時間経過に伴っ
て連続的に変化させることができる。
【0027】このように構成された本発明による多段階
流量式洗浄装置を使用する場合、まず、所定の工程から
被洗浄物を洗浄用カセット(図示せず)に複数枚収納
し、この洗浄用カセット(図示せず)を洗浄槽10内に
搬送する。被洗浄物を収納した洗浄用カセット(図示せ
ず)を洗浄槽10内に搬送すると、純水などの洗浄液を
洗浄槽10内に流出させる。このとき、バルブ16を開
けた状態にするとともに、レギュレータ18を駆動さ
せ、洗浄槽10内に連続的に洗浄液の流量を変化させて
供給する。これにより、レギュレータ18を介し、洗浄
槽10内に洗浄液が供給されて被洗浄物が洗浄される。
【0028】このように第4の実施の形態では、図8に
示すように、バルブ16を開くことでレギュレータ18
が洗浄液の流量を連続増加させる。また、レギュレータ
18は、所定の時間が経過すると、洗浄液の流量を一定
の流量で供給する。このように被洗浄物は、レギュレー
タ18が洗浄槽10内に供給する洗浄液により、最初は
連続的に増加する洗浄液の液流により洗浄され、所定の
時間が経過すると一定の流量で洗浄される。
【0029】このような構成による第4の実施の形態に
よると、被洗浄物を洗浄する際に、時間経過に伴って連
続増加する純水流量で洗浄処理するため、被洗浄物の表
面に付着した汚染物質を効果的に除去することができ、
洗浄時間の短縮および洗浄液の削減を実現できる。この
ように、本発明による多段階流量式洗浄方法および多段
階流量式洗浄装置の実施の形態を説明したが更に実施例
により詳細に説明する。
【0030】実施例 図9は、図11に示した従来の洗浄装置により洗浄実験
を行った異物の増加数を示すグラフである。また、図1
0は図1に示した本発明による多段階流量式洗浄装置に
より洗浄実験を行った異物の増加数を示すグラフであ
る。図9に示すように、従来の洗浄装置においての洗浄
実験は、被洗浄物を10L/minおよび30L/mi
nの純水流量で各々10min、15min、および2
0minの処理時間で洗浄実験を行った。
【0031】また、図10に示すように、本発明による
多段階流量式洗浄装置は、従来の洗浄装置と比較するた
めに、被洗浄物を10L/minの低流量で1minお
よび30L/minの高流量で10minの合計11m
inの洗浄と、10L/minの低流量で3minおよ
び30L/minの高流量で10minの合計13mi
nの洗浄と、10L/minの低流量で10minおよ
び30L/minの高流量で10minの合計20mi
nの洗浄とによる各々3種類の洗浄実験を行った。
【0032】ここで、被洗浄物は、ベアのシリコン基板
を酸化シリコン膜に覆われたシリコン基板で挟んでフッ
素酸により処理された基板を使用する。また、図9およ
び図10に示した異物増加数は、薬液処理前および洗浄
処理後に被洗浄物の表面に付着した異物数を測定し、こ
の洗浄処理後の異物数から薬液処理前の異物数を引いた
数を示している。また、図9および図10に示したグラ
フでは、0.13〜0.3μmの大きさの異物をハッチ
ングした棒グラフで、0.3μm以上の大きさの異物を
白地の棒グラフで各々示している。
【0033】図9に示したように、従来の洗浄装置は、
純水流量が10L/min、30L/minのどちらと
も処理時間が延長されることで異物増加が減少する傾向
にあるが、20min間、洗浄処理を実行しても、常時
約200個〜1000個の異物が常に残存してしまうこ
とが分かる。一方、図10に示した本発明による多段階
流量式洗浄装置は、低流量で3minおよび高流量で1
0minの計13minの洗浄処理を行うことで、従来
の洗浄装置と比べて約200個以下に異物増加を抑制し
ていることが分かる。従って、本発明による多段階流量
式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置を用いることに
より、異物の増加を低減させ、且つ洗浄時間の短縮、お
よび洗浄における洗浄液の使用量を効果的に削減するこ
とが可能である。
【0034】以上、本発明によってなされた多段階流量
式洗浄方法および多段階流量式洗浄装置の実施の形態を
詳細に説明したが、本発明は前述の実施の形態に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更可
能である。例えば、本実施の形態で説明した調節バルブ
12の数は、本実施の形態で説明した数に限定されるも
のではなく、必要に応じて増やしてもよい。
【0035】
【発明の効果】このように、本発明による多段階流量式
