KR102435194B1 - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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Abstract

기판 이송 장치는 수평 방향인 제1 방향으로 배열되고 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향이 이루는 평면 상에 배치되는 피처리 기판을 상기 제1 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들, 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성하는 현상액 공급 노즐, 상기 피처리 기판의 위치를 인식하는 센서부, 및 상기 이송 롤러들 각각을 상기 제1 및 제2 방향들과 수직한 지면 방향인 제3 방향을 따라 이동시킬 수 있는 수직 이동부를 포함한다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD OF TREATING SUBSTRATE}
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 퍼들(puddle) 방식의 현상에 사용되는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 기술의 발전에 힘입어 소형, 경량화 되면서 성능은 더욱 뛰어난 디스플레이 제품들이 생산되고 있다. 지금까지 디스플레이 장치에는 기존 브라운관 텔레비전(cathode ray tube: CRT)이 성능이나 가격 면에서 많은 장점을 가지고 널리 사용되었으나, 소형화 또는 휴대성의 측면에서 CRT의 단점을 극복하고, 소형화, 경량화 및 저전력 소비 등의 장점을 갖는 표시 장치, 예를 들면 플라즈마 표시 장치, 액정 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 등이 주목을 받고 있다.
상기 표시 장치 제조에서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에서는, 피처리 기판(예컨대, 유리 기판)의 대형화에 유리하게 대응할 수 있는 현상 방식으로서, 복수의 이송 롤러를 수평 방향으로 설치한 반송 라인 상에서 상기 피처리 기판을 반송하면서, 반송 중에 현상, 린스, 건조 등의 일련의 현상 처리 공정을 행하도록 한, 소위 평류(平流) 방식의 기판 처리 장치가 사용되고 있다.
이때, 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여 현상액 층을 형성한 후, 이를 반송하는 도중 현상 공정이 진행되는 방식인 퍼들(puddle) 방식이 사용될 수 있는데, 상기 피처리 기판의 위치에 따라 균일하게 현상 공정이 일어나지 못하여 현상 정도의 편차가 발생하는 문제가 있었다.
이에 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로, 본 발명의 목적은 현상 공정의 품질을 향상시킬 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 현상 공정의 품질을 향상시킬 수 있는 기판 처리 방법을 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 기판 이송 장치는 수평 방향인 제1 방향으로 배열되고 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향이 이루는 평면 상에 배치되는 피처리 기판을 상기 제1 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들, 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성하는 현상액 공급 노즐, 상기 피처리 기판의 위치를 인식하는 센서부, 및 상기 이송 롤러들 각각을 상기 제1 및 제2 방향들과 수직한 지면 방향인 제3 방향을 따라 이동시킬 수 있는 수직 이동부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판의 상기 제1 방향으로의 선단에 인접하고 상기 피처리 기판과 접촉하지 않는 제1 이송 롤러, 즉 상기 피처리 기판의 상기 선단에 바로 앞서는 상기 제1 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과의 거리를 멀게 할 수 있다. 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 상기 선단이 상기 제3 방향으로 이동된 상기 제1 이송 롤러를 지나가면, 상기 제1 이송 롤러를 상기 제3 방향의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판의 하면에 접촉 시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 복수의 이송 롤러는 상기 제1 방향으로 순차적으로 배치된 상기 제1 이송 롤러, 제2 이송 롤러 및 제3 이송 롤러를 포함할 수 있다. 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이동함에 따라, 순차적으로 상기 제1 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동(이동) 및 상기 제3 방향의 반대방향으로 이동(복귀), 상기 제2 이송 롤러를 이동 및 복귀, 상기 제3 이송 롤러를 이동 및 복귀시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판의 상기 제1 방향으로의 후단에 인접하고 상기 피처리 기판과 접촉하는 제4 이송 롤러, 즉 상기 후단에 바로 앞서는 상기 제4 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시킬 수 있다. 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 상기 후단이 상기 제3 방향으로 이동된 상기 제4 이송 롤러를 지나가면, 상기 제4 이송 롤러를 상기 제3 방향의 반대 방향으로 이동시켜, 원위치로 복귀시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 복수의 이송 롤러는 상기 제1 방향으로 순차적으로 배치된 상기 제4 이송 롤러, 제5 이송 롤러 및 제6 이송 롤러를 포함할 수 있다. 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이동함에 따라, 순차적으로 상기 제4 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동(이동) 및 상기 제3 방향의 반대방향으로 이동(복귀), 상기 제5 이송 롤러를 이동 및 복귀, 상기 제6 이송 롤러를 이동 및 복귀시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 센서부는 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단을 감지하고, 감지된 상기 선단 또는 후단의 위치를 바탕으로, 상기 이송 롤러의 회전 속도를 이용하여, 상기 피처리 기판의 이송에 따른 상기 피처리 기판의 상기 선단 또는 후단의 위치를 계산할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 인접하는 두 이송 롤러들 사이의 간격을 이송 롤러 간격으로 정의할 수 있다. 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단이 상기 이송 롤러 간격 사이에 위치할 때, 상기 인접하는 두 이송 롤러들을 상기 제3 방향 또는 상기 제3 방향과 반대 방향으로 이동시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 두 이송 롤러들이 상기 제3 방향 또는 상기 제3 방향과 반대 방향으로 이동하는 동안에 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단이 이동하는 거리를 제어 간격으로 정의할 수 있다. 상기 제어 간격은 상기 이송 롤러 간격보다 작을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 이송 롤러들은 제1 높이 또는 상기 제1 높이 보다 낮은 제2 높이에 위치하고, 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들은 상기 피처리 기판과 접촉하여 상기 피처리 기판을 이송할 수 있다. 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 선단에 인접하고 상기 제2 높이에 위치하는 상기 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면에 접촉하도록 상기 제3 방향의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 제1 높이에 위치시킬 수 있다. 상기 수직 이동부는, 상기 피처리 기판의 후단에 인접하고 상기 제1 높이에 위치하는 상기 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동 시켜 상기 제2 높이에 위치시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 현상액 층을 제거하기 위한 린스액을 상기 피처리 기판 상에 공급하는 린스액 공급 노즐을 더 포함할 수 있다. 