CN102969259B - 处理基板的装置 - Google Patents

Abstract

本发明所提供的是向基板上供给流体的装置和方法。该装置可以包括向基板上供给处理溶液的处理溶液供给部件，以及回收剩余在基板上的处理溶液的处理溶液回收单元。这里，处理溶液回收单元可以包括：被设为与传送轴平行的第一支撑辊，向由第一支撑辊支撑的基板区域喷射加压流体的加压流体供给部件。相应地，可以均匀地向基板区域上供给流体，以保持被供以流体的基板区域之间的平行性，并且即使当基板被高速传送时也可以抑制基板滑落。

Description

处理基板的装置

技术领域

本发明构思的实施例涉及处理基板的装置和方法，并且，特别涉及将处理溶液供给传送中的基板上的装置和方法。

背景技术

近来，信息处理设备已经迅速发展为具有多种功能和更高的处理速度。信息处理设备可以具有显示面板以显示信息。例如，诸如液晶显示器(LCD)的平板显示面板已经被广泛使用，并且此外，它们的尺寸和重量正在增加。

平板显示面板可以通过多种工艺(例如，光刻、蚀刻和沉积工艺)制造。通常，光刻可以包括涂布、曝光、显影和清洗光致抗蚀剂层。在显影光致抗蚀剂层的步骤中，可以在基板上供给显影溶液并回收，然后，清洗溶液可以被供给在基板上。图1为示意性示出用以执行显影工艺和清洗工艺的传统装置的截面图。参照图1，可以在显影室10中执行显影基板S的步骤，并且随后，可以在清洗室20中执行清洗基板S的步骤。在显影步骤和清洗步骤期间，基板S可以沿特定方向分别在显影室10和清洗室20中被传送。例如，如果基板S位于显影室10的水平部分A上，可以将显影溶液供给被水平传送中的基板S上。此后，在显影室10的变角部分中，基板S可以以成角度的状态被传送以回收剩余在基板S上的显影溶液。

然而，根据传统工艺，当显影溶液可沿成角度的基板表面流动时，在基板上可能发生污染。可以使用提高基板传送速度的方法以克服污染问题，但是这可能导致处理失败，诸如基板滑落。

发明内容

本发明构思的实施例所提供的是向传送中的基板上供给处理溶液的装置和方法。

本发明构思的其他实施例提供了当从传送中的基板回收处理溶液时防止发生污染的装置和方法。

本发明构思的其他实施例提供了提高从传送中的基板回收处理溶液时的效率的装置和方法。

本发明构思的其他实施方式提供了防止在基板被高速传送时基板滑落的装置和方法。

根据本发明构思的示例性实施例，基板处理装置可以包括：第一室；具有内部空间的第二室，该内部空间与第一室的内部空间连接；沿第一方向传送基板的基板传送部件；被设于第一室中的处理溶液供给部件，用于向基板供给处理溶液；以及被设于第二室中的清洗溶液供给单元，该清洗溶液供给单元包括在基板上供给清洗溶液的清洗溶液供给部件。基板传送部件可以包括被设于第一室和第二室中的每一个中并沿第一方向布置的多个传送轴，以及支撑该传送轴的框架。框架可以包括：被设于所述第一室中的水平框架，由该水平框架支撑的传送轴具有水平顶部；被设于第二室中的成角度框架，由该成角度框架支撑的传送轴具有成角度的顶部；以及被设于水平框架和成角度框架之间的变角框架，该变角框架将由其支撑的传送轴的顶部从水平状态变为成角度状态。

