JPH1031316A

JPH1031316A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH1031316A
Application number: JP8187291A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Koyama; 芳弘小山; Jun Watanabe; 純渡辺; Yasuhiro Mizohata; 保広溝畑
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-07-17
Filing date: 1996-07-17
Publication date: 1998-02-03
Also published as: KR980012047A; KR100299211B1

Abstract

(57)【要約】【解決手段】この基板処理装置には、インデクサ搬送路
５上を移動できるインデクサロボット６が備えられてい
る。インデクサ搬送路５の一方側には、ウエハ１を収納
するカセット２が載置されるカセット載置部７が配置さ
れている。インデクサ搬送路５の他方側には、インデク
サロボット６の移動方向に垂直な方向に長い主搬送路８
上を移動できる主搬送ロボット９が備えられている。主
搬送路８の両側には、２つのユニット部11,12 が配置さ
れている。ユニット部11,12 は、搬入ロボット15および
薬液処理ユニット13を含む。カセット２からインデクサ
ロボット６を経て主搬送ロボット９に受け渡されたウエ
ハ１は、搬入ロボット15を経て薬液処理ユニット13に搬
入される。【効果】ウエハは主搬送ロボットから搬入ロボットを介
して薬液処理ユニットに搬入されるから、主搬送ロボッ
トに薬液の影響が及ぶことはない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばＬＣＤ(L
iquid Crystal Display)製造装置、ＰＤＰ(Plasma Disp
lay Panel)製造装置または半導体製造装置に適用され、
ＬＣＤ用ガラス基板やＰＤＰ用ガラス基板、半導体ウエ
ハなどの基板に処理を施すための基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ＬＣＤ、ＰＤＰおよびＩＣ(Integrated
Circuit)の製造工程には、ガラス基板やウエハ等に電子
回路を形成する工程が含まれている。電子回路を基板に
形成する工程では、基板表面を洗浄したり基板表面に金
属配線を形成したりするための処理を施すユニットが備
えられた専用の基板処理装置が用いられる。

【０００３】この種の基板処理装置の構成としては、図
１０に示すような順次搬送型が採用される場合がある。
順次搬送型装置では、複数枚の処理前の基板が収納され
たカセットが載置されるローダ１００、酸などの薬液を
用いる処理を基板に施すための薬液処理ユニット１０
１、基板を洗浄するための洗浄処理ユニット１０２、お
よび処理済の基板を収納するカセットが載置されるアン
ローダ１０３が搬送方向に沿って一直線状に配列され
る。

【０００４】ローダ１００に載置されているカセットに
収納されている基板は、移送ロボット１０４により搬出
された後、薬液処理ユニット１０１に搬入される。薬液
処理が施された基板は、移送ロボット１０５により搬出
された後、洗浄処理ユニット１０２に搬入され、薬液が
洗い流される。洗浄後の基板は、移送ロボット１０６に
より搬出され、アンローダ１０３に載置されているカセ
ットに収納される。これにより、一連の処理が終了す
る。

【０００５】しかし、順次搬送型装置では、薬液処理ユ
ニット１０１および洗浄処理ユニット１０２が一直線状
に配列され、さらに処理ユニット１０１，１０２間に移
送ロボット１０５が介装されているため、装置の全長が
長くなる。その結果、処理ユニットの数が多くなれば、
占有床面積が急激に増大するおそれがある。また、１枚
の基板に対する処理順序は処理ユニットの配列順序によ
って一義的に確定するため、処理順序を変更することは
できなかった。

【０００６】これに対処するため、たとえば図１１に示
すような、いわゆるＴ型配置の基板処理装置が提案され
ている。この基板処理装置には、インデクサ１１０、お
よびインデクサ１１０の一方側に隣接して配置された処
理モジュール１１１が備えられている。インデクサ１１
０は、複数枚の基板１１２をそれぞれ収納できる複数の
カセット１１３が載置されるカセット載置部１１４、お
よびＹ方向に沿って長いインデクサ搬送路１１５上を移
動でき、カセット１１３との間で基板１１２の搬入／搬
出を行うためのインデクサロボット１１６を備えてい
る。処理モジュール１１１は、Ｙ方向に垂直なＸ方向に
沿って長い主搬送路１１７上を移動できる主搬送ロボッ
ト１１８、主搬送路１１７の両側に配置されたユニット
部１１９，１２０を備えている。ユニット部１１９，１
２０には、それぞれ、処理ユニット１２１〜１２３，１
２４〜１２６が含まれている。

【０００７】カセット１１３に収容されている基板１１
２は、インデクサロボット１１６により搬出される。イ
ンデクサロボット１１６により搬出された基板１１２
は、主搬送ロボット１１８に受け渡される。主搬送ロボ
ット１１８は、処理ユニット１２１〜１２３，１２４〜
１２６のうちいずれかの処理ユニットの前まで移動し、
当該処理ユニットに基板１１２を搬入する。処理後の基
板１１２は、主搬送ロボット１１８により搬出され、次
の処理ユニットまで搬送される。

【０００８】このような動作を繰り返して一連の処理が
基板１１２に施された後、主搬送ロボット１１８は、基
板１１２を保持したまま主搬送路１１７上を移動し、当
該基板１１２をインデクサロボット１１６に受け渡す。
インデクサロボット１１６は、受け渡された基板１１２
を元々収容されていたカセット１１３に収容する。この
ような構成によれば、主搬送ロボット１１８は、処理ユ
ニット１２１〜１２３，１２４〜１２６に任意の順序で
アクセスできるので、基板１１２に施すべき処理の順序
を任意に設定できる。しかも、処理ユニット１２１〜１
２３，１２４〜１２６を二列に分けて配置しているか
ら、処理ユニット１２１〜１２３，１２４〜１２６を一
直線状に一列に配置する場合に比べて装置の全長を短く
することができる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】基板に施すべき一連の
処理のなかに、薬液処理が含まれる場合があることは前
述のとおりである。たとえば基板を薬液処理する際に
は、酸性またはアルカリ性の薬液が用いられる。薬液処
理が施された後の基板には薬液が付着しているから、処
理済の基板１１２の搬出や搬送を行う主搬送ロボット１
１８には、処理済の基板１１２に付着している薬液が転
移する。また、薬液処理ユニットで発生した薬液雰囲気
が主搬送路１１７に流出し、主搬送ロボット１１８を汚
染したり腐食したりするおそれもある。

【００１０】一方、主搬送ロボット１１８は、主搬送路
１１７上を直線的に往復移動するものであるから、耐薬
液性の部材で全体を覆うような薬液対策を施すことは困
難である。たとえば、主搬送ロボット１１８を主搬送路
１１７に沿って移動させるための直線搬送機構をボール
スクリューと直動ガイドレールとで構成する場合に、ロ
ボット全体に耐薬液対策を施そうとすれば、ボールスク
リューのねじ軸自体および直動ガイドレール自体を耐薬
液性の物質で構成しなければならなくなる。したがっ
て、耐薬液性を有し、かつ剛性および強度が十分で、さ
らに加工の容易な物質を選定する必要が生じる。そのた
め、主としてコスト上の問題から、直線搬送機構を含む
ロボット全体に耐薬液対策を施すことは、極めて困難で
ある。