상기 수직 이동부는 상기 현상액 공급 노즐과 상기 린스액 공급 노즐 사이에 대응하여 위치하는 상기 이송 롤러들을 각각 상기 제3 방향을 따라 이동시킬 수 있다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 기판 이송 방법은 피처리 기판을 수평 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들을 포함하는 기판 처리 장치를 이용할 수 있다. 상기 기판 이송 방법은 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성하는 단계, 상기 피처리 기판의 이송 방향으로의 선단(front end)에 가장 근접하고 상기 피처리 기판과 접하지 않는 제1 이송 롤러를 지면을 향하는 수직 하방향으로 이동시키는 단계, 상기 복수의 이송 롤러를 회전시켜 상기 현상액 층이 형성된 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계, 상기 제1 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 하방향의 반대 방향인 수직 상방향으로 이동시키는 단계, 및 상기 피처리 기판의 상기 하면과 접하고 있는 상기 제1 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 기판 처리 방법은 상기 제1 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제2 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시키는 단계, 상기 제1 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 더 이송하는 단계, 상기 제2 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계, 및 상기 피처리 기판의 상기 하면과 접하고 있는 상기 제1 이송 롤러, 상기 제2 이송 롤러 및 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 기판 처리 방법은 상기 제2 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제3 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시키는 단계, 상기 제1 이송 롤러, 상기 제2 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 더 이송하는 단계, 상기 제3 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계, 및 상기 피처리 기판의 상기 하면과 접하고 있는 상기 제1 이송 롤러, 상기 제2 이송 롤러, 상기 제3 이송 롤러 및 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계와 상기 제3 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시키는 단계는 동시에 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 기판 이송 방법은 상기 피처리 기판의 이송 방향으로의 후단(rear end)에 가장 근접하고 상기 피처리 기판의 상기 하면과 접촉하는 제4 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시키는 단계, 및 상기 제4 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제5 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 기판 이송 방법은 상기 제4 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계, 상기 피처리 기판과 접촉하는 상기 제5 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시키는 단계, 및 상기 제5 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제6 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제4 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계는 상기 피처리 기판의 상기 후단이 상기 제4 이송 롤러를 지나간 후에 수행되어, 상기 제4 이송 롤러가 상기 수직 상방향으로 이동되더라도 상기 피처리 기판과 상기 제4 이송 롤러가 접촉하지 않을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 피처리 기판이 상기 수평 방향으로 이송되는 동안, 상기 피처리 기판의 진행방향으로의 선단 및 후단은 상기 이송 롤러들과 직접 접촉하지 않아, 상기 피처리 기판 상의 상기 현상액 층이 상기 선단 또는 후단을 통해 상기 이송 롤러로 유출되지 않을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 기판 처리 장치는 센서부를 포함하고, 상기 센서부를 이용하여 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단을 감지하고, 상기 이송 롤러의 회전 속도를 이용하여, 상기 피처리 기판의 상기 선단 또는 후단의 위치를 계산할 수 있다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 기판 이송 방법은 피처리 기판을 수평 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들을 포함하는 기판 처리 장치를 이용할 수 있다. 상기 기판 이송 방법은 상기 피처리 기판의 하면과 접촉하는 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들 상에서, 상기 이송 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성하는 단계, 상기 현상액 층이 형성된 상기 피처리 기판을 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들을 회전시켜 상기 수평 방향으로 이송하는 단계, 상기 피처리 기판이 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 선단(front end)에 가장 인접하고 상기 제1 높이 보다 낮은 제2 높이에 위치하는 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면에 접촉하도록 수직 상방향으로 이동 시켜 상기 제1 높이에 위치시키는 단계, 및 상기 피처리 기판이 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 후단(rear end)에 가장 인접하고 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러를 수직 하방향으로 이동시켜 상기 피처리 기판과 이격시켜 상기 제2 높이에 위치시키는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법에 따르면, 기판 이송 장치의 이송 롤러가 수직 방향인 제3 방향을 따라 상승 또는 하강하므로, 피처리 기판이 제1 방향으로 이송될 때, 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단이 지면 방향으로 쳐지더라도, 상기 피처리 기판의 상기 선단 또는 후단이 상기 이송 롤러와 접촉하지 않으며, 이에 따라 상기 이송 롤러를 통한 현상액의 유출이 최소화 될 수 있다. 따라서 현상 공정이 균일하게 이루어질 수 있으며, 현상 공정을 마친 포토레지스트 패턴의 품질이 향상될 수 있다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 효과들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1a, 1b, 1c 및 1d는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법을 설명하기 위한 기판 처리 장치의 측단면도들이다.
도 2a, 2b 및 2c 는 도 1a 내지 1d의 기판 처리 방법의 피처리 기판의 이송을 자세히 설명하기 위한 상기 기판 처리 장치의 일부의 측단면도들이다.
도 3a 및 3b는 종래 방법에 의한 피처리 기판 이송 시, 균일하지 못한 현상 공정이 일어나는 현상을 설명하기 위한 확대 단면도들이다.
도 4는 도 3a 및 3b의 피처리 기판의 일부를 나타낸 평면도이다.
도 5a 및 5b는 도 2a 내지 2c의 기판 처리 방법의 효과를 설명하기 위한, 피처리 기판 및 기판 처리 장치의 일부를 나타낸 확대 단면도들이다.
도 6a, 6b 및 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법의 피처리 기판의 이송을 자세히 설명하기 위한 기판 처리 장치의 일부의 측단면도들이다.
이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.
도 1a, 1b, 1c 및 1d는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법을 설명하기 위한 기판 처리 장치의 측단면도들이다.
도 1a 내지 1d를 참조하면, 상기 기판 처리 장치(100)는 현상부(DE) 및 린스부(RI)를포함하는 하우징(110), 복수의 이송 롤러들(120), 현상액 공급 노즐(130), 센서부(140), 린스액 공급 노즐(150) 및 수직 이동부(미도시)를 포함할 수 있다.
