JP2009062199A - 処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理装置100は、LCD基板Gを処理する複数の処理ユニットを備えた処理部2と、処理部2に対してカセットCに対して基板Gを搬入出するカセットステーション1とを具備し、処理部2は、処理の順に、搬送ラインがA,B2列になるように配置された液処理ユニット21,23,24と、液処理に付随する熱的処理を行い、垂直方向に積層されて構成された複数の熱的処理ユニット62等と、熱的処理ユニットと同じ積層構成内に配置され、LCD基板を通過させるパスユニット61等と、搬送ラインA,Bの間の空間部40と、この空間部40を移動可能に設けられ、基板Gを保持して移動させる基板保持・移動部材41とを有する。
【選択図】 図1
Description
図1は本発明の第1の実施形態に係るLCDガラス基板のレジスト塗布現像処理装置を示す平面図である。
図7は本発明の第2の実施形態に係るLCDガラス基板のレジスト塗布現像処理装置を示す平面図である。上記第1の実施形態では、基板Gをカセットステーション1におけるY方向の一方の端部から処理ステーション2に搬入し、他方の端部から搬出しているが、本実施形態のレジスト塗布現像処理装置100′ではカセットステーション1の中央から基板Gの搬出入を行えるような処理ステーション2′を備えている。具体的には、処理ステーション2′は、上記第3の熱的処理ユニットセクション28に代えて、カセットステーション1のY方向中央に対応する部分に熱的処理ユニットブロック(TB)38と同様のユニットが積層された熱的処理ユニットブロック(TB)38′を配置し、搬送ラインBの終点に熱的処理ユニットブロック(TB)37と同様のユニットが積層された熱的処理ユニットブロック(TB)37′を配した第3の熱的処理ユニットセクション28′を設け、第3の搬送装置39′を空間部40のカセットステーション1側端部に設け、基板Gの処理ステーション2′に対する搬入出をいずれも熱的処理ユニットブロック(TB)38′のパス・クーリングユニット(PASS・COL)を介して第3の搬送装置39′により行うようにしたものである。なお、基板Gの搬入出の形態が第1の実施形態とは異なっている関係上、本実施形態では、搬入口が第3の搬送装置39′に対応して空間部40側に設けられたスクラブ洗浄処理ユニット(SCR)21′およびキシマUV照射ユニット(e−UV)22′が第1の実施形態と同様に積層して設けられている。また、i線UV照射ユニット(i−UV)25から熱的処理ユニットブロック(TB)37′までの基板Gの搬送は、例えばコロ搬送によって行われる。
図8は本発明の第3の実施形態に係るLCDガラス基板のレジスト塗布現像処理装置を示す平面図である。本実施形態のレジスト塗布現像処理装置100″では、第1および第2の実施形態のシャトル41とは異なる形態のシャトル41′を有し、かつ空間部40のカセットステーション1側端部に、カセットステーション1の搬送装置11とシャトル41′との間の基板Gの受け渡しを行う受渡機構110を有している。他は第1の実施形態と同様に構成されている。
一方、受渡機構110は、図10に示すように、基板Gを支持するための支持部131と、支持部131を昇降可能なシリンダ132と、シリンダ132を回転させることにより支持部131に支持された基板Gを回転させる回転機構133とを有している。そして、支持部131は、シリンダ132のピストン134の上端に取り付けられた十字状部材135と、十字状部材135の4つの端部から上方に突出した基板Gを支持する4つの支持ピン136とを有する。
この例のシャトル41″は、図12に示すように、基板Gを支持するベース部材141と、ベース部材141に対して着脱自在に設けられ、ベース部材141の上方の空間を覆うカバー部材142とを有している。基板Gの搬送時には、図12の(a)に示すように、このカバー部材142により基板Gが密閉空間に存在することとなる。カバー部材142の側壁はベース部材141の周囲を囲むようになっており、ベース部材141とカバー部材142とは図示しないロック機構により(a)の状態でロックされるようになっている。各搬送装置とシャトル41″との間の基板Gの受け渡しに際しては、ロック機構を外した状態で、図12の(b)に示すように、シャトル41″の受け渡しポジションに設けられた複数、例えば4本のシリンダ143(2本のみ図示)により、カバー部材142を上昇させる。このように、カバー部材142によりベース部材141上の基板G存在領域を密閉空間とするので、シャトル41″による基板Gの搬送時に基板Gにパーティクル等が付着することを防止することができる。また、シャトル41″にはカバー部材142開閉用のシリンダが設けられていないので、エア配管の煩雑さを回避することができる。
2……処理ステーション
3……インターフェイスステーション
21……スクラブ洗浄処理ユニット(液処理ユニット)
23……レジスト処理ユニット(液処理ユニット)
24……現像処理ユニット(液処理ユニット)
26……第1の熱的処理ユニットセクション
27……第2の熱的処理ユニットセクション
28……第3の熱的処理ユニットセクション
31,32,34,35,37,38……熱的処理ユニットブロック
33……第1の搬送装置
36……第2の搬送装置
39……第3の搬送装置
40……空間
41,41′,41″……シャトル
100,100′,100″……レジスト塗布現像処理装置(処理装置)
G……LCDガラス基板
Claims (1)
- LCD基板に対して複数の液処理を含む一連の処理を行う処理装置であって、
前記一連の処理に対応して各々LCD基板に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備えた処理部と、
処理前のLCD基板および/または処理後のLCD基板が収納される収納容器を載置し、前記処理部に対してLCD基板を搬入出する搬入出部と
を具備し、
前記処理部は、
LCD基板が略水平に搬送されつつ液処理が行われ、処理の順に、搬送ラインが2列になるように配置された複数の液処理ユニットと、
前記複数の液処理に付随する熱的処理を行うとともに、垂直方向に積層されて構成された複数の熱的処理ユニットと、
垂直方向に積層されて構成された前記熱的処理ユニットと同じ積層構成内に配置され、LCD基板を通過させるパスユニットと、
前記2列の搬送ラインの間に設けられた空間部と、
前記空間部を移動可能に設けられ、前記搬送ラインとの間でLCD基板が受け渡され、基板を保持して移動させる基板保持・移動部材と
を有する処理装置。
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