【００１１】したがって、主搬送ロボット１１８を薬液
による汚染から保護することができないので、その寿命
が短いという問題がある。また、薬液により汚染された
主搬送ロボット１１８によって処理前の基板１１２が運
ばれることもあるから、基板１１２の品質を低下させる
おそれがある。そこで、本発明の目的は、前述の技術的
課題を解決し、未処理または処理済の基板を薬液の影響
から保護できる基板処理装置を提供することである。

【００１２】また、本発明の他の目的は、未処理または
処理済の基板を搬送する搬送手段を薬液から保護できる
基板処理装置を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の請求項１記載の発明は、基板を収納するためのカセッ
トが載置されるカセット載置部と、基板に一連の処理を
施すための複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニ
ットのうち少なくとも所定の処理ユニットに対応付けて
固定配置され、この所定の処理ユニットとの間で基板を
直接受け渡すための第１搬送手段と、前記複数の処理ユ
ニットによる処理を基板に施すために、所定の搬送路に
沿って基板を搬送し、前記第１搬送手段との間で基板の
受渡しを行うことができる第２搬送手段と、前記カセッ
ト載置部に載置されているカセットに対して基板移載動
作を行うことができ、かつ、前記第２搬送手段との間で
基板の受渡しを行うことができる第３搬送手段とを含む
ことを特徴とする基板処理装置である。

【００１４】本発明では、第２搬送手段が移動できる搬
送路に沿って第１搬送手段が配置されている。一方、第
１搬送手段は、所定の処理ユニットに対応付けられてい
る。したがって、第２搬送手段は、処理ユニットに沿っ
て移動できる。そのため、第２搬送手段は処理ユニット
に任意にアクセスできるから、基板に施すべき処理の順
序を任意に設定できる。

【００１５】また、本発明では、所定の処理ユニットと
の間で基板の受渡しを行う場合、第２搬送手段が当該処
理ユニットと基板の受渡しを直接行うのではなく、当該
処理ユニットに対応する第１搬送手段を介して基板の受
渡しが行われる。したがって、当該処理ユニットで行わ
れる所定の処理の影響が第２搬送手段に及ぶのを防止で
きる。そのため、たとえば前記所定の処理が薬液処理で
ある場合には、第２搬送手段に薬液の影響が及ぶのを防
止できる。

【００１６】請求項２記載の発明は、少なくとも１つの
前記所定の処理ユニットは、基板に薬液を供給して処理
を施す薬液処理ユニットであり、前記第１搬送手段は、
薬液雰囲気に対して露出する露出面に耐薬液対策が施さ
れているものであることを特徴とする請求項１記載の基
板処理装置である。本発明によれば、薬液処理ユニット
に対応する第１搬送手段の薬液雰囲気に対して露出する
露出面には耐薬液処理が施されているから、第１搬送手
段を薬液の影響から保護することができる。

【００１７】なお、第１搬送手段は回転案内手段で構成
されるもので、直線案内手段を含むものではない。した
がって、安価に耐薬液処理を施すことができる。請求項
３記載の発明は、前記第２搬送手段と前記所定の処理ユ
ニットとの間の基板搬送経路の途中部に、薬液雰囲気が
前記所定の搬送路へ流出することを防止するためのシャ
ッタ機構が介装されていることを特徴とする請求項１ま
たは請求項２記載の基板処理装置である。

【００１８】第２搬送手段と処理ユニットとの間の基板
搬送経路の途中部には、第２搬送手段と第１搬送手段と
の境界部、および第１搬送手段と処理ユニットとの境界
部が含まれる。このような境界部にシャッタを介装さ
せ、当該シャッタを必要に応じて開閉するようにすれ
ば、処理ユニット内の薬液雰囲気が所定の搬送路に流出
するのを最小限に抑えることができる。

【００１９】請求項４記載の発明は、前記第１搬送手段
は、所定の群を構成する複数の処理ユニットのなかで基
板に対する処理を最初に行う処理ユニットに基板を搬入
するための搬入ロボットと、前記所定の群を構成する複
数の処理ユニットのなかで基板に対する処理を最後に行
う処理ユニットから基板を搬出するための搬出ロボット
とを含み、前記第２搬送手段は、前記搬入ロボットおよ
び搬出ロボットとの間で基板の受渡しを行うことができ
るものであり、前記所定の群を構成する複数の処理ユニ
ットのなかの少なくとも２つの処理ユニット間での基板
の受渡しを行うための第４搬送手段をさらに含むことを
特徴とする請求項１、請求項２または請求項３記載の基
板処理装置である。

【００２０】本発明では、基板に対する処理を最初に行
う処理ユニットに基板が搬入されて処理が終了すると、
処理済の基板は第４搬送手段により搬出され別の処理ユ
ニットに搬入される。すなわち、たとえば基板に対する
処理を最初に行う処理ユニットが薬液処理ユニットで、
次に処理を行う処理ユニットが洗浄処理ユニットである
場合に、第４搬送手段が薬液処理済の基板を薬液処理ユ
ニットより搬出し、洗浄処理ユニットに搬入すること
で、基板が洗浄される。したがって、第１搬送手段およ
び第２搬送手段に薬液の影響を与えるのを防止できる。

【００２１】なお、この場合に、たとえば請求項５記載
の発明のように、第４搬送手段の薬液雰囲気に対して露
出する露出面に耐薬液処理を施すようにしておけば、第
４搬送手段をも薬液の影響から保護できる。また、請求
項４記載の発明によれば、たとえば所定の群を構成する
処理ユニットが３個である場合でも、当該処理ユニット
の群と第２搬送手段との間の基板受渡し用の開口は、基
板に対する処理を最初に行う処理ユニットと搬送路との
間、および基板に対する処理を最後に行う処理ユニット
と搬送路との間、の２箇所に限定される。したがって、
所定の群を構成する処理ユニットの数が増加しても、搬
送路に処理ユニット内の雰囲気が流出する可能性のある
基板受渡し用の開口の数が増えることはない。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発
明の第１実施形態にかかる基板処理装置の構成を概念的
に示す平面図である。この基板処理装置は、集積回路素
子（ＩＣ）の製造に用いられる半導体ウエハ（以下、単
に「ウエハ」という。）１に対して一連の処理を施すた
めのものであり、複数枚のウエハ１をそれぞれ収容する
ことができる複数のカセット２に対してウエハ１の搬入
／搬出を行うインデクサ３と、インデクサ３から供給さ
れる未処理のウエハ１に一連の処理を施し、処理後のウ
エハ１をインデクサ３に向けて排出する処理モジュール
４とを備えている。