상기 하우징(110)은 피처리 기판(10) 상에 포토 레지스트 공정의 현상(development) 공정을 진행하기 위한 공간인 현상부(DE) 및 상기 피처리 기판(10)을 세정하기 위한 공간인 린스부(RI)를 형성할 수 있다.
복수의 이송 롤러들(120)은 수평 방향인 제1 방향(D1)으로 배열될 수 있다. 상기 이송 롤러들(120)은 각각이 회전하여 상기 제1 방향(D1) 및 상기 제1 방향(D1)과 수직한 제2 방향(D2)이 이루는 평면 상에 배치되는 피처리 기판(10)을 상기 제1 방향(D1)으로 이송할 수 있다. 즉, 상기 복수의 이송 롤러들(120)은 상기 제1 방향(D1) 상기 피처리 기판(10)을 이송하기 위한 이송 라인을 형성할 수 있다. 상기 이송 라인은 상기 현상부(DE) 및 상기 린스부(RI)를 통과하도록 설치될 수 있다.
각각의 상기 이송 롤러(120)는 상기 제2 방향(D2)으로 연장되는 원통형 샤프트에 복수의 롤러들이 설치된 형태일 수 있다. (도 4 참조)
상기 현상액 공급 노즐(130)은 상기 하우징(110)의 상기 현상부(DE) 내에 배치되어, 상기 피처리 기판(10) 상에 현상액을 공급할 수 있다. 상기 현상액은 상기 피처리 기판(10) 상에 제공되어 현상액층(12)를 형성할 수 있다.
상기 센서부(140)는 상기 피처리 기판(10)의 위치를 감지할 수 있다. 예를 들면, 상기 센서부(140)는 상기 피처리 기판(10)의 선단 또는 후단을 감지하고, 감지된 상기 선단 또는 상기 후단 의 위치를 바탕으로, 상기 이송 롤러의 회전 속도를 이용하여, 상기 피처리 기판(10)의 이송에 따라 변화되는 상기 기판의 선단 또는 후단의 위치를 계산할 수 있다. 이에 따라, 상기 센서부(140)는 어느 한 지점의 위치에서만 상기 피처리 기판(10)의 선단 또는 후단을 감지하면, 상기 피처리 기판(10)이 상기 이송 롤러들(120)에 의해 상기 이송 라인을 따라 이송되는 동안 상기 피처리 기판의 상기 선단 또는 후단의 위치를 알 수 있다.
상기 린스액 공급 노즐(150)은 상기 린스부(PI) 내에 배치될 수 있다. 상기 린스액 공급 노즐(150)은 상기 현상액에 의해 현상 공정이 완료된 상기 피처리 기판(10) 상의 상기 현상액층(12)을 제거하여, 상기 피처리 기판(10)을 세정할 수 있다.
상기 수직 이동부는 각각의 상기 이송 롤러(120)들을 상기 제1 및 제2 방향(D1, D2)에 수직한 방향인 제3 방향(D3)을 따라 이동시킬 수 있다. 상기 수직 이동부는 상기 이송 롤러(120)들을 개별적으로 이동 시킬 수 있는 구성이면 어떠한 경우도 무방하다. 예를 들면, 각각의 이송 롤러(120)의 양단에 연결되는 리프팅 장치일 수 있다. 상기 제3 방향(D3)은 지면 방향으로 수직 하방향일 수 있다. 즉, 상기 각각의 이송 롤러들(120)은 개별적으로 지면에 대해 상하로 이동될 수 있다.
도 1a를 다시 참조하면, 상기 피처리 기판(10)은 상기 기판 처리 장치(100)에 로딩(loading)될 수 있다. 상기 센서부(140)는 상기 피처리 기판(10)의 위치를 감지할 수 있다. 상기 이송 롤러들(120)이 회전함에 따라 상기 피처리 기판(10)이 상기 제1 방향(D1)으로 이송될 수 있다.
도 1b를 다시 참조하면, 상기 피처리 기판(10)이 상기 현상부(DE)로 진행함에 따라, 상기 현상액 공급 노즐(130)이 상기 피처리 기판(10) 상에 상기 현상액을 공급하여, 상기 현상액층(12)을 형성할 수 있다.
이때, 상기 현상액층(12)의 상기 현상액이 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단 및 후단을 통해 유출되는 것을 방지하기 위해, 상기 이송 롤러(120)를 상기 제3 방향(D3) 및 상기 제3 방향(D3)의 반대방향으로 이동시킬 수 있다. 이에 대한 자세한 설명은 도 2a, 2b 및 2c에서 후술한다.
도 1c를 다시 참조하면, 상기 피처리 기판(10)이 상기 현상부(DE)를 지나 상기 린스부(RI)로 진행하는 동안 상기 현상액층(12)에 의한 현상 공정이 완료될 수 있다. 상기 현상부(DE)로 이송된 상기 피처리 기판(10)은 상기 린스액 공급 노즐(150)이 상기 피처리 기판(10) 상에 상기 린스액을 공급하여, 상기 피처리 기판(10) 상의 상기 현상액층(12)을 모두 제거할 수 있다.
도 1d를 다시 참조하면, 상기 피처리 기판(10)이 상기 기판 처리 장치(100)로부터 언로딩(unloading) 되며, 상기 피처리 기판(10)이 건조될 수 있다. 이에 따라 상기 현상 공정이 완료될 수 있다.
상기 기판 처리 장치를 이용한 기판 처리 방법은 일반적으로 표시 장치등을 제조하는데 이용될 수 있다. 상기 표시 장치는 유리 등의 투명 기판 상에 게이트 라인, 데이터 라인, 박막 트랜지스터 등을 형성하기 위한 어레이 공정, 상기 액정층을 형성하기 위한 셀 공정 및 상기 표시 패널 및 구동부를 결합하기 위한 모듈 공정에 의해 제작될 수 있다.
