JP2005019720A - インライン式現像処理装置および現像処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】搬送ラインの長さを長くすることなく、しかも現像ムラの生じにくいインライン式現像処理装置を提供する。
【解決手段】露光済みのレジスト膜が表面に形成された基板Ｗは、現像液供給部２において表面に現像液が供給され、搬送されつつ現像反応が進行し、次いで、現像液回収部４において現像液が回収され、更にリンス液供給・回収部６において洗浄と洗浄液の回収が行われ、最終的に乾燥部８に送られる。この一連の現像処理の過程において、下流側の処理部に基板が入っている場合には、当該処理部の直前の待機部、例えば処理部が現像液回収部４の場合には、その直前の待機部３において、コロ１０ａに正逆回転を繰り返させ、基板Ｗを図２に示すように往復動せしめる。その結果、基板Ｗの裏面ではコロ１０ａと接触する部分が常に移動し一箇所に止まることがなく、基板の温度分布が均一になる。
【選択図】 図１
【解決手段】露光済みのレジスト膜が表面に形成された基板Ｗは、現像液供給部２において表面に現像液が供給され、搬送されつつ現像反応が進行し、次いで、現像液回収部４において現像液が回収され、更にリンス液供給・回収部６において洗浄と洗浄液の回収が行われ、最終的に乾燥部８に送られる。この一連の現像処理の過程において、下流側の処理部に基板が入っている場合には、当該処理部の直前の待機部、例えば処理部が現像液回収部４の場合には、その直前の待機部３において、コロ１０ａに正逆回転を繰り返させ、基板Ｗを図２に示すように往復動せしめる。その結果、基板Ｗの裏面ではコロ１０ａと接触する部分が常に移動し一箇所に止まることがなく、基板の温度分布が均一になる。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板などの基板に対し、現像液の供給、現像液の回収、リンスなどの工程を連続的に行うインライン式現像処理装置とその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶基板などとして用いるガラス基板に所定パターンのレジスト膜を形成するには、ガラス基板表面に形成されたレジスト膜に所定パターンの露光を施し、現像により所定パターンのレジスト膜のみを残す（或いは除去する）ようにしている。
【０００３】
上記の現像処理を行うには、先ず露光後のレジスト膜表面に現像液を供給して盛り付け、所定時間かけて現像反応を進め、これが終了したならば現像液を回収或いは廃棄し、更にリンス工程を経た後に乾燥せしめる。そして、上記の現像工程をコロによって基板を搬送しつつ行うインライン式の現像方法が知られている（特許文献１）。
また、ガラス基板の表面と裏面の前後左右に間隔を開けて温調空気を噴出するノズルを配置することがも案されている（特許文献２）。
【０００４】
【特許文献】
特許文献１：特開平１１−２０４４１１号公報 段落０００２
特許文献２：特開２００２−７２４９２号公報 段落０００２〜０００６
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記した現像処理において、現像液の供給に要する時間、現像反応に要する時間、現像液の回収に要する時間、リンスに要する時間などは個々に異なり、インライン式現像装置によって現像する場合には、最も時間が長くかかる工程に他の工程を合わせる必要がある。このため搬送ラインの所定箇所で一旦基板を停止してタクト時間を合わせるようにしている。
【０００６】
基板を停止している間はコロは回転しない。そのため、基板裏面の決まった箇所にコロが接触し、他の箇所には接触していない状態が所定時間継続する。コロの表面温度が雰囲気温度と異なっていると、コロと接触している部分と接触していない部分とで基板表面に温度差が生じ、これによって現像液の揮発速度が部分的に変わり、その影響で表面のレジスト現像化学処理速度に差ができ、現像ムラとなる。
【０００７】
特に、搬送コロとして軸方向長さが基板の幅よりも短いコロを千鳥状に配置した搬送ラインが用いられることがあるが、この場合にはコロが接触している部分としていない部分の温度差によって基板の裏面に水滴が発生し、現像ムラが顕著となる。
【０００８】
また、特許文献２に提案される方法では、パーティクルを巻き上げ、これが基板表面に付着するという新たな問題が発生する。特にガラス基板が大型化しつつある現在、ムラの発生は大きな問題となっている。
また仮に、コロの温度と雰囲気温度とが等しい場合でも、伝熱係数が空気とコロとでは異なるのでやはり現像ムラが発生する。