在示例性实施例中，装置可以进一步包括处理溶液回收单元，该处理溶液回收单元被设于第一室中的以回收剩余在基板上的处理溶液。处理溶液回收单元可以包括第一支撑辊，向由第一支撑辊支撑的基板区域喷射加压流体的加压流体供给部件。第一支撑辊可以被设于传送轴之间。在示例性实施例中，第一支撑辊可以被提供为具有与传送辊位于相同竖直高度的顶部。在其他实施例中，第一支撑辊可以被提供具有比传送辊高的竖直高度的顶部。第一支撑辊可以具有圆柱形形状并且轴向平行于传送轴的轴向。第一支撑辊的直径可以大于传送轴的直径。处理溶液回收单元位于第一室的末端部分。变角框架可以包括支撑传送轴一侧末端部分的第一变角框架，支撑传送轴的另一侧末端部分的第二变角框架，并且该第二变角框架在竖直方向上是可移动的。清洗溶液供给部件可以被设于变角框架上。清洗溶液供给单元可以进一步包括被设于传送轴之间的第二支撑辊，以具有由变角框架支撑的末端部分，并且清洗溶液供给部件可以用于向由第二支撑辊支撑的基板区域上喷射清洗溶液。

根据本发明构思的示例性实施例，基板处理装置可以包括：室；被设于该室中的基板传送部件，基板传送部件包括多个传送轴，该多个传送轴可以沿第一方向布置以沿第一方向传送基板，且基板传送部件包括多个传送辊，传送辊中的每个可以被设于每个传送轴的外周表面上以与基板接触；设于室中的处理溶液供给部件，用于向基板供给处理溶液；以及处理溶液回收单元，回收剩余在基板上的处理溶液。处理溶液回收单元可以包括被设于传送轴之间的第一支撑辊，以及向由第一支撑辊支撑的基板区域喷射加压流体的加压流体供给部件。

在示例性实施例中，第一支撑辊可以具有位于与传送辊实质相同的竖直高度的顶部。第一支撑辊可以具有位于比传送辊高的竖直高度的顶部。第一支撑辊可以具有圆柱形形状，并且其轴向平行于传送轴的轴向。第一支撑辊可以具有与基底宽度相比相同或更大的长度。

根据本发明构思的示例性实施例，处理传送中的基板的方法包括：在第一室中向可以被水平传送的基板供给处理溶液，喷射加压流体以回收剩余在基板上的处理溶液，并且然后，在第二室中将基板位置从水平状态变为成角度状态。

在示例性实施例中，所述方法可以进一步包括在将基板从水平状态变为成角度状态期间，向基板供给清洗溶液。

附图说明

从以下与附图相结合的简短说明中，将更清楚理解示例性实施例。图1至图8表示本文中所描述的非限制性的示例性实施例。

图1是示意性示出用以执行显影工艺和清洗工艺的传统装置的截面图。

图2是示出根据本发明构思的示例性实施例的基板处理装置的截面图。

图3是示出设置在图2的清洗室中的基板传送部件的透视图。

图4是示出当图2的基板处理装置不具有第一支撑辊时可能发生的技术问题的透视图。

图5是示出图2的基板处理装置不具有第一支撑辊时可能发生的技术问题的截面图。

图6是示出图2的第一支撑辊的正面视图。

图7是示出根据本发明构思其他示例性实施例的基板处理装置的截面图。

图8是示出根据本发明构思其他示例性实施例的基板处理装置的截面图。

应当注意的是，这些附图意欲示出在某些示例性实施例中使用的方法、结构和/或材料的普通特点，并对以下提供的书面描述进行补充。然而，这些附图是不按比例的，并且可能未精确反应任何给定实施例的精确结构或性能特点，并且不应当被解释为对示例性实施例所包含的数值范围或性质的限定或限制。例如，为了清楚，分子、层、区域和/或结构元件的相对厚度和位置可以被缩小或放大。在多个附图中使用相似或相同的参考标号用于指示存在相似或相同元件或部件。

具体实施方式

现将参照附图对本发明构思的示例性实施例进行更充分的描述，在附图中显示了示例性实施例。然而，本发明构思的示例性实施例可以以许多不同形式来实现，并且不应当被解释为限于本文中呈现的实施例；更确切地，提供这些实施例是为了使该公开彻底和完整，并且将示例性实施例的构思充分地传达给本领域普通技术人员。在附图中，为了清楚，层和区域的厚度被放大。图中相似的参考字符指明相似的元件，并且因而省略它们的描述。