이때, 상기 어레이 공정은 포토리소그래피(photolithography) 공정과 식각 공정을 포함할 수 있다. 상기 포토리소그래피(photolithography) 공정은 투명 기판 상에 형성하고자 하는 패턴 물질과 포토레지스트(photoresist, PR)를 일정한 두께로 도포하는 코팅 공정, 포토레지스트가 도포된 유리 기판과 원하는 패턴 형상이 그려져 있는 마스크를 정렬시키고, 정렬된 마스크 위에 광원을 조사하여 PR을 감광시키는 노광(exposure) 공정 및 광원에 노광 된 PR을 현상액을 이용하여 선택적으로 녹이는 현상(develop) 공정을 포함할 수 있다. 상기 식각 공정은 투명 기판 상에 형성된 포토레지스트의 패턴대로 상기 패턴 물질을 용해시킨다.
상기 현상 공정에 있어서, 패턴의 밀도 차에 의한 현상액의 탁도 차이, 투명 기판의 진행 방향에 의한 현상액의 유동성 차이 및 현상액의 액버림 방향에 의한 현상액의 유동성 차이에 의해 현상액에 의한 현상 정도가 균일하게 되지 못하고, 이로 인해 크리티컬 디멘션(critical dimension, CD)이 증가하는 문제가 있다.
본 실시예에 따르면, 피처리 기판 상의 현상액이 기판 처리 장치의 이송 롤러와 접하면서 상기 이송 롤러를 통해 유출되는 문제를 해결할 수 있으므로, 현상액에 의한 현상 정도가 균일해지고, 크리티컬 디멘션(critical dimension, CD)이 감소할 수 있다. 이에 따라 현상 공정이 품질이 향상될 수 있다. 또한, 상기 기판 처리 장치 및 상기 기판 처리 방법이 상기 표시 장치의 제조에 사용되는 경우, 상기 표시 장치의 품질을 향상시킬 수 있다.
도 2a, 2b 및 2c 는 도 1a 내지 1d의 기판 처리 방법의 피처리 기판의 이송을 자세히 설명하기 위한 상기 기판 처리 장치의 일부의 측단면도들이다.
도 2a 내지 2d를 참조하면, 상기 기판 처리 장치는 제1 방향(D1)으로 순차적으로 배치된 제1 이송 롤러(120a), 제2 이송 롤러(120b) 및 제3 이송 롤러(120c)를 포함할 수 있다. 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 방향(D1)으로 순차적으로 배치된 제4 이송 롤러(120d), 제5 이송 롤러(120e) 및 제6 이송 롤러(120f)를 더 포함할 수 있다.
도 2a를 다시 참조하면, 상기 피처리 기판(10)이 이송 롤러들에 의해 이송되면서, 현상액 공급 노즐(130)이 상기 피처리 기판(10) 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층(12)을 형성할 수 있다.
상기 현상액 층(12)이 형성되면, 상기 피처리 기판(10)이 상기 제1 방향(D1)으로 이송되는 동안, 상기 피처리 기판(10)의 진행방향으로의 선단 및 후단은 상기 이송 롤러들과 직접 접촉하지 않도록 상기 이송 롤러들을 수직 하방향, 즉 제3 방향(D3) 및 수직 상방향, 즉 상기 제3 방향(D3)의 반대 방향으로 이동시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 이송 롤러(120a)는 상기 피처리 기판(10)의 상기 제1 방향(D1)으로의 상기 선단에 인접하고 상기 피처리 기판과 접촉하지 않는 이송 롤러이다. 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단에 바로 앞서는 상기 제1 이송 롤러(120a)를 상기 제3 방향(D3)으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)과의 거리를 멀게 할 수 있다.
또한, 상기 피처리 기판(10)의 상기 제1 방향(D1)으로의 상기 후단에 인접하고 상기 피처리 기판(10)과 접촉하는 제4 이송 롤러(120d), 즉 상기 후단에 바로 앞서는 상기 제4 이송 롤러(120d)를 상기 제3 방향(D3)으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)과 이격시킬 수 있다.
도 2b를 다시 참조하면, 상기 피처리 기판(10)이 상기 제1 방향(D1)으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단이 상기 제3 방향(D3)으로 이동된 상기 제1 이송 롤러(120a)를 지나가면, 상기 제1 이송 롤러(120a)를 상기 제3 방향(D3)의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)의 하면에 접촉 시킬 수 있다.
상기 피처리 기판(10)의 상기 선단에 바로 앞서는 상기 제2 이송 롤러(120b)를 상기 제3 방향(D3)으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)과의 거리를 멀게 할 수 있다.
또한, 상기 피처리 기판이 상기 제1 방향(D1)으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판(10)의 상기 후단이 상기 제3 방향(D3)으로 이동된 상기 제4 이송 롤러(120d)를 지나가면, 상기 제4 이송 롤러(120d)를 상기 제3 방향(D3)의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 제4 이송 롤러(120d)를 원위치로 복귀시킬 수 있다.
상기 피처리 기판(10)의 상기 후단에 인접하고 상기 피처리 기판(10)과 접촉하는 제5 이송 롤러(120e), 즉 상기 후단에 바로 앞서는 상기 제5 이송 롤러(120e)를 상기 제3 방향(D3)으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)과 이격시킬 수 있다.
이때, 상기 제1 이송 롤러(120a)와 상기 제2 이송 롤러(120b)의 상기 제1 방향(D1)으로의 간격을 이송 롤러 간격(d)으로 정의할 수 있다. 상기 제1 이송 롤러(120a) 및 상기 제2 이송 롤러(120b)의 상기 수직 방향의 이동은 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단이 상기 이송 롤러 간격(d) 사이에 위치할 때 이루어질 수 있다. 설계 마진을 위해, 바람직하게는 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단이 상기 이송 롤러 간격(d) 보다 작은 제어 간격(d') 내에 위치할 때, 상기 제1 이송 롤러(120a) 및 상기 제2 이송 롤러(120b)의 상기 수직 방향의 이동이 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 피처리 기판(10) 후단에서도 이와 유사하게, 상기 제4 이송 롤러(120d) 및 상기 제5 이송 롤러(120e)의 상기 수직 방향의 이동은 상기 피처리 기판(10)의 상기 후단이 이송 롤러 간격 사이에 위치할 때 이루어질 수 있다.