【００２３】インデクサ３は、直線的に延びたインデク
サ搬送路５上を直線的に往復移動することができる第３
搬送手段であるインデクサロボット６と、インデクサ搬
送路５に沿うように複数のカセット２を載置することが
できるカセット載置部７とを備えている。インデクサ搬
送路５のカセット載置部７とは反対側に、処理モジュー
ル４がインデクサ３に結合されている。

【００２４】処理モジュール４は、インデクサ搬送路５
の中間部付近からインデクサ搬送路５に直交する方向に
直線的に延びた搬送路に相当する主搬送路８上を直線的
に往復移動することができる第２搬送手段に相当する主
搬送ロボット９を備えている。主搬送路８を挟むように
一対のユニット部１１，１２が配置されており、ユニッ
ト部１１，１２は、それぞれ、主搬送路８に沿って配置
された複数の処理ユニット１３，１４と、処理ユニット
１３，１４に対してウエハ１の搬入および／または搬出
を行うためのロボット１５，１６，１７とを備えてい
る。

【００２５】インデクサロボット６および主搬送ロボッ
ト９は、ボールスクリューのような直線搬送機構を含む
図示しない駆動機構によって、それぞれ、インデクサ搬
送路５および主搬送路８に沿う直線往復移動が可能なよ
うに構成されている。インデクサロボット６は、カセッ
ト２内のウエハ１を１枚ずつ取り出して保持するための
機構を有しており、たとえば、ウエハ１を保持するため
のアームと、アームに設けられたウエハ保持機構と、ア
ームを上下動させるための昇降機構とを備えている。ウ
エハ保持機構は、真空吸着によってウエハ１の裏面を吸
着するものであってもよく、また、ウエハ１の端部を機
械的に把持するものであってもよい。

【００２６】主搬送ロボット９は、ウエハ１の保持、イ
ンデクサロボット６との間のウエハ１の受渡し、および
搬入部１８、搬出部２０との間のウエハ１の受渡しのた
めの機構を有しており、たとえば、ウエハ１を保持する
ためのアームと、アームを上下動させるための昇降機構
と、アームを水平面に沿って回動させるための回動機構
とを備えている。

【００２７】インデクサロボット６および主搬送ロボッ
ト９は、図示しないシステムコンピュータによる制御の
下、所定のプログラムに従って動作するようになってい
る。なお、以下の説明では、便宜上、インデクサ搬送路
５に沿う方向を「Ｙ方向」といい、主搬送路８に沿う方
向を「Ｘ方向」という。また、インデクサ搬送路５に沿
う方向であって、ユニット部１２からユニット部１１に
向かう方向を「＋Ｙ方向」といい、その逆方向を「−Ｙ
方向」という。さらに、主搬送路８に沿ってインデクサ
３から離反する方向を「＋Ｘ方向」といい、主搬送路８
に沿ってインデクサ３に近接する方向を「−Ｘ方向」と
定義する。

【００２８】ユニット部１１，１２は、たとえば、同じ
一連の処理をウエハ１に施すことができるように構成さ
れており、処理ユニット１３，１４がＸ方向に沿って所
定間隔を開けて配置されている。処理モジュール４が基
板の薬液処理および洗浄処理のためのモジュールである
場合には、たとえば、インデクサ３から遠い側の処理ユ
ニット１３は薬液処理ユニットであり、インデクサ３に
近い側の処理ユニット１４は薬液処理後の基板を純水で
洗浄するための洗浄処理ユニットである。薬液処理ユニ
ット１３をインデクサ３から遠い側に配置しているの
は、薬液処理ユニット１３で発生する薬液雰囲気がイン
デクサ３に達しにくくするためである。

【００２９】薬液処理ユニット１３の＋Ｘ方向側に隣接
して、ウエハ１を主搬送ロボット９から受け取って薬液
処理ユニット１３に搬入するための搬入ロボット１５を
有する搬入部１８が設けられている。また、薬液処理ユ
ニット１３と洗浄処理ユニット１４との間には、薬液処
理後のウエハ１を薬液処理ユニット１３から受け取って
洗浄処理ユニット１４に搬入するための第４搬送手段に
相当する移送ロボット１６を備えた移送部１９が設けら
れている。さらに、洗浄処理ユニット１４の−Ｘ方向側
に隣接して、洗浄後のウエハ１を洗浄処理ユニット１４
から受け取って主搬送ロボット９に受け渡すための搬出
ロボット１７を有する搬出部２０が設けられている。

【００３０】なお、この実施形態では、搬入ロボット１
５および搬出ロボット１７が第１搬送手段に相当する。
処理の開始に際し、インデクサロボット６は、カセット
載置部７に載置されている複数個のカセット２のうちの
いずれか１つの前まで移動し、そのカセットからウエハ
１を１枚だけ搬出する。その後、搬出されたウエハ１を
保持した状態で主搬送路８の−Ｘ方向側端部付近までイ
ンデクサ搬送路５上を移動し、そのウエハ１を主搬送ロ
ボット９に受け渡す。ウエハ１を受け取った主搬送ロボ
ット９は、ウエハ１を保持した状態でＸ方向に沿って搬
入部１８の前まで移動し、インデクサロボット６から受
け渡されたウエハ１をたとえばユニット部１１の搬入ロ
ボット１５に受け渡す。

【００３１】インデクサロボット６は、１枚目のウエハ
１を主搬送ロボット９に受け渡した後、２枚目のウエハ
１をカセット２から搬出し、主搬送路８の−Ｘ方向側端
部付近までインデクサ搬送路５上を移動して停止する。
一方、主搬送ロボット９は、インデクサロボット６から
受け渡された１枚目のウエハ１を搬入ロボット１５に受
け渡した後、主搬送路８の−Ｘ方向側端部まで移動し、
２枚目のウエハ１をインデクサロボット６から受け取
る。そして、この受け取ったウエハ１を先程とは別のユ
ニット部１２の搬入ロボット１５に受け渡す。

【００３２】搬入ロボット１５は、受け渡されたウエハ
１を薬液処理ユニット１３に搬入する。搬入されたウエ
ハ１は、薬液処理ユニット１３内のチャック機構により
保持された状態で高速回転され、その表面に薬液が供給
される。こうして、ウエハ１に薬液処理が施される。薬
液処理が終了すると、移送ロボット１６は、薬液処理済
のウエハ１を薬液処理ユニット１３から搬出し、この搬
出されたウエハ１を洗浄処理ユニット１４に搬入する。
搬入されたウエハ１は、洗浄処理ユニット１４内のチャ
ック機構により保持された状態で高速回転され、その表
面が純水で洗浄される。こうして、ウエハ１に洗浄処理
が施される。その後、搬出ロボット１７は、洗浄処理済
のウエハ１を洗浄処理ユニット１４から搬出する。