应当理解的是，当提出一元件“连接”或“耦接”至另一元件时，它可以直接连接或耦接至另一元件，或者可以存在中间元件。相反，当提出一元件“直接连接”或“直接耦接”至另一元件时，就不存在中间元件。相似的数字始终指示相似元件。在本文中所使用的术语“和/或”包括相关联的所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。用来描述元件或层之间的关系的其他词语应当以相似的方式解释(例如“在......之间”与“直接在......之间”，“相邻”与“直接相邻”，“在......上”与“直接在......上”)。

应当理解的是，尽管术语“第一”、“第二”等可以被用在本文中来描述不同元件、零件、区域、层和/或部分，但是这些元件、零件、区域、层和/或部分不应当被这些术语限制。这些术语仅被用来将一个元件、零件、区域、层或部分与另一个元件、零件、区域、层或部分进行区分。因此，在不背离示例性实施例教导的情况下，以下讨论的第一元件、零件、区域、层或部分可以被称为第二元件、零件、区域、层或部分。

空间相关的术语，诸如“以下”，“下方”，“之下”，“上方”，“之上”等，可以被用在本文中以便于描述，以描述如图中所示的一个元件或部件与另一元件或部件的关系。应当理解的是，除图中描述的方位以外，空间相关的术语意欲包含使用中或运行中的设备的不同方位。例如，如果在图中的设备被翻转，则被描述为在其他元件或部件“下方”或“以下”的元件会随后被定向为在该其他元件部件的“上方”。因此，示例性术语“下方”可以包含上方和下方这两个方位。装置可以以其他方式被定向(旋转90度或在其他方位上)并相应地解释本文中所使用的空间相关的描述词语。

本文中使用的术语仅是为了描述特定实施例的目的，而不意欲限制示例性实施例。如本文中使用的，单数形式“一”、“该”意欲也包括复数形式，除非文中清楚地作出相反的指示。还应当理解的是，如果在本文中使用术语“包含”、“包含有”、“包括”和/或“包括有”，说明所述部件、整体、步骤、操作、元件和/或零件的存在，而不排除存在和/或附加一个或多个其他部件、整体、步骤、操作、元件、零件和/或他们的组。

参照示意性示出示例性实施例的最佳实施例(和中间结构)的横截面图，本文描述了本发明构思的示例性实施例。同样的，由于例如生产工艺和/或容差，可以想到图示的形状会有不同。这样，本发明构思的示例性实施例不应当被解释为限制于本文中所示出区域的特定形状，而是包括例如生产中导致的形状偏差。例如，被示为长方形的植入区域在其边缘处可以具有圆形的或弯曲的特征和/或植入浓度梯度，而不是从植入区域到非植入区域的二元变化。类似地，通过植入形成的被掩埋区域可在被掩埋区域和进行所述植入的表面之间的区域中导致一些植入。这样，图中所示的区域本质上是示意性的，并且它们的形状不意欲示出设备区域的真实形状，并且不意欲限制示例性实施例的范围。

除非作出相反的限定，在本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明构思的示例性实施例所属领域的普通技术人员通常理解相同的含义。还应当理解的是，诸如那些在常用字典中定义的术语，应当被解释为具有与它们在相关技术语境中的含义相一致的含义，并且不被解释为理想化或过于正式的含义，除非在本文中确切地这样定义。

为了简单，以下的说明将提及其中使用了用于制造平板显示面板的基板的本实施例的示例。然而，本发明构思的示例性实施例可以不限于此。例如，基板S可以是用以制造半导体芯片的晶片。此外，在基板S上的显影工艺将作为本发明构思的示例性实施例予以描述，但是本发明构思的示例性实施例可以不限于此。例如，下面将描述的本发明构思将应用于多种工艺中，这些工艺包括在基板S上供给处理溶液和从基板S上回收处理溶液，或清洗基板S和用以执行这些工艺的装置。