更に、基板を止めないようにすれば、コロが基板の特定箇所に所定時間接触することによる問題は解消するが、その分だけラインを長くしなければならず、装置が大掛かりになってしまう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係るインライン式現像処理装置は、多数のコロからなる搬送ラインの途中に基板表面に現像液を盛り付ける現像液供給部が設けられ、この現像液供給部よりも搬送ラインに沿って下流側に、現像液の回収、リンス或いは乾燥などの次工程処理部を配置し、前記現像液供給部と次工程処理部との間に待機部を設け、この待機部を構成するコロを正逆回転可能とした。
前記コロとしては軸方向において連続的に基板裏面に接触すべく軸方向において同一径としたものが好ましい。
【００１０】
上記構成とすることで、本発明に係るインライン式現像処理方法のように、各工程における処理時間がまちまちであっても、基板を停止させることなく、つまり常にコロと基板裏面との接触位置を変えながら現像することが可能になる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１（ａ）および（ｂ）はそれぞれ本発明に係るインライン式現像装置の平面図と側面図、図２は待機部の拡大側面図、図３（ａ）および（ｂ）は本発明の別実施例の平面図と側面図である。
【００１２】
インライン式現像装置は基板の搬送ライン１に沿って、上流側から順に、現像液供給部２、待機部３、現像液回収部４、待機部５、リンス液供給・回収部６、待機部７及び乾燥部８が配置され、搬送ライン１を構成する多数のコロ（円筒状ローラ）１０は等間隔に離され且つ基板の搬送方向と直交する方向に軸が配置されている。
尚、図示例では現像液回収部４、リンス液供給・回収部６及び乾燥部８のそれぞれの直前に待機部を設けたが、すべての工程の直前に待機部を配置せずに、いずれか１つの工程の直前に待機部を設けてもよい。
【００１３】
前記現像液供給部２には現像液供給用スリットノズル２１が一対配置され、現像液回収部４には現像液を吸引回収するスリットノズル４１が配置され、リンス液供給・回収部６にはリンス液供給ノズル６１と回収ノズル６２が配置されている。尚、現像液回収用のスリットノズル４１を設ける代わりに、基板を傾斜若しくは湾曲させて表面に盛られた現像液を落下させる機構とすることもできる。
【００１４】
コロ１０は基板Ｗの幅よりも若干長く設定され、軸方向に沿った全ての箇所において同一径とされた連続型コロであり、ガラス基板Ｗの裏面に全面的に接触する。そして、コロのうち待機部３，５，７に配置されるコロ１０ａは正逆回転可能とされている。
【００１５】
以上において、露光済みのレジスト膜が表面に形成された基板Ｗは、現像液供給部２においてレジスト膜表面に現像液が供給され、搬送されつつ現像化学反応が進行し、次いで、現像液回収部４において現像液が回収され、更にリンス液供給・回収部６において洗浄と洗浄液の回収が行われ、最終的に乾燥部８に送られる。
【００１６】
この一連の現像処理の過程において、下流側の処理部に基板が入っている場合には、当該処理部の直前の待機部、例えば処理部が現像液回収部４の場合には、その直前の待機部３において、コロ１０ａに正逆回転を繰り返させ、基板Ｗを図２に示すように往復動せしめる。その結果、基板Ｗの裏面ではコロ１０ａと接触する部分が常に移動し一箇所に止まることがなく、基板の温度分布が均一になる。
基板の温度分布が均一になると、現像処理も均一に行われる。
【００１７】
図３に示す別実施例にあっては、現像時間の長短によって現像開始位置を変えるために現像液供給部を複数並べている。例えば現像時間が１２０秒必要な場合は現像供給部２で現像液を盛り、そのまま現像液供給部２’を素通りして現像液回収部４に到達する。また、現像時間が６０秒必要な場合は現像液供給部２を素通りして現像液供給部２’で現像液を盛り付けるようにする。現像処理が終了した時点で現像むらが生じる心配はなくなるので、別実施例では待機部を新たに設置することはせずに、現像液回収部４のコロ１０ａを正逆回転させることで待機部を兼ねるようにした。このような構成にすると処理装置全体も大きくならずに済む。
【００１８】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明に係るインライン式現像装置によれば、常にコロを回転させて基板裏面とコロとの接触位置が変化するので、基板裏面の温度分布が均一となり、現像ムラや線幅の変化のない高精度の現像処理を行うことができる。
また、待機部においてコロを正逆回転可能、即ち、基板を停止させずに往復動させるため、ライン全体の長さを延長することなくコンパクトで効率のよいインライン式現像装置となる。
さらに、現像液回収部と待機部を兼用すれば、一層装置のコンパクト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明に係る現像装置の全体平面図、（ｂ）は側面図
【図２】待機部の拡大側面図
【図３】（ａ）は本発明に係る現像装置の別実施例の全体平面図、（ｂ）は同別実施例の側面図
【符号の説明】