도 2c를 다시 참조하면, 상기 피처리 기판(10)이 상기 제1 방향(D1)으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단이 상기 제3 방향(D3)으로 이동된 상기 제2 이송 롤러(120b)를 지나가면, 상기 제2 이송 롤러(120b)를 상기 제3 방향(D3)의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)의 하면에 접촉 시킬 수 있다.
상기 피처리 기판(10)의 상기 선단에 바로 앞서는 상기 제3 이송 롤러(120c)를 상기 제3 방향(D3)으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)과의 거리를 멀게 할 수 있다.
또한, 상기 피처리 기판이 상기 제1 방향(D1)으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판(10)의 상기 후단이 상기 제3 방향(D3)으로 이동된 상기 제5 이송 롤러(120e)를 지나가면, 상기 제5 이송 롤러(120e)를 상기 제3 방향(D3)의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 제5 이송 롤러(120e)를 원위치로 복귀시킬 수 있다.
상기 피처리 기판(10)의 상기 후단에 인접하고 상기 피처리 기판(10)과 접촉하는 제6 이송 롤러(120f), 즉 상기 후단에 바로 앞서는 상기 제6 이송 롤러(120f)를 상기 제3 방향(D3)으로 이동시켜, 상기 피처리 기판(10)과 이격시킬 수 있다.
도 3a 및 3b는 종래 방법에 의한 피처리 기판 이송 시, 균일하지 못한 현상 공정이 일어나는 현상을 설명하기 위한 확대 단면도들이다.
도 3a 및 3b를 참조하면, 종래의 기판 처리 장치에 의하면, 현상액 층(12)이 형성된 피처리 기판(10)이 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판(10)의 선단이 이송 롤러(120)에 접촉하게 된다. 이때, 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단은 미세하게 중력방향으로 쳐지고, 상기 피처리 기판(10) 상의 상기 현상액 층(12)의 현상액이 상기 이송 롤러(120)와 접촉하며 상기 피처리 기판(10) 상으로부터 유출될 수 있다.
이에 따라, 상기 피처리 기판(10) 상의 상기 현상액이 유동되며, 상기 유동에 따라 현상액에 의한 현상 정도가 균일하게 되지 못하고, 이로 인해 크리티컬 디멘션(critical dimension, CD)이 증가하게 된다. 따라서, 현상 공정을 마친 포토레지스트 패턴이 위치에 따라 균일하지 못하여, 상기 포토레지스트 패턴의 품질이 떨어질 수 있다.
도 4는 도 3a 및 3b의 피처리 기판의 일부를 나타낸 평면도이다.
상기 이송 롤러(120)는 제2 방향(D2)으로 연장되는 원통형 샤프트(122)에 설치되는데, 상기 이송 롤러(120)와 상기 피처리 기판(10)이 접하는 부분으로 상기 현상액 층(12)의 현상액이 유출되는 것을 확인할 수 있다.
도 5a 및 5b는 도 2a 내지 2c의 기판 처리 방법의 효과를 설명하기 위한, 피처리 기판 및 기판 처리 장치의 일부를 나타낸 확대 단면도들이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 종래 기술과는 달리, 기판 이송 장치의 이송 롤러(120)가 수직 방향인 제3 방향(D3)을 따라 상승 또는 하강하므로, 피처리 기판(10)이 제1 방향(D1)으로 이송될 때, 상기 피처리 기판(10)의 선단 또는 후단이 지면 방향으로 쳐지더라도, 상기 피처리 기판(10)의 상기 선단 또는 후단이 상기 이송 롤러(120)와 접촉하지 않으며, 이에 따라 상기 이송 롤러(120)를 통한 현상액의 유출이 최소화 될 수 있다.
따라서 현상 공정이 균일하게 이루어질 수 있으며, 현상 공정을 마친 포토레지스트 패턴의 품질이 향상될 수 있다.
도 6a, 6b 및 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법의 피처리 기판의 이송을 자세히 설명하기 위한 기판 처리 장치의 일부의 측단면도들이다. 상기 기판 처리 방법은 이송 롤러(120) 하나씩 하강 및 시키는 대신, 피처리 기판(10) 하부의 이송 롤러들(120)을 모두 상승 시키는 점을 제외하고 도 2a 내지 2c에서 설명된 기판 처리 방법과 유사하다.
도 6a 내지 6c를 참조하면, 상기 기판 처리 장치는 복수의 이송 롤러(1120)들 및 현상액 공급 노즐(130)을 포함할 수 있다.
상기 이송 롤러들(1120)은 수평 방향인 제1 방향(D1)으로 배열될 수 있다. 상기 이송 롤러들(1120)은 각각이 회전하여 상기 제1 방향(D1) 및 상기 제1 방향(D1)과 수직한 제2 방향(D2)이 이루는 평면 상에 배치되는 피처리 기판(10)을 상기 제1 방향(D1)으로 이송할 수 있다. 즉, 상기 복수의 이송 롤러들(1120)은 상기 제1 방향(D1) 상기 피처리 기판(10)을 이송하기 위한 이송 라인을 형성할 수 있다.
상기 현상액 공급 노즐(130)은 상기 피처리 기판(10) 상에 현상액을 공급할 수 있다. 상기 현상액은 상기 피처리 기판(10) 상에 제공되어 현상액층(12)를 형성할 수 있다.
상기 기판 처리 장치는 도 1a 내지 1d 에서 설명한 기판 처리 장치와 상기 이송 롤러(1120)의 제어를 제외하면 실질적으로 동일할 수 있다.
상기 이송 롤러들(1120)은 제1 높이 또는 상기 제1 높이 보다 낮은 제2 높이에 위치할 수 있다. 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들(1120)은 상기 피처리 기판(10)과 접촉하여 상기 피처리 기판을 이송할 수 있다.