图2是示出根据本发明构思的示例性实施例的基板处理装置的截面图。参照图2，基板处理装置1000可以用以在基板上执行显影工艺。基板处理装置1000可以包括显影室100、清洗室200、基板传送部件300、处理溶液供给部件400、处理溶液回收单元500、以及清洗溶液供给单元600。

显影室100和清洗室200各自可以提供空间，在该空间中将执行处理所述基板S的工艺。例如，对基板S进行显影的工艺可以在显影室100中执行，并且清洗基板S的工艺可以在清洗室200中执行。在示例性实施例中，显影室100和清洗室200可以沿第一方向12而成排布置。显影室100和清洗室200可以被构造为具有实质相同的形状或结构。显影室100和清洗室200各自可以形成为类似长方体的形状。显影室100和清洗室200各自可以包括入口102或202用以将基板S载入其中，以及出口104或204用以从其卸载该基板S。显影室100的出口104可以被提供为面向清洗室200的入口202。而且，显影室100和清洗室200可以以使得其内部空间彼此相连的方式提供。

基板传送部件300可以用于沿第一方向12传输基板S。在显影室100和清洗室200中可以提供至少一个基板传送部件300。每个基板传送部件300可以包括传送轴330、传送辊320、框架340、和引导辊350。在示例性实施例中，在基板传送部件300中可以提供多个传送轴330。每个传送轴330可以被构造为具有垂直于第一方向12(例如，沿第二方向140)的轴向。传送轴330可以沿第一方向12被布置为彼此平行。传送轴330可以彼此间隔分开。传送轴330可以被提供为具有可与入口102和202和出口104和204的位置对应的竖向位置。

传送辊320可以被装备在传送轴330上以支撑基板S的底面。在示例性实施例中，在每个传送轴330上可装备多个传送辊320。每个传送辊320可以具有设于其中心轴上的孔，并且传送轴330可以被迫使插入传送辊320的孔中。传送辊320可以与传送轴330一起旋转。

框架340可以支撑传送轴330并以使得传送轴330可以旋转的方式构造。例如，可以在传送轴330的两侧设置一对框架340以支撑传送轴330的两个末端部分。框架340可以包括水平框架342、成角度的框架346和变角框架344。水平框架342可以设于显影室100中。水平框架342可以以使得传送轴330的两个末端具有相同竖直高度的方式提供。

成角度的框架346可以以使得传送轴330的两个末端具有彼此不同的竖直高度的方式提供。成角度的框架346可以设于清洗室200中。成角度的框架346可以以使得传送轴330的一个末端能够具有与水平框架342所支撑的传送轴330相同的竖直高度的方式提供。此外，成角度的框架346可以以使得传送轴330的其它末端能够具有比水平框架342所支撑的传送轴330更高的竖直高度的方式提供。例如，传送轴330可以被构造为具有相对于地面大约为5°的角度。

变角框架344可以用于改变传送轴的角度。图3是示出设于图2的清洗室中的基板传送部件的透视图。参照图3，变角框架344可以支撑传送轴330的两个末端，并且被构造为能够实现传送轴330的倾斜。变角框架344可以设于清洗室200中。变角框架344可以用于改变传送轴330的角度，以使得基板S可以通过由水平框架342支撑的传送轴330被传送到由成角度框架346支撑的传送轴330。变角框架344可以包括第一变角框架344a和第二变角框架344b。第一变角框架344a可以用于支撑传送轴330的末端部分。第一变角框架344a可以被提供为具有与水平框架342相同的竖直高度。第二变角框架344b可以支撑传送轴330的其他末端部分。第二变角框架344b可以通过驱动部件(未显示)以使其可以位于水平或成角度的位置上的方式被垂直移动。这里，该水平位置可以是具有与水平框架342相同竖直高度的第二变角框架344b的位置。成角度的位置可以是具有比水平框架342高的竖直高度的第二变角框架344b的位置。