１…搬送ライン、２…現像液供給部、３，５，７…待機部、４…現像液回収部、５…待機部、６…リンス液供給・回収部、８…乾燥部、１０，１０ａ…コロ、Ｗ…基板。
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板などの基板に対し、現像液の供給、現像液の回収、リンスなどの工程を連続的に行うインライン式現像処理装置とその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶基板などとして用いるガラス基板に所定パターンのレジスト膜を形成するには、ガラス基板表面に形成されたレジスト膜に所定パターンの露光を施し、現像により所定パターンのレジスト膜のみを残す（或いは除去する）ようにしている。
【０００３】
上記の現像処理を行うには、先ず露光後のレジスト膜表面に現像液を供給して盛り付け、所定時間かけて現像反応を進め、これが終了したならば現像液を回収或いは廃棄し、更にリンス工程を経た後に乾燥せしめる。そして、上記の現像工程をコロによって基板を搬送しつつ行うインライン式の現像方法が知られている（特許文献１）。
また、ガラス基板の表面と裏面の前後左右に間隔を開けて温調空気を噴出するノズルを配置することがも案されている（特許文献２）。
【０００４】
【特許文献】
特許文献１：特開平１１−２０４４１１号公報 段落０００２
特許文献２：特開２００２−７２４９２号公報 段落０００２〜０００６
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記した現像処理において、現像液の供給に要する時間、現像反応に要する時間、現像液の回収に要する時間、リンスに要する時間などは個々に異なり、インライン式現像装置によって現像する場合には、最も時間が長くかかる工程に他の工程を合わせる必要がある。このため搬送ラインの所定箇所で一旦基板を停止してタクト時間を合わせるようにしている。
【０００６】
基板を停止している間はコロは回転しない。そのため、基板裏面の決まった箇所にコロが接触し、他の箇所には接触していない状態が所定時間継続する。コロの表面温度が雰囲気温度と異なっていると、コロと接触している部分と接触していない部分とで基板表面に温度差が生じ、これによって現像液の揮発速度が部分的に変わり、その影響で表面のレジスト現像化学処理速度に差ができ、現像ムラとなる。
【０００７】
特に、搬送コロとして軸方向長さが基板の幅よりも短いコロを千鳥状に配置した搬送ラインが用いられることがあるが、この場合にはコロが接触している部分としていない部分の温度差によって基板の裏面に水滴が発生し、現像ムラが顕著となる。
【０００８】
また、特許文献２に提案される方法では、パーティクルを巻き上げ、これが基板表面に付着するという新たな問題が発生する。特にガラス基板が大型化しつつある現在、ムラの発生は大きな問題となっている。
また仮に、コロの温度と雰囲気温度とが等しい場合でも、伝熱係数が空気とコロとでは異なるのでやはり現像ムラが発生する。
更に、基板を止めないようにすれば、コロが基板の特定箇所に所定時間接触することによる問題は解消するが、その分だけラインを長くしなければならず、装置が大掛かりになってしまう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係るインライン式現像処理装置は、多数のコロからなる搬送ラインの途中に基板表面に現像液を盛り付ける現像液供給部が設けられ、この現像液供給部よりも搬送ラインに沿って下流側に、現像液の回収、リンス或いは乾燥などの次工程処理部を配置し、前記現像液供給部と次工程処理部との間に待機部を設け、この待機部を構成するコロを正逆回転可能とした。
前記コロとしては軸方向において連続的に基板裏面に接触すべく軸方向において同一径としたものが好ましい。
【００１０】
上記構成とすることで、本発明に係るインライン式現像処理方法のように、各工程における処理時間がまちまちであっても、基板を停止させることなく、つまり常にコロと基板裏面との接触位置を変えながら現像することが可能になる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１（ａ）および（ｂ）はそれぞれ本発明に係るインライン式現像装置の平面図と側面図、図２は待機部の拡大側面図、図３（ａ）および（ｂ）は本発明の別実施例の平面図と側面図である。
【００１２】
インライン式現像装置は基板の搬送ライン１に沿って、上流側から順に、現像液供給部２、待機部３、現像液回収部４、待機部５、リンス液供給・回収部６、待機部７及び乾燥部８が配置され、搬送ライン１を構成する多数のコロ（円筒状ローラ）１０は等間隔に離され且つ基板の搬送方向と直交する方向に軸が配置されている。
尚、図示例では現像液回収部４、リンス液供給・回収部６及び乾燥部８のそれぞれの直前に待機部を設けたが、すべての工程の直前に待機部を配置せずに、いずれか１つの工程の直前に待機部を設けてもよい。