상기 피처리 기판(10)이 상기 제1 방향(D1)으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판(10)의 선단에 인접하고 상기 제2 높이에 위치하는 상기 이송 롤러를 상기 피처리 기판(10)의 하면에 접촉하도록 제3 방향(D3)의 반대 방향, 즉 수직 상방향으로 이동시켜, 상기 제1 높이에 위치시킬 수 있다.
이때, 상기 피처리 기판(10)의 후단에 인접하고 상기 제1 높이에 위치하는 상기 이송 롤러를 상기 제3 방향(D3)으로 이동 시켜 상기 제2 높이에 위치시킬 수 있다.
이와 같은 과정을 반복하여, 상기 이송 롤러들(1120)은 상기 제2 높이 보다 높은 상기 제1 높이의 위치에 배치되는 동안 상기 피처리 기판(10)의 하면과 접촉하여, 상기 피처리 기판(10)을 이송하고, 상기 피처리 기판(10)이 상기 제1 방향(D1)으로 이송됨에 따라 상기 피처리 기판(10)의 상기 후단이 인접하는 상기 이송 롤러(1120)는 다시 수직 하방으로 이동하여 상기 제2 높이로 돌아간다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 이하, 피처리 기판의 선단에 인접하는 영역에서의 상기 기판 처리 방법을 설명한다.
도 7을 참조하면, 상기 기판 처리 방법은 현상액 층을 형성하는 단계(S110), 제1 이송 롤러를 제3 방향으로 이동시키는 단계(S120), 피처리 기판을 제1 방향으로 이송하는 단계(S130), 제1 이송 롤러를 제3 방향과 반대 방향으로 이동시키는 단계 및 제2 이송 롤러를 제3 방향으로 이동시키는 단계(S140), 피처리 기판을 제1 방향으로 이송하는 단계(S150), 및 제2 이송 롤러를 제3 방향과 반대 방향으로 이동시키는 단계 및 제3 이송 롤러를 제3 방향으로 이동시키는 단계(S160)를 포함할 수 있다. 상기 기판 처리 방법은 피처리 기판을 수평 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들을 포함하는 기판 처리 장치를 이용하여 수행될 수 있다. 상기 이송 롤러들은 상기 피처리 기판이 이송되는 방향을 따라 순서대로 배열되는 제1 이송 롤러, 제2 이송 롤러, 및 제3 이송 롤러를 포함할 수 있다.
상기 현상액 층을 형성하는 단계(S110)에서는, 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성할 수 있다.
상기 제1 이송 롤러를 이동시키는 단계(S120)에서는, 상기 피처리 기판의 이송 방향으로의 선단(front end)에 가장 근접하고 상기 피처리 기판과 접하지 않는 제1 이송 롤러를 지면을 향하는 수직 하방향으로 이동시켜 상기 피처리 기판과 멀어지게 할 수 있다.
상기 피처리 기판을 이송하는 단계(S130)에서는 상기 피처리 기판과 접촉하는 이송 롤러들을 회전시켜 상기 현상액 층이 형성된 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송할 수 있다. 이에 따라 상기 피처리 기판의 상기 선단이 상기 제1 이송 롤러를 지나갈 수 있다.
상기 제1 이송 롤러를 이동시키는 단계 및 제2 이송 롤러를 이동시키는 단계(S140)에서는, 상기 제1 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 하방향의 반대 방향인 수직 상방향으로 이동시킬 수 있다. 상기 제1 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제2 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜 상기 피처리 기판으로부터 멀어지게 할 수 있다.
상기 피처리 기판을 이송하는 단계(S150)에서는, 상기 피처리 기판의 상기 하면과 접하고 있는 상기 제1 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송할 수 있다.
상기 제2 이송 롤러를 이동시키는 단계 및 제3 이송 롤러를 이동시키는 단계(S160)에서는, 상기 제2 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 하방향의 반대 방향인 수직 상방향으로 이동시킬 수 있다. 상기 제2 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제3 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜 상기 피처리 기판으로부터 멀어지게 할 수 있다. (도 2a 내지 2c 참조)
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 이하, 상기 피처리 기판의 후단에 인접하는 영역에서의 상기 기판 처리 방법을 설명한다.
도 8을 참조하면, 상기 기판 처리 방법은 제4 이송 롤러를 제3 방향으로 이동시키는 단계(S210), 피처리 기판을 제1 방향으로 이송하는 단계(S220), 제4 이송 롤러를 제3 방향과 반대 방향으로 이동시키는 단계 및 제5 이송 롤러를 제3 방향으로 이동시키는 단계(S230), 피처리 기판을 제1 방향으로 이송하는 단계(S240) 및 제5 이송 롤러를 제3 방향과 반대 방향으로 이동시키는 단계 및 제6 이송 롤러를 제3 방향으로 이동시키는 단계(S250)를 포함할 수 있다. 상기 기판 처리 방법은 피처리 기판을 수평 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들을 포함하는 기판 처리 장치를 이용하여 수행될 수 있다. 상기 이송 롤러들은 상기 피처리 기판이 이송되는 방향을 따라 순서대로 배열되는 제4 이송 롤러, 제5 이송 롤러, 및 제6 이송 롤러를 포함할 수 있다.
상기 제4 이송 롤러를 이동시키는 단계(S210)에서는, 상기 피처리 기판의 이송 방향으로의 후단(rear end)에 가장 근접하고 상기 피처리 기판의 상기 하면과 접촉하는 제4 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시킬 수 있다.
상기 피처리 기판을 이송하는 단계(S220)에서는, 상기 제4 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제5 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송할 수 있다.
상기 제4 이송 롤러를 이동시키는 단계 및 제5 이송 롤러를 이동시키는 단계(S230)에서는, 상기 제4 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시킬 수 있다. 상기 피처리 기판과 접촉하는 상기 제5 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시킬 수 있다.