基板S可以由引导辊350引导，以使得基板S可以沿第一方向12传送。引导辊350可以用于支撑基板S的侧面。引导辊350可以设于每个显影室100和清洗室200中。引导辊350可以设于传送轴330之间。设于显影室100中的引导辊350可以用于支撑基板S的两个侧面。设于清洗室200中的引导辊350可以用于支撑基板S的一个侧面。设于清洗室200中的引导辊350可以与传送轴330的其他末端部分相邻放置。

再次参照图2，处理溶液供给部件400可以用以将处理溶液提供在基板S上。处理溶液供给部件400可以设于显影室100中。处理溶液供给部件400可以被布置在传送轴330上以向朝第一方向12传送的基板S上供给处理溶液。在示例性实施例中，处理溶液可以是显影溶液。处理溶液供给部件400可以包括主体和喷嘴。主体可以被形成为类似杆的形状，其轴向指向第二方向14。在示例性实施例中，主体的轴向可以被设置为与传送轴330的轴向平行。主体可以具有与基板S的宽度相比相同或更大的长度。主体可以包括在其下表面沿第二方向14形成的多个孔。所述孔可以分别装配有喷嘴。

处理溶液回收单元500可以用于回收剩余在基板S上的处理溶液。处理溶液回收单元500可以被设于显影室100中。处理溶液回收单元500可以被布置在邻近显影室100出口104的区域。处理溶液回收单元500可以包括加压流体供给部件510和第一支撑辊530。加压流体供给部件510可以用于将加压流体喷射到基板S上并回收处理溶液。加压流体可以是例如大气气体或惰性气体。加压流体供给部件510可以被设于传送轴330上。加压流体供给部件510可以包括主体和喷嘴。主体可以形成为类似杆的形状，其轴向指向第二方向14。主体可以具有与基板S的宽度相比相同或更大的长度。主体可以包括在其底面沿第二方向14形成的多个孔。所述孔可以分别装配有喷嘴。每个喷嘴的喷出孔可以指向倾斜向下的方向，以使得来自喷嘴的溶液可以远离显影室100的出口104被喷射。加压流体供给部件510可以以使得处理溶液能够朝与基板传送方向相反的方向流动的方式喷射加压流体。

多个传送轴330可以沿第一方向12相互间隔设置。由于基板S的重量或体积的增加，基板S在基板传送部件300之间可能下垂。因此，基板S在第一方向12上可能具有不平坦的表面。如同图4和图5所示，从基板S凹陷的上表面回收处理溶液可能存在困难。

即使在由传送辊320支撑的基板S的部分，基板S也可能在传送辊320之间下垂。例如，基板S沿第二方向可具有不平坦的上表面。

第一支撑辊530可以以使得在基板S的、被供给加压流体的部分能够具有平滑轮廓的方式支撑基板S。第一支撑辊530可以以使得在基板S上的、将被提供加压流体的上表面可以是平坦的方式支撑基板S的底面。图6是示出图2的第一支撑辊的正面视图。参照图6，第一支撑辊可以被形成为具有圆柱形形状。第一支撑辊530可以被设为具有平行于第二方向14的轴向。第一支撑辊530可以被设于传送轴330之间。第一支撑辊530可以被定位成支撑将被喷射加压流体的基板S的区域。第一支撑辊530的顶部可以被定位在与传送辊320的竖直高度相等或稍微高一些的高度。例如，第一支撑辊530和传送辊320可以具有由相同材料形成的外部周围表面。