【００１３】
前記現像液供給部２には現像液供給用スリットノズル２１が一対配置され、現像液回収部４には現像液を吸引回収するスリットノズル４１が配置され、リンス液供給・回収部６にはリンス液供給ノズル６１と回収ノズル６２が配置されている。尚、現像液回収用のスリットノズル４１を設ける代わりに、基板を傾斜若しくは湾曲させて表面に盛られた現像液を落下させる機構とすることもできる。
【００１４】
コロ１０は基板Ｗの幅よりも若干長く設定され、軸方向に沿った全ての箇所において同一径とされた連続型コロであり、ガラス基板Ｗの裏面に全面的に接触する。そして、コロのうち待機部３，５，７に配置されるコロ１０ａは正逆回転可能とされている。
【００１５】
以上において、露光済みのレジスト膜が表面に形成された基板Ｗは、現像液供給部２においてレジスト膜表面に現像液が供給され、搬送されつつ現像化学反応が進行し、次いで、現像液回収部４において現像液が回収され、更にリンス液供給・回収部６において洗浄と洗浄液の回収が行われ、最終的に乾燥部８に送られる。
【００１６】
この一連の現像処理の過程において、下流側の処理部に基板が入っている場合には、当該処理部の直前の待機部、例えば処理部が現像液回収部４の場合には、その直前の待機部３において、コロ１０ａに正逆回転を繰り返させ、基板Ｗを図２に示すように往復動せしめる。その結果、基板Ｗの裏面ではコロ１０ａと接触する部分が常に移動し一箇所に止まることがなく、基板の温度分布が均一になる。
基板の温度分布が均一になると、現像処理も均一に行われる。
【００１７】
図３に示す別実施例にあっては、現像時間の長短によって現像開始位置を変えるために現像液供給部を複数並べている。例えば現像時間が１２０秒必要な場合は現像供給部２で現像液を盛り、そのまま現像液供給部２’を素通りして現像液回収部４に到達する。また、現像時間が６０秒必要な場合は現像液供給部２を素通りして現像液供給部２’で現像液を盛り付けるようにする。現像処理が終了した時点で現像むらが生じる心配はなくなるので、別実施例では待機部を新たに設置することはせずに、現像液回収部４のコロ１０ａを正逆回転させることで待機部を兼ねるようにした。このような構成にすると処理装置全体も大きくならずに済む。
【００１８】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明に係るインライン式現像装置によれば、常にコロを回転させて基板裏面とコロとの接触位置が変化するので、基板裏面の温度分布が均一となり、現像ムラや線幅の変化のない高精度の現像処理を行うことができる。
また、待機部においてコロを正逆回転可能、即ち、基板を停止させずに往復動させるため、ライン全体の長さを延長することなくコンパクトで効率のよいインライン式現像装置となる。
さらに、現像液回収部と待機部を兼用すれば、一層装置のコンパクト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明に係る現像装置の全体平面図、（ｂ）は側面図
【図２】待機部の拡大側面図
【図３】（ａ）は本発明に係る現像装置の別実施例の全体平面図、（ｂ）は同別実施例の側面図
【符号の説明】
１…搬送ライン、２…現像液供給部、３，５，７…待機部、４…現像液回収部、５…待機部、６…リンス液供給・回収部、８…乾燥部、１０，１０ａ…コロ、Ｗ…基板。
Claims (4)
- 多数のコロからなる搬送ラインの途中に基板表面に現像液を盛り付ける現像液供給部が設けられ、この現像液供給部よりも搬送ラインに沿って下流側に次工程の処理部を配置したインライン式現像処理装置において、前記現像液供給部と次工程の処理部との間に待機部を設け、この待機部を構成するコロを正逆回転可能としたことを特徴とするインライン式現像処理装置。
- 多数のコロからなる搬送ラインの途中に基板表面に現像液を盛り付ける現像液供給部が設けられ、この現像液供給部よりも搬送ラインに沿って下流側に次工程の処理部を配置したインライン式現像処理装置において、前記次工程の処理部は現像液回収部であり、この現像液供給部を構成するコロを正逆回転可能としたことを特徴とするインライン式現像処理装置。
- 請求項１または請求項２に記載のインライン式現像処理装置において、前記コロは軸方向において連続的に基板裏面に接触すべく軸方向において同一径であることを特徴とするインライン式現像処理装置。
- 多数のコロからなる搬送ラインによって基板を搬送しつつ現像液を供給し、更に基板を下流側に搬送しつつ現像液の回収およびリンスを行うインライン式現像処理方法において、前記現像液の供給、現像液の回収およびリンスを行う間に基板を停止させることなく連続して動かしつつ行うことを特徴とするインライン式現像処理方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003183014A JP4043410B2 (ja) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | インライン式現像処理装置 |
