JPS62188324A - 水洗装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造工程における水洗装置に関す
る。

〔従来の技術〕

半導体装置の製造工程においては、半導体基板（以後、
ウェハーと呼ぶ）又はその表面に形成した各種の薄膜を
湿式化学処理し、その後水洗を行う工程がある。その水
洗を行うための従来の装置の一例を第２図により説明す
る。

第２図において、流量指示シリンダー４を利用して流量
調整バルブ５の操作により、あらかじめ適正な流量を設
定しておく。湿式化学処理を行ったウェハー１をウェハ
ーホルダー２とともに水洗槽３に入れ、適正時間だけ水
洗を行う。８は水洗槽３の上縁からオーバーフロする洗
浄水９を集めてこれを排水する外槽である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述した従来の水洗装置は、一定流量の水が出るように
なっている。薬液処理後、反応をできるだけ早く止めた
い場合に、水の流量を大きく設定する必要があるが、こ
の場合、水洗を放置しておくと、多量の水を消費してし
まうという欠点があった。又、途中で流量を低下させた
い場合は人手がその都度かかるという欠点があった。

本発明の目的は上記の欠点を除去し、水洗効果が良く、
水の消費量を少なくし、人手がかからない装置を提供す
ることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は水槽に洗浄水を注入するとともに、該水槽の上
縁より洗浄水をオーバーフロさせつつ、槽内で洗浄を行
う水洗装置において、水槽への洗浄水供給路を複数に分
岐し、該分岐供給路の各々に流量指示シリンダー、流量
調整バルブ、開閉弁の組をそれぞれ設置し、さらに前記
開閉弁の各々を開閉制御する制御部を装備したことを特
徴とする水洗装置である。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図により説明する。

第１図において、本実施例は水槽３への洗浄水供給路を
２本に分岐し、該分岐供給路Ｌ１．Ｌ、の各々に流量指
示シリンダー４Ａ、４Ｂ、流量調整バルブ５Ａ、５Ｂ　
、電磁弁（開閉弁）　６Ａ、６Ｂの組をそれぞれ設置し
、かつ各電磁弁６Ａ　、　６Ｂの開閉操作用制御部７を
有するものである。制御部７は開始指示により第一段階
でＡ秒間、電磁弁６Ａと電磁弁６Ｂを開としＡ秒後、電
磁弁６Ａを開のままで電磁弁６Ｂを閉とする指令機能を
有する。

実施例において、流量調整バルブ５Ａを用いて流量指示
シリンダー４Ａを５００リットル／時とし、流量調整バ
ルブ５Ｂを用いて流量指示シリンダー４Ｂを１５００リ
ットル／時とし、第一段階を２０秒とする条件設定を行
う。

湿式化学処理を行ったウェハー１が立てであるホルダー
２を本装置に入れ制御部７により水洗開始にすると、電
磁弁６Ａ　、　６Ｂが開となり２０秒間２０００リツト
ル／時の高流量の水が流れる。２０秒後、電磁弁６Ｂが
閉となり、５００リットル／時の低流量の水が流れる。

このように、始めの２０秒間だけ自動的に高流量の水が
流れるために、水洗効率は高く、水の総消費量は比較的
少ない。又１人手もかからない。

上記の実施例においては２段階の場合について述べたが
、３段階以上に条件設定をし、また連続変化で水量調整
を行えばさらに良い結果も得られる。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように、本発明によれば水洗効率の
高く、水の消費量が少なく、人手のかからない洗浄を行
うことができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第２図は従
来の水洗装置の一例を説明するための図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）水槽に洗浄水を注入するとともに、該水槽の上縁
   より洗浄水をオーバーフロさせつつ、槽内で洗浄を行う
   水洗装置において、水槽への洗浄水供給路を複数に分岐
   し、該分岐供給路の各々に流量指示シリンダー、流量調
   整バルブ、開閉弁の組をそれぞれ設置し、さらに前記開
   閉弁の各々を開閉制御する制御部を装備したことを特徴
   とする水洗装置。