【００３３】主搬送ロボット９は、洗浄処理済のウエハ
１が洗浄処理ユニット１４から搬出されると、搬出部２
０の前まで主搬送路８上を移動し、このウエハ１を搬出
ロボット１７から受け取る。その後、主搬送路８の−Ｘ
方向側端部まで移動する。一方、インデクサロボット６
は、洗浄処理済のウエハ１が洗浄処理ユニット１４から
搬出されると、主搬送路８の−Ｘ方向側端部付近まで移
動する。そして、主搬送ロボット９は、搬出ロボット１
７から受け取ったウエハ１をインデクサロボット６に受
け渡す。インデクサロボット６は、受け渡されたウエハ
１が元々収納されていたカセット２の前まで移動し、保
持しているウエハ１をそのカセットに収納する。これに
より、１枚のウエハ１に対する一連の処理が完了する。

【００３４】主搬送ロボット９は、いずれかのユニット
部１１，１２の搬入ロボット１５がウエハ１を保持して
いない状態になると、未処理のウエハ１をインデクサロ
ボット６から受け取って当該搬入ロボット１５に搬入す
る。また、いずれかの処理部１１，１２の搬出ロボット
１７が処理済のウエハ１を保持している状態になると、
主搬送ロボット９は、当該処理済のウエハ１を受け取っ
てインデクサロボット６に受け渡す。インデクサロボッ
ト６は、未処理のウエハ１をカセット２から取り出して
主搬送ロボット９に受渡し、処理済のウエハ１を主搬送
ロボット９から受け取ってカセット２に収納するように
動作する。これにより、前述したウエハ１に対する処理
が次々に行われることになる。

【００３５】次に、搬入ロボット１５の構成について説
明する。搬入ロボット１５は、第１回動軸３０を中心に
回動自在に設けられた下部アーム３１、および下部アー
ム３１の先端部に設けられた第２回動軸３２を中心に回
動自在に設けられた上部アーム３３を含む。上部アーム
３３の先端部には、ウエハ１を真空吸着するための吸着
部３４が備えられている。たとえば主搬送ロボット９か
らウエハ１が受け渡される場合、このウエハ１は吸着部
３４に真空吸着される。

【００３６】搬入ロボット１５は、ウエハ１が薬液処理
ユニット１３で処理されている期間のようにウエハ１の
搬入を行わない待機期間中には、実線で示すように、上
部アーム３３と下部アーム３１とが上下に重なるように
折り畳まれた待機状態で静止している。一方、ウエハ１
を薬液処理ユニット１３に搬入するときには、下部アー
ム３１が第１回動軸３０に対して図中反時計回り方向Ａ
１に約９０度回動され、同時に上部アーム３３が第２回
動軸３２に対して図中時計回り方向Ａ２に約９０度回動
される。その結果、下部アーム３１および上部アーム３
３は、二点鎖線で示すように、下部アーム３１の延長線
上に上部アーム３３が位置する状態に展開されることに
なる。反対に、下部アーム３１を第１回動軸３０に対し
て図中時計回り方向Ａ２に約９０度回動し、同時に上部
アーム３３を第２回動軸３２に対して図中反時計回り方
向Ａ１に約９０度回動させれば、下部アーム３１および
上部アーム３３は、実線で示すように、折り畳まれた状
態となる。

【００３７】このような下部アーム３１および上部アー
ム３３の動作は、たとえば第１回動軸３０を中心にして
下部アーム３１を回動させる回動駆動機構、第１回動軸
３０に関して回転しないように固定され、かつ下部アー
ム３１の基板部に固定された固定ギア、固定ギアに噛合
するとともに下部アーム３１の中間部に回動自在に取り
付けられた中間ギア、中間ギアに噛合するとともに第２
回動軸３２を中心にして回動自在に設けられ、かつ上部
アーム３３の基端部に固定された駆動ギアを含む駆動機
構によって実現される。

【００３８】このように、搬入ロボット１５は、下部ア
ーム３１および上部アーム３３を回動によって折り畳ん
だり展開させたりする動作を行うものである。また、搬
入ロボット１５は、基板の受渡しの際に上下動作を行う
が、そのストロークは小さく、インデクサロボット６や
主搬送ロボット９のようなストロークの大きな直線搬送
機構を含むものではない。

【００３９】搬入ロボット１５は、その露出部の表面が
耐薬液性の部材で覆われている。具体的には、たとえば
酸性の薬液に対する耐性が強い炭化シリコンセラミック
（ＳＩＣ）で覆われている。上記のように搬入ロボット
１５はストロークの大きい直線搬送機構を含むものでは
ないから、このような薬液対策を施すことは容易であ
る。

【００４０】搬入ロボット１５に耐薬液処理が施されて
いるのは、薬液処理ユニット１３で使用される薬液から
搬入ロボット１５を保護するためである。すなわち、薬
液処理ユニット１３内の空気中には薬液雰囲気が含まれ
ているから、搬入ロボット１５が薬液処理ユニット１５
内にウエハ１を搬入する場合に、下部アーム３１および
上部アーム３３に薬液雰囲気が付着する。したがって、
薬液対策が施されていなければ、下部アーム３１および
上部アーム３３が薬液により腐食され、搬入ロボット１
５の寿命が短くなる。

【００４１】なお、このことは、搬出ロボット１７に関
しても同様である。また、移送ロボット１６に関して
は、薬液雰囲気だけでなく、ウエハ１に付着している薬
液が下部アーム３１および上部アーム３３に転移する。
したがって、搬出ロボット１７および移送ロボット１５
６のいずれについても、耐薬液対策が施されている。次
に、下部アーム３１および上部アーム３３の動きを交え
ながら、ユニット８内における半導体ウエハ１の搬送に
ついて説明する。ウエハ１は、主搬送ロボット９から搬
入ロボット１５に受け渡され、搬入ロボット１５の吸着
部３４に真空吸着される。この状態において、搬入ロボ
ット１５は、第１回動軸３０を中心に下部アーム３１を
反時計回り方向Ａ１に向けて回動させる。また、この下
部アーム３１の回動に連動して第２回動軸３２を中心に
下部アーム３１の先端部とともに移動する上部アーム３
３は、時計回り方向Ａ２に向かって回動する。

【００４２】その結果、下部アーム３１と上部アーム３
３とがなす角が増大していき、吸着部３４は第１回動軸
３０から−Ｘ方向に向かって移動する。そして、二点鎖
線で示すように、下部アーム３１および上部アーム３３
が展開され、第１回動軸３０、第２回動軸３２および吸
着部３４がＸ方向に沿う一直線上に整列すると、下部ア
ーム３１および上部アーム３３の回動が停止され、吸着
部３４を薬液処理ユニット１３の中心に対応する位置ま
で導き、ウエハ１を薬液処理ユニット１３のチャック機
構に受け渡す。これにより、ウエハ１の搬入が達成され
る。