| KR1020040047142A KR20050001373A (ko) | 2003-06-26 | 2004-06-23 | 인라인식 현상 처리장치 및 현상 처리방법 |
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| CNB2004100552605A CN100405544C (zh) | 2003-06-26 | 2004-06-26 | 一字排列式显影处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003183014A JP4043410B2 (ja) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | インライン式現像処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005019720A true JP2005019720A (ja) | 2005-01-20 |
| JP4043410B2 JP4043410B2 (ja) | 2008-02-06 |
Family
ID=34183236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003183014A Expired - Lifetime JP4043410B2 (ja) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | インライン式現像処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4043410B2 (ja) |
| KR (1) | KR20050001373A (ja) |
| CN (1) | CN100405544C (ja) |
| TW (1) | TW200503072A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102445840A (zh) * | 2011-11-29 | 2012-05-09 | 上海华力微电子有限公司 | 涂布显影装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| KR101308136B1 (ko) * | 2011-08-31 | 2013-09-12 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
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| JPH11191545A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Sony Corp | 洗浄方法および洗浄装置 |
| JP2001271188A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-02 | Ses Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP4568419B2 (ja) * | 2000-11-02 | 2010-10-27 | 株式会社ブリヂストン | Ｏａローラーの製造方法 |
| TWI226077B (en) * | 2001-07-05 | 2005-01-01 | Tokyo Electron Ltd | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
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2003
- 2003-06-26 JP JP2003183014A patent/JP4043410B2/ja not_active Expired - Lifetime
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2004
- 2004-06-23 KR KR1020040047142A patent/KR20050001373A/ko not_active Application Discontinuation
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- 2004-06-26 CN CNB2004100552605A patent/CN100405544C/zh not_active Expired - Fee Related
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