상기 피처리 기판을 이송하는 단계(S240)에서는, 상기 제5 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제6 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송
상기 제5 이송 롤러를 이동시키는 단계 및 제6 이송 롤러를 이동시키는 단계(S250)에서는, 상기 제5 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시킬 수 있다. 상기 피처리 기판과 접촉하는 상기 제6 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시킬 수 있다. (도 2a 내지 2c 참조)
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 9를 참조하면, 상기 기판 처리 방법은 현상액 층을 형성하는 단계(S310), 피처리 기판을 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들을 회전시켜 제1 방향으로 이송하는 단계(S320), 제2 높이에 위치하는 이송 롤러를 제3 방향과 반대 방향으로 이동 시켜 제1 높이에 위치시키는 단계(S330), 및 제1 높이에 위치하는 이송 롤러를 제3 방향으로 이동 시켜 제2 높이에 위치시키는 단계(S340)를 포함할 수 있다. 상기 기판 처리 방법은 상기 기판 처리 방법은 피처리 기판을 수평 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들을 포함하는 기판 처리 장치를 이용하여 수행될 수 있다.
상기 현상액 층을 형성하는 단계(S310)에서는 상기 피처리 기판의 하면과 접촉하는 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들 상에서, 상기 이송 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성할 수 있다.
피처리 기판을 제1 방향으로 이송하는 단계(S320)에서는, 상기 현상액 층이 형성된 상기 피처리 기판을 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들을 회전시켜 상기 수평 방향으로 이송할 수 있다.
상기 제2 높이에 위치하는 이송 롤러를 제1 높이에 위치시키는 단계(S330)에서는, 상기 피처리 기판이 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 선단(front end)에 가장 인접하고 상기 제1 높이 보다 낮은 제2 높이에 위치하는 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면에 접촉하도록 수직 상방향으로 이동 시켜 상기 제1 높이에 위치시키는
상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러를 제2 높이에 위치시키는 단계(S340)에서는, 상기 피처리 기판이 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 후단(rear end)에 가장 인접하고 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러를 수직 하방향으로 이동시켜 상기 피처리 기판과 이격시켜 상기 제2 높이에 위치시킬 수 있다. (도 6a 내지 6c 참조)
본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법에 따르면, 기판 이송 장치의 이송 롤러가 수직 방향인 제3 방향을 따라 상승 또는 하강하므로, 피처리 기판이 제1 방향으로 이송될 때, 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단이 지면 방향으로 쳐지더라도, 상기 피처리 기판의 상기 선단 또는 후단이 상기 이송 롤러와 접촉하지 않으며, 이에 따라 상기 이송 롤러를 통한 현상액의 유출이 최소화 될 수 있다. 따라서 현상 공정이 균일하게 이루어질 수 있으며, 현상 공정을 마친 포토레지스트 패턴의 품질이 향상될 수 있다.
이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 기판 처리 장치 110: 하우징
120: 이송 롤러 130: 현상액 공급 노즐
140: 센서부 150: 린스액 공급 노즐
10: 피처리 기판 12: 현상액층
DE: 현상부 RI: 린스부

Claims (20)

  1. 수평 방향인 제1 방향으로 배열되고 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향이 이루는 평면 상에 배치되는 피처리 기판을 상기 제1 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들;
    상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성하는 현상액 공급 노즐;
    상기 피처리 기판의 위치를 인식하는 센서부; 및
    상기 이송 롤러들 각각을 상기 제1 및 제2 방향들과 수직한 지면 방향인 제3 방향을 따라 이동시킬 수 있는 수직 이동부를 포함하고,
    상기 피처리 기판은 제1 높이에 위치하며,
    상기 이송 롤러들은 상기 제1 높이 또는 상기 제1 높이 보다 낮은 제2 높이에 위치하고, 상기 제1 높이 보다 높은 위치에 위치하지 않으며,
    상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들은 상기 피처리 기판과 접촉하여 상기 피처리 기판을 이송하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 수직 이동부는,
    상기 피처리 기판의 상기 제1 방향으로의 선단에 인접하고 상기 피처리 기판과 접촉하지 않는 제1 이송 롤러, 즉 상기 피처리 기판의 상기 선단에 바로 앞서는 상기 제1 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과의 거리를 멀게 하고,
    상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 상기 선단이 상기 제3 방향으로 이동된 상기 제1 이송 롤러를 지나가면, 상기 제1 이송 롤러를 상기 제3 방향의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판의 하면에 접촉 시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 복수의 이송 롤러는 상기 제1 방향으로 순차적으로 배치된 상기 제1 이송 롤러, 제2 이송 롤러 및 제3 이송 롤러를 포함하고,
    상기 수직 이동부는,
    상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이동함에 따라, 순차적으로 상기 제1 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동(이동) 및 상기 제3 방향의 반대방향으로 이동(복귀), 상기 제2 이송 롤러를 이동 및 복귀, 상기 제3 이송 롤러를 이동 및 복귀시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 수직 이동부는,
    상기 피처리 기판의 상기 제1 방향으로의 후단에 인접하고 상기 피처리 기판과 접촉하는 제4 이송 롤러, 즉 상기 후단에 바로 앞서는 상기 제4 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시키고,
    상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 상기 후단이 상기 제3 방향으로 이동된 상기 제4 이송 롤러를 지나가면, 상기 제4 이송 롤러를 상기 제3 방향의 반대 방향으로 이동시켜, 원위치로 복귀시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 복수의 이송 롤러는 상기 제1 방향으로 순차적으로 배치된 상기 제4 이송 롤러, 제5 이송 롤러 및 제6 이송 롤러를 포함하고,
    상기 수직 이동부는,
    상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이동함에 따라, 순차적으로 상기 제4 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동(이동) 및 상기 제3 방향의 반대방향으로 이동(복귀), 상기 제5 이송 롤러를 이동 및 복귀, 상기 제6 이송 롤러를 이동 및 복귀시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 센서부는 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단을 감지하고, 감지된 상기 선단 또는 후단의 위치를 바탕으로, 상기 이송 롤러의 회전 속도를 이용하여, 상기 피처리 기판의 이송에 따른 상기 피처리 기판의 상기 선단 또는 후단의 위치를 계산하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    인접하는 두 이송 롤러들 사이의 간격을 이송 롤러 간격으로 정의하고,