【００４３】ウエハ１の受渡しに際しては、吸着部３４
の吸着が解かれた後、下部アーム３１および上部アーム
３３が下降し、薬液処理ユニット１３のチャック機構に
ウエハ１が載置される。その後、下部アーム３１および
上部アーム３３は折り畳まれて、搬入ロボット１５は元
の待機状態に戻る。薬液処理ユニット１３での薬液処理
が終了すると、移送ロボット１６は薬液処理済のウエハ
１を薬液処理ユニット１３から搬出する。すなわち、移
送ロボット１６は、下部アーム３１を時計回り方向Ａ２
に向けて回動させる。このとき、上部アーム３３は反時
計回り方向Ａ１に回動する。その結果、下部アーム３１
および上部アーム３３は＋Ｘ方向側に展開された状態と
なる。その後、移送ロボット１６は、薬液処理ユニット
１３のチャック機構に保持されているウエハ１を下面側
から持ち上げ、吸着部３４に真空吸着させてウエハ１を
受け取る。

【００４４】移送ロボット１６は、ウエハ１を受け取っ
て保持した状態で、下部アーム３１を反時計回り方向Ａ
１に向けて回動させる。これに連動して、上部アーム３
３は第２回動軸３２を中心にして時計回り方向Ａ２に回
動する。その結果、下部アーム３１および上部アーム３
３はいったん折り畳まれて実線で示す待機状態を経た
後、−Ｘ方向側に展開される。その後、移送ロボット１
６は、洗浄処理ユニット１４のチャック機構にウエハ１
を受け渡した後、上部アーム３３を縮め、下部アーム３
１および上部アーム３３を折り畳んで実線の待機状態に
戻る。これにより、ウエハ１の薬液処理ユニット１３か
ら洗浄処理ユニット１４への移送が達成される。

【００４５】洗浄処理ユニット１４での洗浄処理が終了
すると、搬出ロボット１７は洗浄処理済のウエハ１を洗
浄処理ユニット１４から搬出する。すなわち、搬出ロボ
ット１７は、下部アーム３１を時計回り方向Ａ２に向け
て回動させ、これに連動して上部アーム３３が反時計回
り方向Ａ１に回動する。これにより、下部アーム３１お
よび上部アーム３３は、二点鎖線で示す展開状態に導か
れる。その後、上部アーム３３を伸ばしてウエハ１を下
面側から持ち上げるとともに吸着部３４に真空吸着させ
た後、下部アーム３１および上部アーム３３を折り畳ん
で実線で示す待機状態に復帰させる。これにより、ウエ
ハ１の搬出が達成される。

【００４６】この実施形態の処理装置には、主として主
搬送路８への薬液雰囲気の漏洩を防止する目的で、主搬
送路８と薬液処理ユニット１３との間のウエハ１の搬送
経路４０の途中部にシャッタ５０，５１，５２，５３が
介装されている。より具体的には、主搬送路８と搬入部
１８との境界部、搬入部１８と薬液処理ユニット１３と
の境界部、洗浄処理ユニット１４と搬出部２０との境界
部、および搬出部２０と主搬送路８との境界部に、それ
ぞれ、シャッタ５０〜５３が設けられている。

【００４７】図２は、シャッタ５１の付近の構成を薬液
処理ユニット１３側から見た正面図である。シャッタ５
０，５２，５３の付近も同様に構成されている。搬入部
１８と薬液処理ユニット１３との間の境界壁５１ａには
開口５１ｂが形成されている。境界壁５１ａの一方表面
には、開口５１ｂに対応する切欠きを有するほぼＵ字状
のシャッタガイド５１ｃがねじ５１ｄによって取り付け
られている。このシャッタガイド５１ｃは、図３に示す
ように、平面視においてほぼコ字状に形成されており、
シャッタガイド５１ｃと境界壁５１ａとの間に形成され
る空間内には、シャッタ本体５１ｅが上下方向にスライ
ド自在に嵌め込まれている。

【００４８】シャッタ本体５１ｅの境界壁５１ａに対向
する側の両側部付近には、図３に示すように、一対のラ
ック部５１ｆが上下方向に沿って形成されている。この
ラック部５１ｆには、ピニオン５１ｇが噛合しており、
このピニオン５１ｇは、モータＭの駆動力がカップリン
グ５１ｈを介して伝達される駆動軸５１ｉに固定されて
いる。

【００４９】したがって、モータＭを正転／逆転駆動す
ると、ピニオン５１ｇが回転し、シャッタ本体５１ｅが
シャッタガイド５１ｃに案内されつつ上下方向に沿って
スライドする。シャッタ本体５１ｅの上端部５１ｊのス
ライド上限は、図４に二点鎖線で示すように、開口５１
ｂの上端部５１ｋとほぼ同じ高さに設定されている。ま
た、シャッタ本体５１ｅの上端部５１ｊのスライド下限
は、開口５１ｂの下端部５１ｌとほぼ同じ高さに設定さ
れている。

【００５０】シャッタ５１は、ウエハ１の搬入または搬
出を行う場合にのみ、シャッタ本体５１ｅがスライド下
限までスライドされて開成される。一方、シャッタ５１
は、ウエハ１の処理中などのようにウエハ１の搬入を行
わない場合には閉成されている。すなわち、シャッタ本
体５１ｅがスライド上限までスライドされた待機状態で
停止している。

【００５１】なお、シャッタ５０〜５３は、各々必要な
場合にのみ開成され、１つの搬送経路４０上で隣り合う
シャッタ同士が同時に開成されることはない。たとえば
主搬送ロボット９から搬入ロボット１５にウエハ１が受
け渡される場合にはシャッタ５０のみが開成され、シャ
ッタ５１は閉成されたままである。また、搬入ロボット
１５から薬液処理ユニット１３にウエハ１が搬入される
場合には、シャッタ５１のみが開成され、シャッタ５０
は閉成される。

【００５２】以上のようにこの第１実施形態によれば、
主搬送ロボット９と薬液処理ユニット１３および洗浄処
理ユニット１４との間ではウエハ１の直接的な受け渡し
はなく、搬入ロボット１５および搬出ロボット１７がそ
の受け渡しを中継する。したがって、主搬送ロボット９
に薬液雰囲気が付着するのを確実に防止できる。そのた
め、処理前後のウエハ１に不要な薬液が付着するのを確
実に防止できる。よって、ウエハ１の品質低下を防止す
ることができる。

【００５３】また、主搬送路８と薬液処理ユニット１３
との間のウエハ１の搬送経路４０の途中部にシャッタ５
０〜５３を設けているから、薬液雰囲気の主搬送路８へ
の漏洩を２段階にわたって阻止することができる。しか
も、搬送経路４０に関して隣り合うシャッタが同時に開
成されることはないから、薬液雰囲気が主搬送路８へ漏
洩するのを最小限に抑えることができる。そのため、薬
液雰囲気によるウエハ汚染を確実に防止できる。よっ
て、ウエハ１の品質低下を一層確実に防止することがで
きる。

