JP5063817B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は本発明の第1の実施形態に係るLCDガラス基板のレジスト塗布現像処理装置を示す平面図である。
図7は本発明の第2の実施形態に係るLCDガラス基板のレジスト塗布現像処理装置を示す平面図である。上記第1の実施形態では、基板Gをカセットステーション1におけるY方向の一方の端部から処理ステーション2に搬入し、他方の端部から搬出しているが、本実施形態のレジスト塗布現像処理装置100′ではカセットステーション1の中央から基板Gの搬出入を行えるような処理ステーション2′を備えている。具体的には、処理ステーション2′は、上記第3の熱的処理ユニットセクション28に代えて、カセットステーション1のY方向中央に対応する部分に熱的処理ユニットブロック(TB)38と同様のユニットが積層された熱的処理ユニットブロック(TB)38′を配置し、搬送ラインBの終点に熱的処理ユニットブロック(TB)37と同様のユニットが積層された熱的処理ユニットブロック(TB)37′を配した第3の熱的処理ユニットセクション28′を設け、第3の搬送装置39′を空間部40のカセットステーション1側端部に設け、基板Gの処理ステーション2′に対する搬入出をいずれも熱的処理ユニットブロック(TB)38′のパス・クーリングユニット(PASS・COL)を介して第3の搬送装置39′により行うようにしたものである。なお、基板Gの搬入出の形態が第1の実施形態とは異なっている関係上、本実施形態では、搬入口が第3の搬送装置39′に対応して空間部40側に設けられたスクラブ洗浄処理ユニット(SCR)21′およびキシマUV照射ユニット(e−UV)22′が第1の実施形態と同様に積層して設けられている。また、i線UV照射ユニット(i−UV)25から熱的処理ユニットブロック(TB)37′までの基板Gの搬送は、例えばコロ搬送によって行われる。
図8は本発明の第3の実施形態に係るLCDガラス基板のレジスト塗布現像処理装置を示す平面図である。本実施形態のレジスト塗布現像処理装置100″では、第1および第2の実施形態のシャトル41とは異なる形態のシャトル41′を有し、かつ空間部40のカセットステーション1側端部に、カセットステーション1の搬送装置11とシャトル41′との間の基板Gの受け渡しを行う受渡機構110を有している。他は第1の実施形態と同様に構成されている。
一方、受渡機構110は、図10に示すように、基板Gを支持するための支持部131と、支持部131を昇降可能なシリンダ132と、シリンダ132を回転させることにより支持部131に支持された基板Gを回転させる回転機構133とを有している。そして、支持部131は、シリンダ132のピストン134の上端に取り付けられた十字状部材135と、十字状部材135の4つの端部から上方に突出した基板Gを支持する4つの支持ピン136とを有する。
この例のシャトル41″は、図12に示すように、基板Gを支持するベース部材141と、ベース部材141に対して着脱自在に設けられ、ベース部材141の上方の空間を覆うカバー部材142とを有している。基板Gの搬送時には、図12の(a)に示すように、このカバー部材142により基板Gが密閉空間に存在することとなる。カバー部材142の側壁はベース部材141の周囲を囲むようになっており、ベース部材141とカバー部材142とは図示しないロック機構により(a)の状態でロックされるようになっている。各搬送装置とシャトル41″との間の基板Gの受け渡しに際しては、ロック機構を外した状態で、図12の(b)に示すように、シャトル41″の受け渡しポジションに設けられた複数、例えば4本のシリンダ143(2本のみ図示)により、カバー部材142を上昇させる。このように、カバー部材142によりベース部材141上の基板G存在領域を密閉空間とするので、シャトル41″による基板Gの搬送時に基板Gにパーティクル等が付着することを防止することができる。また、シャトル41″にはカバー部材142開閉用のシリンダが設けられていないので、エア配管の煩雑さを回避することができる。
2……処理ステーション
3……インターフェイスステーション
21……スクラブ洗浄処理ユニット(液処理ユニット)
23……レジスト処理ユニット(液処理ユニット)
24……現像処理ユニット(液処理ユニット)
26……第1の熱的処理ユニットセクション
27……第2の熱的処理ユニットセクション
28……第3の熱的処理ユニットセクション
31,32,34,35,37,38……熱的処理ユニットブロック
33……第1の搬送装置
36……第2の搬送装置
39……第3の搬送装置
40……空間
41,41′,41″……シャトル
100,100′,100″……レジスト塗布現像処理装置(処理装置)
G……LCDガラス基板
Claims (6)
- 被処理基板を処理する基板処理装置であって、
所定の方向に沿って延びるとともに、前記所定の方向の一方側へ被処理基板を移動させつつ、該被処理基板を処理する第1処理系統と、
前記所定の方向に沿って延びるとともに、前記第1処理系統に対して前記所定の方向と直交する方向に空間を設けた状態で配置され、前記所定の方向の他方側へ被処理基板を移動させつつ、該被処理基板を処理する第2処理系統と、
前記空間に配置され、水平支持される被処理基板を受け取り載置する載置部と、
前記第1処理系統の前記他方側の上流側処理ユニットと、前記一方側の下流側処理ユニットとの間に配置され、前記上流側処理ユニットから前記載置部へ、および前記載置部から前記下流側処理ユニットへ被処理基板を搬送する搬送装置と、
を備え、
前記載置部の周囲のうちの少なくとも前記空間に露出する側を覆うカバー部材を、さらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 被処理基板を処理する基板処理装置であって、
所定の方向に沿って延びるとともに、前記所定の方向の一方側へ被処理基板を移動させつつ、該被処理基板を処理する第1処理系統と、
前記所定の方向に沿って延びるとともに、前記第1処理系統に対して前記所定の方向と直交する方向に空間を設けた状態で配置され、前記所定の方向の他方側へ被処理基板を移動させつつ、該被処理基板を処理する第2処理系統と、
前記空間に配置され、水平支持される被処理基板を受け取り載置する載置部と、
前記第1処理系統の前記他方側の上流側処理ユニットと、前記一方側の下流側処理ユニットとの間に配置され、前記上流側処理ユニットから前記載置部へ、および前記載置部から前記下流側処理ユニットへ被処理基板を搬送する搬送装置と、
前記一方側の下流側処理ユニットの中に設けられ、水平支持される被処理基板に向けて液を供給する塗布処理装置と、
を備え、
前記載置部の周囲のうちの少なくとも前記空間に露出する側を覆うカバー部材を、さらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 被処理基板を処理する基板処理装置であって、
所定の方向に沿って延びるとともに、前記所定の方向の一方側へ被処理基板を移動させつつ、該被処理基板を処理する第1処理系統と、
前記所定の方向に沿って延びるとともに、前記第1処理系統に対して前記所定の方向と直交する方向に空間を設けた状態で配置され、前記所定の方向の他方側へ被処理基板を移動させつつ、該被処理基板を処理する第2処理系統と、
前記空間に配置され、水平支持される被処理基板を受け取り載置する載置部と、
前記第1処理系統の前記他方側の上流側処理ユニットと、前記一方側の下流側処理ユニットとの間に配置され、被処理基板を搬送する、旋回動可能な搬送装置と、
を備え、
前記載置部の周囲のうちの少なくとも前記空間に露出する側を覆うカバー部材を、さらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記搬送装置は、さらに上下動、前後動が可能であることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記空間は、前記第1処理系統または前記第2処理系統のうち少なくとも一方のメンテナンススペースであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記カバー部材には、前記載置部に対してアクセス可能とする開閉式の開口部が形成されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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