JP2005303230A - 現像処理装置および現像処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板での転写発生を抑制した現像処理装置および現像処理方法を提供する。
【解決手段】 現像処理ユニット24は、基板Gを略水平姿勢で搬送する第2コロ搬送機構14bと、基板Gの表面に現像液を供給する主現像ノズル51a・51bと、主現像ノズル51a等からの現像液吐出を制御する現像液吐出制御機構56と、主現像ノズル51a等を所定方向に移動させる現像ノズル移動機構55と、第2コロ搬送機構14bに支持された基板Gを基板搬送方向前後に所定距離揺動しながら、主現像ノズル51a等から現像液を吐出させつつ主現像ノズル51a等を基板搬送方向とは逆方向に移動させることにより、揺動する基板G上に現像液パドルが形成されるように、第2コロ搬送機構14bと現像液吐出制御機構56と現像ノズル移動機構55を制御するパドル形成制御装置57と、を具備する。
【選択図】 図5
Description
前記基板搬送機構に支持された基板の表面に現像液を供給する現像ノズルと、
前記現像ノズルからの現像液吐出を制御する現像液吐出制御機構と、
前記現像ノズルを基板搬送方向および鉛直方向に移動させる現像ノズル移動機構と、
前記基板搬送機構に支持された基板を基板搬送方向前後に所定距離揺動しながら、前記現像ノズルから現像液を吐出させつつ前記現像ノズルを基板搬送方向とは逆方向に移動させることにより、前記揺動する基板上に現像液パドルが形成されるように、前記基板搬送機構と前記現像液吐出制御機構と前記現像ノズル移動機構を制御するパドル形成制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置、が提供される。
前記基板搬送機構によって搬送される基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって、前記基板を斜め姿勢に保持する基板傾斜機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の表面にリンス液を供給するリンスノズルと、
前記リンスノズルからのリンス液吐出を制御するリンス液吐出制御機構と、
前記リンスノズルを前記基板の傾斜に沿って移動させるリンスノズル移動機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の下側から上側に向かってその表面に沿って前記リンスノズルを移動させながら、前記リンスノズルからリンス液を吐出させることにより前記基板の表面がリンス処理されるように、前記リンスノズル移動機構および前記リンス液吐出制御機構を制御するリンス処理制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置、が提供される。
前記基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって前記基板上の現像液を流下させる工程と、
前記基板を水平面に対して所定の角度で斜め姿勢に保持する工程と、
前記斜め姿勢で保持された基板の表面に、その下側から上側に向かって所定のリンス液を供給することによって、現像反応の停止およびリンス処理を行う工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法、が提供される。
2;処理ステーション
3;インターフェイスステーション
14b;第2コロ搬送機構
24;現像処理ユニット
24a;基板搬入ゾーン
24b;第1の現像液供給ゾーン
24c;第2の現像液供給ゾーン
24d;現像液除去ゾーン
24e;リンスゾーン
24f;乾燥ゾーン
46;リンス液吐出制御機構
47;リンスノズル移動機構
48;リンス処理制御装置
51a・51b;主現像ノズル
52;第1リンスノズル
55;ノズル移動機構
56;現像液吐出制御機構
57;パドル形成制御装置
60;姿勢変換機構
100;レジスト塗布・現像処理システム
G;LCD基板
Claims (11)
- 基板を略水平姿勢で支持して所定方向に搬送する基板搬送機構と、
前記基板搬送機構に支持された基板の表面に現像液を供給する現像ノズルと、
前記現像ノズルからの現像液吐出を制御する現像液吐出制御機構と、
前記現像ノズルを基板搬送方向および鉛直方向に移動させる現像ノズル移動機構と、
前記基板搬送機構に支持された基板を基板搬送方向前後に所定距離揺動しながら、前記現像ノズルから現像液を吐出させつつ前記現像ノズルを基板搬送方向とは逆方向に移動させることにより、前記揺動する基板上に現像液パドルが形成されるように、前記基板搬送機構と前記現像液吐出制御機構と前記現像ノズル移動機構を制御するパドル形成制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置。 - 前記基板搬送機構は、