【００５４】さらに、薬液処理済のウエハ１は耐薬液対
策が施された専用の移送ロボット１６により洗浄処理ユ
ニット１４に移送されるから、主搬送ロボット９に薬液
の影響が及ぶことはない。また、薬液処理済のウエハ１
を主搬送ロボット９を経由せずに移送できるから、主搬
送ロボット９により移送する場合に比べて処理タクトの
向上を図ることができる。

【００５５】さらにまた、搬入ロボット１５、移送ロボ
ット１６および搬出ロボット１７に耐薬液対策を施して
いるから、搬入ロボット１５などが薬液で汚染されるの
を防止できる。したがって、搬入ロボット１５などの長
寿化に寄与できる。なお、この第１実施形態では、ユニ
ット部１１，１２の内部に関しては、搬入部１８と薬液
処理ユニット１３との境界部、および洗浄処理ユニット
１４と搬出部２０との境界部にのみシャッタ５１，５２
を設けているが、たとえば薬液処理ユニット１３および
洗浄処理ユニット１４と移送部１９との境界部にシャッ
タを新たに配置するようにしてもよい。この構成によれ
ば、薬液雰囲気が薬液処理ユニット１３内から洗浄処理
ユニット１４内および移送部１９内へ流入することを困
難にすることができる。

【００５６】また、この第１実施形態では、主搬送路８
とユニット部１１，１２との境界部だけでなくユニット
部１１，１２の内部にもシャッタ５１，５２を設けてい
るが、たとえば主搬送路８とユニット部１１，１２との
境界部にだけシャッタを設けるようにしてもよい。この
構成によっても、主搬送路８への薬液雰囲気の漏洩を防
止することができる。また、シャッタの数が減少するの
で、構成を簡素化できるとともにコストダウンを図るこ
とができる。

【００５７】さらに、主搬送路８内の気圧を陽圧にし、
ユニット部１１，１２内の気圧を陰圧にするようにして
もよい。この構成によっても、薬液雰囲気が主搬送路８
に漏洩するのを確実に防止することができる。しかも、
この構成を前記シャッタを設ける構成と組み合わせれば
一層効果的である。図５は、本発明の第２実施形態にか
かる基板処理装置の構成を概念的に示す平面図である。
図５において、図１と同じ機能部分については同一の参
照符号を使用する。

【００５８】前記第１実施形態では、搬入ロボット１５
および搬出ロボット１７を薬液処理ユニット１３、移送
ロボット１６および洗浄処理ユニット１４と一列になる
ように配置している。これに対して、この第２実施形態
では、搬入ロボット１５および搬出ロボット１７を薬液
処理ユニット１３および洗浄処理ユニット１４と主搬送
路８との間にそれぞれ配置している。

【００５９】より具体的には、この第２実施形態にかか
る基板処理装置では、２つのユニット部６０，６１が主
搬送路８の両側に隣接して配置されている。ユニット部
６０では、薬液処理ユニット１３、移送ロボット１６お
よび洗浄処理ユニット１４がインデクサ搬送路５に近い
側からこの順に配置されている。薬液処理ユニット１３
と主搬送路８との間には搬入ロボット１５が配置されて
いる。洗浄処理ユニット１４と主搬送路８との間には搬
出ロボット１７が配置されている。一方、ユニット部６
１は、このような構成のユニット部６０を平面視におい
て１８０度回転させた構成となっている。

【００６０】このように、この第２実施形態では、ユニ
ット部６０，６１を主搬送路８に対していわば点対称と
した構成となっている。したがって、ユニット部６０と
の間のウエハ搬入／搬出位置とユニット部６１との間の
ウエハ搬入／搬出位置とが同一である第１実施形態と異
なり、ユニット部６０にウエハ１を搬入する位置６２は
ユニット部６１からウエハ１を搬出する位置に相当し、
ユニット部６０からウエハ１を搬出する位置６３はユニ
ット部６１にウエハ１を搬入する位置に相当する。

【００６１】このように、この第２実施形態によれば、
搬入ロボット１５および搬出ロボット１７を薬液処理ユ
ニット１３および洗浄処理ユニット１４と主搬送路８と
の間に配置しているから、当該基板処理装置の全長を前
記第１実施形態に比べて短くすることができる。その結
果、占有床面積を狭くすることができる。これにより、
設置スペースの有効利用を図ることができる。

【００６２】しかも、当該基板処理装置の全長が短くな
ることから、主搬送ロボット９の移動距離が前記第１実
施形態に比べて短くなる。したがって、主搬送ロボット
９にかかる負担を軽減できる。そのため、主搬送ロボッ
ト９の長寿化を図ることができる。また、ユニット部６
０，６１を主搬送路８に対して点対称とした構成として
いるから、たとえばこの基板処理装置を、ユニット部６
０で何らかの処理をウエハ１に施した後ユニット部６１
で別の処理をウエハ１に施すことによって一連の処理が
終了するようなものであるとした場合に、主搬送ロボッ
ト９はユニット部６０から位置６３で搬出したウエハ１
をその位置６３から移動することなくユニット部６１に
搬入することができる。すなわち、主搬送ロボット９の
移動を少なくできる。そのため、主搬送ロボット９にか
かる負担を軽減できる。よって、主搬送ロボット９の長
寿化を図ることができる。

【００６３】さらに、主搬送ロボット９と薬液処理ユニ
ット１３との間でウエハ１の直接的な受渡しは行われな
いから、前記第１実施形態と同様に、主搬送ロボット９
の長寿化、およびウエハ１の品質維持を図ることができ
る。図６は、本発明の第３実施形態にかかる基板処理装
置の構成を概念的に示す平面図である。図６において、
図１と同じ機能部分については同一の参照符号を使用す
る。

【００６４】前記第２実施形態では、主搬送路８の両側
にユニット部６０，６１を配置しているのに対して、こ
の第３実施形態では、主搬送路８の片側にユニット部７
０，７１を配置している。より具体的には、この基板処
理装置では、前記第２実施形態にかかるユニット部６１
と同じ構成のユニット部７０、およびユニット部６０を
平面視において１８０度回転させた構成のユニット部７
１を主搬送路８の片側に配置している。

【００６５】このように、この第３実施形態によれば、
ユニット部７０，７１を主搬送路８の片側に配置するよ
うにしているから、主搬送路８の大部分は当該基板処理
装置の外部空間に臨むことになる。そのため、主搬送ロ
ボット９のメンテナンスを容易に行うことができる。ま
た、主搬送ロボット９と薬液処理ユニット１３との間で
ウエハ１の直接的な受渡しは行われないから、前記第１
および第２実施形態と同様に、主搬送ロボット９の長寿
化、およびウエハ１の品質維持を図ることができる。