    상기 피처리 기판의 선단 또는 후단이 상기 이송 롤러 간격 사이에 위치할 때, 상기 인접하는 두 이송 롤러들을 상기 제3 방향 또는 상기 제3 방향과 반대 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 두 이송 롤러들이 상기 제3 방향 또는 상기 제3 방향과 반대 방향으로 이동하는 동안에 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단이 이동하는 거리를 제어 간격으로 정의하고,
    상기 제어 간격은 상기 이송 롤러 간격보다 작은 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 수직 이동부는,
    상기 피처리 기판이 상기 제1 방향으로 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 선단에 인접하고 상기 제2 높이에 위치하는 상기 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면에 접촉하도록 상기 제3 방향의 반대 방향으로 이동시켜, 상기 제1 높이에 위치시키고,
    상기 피처리 기판의 후단에 인접하고 상기 제1 높이에 위치하는 상기 이송 롤러를 상기 제3 방향으로 이동 시켜 상기 제2 높이에 위치시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 현상액 층을 제거하기 위한 린스액을 상기 피처리 기판 상에 공급하는 린스액 공급 노즐을 더 포함하고,
    상기 수직 이동부는 상기 현상액 공급 노즐과 상기 린스액 공급 노즐 사이에 대응하여 위치하는 상기 이송 롤러들을 각각 상기 제3 방향을 따라 이동시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 피처리 기판을 수평 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들을 포함하는 기판 처리 장치를 이용하는 기판 처리 방법에 있어서,
    상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성하는 단계;
    상기 피처리 기판의 이송 방향으로의 선단(front end)에 가장 근접하고 상기 피처리 기판과 접하지 않는 제1 이송 롤러를 지면을 향하는 수직 하방향으로 이동시키는 단계;
    상기 복수의 이송 롤러를 회전시켜 상기 현상액 층이 형성된 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계;
    상기 피처리 기판의 상기 선단이 상기 제1 이송 롤러를 지나가면, 상기 제1 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 하방향의 반대 방향인 수직 상방향으로 이동시키는 단계; 및
    상기 피처리 기판의 상기 하면과 접하고 있는 상기 제1 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 포함하고,
    상기 피처리 기판은 제1 높이에 위치하며,
    상기 이송 롤러들은 상기 제1 높이 또는 상기 제1 높이 보다 낮은 제2 높이에 위치하고, 상기 제1 높이 보다 높은 위치에 위치하지 않으며,
    상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들은 상기 피처리 기판과 접촉하여 상기 피처리 기판을 이송하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제2 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시키는 단계;
    상기 제1 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 더 이송하는 단계;
    상기 제2 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계; 및
    상기 피처리 기판의 상기 하면과 접하고 있는 상기 제1 이송 롤러, 상기 제2 이송 롤러 및 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 제2 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제3 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시키는 단계;
    상기 제1 이송 롤러, 상기 제2 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 더 이송하는 단계;
    상기 제3 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면과 접하도록 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계; 및
    상기 피처리 기판의 상기 하면과 접하고 있는 상기 제1 이송 롤러, 상기 제2 이송 롤러, 상기 제3 이송 롤러 및 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 제2 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계와 상기 제3 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시키는 단계는 동시에 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  15. 제12 항에 있어서,
    상기 피처리 기판의 이송 방향으로의 후단(rear end)에 가장 근접하고 상기 피처리 기판의 상기 하면과 접촉하는 제4 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시키는 단계; 및
    상기 제4 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제5 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 제4 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계;
    상기 피처리 기판과 접촉하는 상기 제5 이송 롤러를 상기 수직 하방향으로 이동시켜, 상기 피처리 기판과 이격시키는 단계; 및
    상기 제5 이송 롤러와 상기 수평 방향으로 인접하는 제6 이송 롤러 및 상기 복수의 이송 롤러들을 회전시켜 상기 피처리 기판을 상기 수평 방향으로 이송하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 제4 이송 롤러를 상기 수직 상방향으로 이동시키는 단계는 상기 피처리 기판의 상기 후단이 상기 제4 이송 롤러를 지나간 후에 수행되어, 상기 제4 이송 롤러가 상기 수직 상방향으로 이동되더라도 상기 피처리 기판과 상기 제4 이송 롤러가 접촉하지 않는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  18. 제11 항에 있어서,
    상기 피처리 기판이 상기 수평 방향으로 이송되는 동안, 상기 피처리 기판의 진행방향으로의 선단 및 후단은 상기 이송 롤러들과 직접 접촉하지 않아, 상기 피처리 기판 상의 상기 현상액 층이 상기 선단 또는 후단을 통해 상기 이송 롤러로 유출되지 않는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  19. 제11 항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는 센서부를 포함하고, 상기 센서부를 이용하여 상기 피처리 기판의 선단 또는 후단을 감지하고, 상기 이송 롤러의 회전 속도를 이용하여, 상기 피처리 기판의 상기 선단 또는 후단의 위치를 계산하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  20. 피처리 기판을 수평 방향으로 이송하는 복수의 이송 롤러들을 포함하는 기판 처리 장치를 이용하는 기판 처리 방법에 있어서,
    상기 피처리 기판의 하면과 접촉하는 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들 상에서, 상기 이송 상기 피처리 기판 상에 현상액을 공급하여, 상기 피처리 기판 상에 현상액 층을 형성하는 단계;
    상기 현상액 층이 형성된 상기 피처리 기판을 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러들을 회전시켜 상기 수평 방향으로 이송하는 단계;
    상기 피처리 기판이 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 선단(front end)에 가장 인접하고 상기 제1 높이 보다 낮은 제2 높이에 위치하는 이송 롤러를 상기 피처리 기판의 하면에 접촉하도록 수직 상방향으로 이동 시켜 상기 제1 높이에 위치시키는 단계; 및
    상기 피처리 기판이 이송됨에 따라, 상기 피처리 기판의 후단(rear end)에 가장 인접하고 상기 제1 높이에 위치하는 이송 롤러를 수직 하방향으로 이동시켜 상기 피처리 기판과 이격시켜 상기 제2 높이에 위치시키는 단계를 포함하는 기판 처리 방법.
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