基板搬送方向に所定間隔で互いに平行に並べられた複数の枢軸部材と、
前記枢軸部材を回転させる回転機構と、
前記枢軸部材の所定位置に設けられ、基板を支持するとともに、前記回転機構による前記枢軸部材の回転にしたがって回転する複数の円板部材と、
を具備し、
前記枢軸部材を回転させることによって回転する円板部材と基板との間の摩擦力によって前記基板を搬送することを特徴とする請求項1に記載の現像処理装置。 - 前記現像ノズルは、水平面において基板搬送方向に直交する方向において帯状に現像液を吐出するための、スリット状の吐出口または所定間隔で設けられた複数の穴状の吐出口を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の現像処理装置。
- 略水平姿勢に支持された基板を水平面内で直線的に所定距離揺動させながら、現像液を吐出する現像ノズルから現像液を吐出させつつ前記現像ノズルを前記基板の揺動方向と平行に一方向にスキャンさせることにより、前記基板上に現像液パドルを形成することを特徴とする現像処理方法。
- 前記現像ノズルとして前記現像ノズルの移動方向と垂直な方向に帯状に現像液を吐出する長尺状ノズルを用い、前記現像ノズルが前記基板の終端に達する際に前記基板の揺動を停止させ、かつ、前記現像ノズルの下端部を前記基板の終端に近接させることによって、前記基板に液盛りされた現像液が前記基板の終端からこぼれ落ちることを防止することを特徴とする請求項4に記載の現像処理方法。
- 前記現像ノズルからの現像液吐出および前記現像ノズルのスキャンの開始に合わせて、前記現像ノズルのスキャン速度よりも遅い速度で前記基板を最初に前記現像ノズルのスキャン方向と同じ方向に所定距離移動させ、その後に前記基板を逆方向に移動させて、前記基板を揺動することを特徴とする請求項4または請求項5に記載の現像処理方法。
- 前記現像ノズルからの現像液吐出および前記現像ノズルのスキャンの開始に合わせて、前記現像ノズルのスキャン速度よりも遅い速度で前記基板を最初に前記現像ノズルのスキャン方向とは逆方向に所定距離移動させ、その後に移動方向を反転させて、前記基板を揺動することを特徴とする請求項4または請求項5に記載の現像処理方法。
- 現像液パドルが形成された基板を略水平姿勢で支持して所定方向に搬送する基板搬送機構と、
前記基板搬送機構によって搬送される基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって、前記基板を斜め姿勢に保持する基板傾斜機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の表面にリンス液を供給するリンスノズルと、
前記リンスノズルからのリンス液吐出を制御するリンス液吐出制御機構と、
前記リンスノズルを前記基板の傾斜に沿って移動させるリンスノズル移動機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の下側から上側に向かってその表面に沿って前記リンスノズルを移動させながら、前記リンスノズルからリンス液を吐出させることにより前記基板の表面がリンス処理されるように、前記リンスノズル移動機構および前記リンス液吐出制御機構を制御するリンス処理制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置。 - 前記リンスノズルは、前記基板搬送機構による基板搬送方向に直交する方向に、略円錐状にリンス液を吐出するリンス液吐出口が複数設けられた構造を有することを特徴とする請求項8記載の現像処理装置。
- 略水平姿勢に保持された基板に現像液を吐出する現像ノズルを一方向にスキャンさせることにより前記現像液のパドルが形成された基板を、前記現像ノズルのスキャン方向と反対の方向に搬送し、所定位置に停止させる工程と、
前記基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって前記基板上の現像液を流下させる工程と、
前記基板を水平面に対して所定の角度で斜め姿勢に保持する工程と、
前記斜め姿勢で保持された基板の表面に、その下側から上側に向かって所定のリンス液を供給することによって、現像反応の停止およびリンス処理を行う工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。 - 前記現像液のパドルが形成された基板を水平面に対して15度傾斜させて前記基板上の現像液を流下させた後に前記基板の傾斜角度を5度に保持し、その状態において前記基板にリンス液を供給することを特徴とする請求項10に記載の現像処理方法。
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