【００６６】図７は、本発明の第４実施形態にかかる基
板処理装置の構成を概念的に示す平面図である。図７に
おいて、図１と同じ機能部分については同一の参照符号
を使用する。前記第３実施形態では、インデクサロボッ
ト６の移動方向と主搬送ロボット９の移動方向とが互い
に直交する関係となるのに対して、この第４実施形態で
は、インデクサロボット６の移動方向と主搬送ロボット
９の移動方向とがほぼ平行となっている。より具体的に
は、主搬送路８のユニット部７０，７１が隣接する側の
反対側には、主搬送ロボット９の移動方向に沿って長い
インデクサ搬送路５およびカセット載置部７がこの順に
配置されている。

【００６７】このように、この第４実施形態によれば、
インデクサ搬送路５と主搬送路８とが隣接して配置され
ているから、インデクサロボット６と主搬送ロボット９
とのウエハ１の受け渡し位置を任意に設定できる。した
がって、インデクサロボット６および主搬送ロボット９
にとって最も効率的な受け渡し位置を設定できる。その
ため、インデクサロボット６および主搬送ロボット９に
かかる負担を軽減できる。よって、インデクサロボット
６および主搬送ロボット９の長寿化に貢献できる。ま
た、主搬送ロボット９と薬液処理ユニット１３との間で
ウエハ１の直接的な受渡しは行われないから、前記第１
乃至第３実施形態と同様に、主搬送ロボット９の長寿
化、およびウエハ１の品質維持を図ることができる。

【００６８】図８は、本発明の第５実施形態にかかる基
板処理装置の構成を概念的に示す平面図である。図８に
おいて、前記図１と同じ機能部分については同一の参照
符号を使用する。前記第１乃至第４実施形態は、処理済
のウエハ１を処理前に収納されていた元のカセット２に
収納するユニカセット対応の装置にかかるものであるの
に対して、この第５実施形態は、処理前後のウエハ１を
別の場所でカセット２に収納させる装置にかかるもので
ある。

【００６９】より具体的には、前記第１実施形態にかか
る基板処理装置においてインデクサ３が配置されていた
位置にローダ８０が配置されている。ローダ８０には、
処理前の複数枚のウエハ１を収納できる複数のカセット
２が載置されるカセット載置部８１、およびローダ搬送
路８２上を移動でき、カセット載置部８１に載置されて
いるカセット２との間でウエハ１の受渡しを行うローダ
ロボット８３が含まれている。

【００７０】主搬送路８のローダ８０が隣接する側の反
対側には、アンローダ８４が配置されている。より具体
的には、主搬送路８に近い側から順に、主搬送ロボット
９の移動方向に垂直な方向に沿って長いアンローダ搬送
路８５上を移動できるアンローダロボット８６、および
処理済の複数枚のウエハ１をそれぞれ収納することがで
きる複数のカセット２が載置されるカセット収納部８７
が配置されている。

【００７１】ユニット部１１，１２は、搬入ロボット１
５、薬液処理ユニット１３、移送ロボット１６、洗浄処
理ユニット１４および搬出ロボット１７が、ローダ８０
からアンローダ８４に向かう方向に沿ってこの順に配置
された構成となっている。ローダ８０に載置されている
カセット２からローダロボット８３により搬出された処
理前のウエハ１は主搬送ロボット９に受け渡され、たと
えばユニット部１１に搬入されて処理が施される。処理
済のウエハ１は主搬送ロボット９によりユニット部１１
から搬出された後、アンローダロボット８６に受け渡さ
れる。アンローダロボット８６は、この受け渡されたウ
エハ１をカセット収納部８７に載置されているカセット
２に収納する。

【００７２】このように、この第５実施形態によって
も、前記第１乃至第４実施形態と同様に、主搬送ロボッ
ト９と薬液処理ユニット１３との間でウエハ１の直接的
な受渡しは行われないから、主搬送ロボット９の長寿
化、およびウエハ１の品質維持を図ることができる。図
９は、本発明の第６実施形態にかかる基板処理装置の構
成を概念的に示す平面図である。図９において、図１と
同じ機能部分については同一の参照符号を使用する。

【００７３】前記第１乃至第５実施形態では、薬液処理
ユニット１３と洗浄処理ユニット１４との間のウエハ１
の受け渡しは、移送ロボット１６で行われる。これに対
して、この第６実施形態では、薬液処理ユニット１３と
洗浄処理ユニット１４との間のウエハ１の受け渡しは、
主搬送ロボット９８で行われる。より具体的には、主搬
送路８の片側には、主搬送路８の長手方向に沿うよう
に、ウエハ１の搬入／搬出の両機能を有する搬入／搬出
ロボット９０，９１，９２，９３が配置されている。搬
入／搬出ロボット９０〜９３の主搬送路８が隣接する側
の反対側には、それぞれ、薬液処理ユニット９４，９５
および洗浄処理ユニット９６，９７が配置されている。

【００７４】この第６実施形態にかかる主搬送ロボット
９８は、前記第１乃至第５実施形態にかかる主搬送ロボ
ット９と異なり、２本のアーム９９ａ，９９ｂを有す
る。すなわち、主搬送ロボット９８は、アーム９９ａ，
９９ｂを用いることで２枚のウエハ１を同時に保有する
ことができる。インデクサロボット６および主搬送ロボ
ット９８は、ウエハ１を効率良く処理するために、ウエ
ハ１を薬液処理ユニット９４，９５にできる限り搬入し
ようとする。具体的には、インデクサロボット６はカセ
ット２から処理前のウエハ１を次々に搬出し、この搬出
したウエハ１を主搬送ロボット９８に受け渡す。主搬送
ロボット９８は、受け渡されたウエハ１を搬入／搬出ロ
ボット９０，９１に次々に受け渡す。

【００７５】一方、薬液処理ユニット９４，９５のいず
れにおいてもウエハ１が処理されている場合には、主搬
送ロボット９８は処理前のウエハ１を保有した状態とな
る。ここで、たとえば薬液処理ユニット９４での処理が
終了すると、搬入／搬出ロボット９０は薬液処理ユニッ
ト９４から薬液処理済のウエハ１を搬出する。主搬送ロ
ボット９８は、この薬液処理済のウエハ１を受け取るこ
とになるが、この場合、主搬送ロボット９８は、処理前
のウエハ１を保有しているアーム９９ａとは異なるアー
ム９９ｂでまず薬液処理済のウエハ１を受け取る。その
後、処理前のウエハ１をこの搬入／搬出ロボット９０に
受け渡すことになる。

【００７６】主搬送ロボット９８は、薬液処理済のウエ
ハ１を受け取った場合も、このウエハ１を洗浄処理ユニ
ット９６，９７にできる限り搬入しようとする。具体的
には、主搬送ロボット９８は、薬液処理済のウエハ１を
搬入／搬出ロボット９２，９３に次々に受け渡す。一
方、いずれの洗浄処理ユニット９６，９７も処理中であ
る場合には、主搬送ロボット９８は、前述と同様に、薬
液処理済のウエハ１を保有した状態となる。そして、処
理が終了した後、薬液処理済のウエハ１を保有している
アーム９９ａと異なるアーム９９ｂでまず洗浄処理後の
ウエハ１を搬入／搬出ロボット９２，９３から受け取
る。その後、薬液処理済のウエハ１を搬入／搬出ロボッ
ト９２，９３に受け渡す。