洗浄方法および多段階流量式洗浄装置によれば、洗浄処
理中に供給する純水流量を断続的または連続的のいずれ
かに変化させることで異物増加を低減し、且つ効率的な
洗浄処理を実行することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による多段階流量式洗浄装置の第1の実
施の形態の構造を示す配管図。
【図2】図1に示した多段階流量式洗浄装置が洗浄中に
供給する洗浄液の流量変化を示すグラフ。
【図3】本発明による多段階流量式洗浄装置の第2の実
施の形態の構造を示す配管図。
【図4】図3に示した多段階流量式洗浄装置が洗浄中に
供給する洗浄液の流量変化を示すグラフ。
【図5】本発明による多段階流量式洗浄装置の第3の実
施の形態の構造を示す配管図。
【図6】図5に示した多段階流量式洗浄装置が洗浄中に
供給する洗浄液の流量変化を示すグラフ。
【図7】本発明による多段階流量式洗浄装置の第4の実
施の形態の構造を示す配管図。
【図8】図7に示した多段階流量式洗浄装置が洗浄中に
供給する洗浄液の流量変化を示すグラフ。
【図9】図11に示した従来の洗浄装置により洗浄実験
を行った異物の増加数を示すグラフ。
【図10】図1に示した本発明による多段階流量式洗浄
装置により洗浄実験を行った異物の増加数を示すグラ
フ。
【図11】従来の洗浄装置の構造を示す配管図。
【図12】図11に示した従来の洗浄装置が洗浄中に供
給する洗浄液の流量変化を示すグラフ。
【符号の説明】
10 洗浄槽 12 調節バルブ 12a 開閉部 12b バイパス 14 供給ライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿部 裕介 静岡県島田市阿知ケ谷25番地 島田理化 工業株式会社島田製作所内 (72)発明者 大石 哲士 静岡県島田市阿知ケ谷25番地 島田理化 工業株式会社島田製作所内 (72)発明者 大森 雅司 静岡県島田市阿知ケ谷25番地 島田理化 工業株式会社島田製作所内 (72)発明者 田中 博司 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三菱電機株式会社内 (56)参考文献 特開 平7−201800(JP,A) 特開 昭62−181435(JP,A) 特開 平10−189521(JP,A) 特開 平5−291228(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B08B 3/04 - 3/10 H01L 21/304 341

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被洗浄物を洗浄槽に収納し、この洗浄槽
    に洗浄液を供給することで前記洗浄液の液流により前記
    被洗浄物を洗浄する洗浄方法において、 前記洗浄槽に供給する洗浄液の流量を洗浄中に調節し、
    前記洗浄槽に洗浄液の液流を段階的または連続的のいず
    れかにより低流量から高流量に変化させて供給すること
    で、この変化する洗浄液の液流により前記被洗浄物を洗
    浄することを特徴とする多段階流量式洗浄方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の多段階流量式洗浄方法
    において、 前記洗浄液の供給流量は、少なくとも前記洗浄槽に供給
    する洗浄液により前記被洗浄物が完全に浸漬するまでの
    間、低流量で供給することを特徴とする多段階流量式洗
    浄方法。
  3. 【請求項3】 被洗浄物を洗浄槽に収納し、この洗浄槽
    に供給ラインを設けて洗浄液を供給することで前記洗浄
    液の液流により前記被洗浄物を洗浄する洗浄装置におい
    て、 前記洗浄槽に洗浄液を供給する前記供給ラインと、 前記供給ライン上に電圧またはエアー駆動圧により流量
    調整するレギュレータを配設し、前記洗浄槽に供給する
    洗浄液の流量を連続的に増加させる流量調節手段とを備
    え、 前記流量調節手段により前記洗浄槽に供給する洗浄液の
    流量を連続的に増加させて前記洗浄槽内に洗浄液の液流
    を変化させて供給することで、この変化する洗浄液の液
    流により前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする多段
    階流量式洗浄装置。
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