再次参照图2，清洗溶液供给单元600可以用于清洗基板S。清洗溶液供给单元600可以被设于清洗室200中。清洗溶液供给单元600可以邻近清洗室200的入口202而设。清洗溶液供给单元600可以包括清洗溶液供给部件610。清洗溶液供给部件610可以用于将清洗溶液喷射到装载在清洗室200中的基板S上。例如，清洗溶液可以是去离子水。清洗溶液供给部件610可以被定位在由变角框架344支撑的传送轴330上。清洗溶液供给部件610可以包括主体和喷嘴。主体可以形成为类似杆的形状，其轴向指向第二方向14。主体可以具有与基板S的宽度相比相同或更大的长度。主体可以包括在其底面沿第二方向14形成的多个孔。所述孔可以分别装配有喷嘴。在示例性实施例中，清理溶液供给部件610的主体可以以使得其轴向平行于被设于其下方的传送轴330的轴向的方式设置。如果传送轴330的角度发生改变，则也可以调节清洗溶液供给部件610的主体的角度以抵消该改变。

在其他实施例中，清洗溶液供给部件610的主体可以被构造为具有固定的轴向(例如，平行于水平方向)。

在其他实施例中，图7的清洗溶液供给单元600可以进一步包括第二支撑辊630。第二支撑辊630可以被提供用于支撑基板S的底面，以使得基板S的上表面在将被供以清洗溶液的区域上可以是平坦的。第二支撑辊630可以具有圆柱形形状。第二支撑辊630可以以使得其轴向指向第二方向的方式设置。第二支撑辊630可以被设于传送轴330之间。第二支撑辊630可以被设置为具有与第一支撑辊530的顶部位于相同高度的顶部。第二支撑辊630的两个末端可以被装备在变角框架334上，以使得第二支撑辊630可以与传送轴330类似地倾斜。

在下文中，将对使用基板处理装置1000传送基板S的方法进行说明。如果基板S被装载在显影室100中，基板S可以通过基板传送部件300朝第一方向12传送。在基板S传送期间，基板S的上表面可以被维持为水平。此外，在基板S传送期间，处理溶液可以被供给在基板S上，并且剩余的处理溶液可以从基板S的上表面上被收回。基板S可以从显影室100的出口104被卸载，并且同时被装载在清洗室200中。在基板S传送期间，基板S可以从水平状态逐渐地倾斜为倾斜状态。在基板S倾斜传送期间，清洗溶液可以被供给在基板S上。在完成供给清洗溶液之后，基板S可以以倾斜状态传送。剩余在基板S上的清洗溶液可以沿基板S的倾斜角度向下流动并被回收。

接下来，将对使用基板处理装置1000的显影方法和清洗方法进行说明。如果在曝光工艺之后，基板S被装载在显影室100中，则可以将处理溶液供给在基板S上。在基板S传送期间，加压流体供给部件510可以将加压流体喷射到基板S的、被第一支撑辊530支撑的部分上。剩余在基板S上的处理溶液可以被加压流体吹走，并且在与第一方向12相反的一侧被回收。基板S可以通过第一支撑辊530被装载在清洗室200中。清洗溶液供给单元600可以将清洗溶液喷射在基板S上，该基板S可以在清洗室200中传送。在这个阶段，基板S可以从水平状态变为成角度状态，并且随后朝第一方向传送。剩余在基板S上的清洗溶液可以沿基板S的倾斜角向下流。

在其他实施例中，图8的第一支撑辊530a可以被定位成支撑基板S的、将被供以来自处理溶液供给部件400的处理溶液的部分。第一支撑辊530a可以以使得处理溶液能够被均匀供给在基板S上的方式支撑基板S。

根据本发明构思的示例性实施例，所提供的是装置和方法，在其中，处理溶液被供给在传送中的基板上。

根据本发明构思的其他实施例，可以防止当从传送中的基板回收处理溶液时发生污染。

根据本发明构思的其他实施例，可以提高从传送中的基板回收处理溶液的效率。

根据本发明构思的其他实施例，即使当基板被高速传送时，也可以防止基板滑落。

尽管本发明构思的示例性实施例已进行了详细的显示和说明，但是本领域普通技术人员将会理解，在不背离所附权利要求的精神和范围的情况下，可以对其做出形式和细节的变化。

Claims (15)