【００７７】このように、この第６実施形態によって
も、前記第１乃至第５実施形態と同様に、主搬送ロボッ
ト９８と薬液処理ユニット９４，９５との間でウエハ１
の直接的な受渡しは行われないから、主搬送ロボット９
８の長寿化、およびウエハ１の品質維持を図ることがで
きる。本発明の実施の形態は以上のとおりであるが、本
発明は前述の実施形態に限定されるものではない。たと
えば前記実施形態では、ＩＣの製造に用いられるウエハ
１に表面処理を施すための基板処理装置に本発明を適用
する場合を説明しているが、本発明は、たとえばＬＣＤ
用ガラス基板やＰＤＰ用ガラス基板に対して表面処理を
施すための基板処理装置に適用することができるのはも
ちろんである。

【００７８】その他、特許請求の範囲に記載された範囲
内で種々の設計変更を施すことが可能である。

【００７９】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、第２搬送
手段が移動できる搬送路に沿って処理ユニットが配置さ
れているから、第２搬送手段は、処理ユニットに任意に
アクセスできる。そのため、基板に施すべき処理順序を
任意に設定できる。しかも、第２搬送手段は第１搬送手
段を介して処理ユニットにアクセスするから、たとえば
薬液の影響が第２搬送手段に及ぶのを防止できる。その
ため、第２搬送手段の長寿化を図ることができる。ま
た、第２搬送手段で搬送される基板に対しても薬液の影
響が及ぶのを防止できるから、基板の品質維持を確実に
図ることができる。

【００８０】また、請求項２記載の発明によれば、第１
搬送手段の露出面に耐薬液対策が施されているから、第
１搬送手段を薬液の影響から保護できる。したがって、
第１搬送手段の長寿化を図ることができる。また、請求
項３記載の発明によれば、処理ユニット内の薬液雰囲気
が搬送路に流出するのを遮断することができるので、薬
液の影響が第２搬送手段に及ぶのをより確実に防止でき
る。そのため、第２搬送手段の長寿化をより確実に図る
ことができる。また、基板の品質維持をより確実に図る
ことができる。

【００８１】また、請求項４記載の発明によれば、たと
えば薬液処理を行う処理ユニットから別の処理ユニット
への基板の受渡しは、専用の第４搬送手段によって行わ
れるから、第１搬送手段および第２搬送手段に薬液の影
響が及ぶことがない。しかも、請求項５記載の発明のよ
うに、第４搬送手段の露出面に耐薬液対策を施しておけ
ば、第４搬送手段をも薬液の影響から保護できる。

【００８２】また、第１搬送手段および第２搬送手段を
わざわざ経由せずに第４搬送手段によって基板の受渡し
が行われるから、処理タクトの向上を図ることができ
る。さらに、処理ユニットが増加しても、搬送路に処理
ユニット内の薬液雰囲気が流出する可能性のある基板受
渡し用の開口の数を抑えることができるから、薬液の影
響が第２搬送手段に及ぶのを極力抑えることができる。
そのため、第２搬送手段の長寿化を図ることができ、か
つ基板の品質維持を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置の
構成を概念的に示す平面図である。

【図２】シャッタの付近の構成を説明するための薬液処
理ユニット側から見た正面図である。

【図３】シャッタの付近の構成を説明するための平面図
である。

【図４】図３の４−４′断面図である。

【図５】本発明の第２実施形態にかかる基板処理装置の
構成を概念的に示す平面図である。

【図６】本発明の第３実施形態にかかる基板処理装置の
構成を概念的に示す平面図である。

【図７】本発明の第４実施形態にかかる基板処理装置の
構成を概念的に示す平面図である。

【図８】本発明の第５実施形態にかかる基板処理装置の
構成を概念的に示す平面図である。

【図９】本発明の第６実施形態にかかる基板処理装置の
構成を概念的に示す平面図である。

【図１０】従来の順次搬送型の基板処理装置の構成を概
念的に示す平面図である。

【図１１】従来のＴ型配置の基板処理装置の構成を概念
的に示す平面図である。

【符号の説明】

１ウエハ２カセット３インデクサ４処理モジュール５インデクサ搬送路６インデクサロボット７カセット載置部８主搬送路９主搬送ロボット１３，９４，９５薬液処理ユニット１４，９６，９７洗浄処理ユニット１５搬入ロボット１６移送ロボット１７搬出ロボット４０搬送経路５０〜５３シャッタ機構９０〜９３搬入／搬出ロボット

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を収納するためのカセットが載置され
るカセット載置部と、基板に一連の処理を施すための複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニットのうち少なくとも所定の処理ユ
ニットに対応付けて配置され、この所定の処理ユニット
との間で基板を直接受け渡すための第１搬送手段と、前記複数の処理ユニットによる処理を基板に施すため
に、所定の搬送路に沿って基板を搬送し、前記第１搬送
手段との間で基板の受渡しを行うことができる第２搬送
手段と、前記カセット載置部に載置されているカセットに対して
基板移載動作を行うことができ、かつ、前記第２搬送手
段との間で基板の受渡しを行うことができる第３搬送手
段とを含むことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】少なくとも１つの前記所定の処理ユニット
は、基板に薬液を供給して処理を施す薬液処理ユニット
であり、前記第１搬送手段は、薬液雰囲気に対して露出する露出
面に耐薬液対策が施されているものであることを特徴と
する請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】前記第２搬送手段と前記所定の処理ユニッ
トとの間の基板搬送経路の途中部に、薬液雰囲気が前記
所定の搬送路へ流出することを防止するためのシャッタ
機構が介装されていることを特徴とする請求項１または
請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】前記第１搬送手段は、所定の群を構成する
複数の処理ユニットのなかで基板に対する処理を最初に
行う処理ユニットに基板を搬入するための搬入ロボット
と、前記所定の群を構成する複数の処理ユニットのなか
で基板に対する処理を最後に行う処理ユニットから基板
を搬出するための搬出ロボットとを含み、前記第２搬送手段は、前記搬入ロボットおよび搬出ロボ
ットとの間で基板の受渡しを行うことができるものであ
り、前記所定の群を構成する複数の処理ユニットのなかの少
なくとも２つの処理ユニット間での基板の受渡しを行う
ための第４搬送手段をさらに含むことを特徴とする請求
項１、請求項２または請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】前記所定の群を構成する複数の処理ユニッ
トは、薬液を用いた処理を行う少なくとも１つの薬液処
理ユニットを有しており、前記第４搬送手段は、薬液雰囲気に対して露出する露出
面に耐薬液対策が施されているものであることを特徴と
する請求項４記載の基板処理装置。