1.一种基板处理装置，包括：

第一室；

具有内部空间的第二室，所述内部空间与所述第一室的内部空间连接；

沿第一方向传送基板的基板传送部件；

被设于所述第一室中的处理溶液供给部件，用于向所述基板上供给处理溶液；以及

被设于所述第二室中的清洗溶液供给单元，所述清洗溶液供给单元包括用于在所述基板上供给清洗溶液的清洗溶液供给部件；

其中所述基板传送部件包括：

被设于所述第一室和所述第二室中的每一个中并沿第一方向布置的多个传送轴；以及

支撑所述传送轴的框架，并且

其中所述框架包括：

被设于所述第一室中的水平框架，由所述水平框架支撑的传送轴具有水平顶部；

被设于所述第二室中的成角度框架，由所述成角度框架支撑的传送轴具有成角度的顶部；并且

被设于所述水平框架和在所述第二室中的成角度框架之间的变角框架，所述变角框架将由其支撑的传送轴的顶部从水平状态变为成角度状态；

所述基板处理装置进一步包括处理溶液回收单元，所述处理溶液回收单元被设于所述第一室中以回收剩余在所述基板上的处理溶液，

其中所述处理溶液回收单元包括：

第一支撑辊；

向所述基板的由所述第一支撑辊支撑的区域喷射加压流体的加压流体供给部件。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一支撑辊被设于所述传送轴之间。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述第一支撑辊被提供为具有与传送辊位于相同竖直高度的顶部。

4.根据权利要求2所述的装置，其中所述第一支撑辊被提供为具有比所述传送辊高的竖直高度的顶部。

5.根据权利要求3或4所述的装置，所述第一支撑辊具有圆柱形形状并且其轴向平行于所述传送轴的轴向。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述第一支撑辊的直径大于所述传送轴的直径。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述处理溶液回收单元位于所述第一室的末端部分。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述变角框架包括：

支撑所述传送轴的一侧末端部分的第一变角框架；

支撑所述传送轴的另一侧末端部分的第二变角框架。

9.根据权利要求8所述的装置，其中所述清洗溶液供给部件位于所述变角框架上。

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述清洗溶液供给单元进一步包括被设于所述传送轴之间的第二支撑辊，以具有由所述变角框架支撑的末端部分，并且

所述清洗溶液供给部件用于向所述基板的由所述第二支撑辊支撑的区域上喷射所述清洗溶液。

11.一种基板处理装置，包括：

室；

被设于所述室中的基板传送部件，其包括：多个传送轴，所述传送轴沿第一方向布置以沿所述第一方向传送基板；以及多个传送辊，所述传送辊中的每个被设于每个所述传送轴的外周表面上，以与所述基板接触；

设于所述室中的处理溶液供给部件，用于向所述基板供给处理溶液；以及

处理溶液回收单元，回收剩余在所述基板上的所述处理溶液；

其中，所述室包括第一室，所述处理溶液供给部件和所述处理溶液回收单元设置在所述第一室中，并且

其中所述处理溶液回收单元包括：

被设于所述传送轴之间的第一支撑辊；以及

向所述基板的由所述第一支撑辊支撑的区域喷射加压流体的加压流体供给部件。

12.根据权利要求11所述的装置，其中所述第一支撑辊具有与所述传送辊实质相同的竖直高度的顶部。

13.根据权利要求11所述的装置，其中所述第一支撑辊具有位于比所述传送辊高的竖直高度的顶部。

14.根据权利要求11至13中的任一项所述的装置，其中所述第一支撑辊具有圆柱形形状，并且其轴向平行于所述传送轴的轴向。

15.根据权利要求14所述的装置，其中所述第一支撑辊具有与所述基板宽度相比相同或更大的长度。